JP2001283425A

JP2001283425A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2001283425A
Application number: JP2000093981A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Ito; 伸明伊藤; Akimitsu Tsukuda; 佃　　明光
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2000-03-30
Filing date: 2000-03-30
Publication date: 2001-10-12

Abstract

(57)【要約】【課題】薄くても出力が大きく、また高温高湿度下でも
安定した出力が得られる磁気記録媒体を提供する。【解決手段】芳香族ポリアミドフィルムの両面に、金
属、半金属、合金、酸化物およびこれらの複合物よりな
る群から選ばれた少なくとも１種類の材料からなる補強
層が形成され、一方の面は、磁気記録層が設けられてい
る面（Ａ面）であり、もう一方の面は磁気記録層が設け
られていない面（Ｂ面）であることを特徴とする磁気記
録媒体

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度記録媒体に
好適な金属薄膜型磁性層を有する磁気記録媒体に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録は高容量化の方向にあ
り、面内の記録密度を向上させかつ長尺化のために厚み
を薄くすることが考えられている。記録密度向上のため
には高周波数特性の優れた磁気記録媒体が要望されてい
るが、磁性粉を適当なバインダーに分散させて支持体上
に塗布したいわゆる塗布型の磁気記録媒体から、真空蒸
着、スパタリング、イオンプレーテイングなどの方法に
より、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅなどを基材フィルム上に
形成させた金属薄膜型の磁気記録媒体が高密度化のため
には必要となっている。

【０００３】一方磁気記録媒体の薄膜化には強度の高い
フィルムの使用が考えられる。従来はポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（Ｐ
ＥＮ）等のフィルムが用いられ、その厚さは例えばＶＨ
Ｓ型のビデオテープでは１６μｍ程度、８ｍｍビデオテ
ープでは９μｍ程度である。高容量化（小型・長時間）
を達成するためにはさらに支持体の薄膜化をする必要が
あり、強度を確保するために特開２０００−１１３７６
号のようにポリエステルフィルムの両面に強化膜を設け
たり、剛性の高いポリアミドフィルムが用いられるよう
になってきている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしＶＨＳ方式や８
ｍｍ方式よりさらに記録波長やトラック幅が減少し記録
密度がより高くなると（例えばＤＶＣ方式）より高出力
が要求されるようになり、従来の芳香族ポリアミドをそ
のまま使用しただけでは十分ではなくなってきた。

【０００５】また芳香族ポリアミドはＰＥＴなどより吸
湿性が大きいが、湿度が高い条件下で使用すると、吸湿
して磁気記録媒体がカールし出力が低下する芳香族ポリ
アミド特有の問題も出てきている。

【０００６】本発明はこれら問題点を解決し、従来の優
れた芳香族ポリアミドフィルムを使用しても出力が大き
く、かつ使用雰囲気によって出力が左右されにくい磁気
記録媒体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香
族ポリアミドフィルムの両面に、金属、半金属、合金、
酸化物およびこれらの複合物よりなる群から選ばれた少
なくとも１種類の材料からなる補強層が形成され、一方
の面は、磁気記録層が設けられている面（Ａ面）であ
り、もう一方の面は磁気記録層が設けられていない面
（Ｂ面）であることを特徴とする磁気記録媒体である。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の芳香族ポリアミドとして
は、次の一般式（Ｉ）および／または一般式（II）で表
わされる繰り返し単位からなるものが好ましい。一般式（Ｉ）

【化１】一般式（II）

【化２】ここで、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃は例えば、

【化３】などが挙げられ、Ｘ、Ｙは −Ｏ−，−ＣＨ₂−，−ＣＯ−，−ＳＯ₂−， −Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ₃）₂− 等から選ばれるが、これに限定されるものではない。更
にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ₁ 〜Ｃ₃ のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。

【０００９】特性面からは上記の芳香環がパラ位で結合
されたものが、全芳香環の５０％以上、好ましくは７０
％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。また吸湿率を小さくする点
からは、芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基（特に
塩素）で置換された芳香環が全体の３０％以上である重
合体が好ましい。

【００１０】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（II）で表される繰り返し
単位を５０モル％以上含むものが好ましく、たとえば芳
香族ポリイミドなど他の繰り返し単位が５０モル％未
満、共重合、または、ブレンドされていてもよく、また
フィルムの物性を損なわない程度に、導電性粒子、滑
剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレンドされていて
もよい。

