JP2000326465A - 芳香族ポリアミドフィルムあるいは芳香族ポリイミドフィルム、およびそれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】両面共に粗大突起の少ない芳香族ポリアミドあ
るいは芳香族ポリイミドフィルムを提供する。 【解決手段】芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミ
ドフィルムからなるフィルムにおいて、一方の表面（Ａ
面）と他方の表面（Ｂ面）の高さ０．２７μｍ以上の粗
大突起個数（Ａ面側がＨ１Ａ、Ｂ面側がＨ１Ｂ：個／１
００ｃｍ²）が、下式 ０≦Ｈ１Ａ≦１００ ０≦Ｈ１Ｂ≦１００ −２０≦Ｈ１Ａ−Ｈ１Ｂ≦２０ を充たすものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表裏共に無欠陥性
を有する芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドフ
ィルム、また、表裏共に高い特性を発現できる磁気記録
媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドは
その高い耐熱性、電気絶縁性から工業材料として有用な
材料である。特にパラ配向性芳香核からなる芳香族ポリ
アミドは、その剛直性から上記特性に加え、強度、弾性
率に優れた成形体を与えるので、その利用価値は高く、
磁気記録媒体への応用が検討されている。

【０００３】磁気記録媒体の形態としては、テープ状、
カード状、ディスク状の形態が挙げられ、何れの形態に
おいても記録の高密度化の検討が急速に進みつつある
が、中でも、ディスク状磁気記録媒体の高密度化に対す
る期待が大きい。

【０００４】磁気ディスクとしては、ガラス基板やアル
ミ基板上に磁性層を形成したハードディスクや、ポリエ
ステルフィルムなどの有機高分子体上に磁性層を形成し
たフロッピーディスクが代表的である。この内、安価、
携帯性、利便性と言った観点から、特にフロッピーディ
スクの需要の大きな伸びが予想されている。

【０００５】しかしながら、フロッピーディスクを広く
展開していく上で、以下の課題がある。すなわち、記録
の高密度化による高容量化と転送速度の向上である。ま
ず、高容量化については、２ＭＢの２ＨＤフロッピーデ
ィスクから、１００ＭＢクラスのものまで開発されてい
るが、今後、益々顕著となる高容量化の要請には十分と
は言えない。このような状況に対し、記録密度を向上さ
せる試みが多くなされている。一つの方向は、強磁性粉
末や六方晶フェライトを含む薄膜磁性層と機能性非磁性
層からなる磁性層を設けるもので、例えば、特開平１０
−３３４４５７号公報、特開平１０−３２０７４４号公
報、特開平１０−３０２２４３号公報、特開平１０−３
３４４６４号公報、特開平１０−３２０７５４号公報等
である。もう一つの方向は、スパッタ、蒸着、イオンプ
レーティング等の手法により、金属薄膜型磁性層を設け
るもので、特開平１０−２６９５４７号公報、特開平１
０−１９８９４４号公報、特開平１０−１４３８５４号
公報、特開平１０−４０５４２号公報等である。また、
転送速度については、ディスクの回転数を大幅に上げる
ことにより向上を図る試みがなされている。

【０００６】従来、フロッピーディスクの支持体として
は、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタ
レートに代表されるポリエステルからなるフィルムが使
用されてきたが、上記した高記録密度化や転送速度の増
大に対して必ずしも十分とは言えなくなってきている。
すなわち、ディスクの回転数を大幅に増大させると、面
振れが発生し、ヘッドとのクリアランスが不均一にな
り、記録・再生が不安定になることがある。更にディス
クとヘッドが強く衝突し、媒体、ヘッドが損傷すること
がある。面振れの原因は、ディスクの剛性が不足してい
るためであり、支持体にポリエステルを用いている限
り、改善にも限界がある。また、記録密度を向上させる
ために金属薄膜型磁性層を設ける場合、支持体にかかる
温度が高く、ポリエステルフィルムでは、耐熱性が不足
する場合がある。

【０００７】そこで、ディスクの支持体として耐熱性に
優れる芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドを用いる検
討が行われている。特に芳香族ポリアミドは、剛性にも
優れるため、高速回転に耐えることも期待される（例え
ば、特開平１１−２５４４５号公報、特開平１０−２１
５２９号公報）。

【０００８】また、芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミ
ドを磁気記録媒体に展開する上で重要となる表面性につ
いての検討も行われている。すなわち、走行性、加工性
を確保するためには、表面が粗い方が好ましく、一方、
電磁変換特性を向上させるためには、表面は平滑な方が
好ましい。こうした要請に応えるべく、フィルムの表面
形成については、これまで様々な手法、形態が提案され
ている。

【０００９】その手法としては、フィルムを形成するポ
リマー中に、無機あるいは有機粒子を含有せしめる方法
（例えば、特開昭６０ー１２７５２３号公報、特開昭６
０ー２０１９１４号公報）、フィルム成形時あるいは成
形後に、微細粒子を含有したスラリーをコーティングし
表面突起を形成する方法（例えば、特開平３ー１１９５
１２号公報）が代表的なものとして挙げられ、更に両面
の粗さを規制する方法等が提案されている（例えば、特
開平１−２４７１６２号公報）。また、表面の粗大突起
を規制したものとして、芳香族ポリアミドでは、ＷＯ９
６／００４３９号公報、ＷＯ９６／０６１２８号公報、
芳香族ポリイミドとしては、特許２８４２４２７号公報
等がある。また、比較的厚膜の芳香族ポリアミドフィル
ムをベースとした磁気記録媒体が、特開平４−２０９３
１３号公報に開示されている。

【００１０】これらの技術は、磁気記録媒体への展開を
指向はしているが、本質的には磁気テープとして好適な
技術を開示しているものである。つまり、磁性層側の表
面を精細・平滑に形成する技術、あるいは、非磁性層面
は走行性を確保するためにやや粗く形成する技術であ
る。一方、フロッピーディスクとして使用する場合は、
両面共に同レベルに精度の高い表面であることが必要と
なる。従来技術のうち、両面共に精細・平滑表面の構成
を排除していないものもあるが、実質的に開示されてい
るのは、片面が高精細表面であるものだけである。これ
は、芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドのフィルム製
造における本質的問題に関わるものである。