【００１１】本発明の磁気記録媒体のフィルムは、フィ
ルム中に微細粒子を存在させてことが好ましい。粒子の
種類としては、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＣａＳＯ
₄、ＢａＳＯ₄、ＣａＣＯ₃、カ−ボンブラック、ゼオラ
イト、その他の金属微粉末などの無機粒子が挙げられ
る。その他にシリコン粒子、ポリイミド粒子、架橋共重
合体粒子、架橋ポリエステル粒子、テフロン（登録商
標）粒子、ポリエーテルスルホン粒子、ポリエーテルイ
ミド粒子などの有機粒子でもよい。

【００１２】本発明の磁気記録媒体の、Ａ面は磁気記録
層を設ける面であり、Ｂ面より表面が平滑であることが
好ましい。この２面の形成は少なくとも２層以上を積層
して形成したり、表面に粒子やバインダーをコーテイン
グして形成することができるが形成方法は特に限定され
ない。積層して形成する際にはＡ面を形成する層側に粒
子を存在させておく方法が採用できるが、その粒子はで
きるだけ小さい方がよく種類は上記のものが挙げられ
る。Ａ面側の層に含有される粒子は平均粒径が１０〜２
００ｎｍのものが好ましく、より好ましくは１５〜１３
０ｎｍである。含有量は０〜３ｗｔ％が好ましく、より
好ましくは０．００５〜１ｗｔ％である。

【００１３】またＢ面の形成方法もＡ面と同様な方法で
形成される。積層して形成するにはＡ面側の層より大き
い粒子を含有させておくことが好ましく、粒子は平均粒
径が５０〜１０００ｎｍ、より好ましくは８０〜５００
ｎｍである。含有量は０．０５〜５ｗｔ％が好ましく、
より好ましくは０．１〜２ｗｔ％である。

【００１４】積層フィルムを作ることは公知の方法で行
うことができ、たとえば口金や積層管で積層する方法な
どが挙げられる。

【００１５】一方コーテイングして表面を形成する方法
はＰＥＴフィルム等で行なわれている公知の方法があ
る。例えば横延伸の前で粒子やバインダーの入った液を
塗布し乾燥、延伸、熱処理して表面を形成する方法等が
挙げられる。

【００１６】このようにして得られた本発明の磁気記録
媒体のフィルムは、Ａ面側の表面粗さＲｚ（十点平均粗
さ）は０．５〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは１
〜２０ｎｍ、更に好ましくは２〜１５ｎｍである。前記
数値範囲の下限値を下回ると平滑すぎて走行性や耐久性
が悪化し、前記数値範囲の上限値を上回ると出力低下と
なり、好ましくないことがある。またＢ面の表面粗さＲ
ｚは１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは２５
〜１００ｎｍ、更に好ましくは３０〜８０ｎｍである。
前記数値範囲の下限値を下回るとフィルム走行性が悪化
し、前記数値範囲の上限値を上回るとＡ面側に影響を及
ぼして出力低下となり、好ましくないことがある。

【００１７】フィルム表面の微細突起数はＡ面側は８０
００〜５０００万個／ｍｍ²、Ｂ面側は５０００〜２０
０万個／ｍｍ²が好ましい。より好ましくは、Ａ面側は
１０万〜３０００万個／ｍｍ²、Ｂ面側は１万〜１５０
万個／ｍｍ²、さらに好ましくは、Ａ面側は１００万〜
２０００万個／ｍｍ²、Ｂ面側は２万〜１００万個／ｍ
ｍ²、である。Ａ面側について、前記数値範囲の下限値
を下回ると走行性や耐久性が悪化し、前記数値範囲の上
限値を上回ると出力低下となり、好ましくないことがあ
る。また、Ｂ面側について、前記数値範囲の下限値を下
回るとフィルム走行性が悪化し、前記数値範囲の上限値
を上回るとＡ面側に影響を及ぼし出力低下となり、好ま
しくないことがある。

【００１８】なお、フィルムの平滑度を示す指標として
は、Ｒｚの方が、微細突起数よりも好適である。

【００１９】本発明の磁気記録媒体のフィルムの厚さは
２μｍ以上５μｍ以下が好ましく、より好ましくは２．
５μｍ以上４．５μｍ以下である。２μｍより薄いとフ
ィルム自体の剛性が低すぎるため補強層を設けても曲げ
剛性が充分ではない。一方５μｍより厚いと補強層によ
る曲げ剛性の向上効果が小さくなる。これは剛性は厚み
の３乗に比例するがフィルムが厚くなるとフィルムその
ものの剛性が向上し、補強層の効果が相対的に減少する
からである。

【００２０】本発明の磁気記録媒体のフィルムは１８０
℃で３０分加熱した際の幅方向（以下、ＴＤ方向とい
う）の熱収縮率は２％以下が好ましく、より好ましくは
０．１〜１．５％である。蒸着用に使用する際には０．
１％より小さいとＴＤ方向のカールを戻すことが難しく
なる。一方、２％より大きいと逆方向にカールしたり、
熱で変形したりする問題が生じる。

【００２１】また本発明の磁気記録媒体のフィルムのヤ
ング率は縦方向（以下、ＭＤ方向という）が８ＧＰａ以
上、ＴＤ方向は１０ＧＰａ以上あることが好ましい。よ
り好ましくはＭＤ方向が１０ＧＰａ以上、ＴＤ方向は１
２ＧＰａ以上である。

【００２２】本発明の磁気記録媒体のフィルムの伸度は
１０％以上が好ましく、より好ましくは２０％以上、更
に好ましくは３０％以上であるとテープが適度な柔軟性
を持つので望ましい。

【００２３】本発明の磁気記録媒体のフィルムの吸湿率
（２５℃、７５％ＲＨで平衡になった時の値）は４％以
下が好ましく、より好ましくは３％以下である。吸湿率
が小さいほど湿度変化によるテープの寸法変化が小さく
良好な電磁変換特性を保てるが、芳香族ポリアミドフィ
ルムは一般的には１％以上の吸湿率を有している。本発
明では吸湿率が大きくても補強層が吸湿性を阻害する効
果が大きいため、１〜４％の吸湿性があっても出力の安
定性が良好である。

【００２４】本発明の磁気記録媒体は、上記のフィルム
の両面に補強層を設ける必要がある。

【００２５】この補強層は、金属、半金属、合金、酸化
物及びこれらの複合物よりなる群から選ばれた少なくと
も１種類の材料からなるものである。具体的には、Ａ
ｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍ
ｎ、Ｃｒなどの金属、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｂなどの半金属が
挙げられる。これらの金属及び半金属の合金としては、
Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ａ
ｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ等が挙げられる。また、これ
らの金属、半金属及び合金の酸化物は、例えば蒸着時に
酸素ガスを導入することで得られる。またこれらの金
属、半金属及び合金の複合物としては、Ｆｅ−Ｓｉ−
Ｏ、Ｓｉ−Ｃ、Ｓｉ−Ｎ、Ｃｕ−Ａｌ−Ｏ、Ｓｉ−Ｎ−
Ｏ、Ｓｉ−Ｃ−Ｏなどが挙げられる。これらは酸化され
ていると硬くなり磁気記録媒体の剛性の向上にはより好
ましい。あるいは、Ａｌ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ
Ｏ_Xなどは、補強層の形成が容易なので好ましい。

【００２６】補強層を形成する方法は問わないが、真空
蒸着法が一般的であり、その他にもスパタリングやイオ
ンプレーティングなどの方法を用いることができる。補
強層の厚さは、２０〜５００ｎｍが好ましく、より好ま
しくは５０〜３００ｎｍである。また、補強層は単層で
も多層でも何れでも良い。

【００２７】本発明の補強層の材料は生産性の面からは
両面が同一の方が好ましいが、異なっていても良い。

【００２８】本発明の磁気記録層は少なくとも一層の金
属薄膜型の磁気記録層で形成される。磁気記録層は補強
層自体からなるか、あるいは補強層の上に形成されたも
のである。その材料としてはＮｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ等
の金属やこれらの合金、酸化物、窒化物などがあるが、
これらに限定されるものではない。磁気記録層の厚さは
２０〜５００ｎｍが好ましく、より好ましくは４０〜２
００ｎｍである。