【００１１】芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドは、
分子間力が極めて強い。この性質は芳香族ポリアミドや
芳香族ポリイミドの耐熱性が高い所以であるが、このた
め、ポリエステル等の熱可塑性樹脂とは異なり、溶液製
膜法でなければ形成できない。溶液製膜法は、ポリマー
を溶媒に溶解させたドープを金属ドラム、エンドレスベ
ルト等の支持体上に流延し、乾燥等の手段により溶媒を
除去し、支持体から剥離することを特徴とする。この過
程において、支持体上に流延されたポリマードープは、
粘性が低いため支持体の表面を忠実になぞることとな
り、最終フィルムにおいても、支持体表面の形態が転写
されて強く残ることとなる。従って、支持体接触面側表
面に無欠点性等の高精度表面性を求めようとすると、支
持体表面の高精度化が必要となる。現在、支持体の材質
としては、ステンレス、タンタル、ハステロイ等の金属
が使用されているが、金属中の極微量の不純物の存在や
加工精度の限界から、径が数μｍレベルの孔、あるいは
傷が存在する。これらの欠陥を完全に抑制することは、
現在最高の技術をもってしても困難である。よって、芳
香族ポリアミドや芳香族ポリイミドフィルムにおいて、
両面共に同レベルの高精度表面を形成することは、困難
な課題であった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決し、芳香族ポリアミドや芳香族ポリイミドの耐熱
性、剛性を維持し、且つ、表裏両面共に同レベルで欠陥
の極めて少ないフィルムを提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに、本発明は、一方の表面（Ａ面）と他方の表面（Ｂ
面）の高さ０．２７μｍ以上の粗大突起個数（Ａ面側が
Ｈ１Ａ、Ｂ面側がＨ１Ｂ：個／１００ｃｍ²）が、下式 ０≦Ｈ１Ａ≦１００ ０≦Ｈ１Ｂ≦１００ −２０≦Ｈ１Ａ−Ｈ１Ｂ≦２０ を充たすことを特徴とする芳香族ポリアミドあるいは芳
香族ポリイミドフィルムとするものである。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の芳香族ポリアミドとは、
次の一般式（１）および／または一般式（２）で表わさ
れる繰り返し単位を５０モル％以上含むものが好まし
く、７０モル％以上からなるものがより好ましい。その
他の成分として、他の繰り返し単位が共重合、またはブ
レンドされていても差し支えない。

【００１５】

【化１】

【００１６】

【化２】 ここで、Ａｒ₁，Ａｒ₂、Ａｒ₃としては例えば、

【００１７】

【化３】 などが挙げられる。

【００１８】Ｘ、Ｙは、 −Ｏ−，−ＣＨ₂−，−ＣＯ−，−ＳＯ₂−、−Ｓ−，−
Ｃ（ＣＨ₃）₂− 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、フッ素、塩
素、臭素などのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、メ
チル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基（特に
メチル基）、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基などのアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含み、また、重合体を構成するアミ
ド結合中の水素が、他の置換基によって置換されている
ものも含む。

【００１９】特性面からは、上記の芳香環がパラ配向位
で結合されたものが、全芳香環の５０％以上、より好ま
しくは７５％以上を占める重合体が、フィルムの剛性が
高く耐熱性も良好となるため好ましい。尚ここでパラ配
向位とは、結合位が直線となるものを意味する。また芳
香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基（特に塩素）で
置換された芳香環が全体の３０％以上であると、耐湿性
が向上し、吸湿による寸法変化、剛性低下などの特性が
改善されるために好ましい。

【００２０】本発明における芳香族ポリイミドとは、重
合体の繰り返し単位中に芳香環とイミド環を１つ以上含
むものであり、一般式（３）および／または一般式
（４）で示される繰り返し単位を５０モル％以上含むも
のであり、より好ましくは７０モル％以上である。その
他の成分として、他の繰り返し単位が共重合、ブレンド
されていても差し支えない。

【００２１】

【化４】

【００２２】

【化５】 ここで、Ａｒ₄，Ａｒ₆は少なくとも１個の芳香環を含
み、イミド環を形成する２つのカルボニル基は、芳香環
上の隣接する炭素原子に結合している。このＡｒ ₄は、
芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に由来す
る。代表例としては次のようなものが挙げられる。

【００２３】

【化６】 ここで、Ｚは、 −Ｏ−，−ＣＨ₂−，−ＣＯ−，−ＳＯ₂−、−Ｓ−，−
Ｃ（ＣＨ₃）₂− 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。

【００２４】また、Ａｒ₆は無水カルボン酸あるいはこ
のハライドに由来する。Ａｒ₅，Ａｒ ₇としては例えば

【００２５】

【化７】 などが挙げられる。

【００２６】Ｘ，Ｙは、 −Ｏ−，−ＣＨ₂−，−ＣＯ−，−ＳＯ₂−、−Ｓ−，−
Ｃ（ＣＨ₃）₂− 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、フッ素、塩
素、臭素などのハロゲン基（特に塩素）、ニトロ基、メ
チル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基（特に
メチル基）、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基などのアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含み、また、重合体を構成するアミ
ド結合中の水素が、他の置換基によって置換されている
ものも含む。

【００２７】また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドには、フィルムの特性を損なわない程度に、
酸化防止剤等の添加剤等が含有されていてもよい。

【００２８】また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドは、用途に応じて粒子、あるいは後述する異
種重合体を含有することも可能である。

【００２９】粒子としては、有機粒子、無機粒子何れで
も差し支えなく、例えば架橋ポリビニルベンゼン、アク
リル、架橋ポリスチレン、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド、フッ素樹脂などの有機高分子からなる粒
子、コロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラ
ック、ゼオライト等の無機粒子、あるいは上記有機高分
子粒子に他の有機物で被覆等の各種処理を施した粒子、
あるいは上記無機粒子の表面を上記有機高分子で被覆等
の各種処理を施した粒子等が挙げられる。粒子径として
は、５〜１００ｎｍのものが好ましく、より好ましくは
１０〜５０ｎｍ、更に好ましくは１５〜３０ｎｍであ
り、単分散粒子を用いることが好ましい。また、これら
の中から、複数の粒子を組み合わせて用いても良く、ま
た大きさの異なる粒子を組み合わせて使用しても差し支
えない。粒子の含有量は、用途により適切に設計される
ものであるが、特に磁気記録媒体用途に用いる場合に
は、フィルムの少なくとも片面の最外層において０. ０
００１〜１．０重量％とするのが好ましく、より好まし
くは０．００１〜０．２重量％、更に好ましくは０．０
０５〜０．１重量％である。