【００２９】特に補強層がＣｏ等の強磁性金属から形成
される場合には、補強層を磁気記録層とすることが生産
性の面から好ましい。

【００３０】さらに磁気記録層の上には耐久性向上のた
めに保護層を設けることができる。例えばカーボン層や
潤滑剤層などであり、１種あるいは数種を組み合わせて
設けることができる。厚さは０．５〜５０ｎｍが好まし
い。また潤滑剤層はフッ素系の潤滑剤が好ましい。

【００３１】またＢ面側にはバックコート層を設けるこ
とができる。この層は補強層自体であってもよいし補強
層の上に形成されたものでもよい。厚さは１μ以下であ
ることが好ましい。バックコート層は、カーボンブラッ
クやバインダーを主成分とする厚さ０．２〜１μｍ程度
の塗布型のバックコート層や、蒸着法、スパタリング法
等で、真空中で金属又は半金属を支持体に付着させて形
成された金属薄膜型のバックコート層のいずれでもよ
い。

【００３２】次に本発明の製造方法について説明する
が、これに限定されるものではない。

【００３３】まず芳香族ポリアミドは、酸クロリドとジ
アミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極性溶媒
中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合な
どで合成される。単量体として酸クロリドとジアミンを
使用することによって副生する塩化水素を中和する場合
には、水酸化カルシウム、水酸化リチウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、または、エチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、
トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノー
ルアミンなどの非金属塩基系乃至は有機系の中和剤が使
用される。また、イソシアネートとカルボン酸との反応
は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行な
われる。

【００３４】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。

【００３５】本発明の芳香族ポリアミドフィルムを得る
ためにはポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で
１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、０．
５以上であることが好ましい。製膜原液には溶解助剤と
して無機塩、例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシ
ム、塩化リチウム、硝酸リチウムなどを添加する場合も
ある。製膜原液中のポリマ濃度は２〜４０wt％程度が好
ましい。

【００３６】粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中に十
分スラリ−化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒とし
て使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添加す
る方法などがある。

【００３７】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されてもよいが、ここでは乾湿式法を例にと
って説明する。

【００３８】乾湿式法は、乾式工程と湿式工程を有す
る。

【００３９】まず、乾式工程では、製膜する場合は該原
液を口金からニッケル、ステンレス、銅、チタン、ハス
テロイ、タンタル等の材質からなるドラム、エンドレス
ベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかか
る薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつま
で乾燥する。乾燥条件は室温〜２５０℃、６０分以内が
好ましく、より好ましくは室温〜２００℃である。乾燥
温度が２５０℃を越えると急激な加熱によるボイドの発
生、表面の荒れ等が起こり実用的なフィルムが得られな
い。

【００４０】上記乾式工程を終えたフィルムは支持体か
ら剥離されて湿式工程に導入される。この工程では、湿
式工程処理液に曝され、フィルム中に含有されている溶
剤や不純物が除去される。具体的には湿式工程処理液で
満たされた浴にフィルムを浸漬する。この浴液（湿式工
程処理液）は一般に水系媒体からなるものであり、水の
他に有機溶媒や無機塩等を含有してもよい。また、この
浴液は、水を３０％以上好ましくは５０％以上含有する
のが好ましく、浴温度は通常０〜１００℃で使用され
る。さらにフィルム中の不純物を減少させるために浴温
を５０℃以上に上げたり、あるいは有機溶剤の浴を設け
てこの中を通すことが有効である。フィルムを浴液に曝
す時間は１０秒〜１０分が好ましい。

【００４１】湿式工程を出たフィルムは更に乾燥、延伸
が行われる。乾燥、延伸は２００〜４００℃で、延伸倍
率は面倍率で１〜１０（面倍率とは延伸後のフィルム面
積を延伸前のフィルムの面積で除した値で定義する。１
以下はリラックスを意味する。）が好ましく、より好ま
しい延伸倍率は１．５〜５である。

【００４２】さらに、ＴＤ方向の熱収縮率を所定の範囲
にするためには、上記ＴＤの延伸時や延伸後再度ＴＤ方
向に延伸する方法などで調整できる。

【００４３】フィルムの表面形成を行うには公知の方法
で行うことができる。例えば口金や積層管を使用して積
層する方法や、工程中で樹脂、バインダーや粒子をコー
テイングする方法がある。