【００３０】本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳香族
ポリイミドフィルムは、一方の表面（Ａ面）と他方の表
面（Ｂ面）の高さ０．２７μｍ以上の粗大突起個数（Ｈ
１：個／１００ｃｍ²）が、下式 ０≦Ｈ１Ａ≦１００ ０≦Ｈ１Ｂ≦１００ −２０≦Ｈ１Ａ−Ｈ１Ｂ≦２０ を充たすものである。

【００３１】ここでＨ１Ａとは、Ａ面でのＨ１個数、Ｈ
１ＢとはＢ面でのＨ１個数を表す。

【００３２】Ｈ１Ａ、Ｈ１Ｂが１００を超えると、磁気
記録媒体としたときに記録抜けが発生しやすく、エラー
レートが高くなることがある。Ｈ１Ａ、Ｈ１Ｂは、好ま
しくは、０〜６０個／１００ｃｍ²であり、より好まし
くは、０〜３０個／１００ｃｍ²、更に好ましくは０〜
１０個／１００ｃｍ²である。また、両面のＨ１個数差
であるＨ１Ａ−Ｈ１Ｂは、−２０〜２０個／１００ｃｍ
²の範囲である。

【００３３】両面のＨ１個数差が２０個／１００ｃｍ²
を超えると、磁気記録媒体、特に両面記録が必要となる
場合に、両面でのエラーレート差、出力差が大きくな
り、実用価値が失われることがある。更に、フィルムロ
ールとして保管している時に、経時により粗面が平滑面
に転写して平滑面の特性も劣化することがある。Ｈ１Ａ
−Ｈ１Ｂは、好ましくは、−１０〜１０個／１００ｃｍ
²であり、より好ましくは、−５〜５個／１００ｃｍ²で
ある。

【００３４】本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳香族
ポリイミドフィルムは、一方の表面（Ａ面）と他方の表
面（Ｂ面）の高さ０．１２μｍ以上の粗大突起個数（Ｌ
１：個／１００ｃｍ²）が、下式 ０≦Ｌ１Ａ≦４００ ０≦Ｌ１Ｂ≦４００ −８０≦Ｌ１Ａ−Ｌ１Ｂ≦８０ を充たすことが好ましい。

【００３５】ここでＬ１Ａとは、Ａ面でのＬ１個数、Ｌ
１Ｂとは、Ｂ面でのＬ１個数を表す。

【００３６】Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂが４００を超えると、記録
密度が２．０ギガビット／inch²を超えるような超高記
録密度の磁気記録媒体としたとき、特に再生ヘッドとし
て磁気抵抗型ヘッドを用いたときの記録抜けが急増し、
エラーレートが格段に高くなることがある。Ｌ１Ａ、Ｌ
１Ｂは、より好ましくは、０〜２００個／１００ｃｍ ²
であり、さらに好ましくは、０〜１００個／１００ｃｍ
²である。また、両面のＬ１個数差であるＬ１Ａ−Ｌ１
Ｂは、−８０〜８０個／１００ｃｍ²の範囲であると、
両面共に超高密度記録が高い信頼性のもとに実現できる
ので好ましい。両面のＬ１個数差が８０個／１００ｃｍ
²を超えると、磁気記録媒体、特に両面記録が必要とな
る場合に、両面でのエラーレート差、出力差が大きくな
り、実用価値が失われることがある。Ｌ１Ａ−Ｌ１Ｂ
は、より好ましくは、−４０〜４０個／１００ｃｍ²で
あり、さらに好ましくは、−２０〜２０個／１００ｃｍ
²である。

【００３７】また、本発明の芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドフィルムは、高さ５〜２０ｎｍの突起
個数が１００万〜２０００万個／ｍｍ²であると、フィ
ルム加工時の走行性、磁気記録媒体、特に金属薄膜型磁
性層を設けた場合の耐久性が向上するので好ましい。高
さ５ｎｍ未満の突起、あるいは突起個数が１００万個／
ｍｍ²未満では、走行性、耐久性向上に寄与が小さく、
高さ２０ｎｍを超える突起が多数存在する場合、あるい
は突起個数が２０００万個／ｍｍ²を超える場合は、出
力が不十分になることがある。高さ５〜２０ｎｍの突起
個数は、より好ましくは、３００万〜１５００万個／ｍ
ｍ²であり、更に好ましくは５００万〜１２００万個／
ｍｍ²である。更に、Ａ面、Ｂ面の突起個数差が０〜４
００万個／ｍｍ²であると両面共に高い走行性、耐久性
を同レベルで得ることが可能となるので好ましい。より
好ましくは０〜２００万個／ｍｍ²であり、更に好まし
くは０〜１００万個／ｍｍ²である。

【００３８】本発明のフィルムは、上記の如く両面共に
同レベルの精度の高い表面を持つことが特徴であるが、
このフィルムは、次のような方法にて成形されることが
好ましい。第１の方法は、製膜原液を支持体上にキャス
ト、自己支持性を得たフィルムを支持体から剥離後に、
含液状態で一旦巻き取り、その後、巻き取ったフィルム
を支持体接触面同士が、合わさるように圧着あるいは接
着し、その後熱処理を経て本発明のフィルムを得る方法
である。第２の方法は一旦形成したフィルムを支持体接
触面同士を接着層を介して貼り合わせる方法であり、何
れの方法で成形されても構わないが、芳香族ポリアミド
あるいは芳香族ポリイミドの耐熱性、剛性を最大限に発
現させるため、また生産性向上の点から第１の方法が好
ましい。

【００３９】接着に用いる塗剤は、大きく分けて２種類
ある。一つは、芳香族ポリアミド、あるいは芳香族ポリ
イミドと親和性の高い溶剤であり、例えば、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ｏ−クロルフェノ
ール等の極性溶媒である。こうした溶媒は、芳香族ポリ
アミドや、芳香族ポリイミドフィルムの表層部分を溶
解、あるいは膨潤させることが可能であるため、貼り合
わせ後の圧着、熱処理により分子レベルで強固に貼り合
わせることが可能となる。今ひとつは、ポリエステル
系、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系等の接着剤を
用いて貼り合わせる方法であり、ポリマーとの親和性に
より適切に選ばれるものであるが、耐熱性が高いものが
好ましい。また、接着層は最終フィルムの剛性を高く保
つために、なるべく薄膜であることが好ましい。具体的
には、１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以
下、更に好ましくは３μｍ以下である。また、芳香族ポ
リアミドあるいは芳香族ポリイミドとの接着性を保つ点
から、０．０３μｍ以上であることが好ましい。

【００４０】本発明のフィルムは、最終フィルムとして
の厚みが２〜１００μｍであることが好ましい。更に、
磁気ディスクとして利用する場合は、１０〜１００μｍ
が好ましく、より好ましくは、２０〜８０μｍであり、
更に好ましくは、４０〜６５μｍである。最終フィルム
としての厚みがこの範囲にあると、磁気ディスクとした
ときの面振れを抑制しつつ、回転動力を低く抑えること
ができる。厚み構成としては、芳香族ポリアミド、ある
いは芳香族ポリイミドが全体の８０％以上であると、耐
熱性、剛性を保持できるため好ましく、より好ましくは
９０％以上である。残余の厚みは、接着層あるいは、易
接着層の形成に主として用いられる部分である。

【００４１】更に本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳
香族ポリイミドフィルムは、少なくとも一方向のヤング
率が７ＧＰａ以上であると、ディスク高速回転時の面振
れを抑えることができるので好ましい。より好ましくは
９ＧＰａ以上、更に好ましくは１１ＧＰａ以上である。
また、磁気ディスクに展開する上では、全ての方向のヤ
ング率が７ＧＰａ以上であり、更に等方的であることが
好ましい。ヤング率の上限は、特に限定されるものでは
ないが、通常３０ＧＰａ程度である。

【００４２】ヤング率を上記範囲とする点からは、本発
明のフィルムは芳香族ポリアミドからなり、更にその芳
香環がパラ配向性を有しているものが、全芳香環の５０
％以上、より好ましくは７５％以上、更に好ましくは８
０％以上、一層好ましくは９０％以上をしめていること
が好ましい。

【００４３】本発明のフィルムの少なくとも一方向の伸
度は１０％以上、より好ましくは２０％以上、更に好ま
しくは３０％以上であると、適度な柔軟性を持つので好
ましい。伸度の上限は、通常１００％程度である。

【００４４】また、フィルムの吸湿率は、５％以下、よ
り好ましくは３％以下、更に好ましくは２％以下である
と、磁気記録媒体用途にて湿度変化による媒体のの伸縮
が抑えられ、良好な出力特性を保てるので好ましい。吸
湿率の下限については、特に限定されないが、あまりに
低くしようとすると他の物性に悪影響を及ぼすことがあ
るため、通常０．３％程度である。

【００４５】更に、フィルムの２００℃、１０分間での
熱収縮率は、３％以下が好ましく、より好ましくは１．
５％以下であると、磁気記録媒体用途にて温度変化によ
る媒体の伸びが抑えられ、良好な出力特性を保てるので
好ましい。熱収縮率の下限は通常０％である。

【００４６】本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳香族
ポリイミドフィルムは、フレキシブルプリント基板、コ
ンデンサー、プリンタリボン、音響振動板、太陽電池の
ベースフィルムなど種々の用途に好ましく用いられる
が、少なくとも片面に磁性層あるいは光記録層を設けた
記録媒体として用いられると、両面の精度の高い本発明
のフィルムの特徴がより一層活かされるため好ましい。
とりわけ、両面の高記録密度磁性層を設ける磁気記録媒
体、特に磁気ディスク用途に用いられることがより好ま
しい。

【００４７】磁気ディスクに使用される場合、本発明の
芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドフィルムは
両面同レベルの無欠点性、高精細表面を有することに加
え、耐熱性、剛性を備えているため、従来以上の高密度
記録媒体のベースフィルムとして用いられることが好ま
しい。具体的には、記録密度が、０．５ギガビット／in
ch²以上、より好ましくは、２．５ギガビット/inch²以
上、更に好ましくは、５．０ギガビット／inch²以上の
系が好ましい。ここで言う記録密度とは、長手記録の場
合、トラック幅と線記録密度の積により表される密度に
相当する。記録密度の上限は、１００ギガビット/inch²
程度である。

【００４８】また、磁性層の形成法は、磁性粉を熱硬化
性、熱可塑性あるいは放射線硬化性などの結合剤と混練
し塗布、乾燥を行う塗布法、金属または合金を蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティング法などにより、基
材フィルム上に直接磁性金属薄膜層を形成する乾式法の
いずれの方式も採用できる。

【００４９】まず、塗布法について説明する。

【００５０】本発明のフィルムからなる非磁性支持体と
非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り層
を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜２μ
m が好ましく、より好ましくは０．０２〜０．５μm で
ある。

【００５１】本発明の磁気記録媒体は、少なくとも磁性
層と非磁性下層からなる２層以上の重層型磁性層である
ことが好ましい。

【００５２】磁性層の厚みは、用いるヘッドの飽和磁化
量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化さ
れるものであるが、一般には０．０１〜１．０μm が好
ましく、より好ましくは０．０５〜０．５μm 、更に好
ましくは０．０５〜０．４μｍである。磁性層を異なる
磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知
の重層型磁性層に関する構成が適用できる。

【００５３】下地層である非磁性層の厚みは０．２〜
５．０μmが好ましく、より好ましくは０．５〜３．０
μｍ、さらに好ましくは１．０〜２．５μm である。

【００５４】磁性体としては、強磁性金属微粉末あるい
は、六方晶フェライトを用いることが、高出力の磁気記
録媒体を得る上で好ましい。

【００５５】まず、強磁性金属微粉末について説明す
る。強磁性金属微粉末としては、α−Ｆｅを主成分とす
る強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性金属微粉
末には、所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃ
ａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、
Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃ
ｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでも
かまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ
以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくと
も一つを含むことがさらに好ましい。これらの強磁性金
属微粉末は、分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤
などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。