【００４４】次にこのフィルムに補強層を設ける。事前
にグロー放電処理やコロナ処理などの表面処理を行うと
フィルムと補強層の密着性が向上するので好ましい。補
強層の形成は真空蒸着やスパタリング等の方法で行われ
る。

【００４５】次いで真空蒸着やスパタリング等の公知の
方法で金属薄膜型の磁気記録層を設ける。

【００４６】また必要により保護層を設けることができ
る。

【００４７】さらに磁気記録層と反対側の面に前述の方
法によりバックコート層を設けることが好ましい。これ
らの処理が終わった後、スリットして本発明の磁気記録
媒体が得られる。

【００４８】

【測定方法、評価法】本発明の物性の測定方法、効果の
評価方法は次の方法による。

【００４９】（１）ヤング率テンシロン型引張り試験機により歪・応力曲線における
接線の勾配から求めた。サンプルは幅１０ｍｍ、試長１
００ｍｍとし、引張り速度は３００ｍｍ／分で行った。

【００５０】（２）フィルム表面の微細粒子の平均粒
径、突起個数平均粒径をフィルムから求めるには、フィルム表面をイ
オンエッチングし微細粒子をフィルム表面に暴露し、電
子顕微鏡で１万倍前後の倍率で観察して面積相当径とし
て求める。

【００５１】突起個数は１万倍前後の電子顕微鏡で観察
して求める。

【００５２】（３）表面粗さＲｚ（十点平均粗さ）小坂研究所製のＥＴ−１０でカットオフ０．００８ｍｍ
で測定した。触針半径０．５μｍ、荷重は５ｍｇであ
る。

【００５３】（４）出力２５℃、５５％ＲＨの雰囲気下で磁気記録媒体がカール
しないように補強層や磁気記録層の製膜条件を調整して
得た磁気記録媒体を６ｍｍ幅のテープにスリットした。
これにＤＶＣ方式のＶＴＲで記録し、それを２組に分
け、一方はＡ条件（２５℃、５５％ＲＨ）の雰囲気に２
４時間と、もう一方はＢ条件（４０℃、８０％ＲＨ）中
に２４時間放置した。これを取り出し２５℃、５５％Ｒ
Ｈの雰囲気中で３０分以内にＤＶＣ方式のＶＴＲを使用
して出力を測定して比較した。なお実施例１の条件Ａを
基準（０ｄＢ）とした。

【００５４】（５）カール６ｍｍ幅のテープを長さ１０ｃｍに２本切り出してそれ
ぞれを２組に分けて平坦面に置いた。これを一方はＡ条
件（２５℃、５５％ＲＨ）中に２４時間と、もう一方は
Ｂ条件（４０℃、８０％ＲＨ）中に２４時間放置した。
これを取り出し、２５℃、５５％ＲＨの雰囲気中ですば
やく幅方向のカール量を測定した。テープの磁性面を上
側として平坦面に置き、テープのエッジの持ち上がり量
を平坦面から測定した。テープの両端について測定して
平均し、その差が２ｍｍ以下であるものを○、２ｍｍを
越えるものを×とした。

【００５５】

【実施例】実施例１重合槽に水分率５０ｐｐｍのＮ−メチル−２−ピロリド
ン（ＮＭＰ）を仕込み、この中に芳香族ジアミン成分
（芳香族ジアミン成分全体を１００モル％とする）とし
て８５モル％に相当する２−クロルパラフェニレンジア
ミンと、１５モル％に相当する４、４’−ジアミノジフ
ェニルエ−テルとを溶解させた。これに９８モル％（芳
香族ジアミン成分全体を１００モル％として）に相当す
る２−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、２時間撹
拌して重合を完了した。さらに発生塩化水素に対して水
酸化リチウムを９６．５モル％（発生塩化水素を１００
モル％として）を添加し、ついでジエタノールアミンを
７モル％（発生塩化水素を１００モル％として）添加し
て中和し、ポリマ溶液を得た。

【００５６】なお重合に先立ちＮＭＰに分散した粒径５
０ｎｍのコロイダルシリカをポリマに対して０．１ｗｔ
％となるように添加してある。ここで得られた溶液はＡ
面側用であり、ポリマ濃度１０．５ｗｔ％、３０℃での
溶液粘度は４５００ポイズであった。