【００５６】また強磁性金属微粉末をＢＥＴ法による比
表面積で表せば、４５〜８０m² /gであり、好ましくは
５０〜７０m²/gである。４０m²/g以下ではノイズが高く
なり、８０m²/g以上では表面性が得にくく、好ましくな
い。本発明の磁性層の強磁性金属微粉末の結晶格子サイ
ズは、８０〜３５０オングストロームが好ましく、より
好ましくは１００〜２５０オングストローム、更に好ま
しくは１４０〜２００オングストロームである。強磁性
金属微粉末の長軸径は、０．０２〜０．２５μm が好ま
しく、より好ましくは０．０５〜０．１５μm であり、
さらに好ましくは０．０６〜０．１μm である。強磁性
金属微粉末の針状比は、３〜１５が好ましく、５〜１２
がより好ましい。強磁性金属微粉末の飽和磁化σs は、
１００〜１８０emu/g が好ましく、より好ましくは１１
０〜１７０emu/g 、更に好ましくは１２５〜１６０emu/
g である。強磁性金属微粉末の抗磁力は、１４００〜３
５００Oeが好ましく、更に好ましくは１８００〜３００
０Oeである。

【００５７】次に、六方晶フェライトについて説明す
る。六方晶フェライトとしては、バリウムフェライト、
ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、 カルシウム
フェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的に
は、マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及び
ストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆
したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピ
ネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、
その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、
Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，
Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んで
もかまわない。一般には、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚ
ｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ
−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加
した物を使用することができる。原料・製法によって
は、特有の不純物を含有するものもある。

【００５８】粒子サイズは、六角板径で１０〜２００nm
が好ましく、より好ましくは２０〜１００nmである。磁
気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要が
あり、板径は４０nm以下が好ましいが、１０nm以下では
熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。２００nm以上で
はノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かな
い。板状比（板径／板厚）は、１〜１５が望ましい。よ
り好ましくは２〜７である。板状比が１より小さいと、
磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性
が得られない。１５より大きいと、粒子間のスタッキン
グによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢ
ＥＴ法による比表面積は、１０〜２００ｍ ²/gを示す。
比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と一致
する。結晶格子サイズは、５０〜４５０オングストロー
ムが好ましく、より好ましくは１００〜３５０オングス
トロームである。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは、５
００〜５０００Oe程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が
高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限さ
れる。通常８００Oeから４０００Oe程度であるが、好ま
しくは１５００〜３５００Oeである。ヘッドの飽和磁化
が１．４テスラーを越える場合は、２０００Oe以上にす
ることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、
含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応
条件等により制御できる。飽和磁化σｓは、４０emu/g
〜８０emu/g である。σｓは高い方が好ましいが、微粒
子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマ
グネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを
複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く
知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いること
も可能である。

【００５９】また、磁性体を分散する際に磁性体粒子表
面を分散媒、結合剤に合った物質で処理することも行わ
れている。表面処理材は、無機化合物、有機化合物が使
用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸
化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種
チタンカップリング剤が代表例である。

【００６０】結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用
される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１
００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２００００
０、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約
５０〜１０００程度のものである。

【００６１】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体、または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹
脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。また、公
知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能であ
る。以上の樹脂は、単独または組合せて使用できるが、
好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わ
せたものがあげられる。

【００６２】また、上記磁性粉末、結合剤に加え、カー
ボンブラック等の公知の添加剤を添加しても差し支えな
い。

【００６３】下地層（以下、非磁性下層ともいう）は、
上記の結合剤、無機粉末、カーボンブラック、有機質粉
末体等の添加剤から構成される。

【００６４】無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、
金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金
属炭化物、金属硫化物、等の無機化合物から選択するこ
とができる。無機化合物としては、例えばα化率９０％
以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ
−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、
α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタ
ンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸
化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウ
ム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カル
シウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが、単独
または組合せて使用される。特に好ましいのは、粒度分
布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に
好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非
磁性粉末の粒子サイズは、０．００５〜２μm が好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも、粒径分布を広く
して同様の効果をもたせることもできる。非磁性粉末の
粒子サイズは、とりわけ好ましくは０．０１〜０．２μ
m である。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場
合は、平均粒子径０．０８μm 以下が好ましく、針状金
属酸化物である場合は、長軸長が０．３μm 以下が好ま
しい。

【００６５】また、磁性層と非磁性下層に使用される添
加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可
塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モリブデ
ン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フ
ッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコー
ン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フ
ッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフ
ィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそ
のアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのア
ルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホ
ン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チ
タンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基
性脂肪酸（不飽和結合を含んでいても、また分岐してい
てもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結
合を含んでいても、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでいても、
また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでいても、また分岐していて
もかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ
脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレン
オキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の
脂肪族アミン、などが使用できる。

【００６６】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下地層を塗布し、下地層がウェッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２
３８１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている
支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を
塗布する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平
２−１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されて
いるような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗
布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三
に特開平２−１７４９６５に開示されているバックアッ
プロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層
をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝
集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止す
るため、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９
６８に開示されているような方法により、塗布ヘッド内
部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９
に開示されている数値範囲を満足する必要がある。塗布
方式は、下地層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。

【００６７】配向装置を用いず、無配向でも十分に等方
的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜
めに交互に配置するソレノイドで、交流磁場を印加する
など公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。
等方的な配向とは、強磁性金属微粉末の場合、一般的に
は面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせ
て３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライ
トの場合は、一般的に面内および垂直方向の３次元ラン
ダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも
可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、
垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付
与することもできる。特に高密度記録を行う場合は、垂
直配向が好ましい。乾燥風の温度、風量、塗布速度を制
御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にすること
が好ましく、塗布速度は２０〜１０００m/分、乾燥風の
温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前
に適度の予備乾燥を行なう事もできる。

【００６８】カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロール、または金属ロールで処理する
が、特に両面磁性層とする場合は、金属ロール同志で処
理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃
以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力
は、好ましくは２００Kg/cm 以上、さらに好ましくは３
００Kg/cm 以上である。