【００５７】一方上記ポリマ溶液の重合と同様にしてＢ
面側用のポリマ溶液を調製した。これには２００ｎｍの
コロイダルシリカが０．２ｗｔ％添加されている。

【００５８】このようにして得られたポリマ溶液を２層
の積層管を用いて積層した。ここでＡ、Ｂ面用フィルム
層はそれぞれ０．９μｍ、５μｍのステンレス製フイル
ターでそれぞれ濾過して使用した。各層の厚みは最終フ
ィルムでＡ面側の層，Ｂ面側の層がそれぞれ３．３μ
ｍ、１μｍに設定した。

【００５９】この２層からなるフィルム状ポリマ溶液を
口金より金属ベルト上に流延した。流延されたフィルム
を１６０℃の熱風で１分間加熱して溶媒を蒸発させ、自
己保持性を得たフィルムをベルトから連続的に剥離し
た。次に５０℃の水槽内へフィルムを導入して２分間浸
漬し、残存溶媒と中和で生じた無機塩等の抽出を行なっ
た。なおこれら浴中でＭＤ方向に１．２倍延伸した。

【００６０】つぎにテンタ−に導入し２７０℃で１分間
で水分の乾燥と熱処理を行なった。この間にフィルムの
幅方向に１．３５倍延伸を行ない厚さ４．３μｍのフィ
ルムを得た。フィルムの吸湿率は１．６％であった。Ａ
面の表面粗さＲｚは６ｎｍ、Ｂ面は５５ｎｍであった。
また表面の微細突起はＡ面が２６０万個／ｍｍ²、Ｂ面
が２０万個／ｍｍ²、またヤング率はＭＤ方向が１１．
５ＧＰａ、ＴＤ方向は１５．４ＧＰａであった。

【００６１】次にこのフィルムの金属ベルトと接しない
側の表面（Ａ面側）に、Ｃｏを１５０ｎｍの厚さに真空
蒸着し、これを補強層兼磁気記録層とした。

【００６２】さらにこの非磁気記録面側（Ｂ面側）にＣ
ｏを１００ｎｍの厚さに真空蒸着法で形成し補強層とし
た。

【００６３】次いでこの磁気記録層の表面に保護層とし
てＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）膜を１２ｎｍ
の厚さ設け、さらに潤滑剤としてフッ素系潤滑剤を２ｎ
ｍの厚さで塗布した。

【００６４】またＢ面側にはカーボンブラックとバイン
ダー（ポリウレタン／ニトロセルロース）からなる塗料
（重量比で４０：７０）を塗布して厚さ０．５μｍのバ
ックコート層を形成し、さらにスリットして６ｍｍ幅の
テープを得た。

【００６５】これをＡ条件、Ｂ条件に放置後出力を測定
したが、Ａ条件、Ｂ条件とも出力は安定して良好であっ
た。またＡ条件では比較例１と較べ、補強層が両面にあ
るため出力が大きくなることが確認できた。

【００６６】なおＢ条件下に放置したテープは磁性面側
に僅かにカールしていたがその量は０．２ｍｍと非常に
わずかであった。

【００６７】実施例２実施例１で得られたフィルムを使用し、Ｂ面側の補強層
をＡｌで厚さ１５０ｎｍの厚さにした以外は、実施例１
と同様にして６ｍｍ幅のテープを得た。これを評価した
結果を表１に示すが、出力、カールとも非常に良好であ
った。

【００６８】実施例３実施例１で得られたフィルムを使用し、この両面にＣｏ
をそれぞれ１００ｎｍの厚さになるように蒸着した。次
いでＡ面側にはさらにＣｏを９０ｎｍ蒸着して磁気記録
層を作成した。Ａ面側にはさらに保護層を、Ｂ面側には
バックコート層を実施例１と同様に形成して６ｍｍ幅の
テープを得た。これを評価した結果を表１に示すが、出
力、カールとも非常に良好であった。

【００６９】実施例４実施例１で得られたフィルムを使用し、この両面に厚さ
１５０ｎｍのＳｉＯ_X補強層を蒸着した。次いでＡ面側
には補強層の上にＣｏを１００ｎｍ蒸着して磁気記録層
を作成した。さらにＡ面側には保護層を、Ｂ面側にはバ
ックコート層を実施例１と同様に形成して６ｍｍ幅のテ
ープを得た。これを評価した結果を表１に示すが、出
力、カールとも非常に良好であった。