【００６９】次に乾式法について説明する。

【００７０】本発明の磁気記録媒体における磁性層とな
る強磁性金属薄膜は、従来より公知の真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法や、スパッタ法により形成すること
ができる。

【００７１】磁性層をスパッタ法で作成する場合、組成
としてはコバルトを主体とした従来より公知の金属、ま
たは合金があげられ、具体的にはＣｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｓｉ、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ等が使用できる。特に電磁変換特性を改
善するためにＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔが好
ましい。磁性層の厚みは、１０〜３００ｎｍとするのが
望ましい。またこの場合、磁性層の静磁気特性を改善す
るための下地膜を設けることが好ましく、この下地膜の
組成としては、従来より公知の金属または合金などがあ
げられ、具体的にはＣｒ、Ｖ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｉ
等、またはこれらの合金が使用でき、中でもＣｒ、Ｃｒ
−Ｔｉ、Ｃｒ−Ｓｉが特に好ましい。この下地膜の厚み
としては５〜５００ｎｍであり、好ましくは１０〜２０
０ｎｍである。

【００７２】また、スパッタ法で磁性層を作成する場合
には、支持体を加熱した状態で成膜することが好まし
い。そのときの温度は通常２００℃以下であるが、緻密
な磁性層を形成するためには、２５０℃前後の温度が好
適である。本発明のフィルムは耐熱性、剛性に優れるた
め、このような高温度下でも熱負けを発生しないため、
極めて好適に使用できる。

【００７３】磁性層を真空蒸着法で作成する場合、組成
としては、コバルトを主体とした従来より公知の金属ま
たは合金があげられ、具体的にはＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃ
ｏ−Ｆｅなどを酸素雰囲気中で蒸着し、膜中に酸素を含
んだものが使用できる。特に電磁変換特性を改善するた
め、磁性層を構成する金属原子の９０％以上、さらに好
ましくは９５％以上はコバルトであるＣｏ−Ｏ、または
Ｃｏ−Ｏを含有するＣｏ−Ｆｅ等が好ましい。磁性層の
厚みは、１００〜３００ｎｍとするのが望ましく、さら
に望ましくは１２０〜２００ｎｍである。

【００７４】また、強磁性金属薄膜は、電磁変換特性を
改善するため重層構成としたり、非磁性下地層や中間層
を有していても良い。

【００７５】本発明の磁気記録媒体においては、強磁性
金属薄膜上に保護膜が設けられていてもよく、この保護
膜によってさらに走行耐久性、耐食性を改善することが
できる。保護膜としては、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸
化物保護膜、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素など
の窒化物保護膜、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素
等の炭化物保護膜、グラファイト、無定型カーボンなど
の炭素からなる炭素保護膜があげられる。

【００７６】前記炭素保護膜は、プラズマＣＶＤ法、ス
パッタリング法等で作成したアモルファス、グラファイ
ト、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合物からな
るカーボン膜であり、特に好ましくは一般にダイヤモン
ドライクカーボンと呼ばれる硬質カーボン膜である。こ
の硬質炭素膜はビッカース硬度で１０００kg／mm² 以
上、好ましくは２０００kg／mm² 以上の硬質の炭素膜で
ある。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、
かつ非導電性である。

【００７７】この硬質炭素保護膜は、メタン、エタン、
プロパン、ブタン等のアルカン、あるいはエチレン、プ
ロピレン等のアルケン、またはアセチレン等のアルキン
をはじめとした炭素含有化合物を原料としたプラズマＣ
ＶＤや、水素や炭化水素雰囲気下で炭素をターゲットと
したスパッタリング等によって形成することができる。
硬質炭素保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や
磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと、耐
磨耗性が不足するために、膜厚２．５〜２０ｎｍが好ま
しく、特に好ましくは５〜１０ｎｍである。

【００７８】また、この硬質炭素保護膜上に付与する潤
滑剤との密着をさらに向上させる目的で、硬質炭素保護
膜表面を酸化性もしくは不活性気体のプラズマによって
表面処理しても良い。

【００７９】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に、潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。
潤滑剤としては、公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤
滑剤、極圧添加剤などが使用できる。

【００８０】炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン
酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル
等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン
酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、
ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコ
ール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、
ステアリルアミン等のアミン類などがあげられる。

【００８１】フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系
潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキ
ル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤
滑剤があげられる。パーフルオロポリエーテル基として
は、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオ
ロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピ
レンオキシド重合体（ＣＦ₂ ＣＦ₂ ＣＦ₂ Ｏ）n 、パー
フルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（Ｃ
Ｆ₃ ）ＣＦ₂ Ｏ）n 、またはこれらの共重合体等であ
る。

【００８２】極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル
等のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リ
ン酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチ
オ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジ
ベンジル等の硫黄系極圧剤などがあげられる。

【００８３】上記潤滑剤は、単独もしくは複数を併用し
て使用される。これらの潤滑剤を磁性もしくは保護膜上
に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、
ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディッ
プコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着さ
せればよい。潤滑剤の塗布量としては、１〜３０ｍｇ／
ｍ² が好ましく、２〜２０ｍｇ／ｍ² が特に好ましい。

【００８４】本発明で使用できる防錆剤としては、ベン
ゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミ
ジン等の窒素含有複素環類、およびこれらの母核にアル
キル側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、２−
メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化
合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素
環類、およびこの誘導体等があげられる。

【００８５】次に本発明のフィルムの製造法について、
有機高分子体が芳香族ポリアミドである場合について記
すが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００８６】まず、ポリマーであるが、前述した芳香族
ポリアミドに、微細突起形成を目的として、後述する異
種重合体を含有せしめることが好ましい。

【００８７】まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロリ
ドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリドン
（ＮＭＰ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメ
チルホルムアミド（ＤＭＦ）などの非プロトン性有機極
性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面
重合などで合成される。この時、低分子量物の生成を抑
制するため、反応を阻害するような水、その他の物質の
混入は避けるべきであり、効率的な攪拌手段をとること
が好ましい。また、原料の当量性は重要であるが、製膜
性を損なう恐れのある時は、適当に調整することができ
る。また、溶解助剤として塩化カルシウム、塩化マグネ
シウム、塩化リチウム、臭化リチウム、硝酸リチウムな
どを添加しても良い。

【００８８】単量体として芳香族ジ酸クロリドと芳香族
ジアミンを用いると塩化水素が副生するが、これを中和
する場合には、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの周期律表Ｉ族かＩＩ族のカチオンと水
酸化物イオン、炭酸イオンなどのアニオンからなる塩に
代表される無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プ
ロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、
トリエタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミンなどの有機
の中和剤が使用される。また、基材フィルムの湿度特性
を改善する目的で、塩化ベンゾイル、無水フタル酸、酢
酸クロリド、アニリン等を重合の完了した系に添加し、
ポリマーの末端を封鎖しても良い。また、イソシアネー
トとカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒
中、触媒の存在下で行なわれる。

【００８９】これらのポリマー溶液はそのまま異種重合
体とのブレンド用原液として使用してもよく、あるいは
ポリマを一度単離してから上記の有機溶媒や、硫酸等の
無機溶剤に再溶解してブレンド用原液を調製してもよ
い。

【００９０】また、添加させる異種重合体とは、前述の
芳香族ポリアミド以外の繰り返し単位を有する一種以上
の重合体である。異種重合体の含有量は、目的により最
適となるよう決定されるが、芳香族ポリアミドの優れた
機械特性、耐熱性を損なわないため、芳香族ポリアミド
と異種重合体の総量に対し、０．１〜１０重量％である
ことが好ましい。該重量分率が０．１重量％未満の場
合、突起の高さおよび個数が不十分な場合がある。ま
た、１０重量％を超える場合は、表面が大きくうねり実
用に適さないことがある。異種重合体の含有量は、用い
られる芳香族ポリアミドと異種重合体の種類、溶解性、
分子量、成形体のサイズ等により適切な設計が為される
べきであるが、より好ましくは、０．５〜８重量％であ
り、更に好ましくは、１〜６重量％である。

【００９１】かかる異種重合体の種類は、目的の表面を
設計するために適宜選定され、特に限定されるものでは
ないが、芳香族ポリアミドの溶解性パラメーターδａ、
含有される異種重合体の溶解性パラメーターδｂとした
ときに、下式

【００９２】

【数１】 を充たすことが、本発明の目的を達成する上で好まし
い。

【００９３】ここで言う溶解性パラメーターとは、Ｆｅ
ｄｏｒｓの方法により計算される値である（計算方法
は、例えば、Properties of Polymers, chapter 7(D.W.
Van Kreveren著、1976、Elsevier)等に示されてい
る）。芳香族ポリアミド、異種重合体の構造によって
は、含有される化学種のパラメーターが求められていな
いためＦｅｄｏｒｓの方法で計算できないものもある
が、その場合は近似の化学種を用いることで代用する
（例えば、−ＳＯ₂−についてのパラメーターはない
が、−Ｓ−と、−Ｏ−，−Ｏ−の値を用いて代用するこ
ととする）。溶解性パラメーターは、異種ポリマー間の
相溶性の目安となるパラメーターであり、δａ、δｂが
上記の範囲であると、分散相の大きさが規制され、本発
明において好ましい表面突起を容易に形成することがで
きる。

【００９４】｜δａ−δｂ｜は、

【００９５】

【数２】 の範囲であることが、より好ましい。

【００９６】

【数３】 の範囲であることが、更に好ましい。

【００９７】また、芳香族ポリアミド本来の耐熱性、機
械特性を充分に発揮させるためには異種重合体も耐熱性
に優れることが好ましく、ガラス転移温度、またはガラ
ス転移温度が明確でない場合は、ＪＩＳ−Ｄ６４８に記
載の熱変形温度が、１５０℃以上、より好ましくは、２
００℃以上であることが好ましい。

【００９８】このような異種重合体の例としては、ポリ
スルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスルフィドスル
ホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミ
ド、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキ
シド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリイミドまたはその前
駆体であるポリアミド酸、ポリフッ化ビニリデン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリビニルアル
コール等が挙げられるが、形成される表面突起の均一
性、耐熱性の点から、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリスルフィドスルホンなどの芳香族ポリスルホ
ン系重合体、芳香族ポリエーテルイミド系重合体、ポリ
フェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシドなど
のポリフェニレンオキシド系重合体、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルエーテルケトンなどの芳香族ポリケト
ン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどの芳
香族ポリエステル系重合体、ポリイミドまたはその前駆
体であるポリアミド酸を用いる芳香族ポリイミド系重合
体等から選ばれる少なくとも一種の重合体を含有するこ
とが好ましい。この中で特に好ましいのは、芳香族ポリ
スルホン系重合体である。ここでいう芳香族ポリスルホ
ン系重合体とは、ビスフェノ−ルＡのナトリウム塩と、
４，４’−ジクロロジフェニルスルホンとの重縮合、４
−（４−クロロフェニルスルホニル）フェノ−ルのカリ
ウム塩の重縮合などにより製造されるポリスルホンに代
表される、繰り返し単位中に少なくとも１個のスルホン
基−ＳＯ₂−を有する芳香族ポリスルホン系重合体であ
り、具体的には、下式で表される繰り返し単位を有する
公知の芳香族ポリスルホン系重合体が挙げられ、これら
を２種以上用いても差し支えない。

【００９９】

【化８】 ここで、ｎは正の整数であり、５〜１０００のものが耐
熱性および有機溶媒への溶解性の点で好ましい。また、
この中でも特に、

【０１００】

【化９】 が均一な突起を形成できる点で好ましい。

【０１０１】上記の芳香族ポリスルホン系重合体は、重
量分率で０．１％以上１０％未満、より好ましくは０．
５〜８％、更に好ましくは、１〜６％含有させることが
望ましい。芳香族ポリスルホン系重合体は、芳香族ポリ
アミドとは完全には相溶しないものであるが、本発明者
らは、ポリマ−溶液とした場合、芳香族ポリスルホン系
重合体が少量であれば相溶性が良好で、この混合溶液か
ら注意深く製膜すれば、芳香族ポリアミドと芳香族ポリ
スルホン系重合体との相分離により均一な微細突起が形
成されることを見出したのである。該重量分率が０．１
％未満の場合、突起の高さおよび個数が十分でなく、熱
処理の効果が顕著に見られないことがある。また、１０
％以上の場合は、表面が大きくうねり実用に適さないこ
とがある。