【００７０】実施例５実施例１で準備した原料を用い、Ａ面側が２．０μｍ、
Ｂ面側が０．６μｍになるように積層して厚さ２．６μ
ｍのフィルムを得た。

【００７１】ここでＭＤ方向には１．２倍延伸した。ま
たテンタ−では２８０℃で水分の乾燥と熱処理を行な
い、この間にフィルムは幅方向に１．５倍延伸を行なっ
た。

【００７２】フィルムの吸湿率は１．４％であった。Ａ
面の表面粗さＲｚは６．６ｎｍ、Ｂ面は６０ｎｍであっ
た。また表面の微細突起はＡ面が２７０万個／ｍｍ²、
Ｂ面が２０万個／ｍｍ²、またヤング率はＭＤ方向が１
１．０ＧＰａ、ＴＤ方向は１７．３ＧＰａであった。

【００７３】次にこのフィルムに実施例４と同じ補強
層、磁気記録層、保護層、バックコート層を設け６ｍｍ
幅のテープとして評価した結果を表１に示す。フィルム
が薄いにもかかわらず出力、カールとも良好であった。

【００７４】実施例６実施例５で得られたフィルムを使用し、このＡ面側にＣ
ｏを１５０ｎｍ蒸着して補強層兼磁気記録層とした。

【００７５】次いでＢ面側にはＮｉを蒸着しながら酸素
を導入しＮｉ−Ｏ補強層を形成した。ここで酸素はＮｉ
の１／４原子数になるように酸素量を調整した。

【００７６】Ａ面側にはさらに保護層を、Ｂ面側にはバ
ックコート層を実施例１と同様に形成してテープを得
た。これを評価した結果を表１に示すが、出力、カール
とも非常に良好であった。

【００７７】比較例１実施例１でＢ面側のＣｏ補強層をなくした以外は実施例
１と同様に６ｍｍ幅のテープを作成した。これを評価し
た結果を表１に示すが、Ａ条件では実施例１に比較して
出力がやや低くなった。さらにＢ条件では出力は大幅に
低下する結果となった。このテープのカールは２．５ｍ
ｍと大きく、このために磁気テープと磁気ヘッドの接触
が悪化したために出力が低下したものと考えられる。

【００７８】比較例２実施例１で、Ａ面側のＣｏを２５０ｎｍと厚くし、Ｂ面
側の補強層をなくした以外は実施例１と同様にテープを
作成した。これを評価した結果を表１に示すが、比較例
２と同様出力は悪く、カールも大きなものであった。

【００７９】比較例３実施例５のＢ面側の補強層をなくした以外は実施例５と
同様の方法でテープを作成した。これを評価したがＡ条
件でも出力の低下が大きく、さらにＢ条件ではもっと大
きかった。

【表１】

【発明の効果】芳香族ポリアミドフィルムの両面に補強
層を設けることにより、薄くても出力が大きく、また高
温高湿度下でも安定した出力が得られる磁気記録媒体が
提供できる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族ポリアミドフィルムの両面に、金
属、半金属、合金、酸化物およびこれらの複合物よりな
る群から選ばれた少なくとも１種類の材料からなる補強
層が形成され、一方の面は、磁気記録層が設けられてい
る面（Ａ面）であり、もう一方の面は磁気記録層が設け
られていない面（Ｂ面）であることを特徴とする磁気記
録媒体。
【請求項２】Ａ面がＢ面より平滑である請求項１に記載
の磁気記録媒体。
【請求項３】Ａ面側のフィルム表面粗さＲｚは１〜２０
ｎｍであり、Ｂ面のフイルム表面粗さは２５〜１００ｎ
ｍである請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】芳香族ポリアミドフィルムの吸湿率が１〜
４％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに
記載の磁気記録媒体。
【請求項５】フィルム厚さが２〜５μｍであることを特
徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
【請求項６】Ａ面において、補強層が磁気記録層を兼ね
ているものである請求項１〜５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】補強層が非磁性体であり、Ａ面において補
強層とは別に磁気記録層を有してなる請求項１〜６に記
載の磁気記録媒体。