【０１０２】芳香族ポリアミドと異種重合体とのブレン
ド方法としては、芳香族ポリアミドの重合前あるいは重
合後に、ペレット、粉末状の異種重合体を直接あるい
は、溶剤に溶解させて添加しても構わないが、芳香族ポ
リアミドと異種重合体とを溶剤に溶解させた状態でブレ
ンドし、成型用原液とすることが好ましい。芳香族ポリ
アミドと異種重合体を溶解させる溶剤は、それぞれ異な
ったものでも構わないが、コスト、生産性等の工業的メ
リットを勘案すると同種の溶剤が好ましい。このような
溶剤としては、Ｎ−メチルー２ーピロリドン、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチレン
ホスホルアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチル
スルホンなどの有機溶媒や濃硫酸等の鉱酸が挙げられ
る。

【０１０３】本発明のフィルムを得るためには、ポリマ
の固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中で１００ｍｌの溶
液として３０℃で測定した値）は、０．５以上であるこ
とが好ましい。

【０１０４】また、上記工程中に本発明の範囲内となる
ように、無機あるいは有機粒子を添加しても良い。粒子
添加時期は、重合前、重合後あるいはポリマー再溶解時
いずれでも差し支えないが、凝集によるＨ１、Ｌ１の増
加を抑制するために、一次粒径１５〜２５０ｎｍの粒子
を含有したゾルを、予め超音波等の手段により、十分に
分散を行っておくことが重要である。

【０１０５】更に、Ｈ１を本発明の範囲に制御し、更に
Ｌ１も低減させるために、重合あるいは再溶解に用いる
溶媒、粒子を含有した溶媒を濾過精度１．０μｍ以下、
より好ましくは０．６μｍ以下、更に好ましくは０．３
μｍ以下の有機物からなるフィルターと、濾過精度２．
０μｍ以下、より好ましくは１．２μｍ以下、更に好ま
しくは０．９μｍ以下の金属からなるフィルターにより
濾過することが好ましい。異物は、材質面からは有機物
と無機物と分けることができ、同様の濾過精度であって
もフィルター材質により捕捉性能に差異が発生する。こ
れは、異物材質とフィルター材質との親和性によるもの
と考えられる。従って、有機、無機からなるフィルター
を用いることにより、有機、無機の異物を効果的に低減
することが可能となる。更にこうした方法により、極め
て清浄度の高い溶媒中に粒子を添加することで、粒子凝
集を低減することが可能となる。すなわち、溶媒、ポリ
マー中に存在する異物が核となることによる粒子凝集を
抑制することが可能となる。

【０１０６】次に本発明のフィルムの成形法につき、芳
香族ポリアミドの場合を例にとって説明する。

【０１０７】上記のように調製された製膜原液は、濾過
精度が６０００ｎｍ以下のフィルターによって濾過され
た後、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれ
る。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法があり、
何れの方法で製膜されても差し支えないが、Ｈ１，Ｌ１
を本願の範囲内に制御するため、また微細表面突起形成
の点からは、乾湿式法または乾式法が好ましい。乾湿式
法で製膜する場合は、該原液を口金からドラム、エンド
レスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いで
かかる薄膜層から溶媒を飛散させ、薄膜が自己保持性を
もつまで乾燥する。

【０１０８】本発明のフィルムを得るには、この乾燥工
程条件が重要なポイントの１つである。原液キャスト時
の支持体温度Ｔｂ（℃）とキャストフィルム上に導入さ
れる熱風温度Ｔａ（℃）が、下式 ２０≦Ｔａ−Ｔｂ≦８０ を充たす範囲であると、支持体と接触している面とは反
対側の面の表面性が極めて均質となりやすく、Ｌ１の増
加を抑えることが可能となり、更に異種重合体が、場所
によらず表面に析出するために、均一、微細な表面突起
を形成することが可能となる。

【０１０９】Ｔａ−Ｔｂが２０℃未満では、生産性が低
下することがあり、また微細突起が形成されにくい場合
がある。また、Ｔａ−Ｔｂが８０℃を超えると、Ｌ１が
増加することがある。

【０１１０】支持体としてエンドレスベルトを使用する
場合、エンドレスベルト上下の加熱温度を調整するこ
と、あるいは、フィルム剥離後にエンドレスベルトを冷
却することで、ポリマーキャスト時の温度差を好適に付
与できる。

【０１１１】更にキャストフィルムから溶媒を飛散さ
せ、乾燥する際に、脱溶媒速度を３〜２０％／分、より
好ましくは５〜１５％／分で乾燥することが好ましい。
脱溶媒速度が３％／分未満の場合、突起が扁平になり、
平均粗さの比が本発明の範囲を充たさないことがある。
また、脱溶媒速度が２０％／分を超える場合、粗大突起
が多くなることがある。

【０１１２】こうして自己支持性を得たフィルムは、次
いで湿式工程に導入される。湿式浴は、一般に水系媒体
からなるものであり、水の他に有機、無機の溶剤や無機
塩等を含有していてもよい。該浴温度は通常０〜１００
℃で使用され、湿式浴を通すことで、フィルム中に含有
された塩類、溶媒の抽出が行なわれる。ここで湿式浴に
導入されるときのフィルムは、未だ充分な表面硬度を持
っていないため、湿式浴媒体にコンタミ等があるとフィ
ルム表面の付着し表面性が悪化する。このため湿式浴に
使用される媒体は、濾過精度６０００ｎｍ以下、より好
ましくは３０００ｎｍ以下、更に好ましくは１０００ｎ
ｍ以下のフィルターを通して供給されることが好まし
い。これら湿式浴全体を通過する時間は、フィルムの厚
みにもよるが、１０秒〜３０分である。

【０１１３】本発明のフィルムを得る第一の方法は、上
記工程において、支持体から剥離後あるいは、湿式浴終
了後のフィルムを一旦巻き取り、次いで、支持体接触面
同士を合わせるようにして、貼り合わせる方法である。
貼り合わせに用いるフィルムは、支持体から剥離後、湿
式浴終了後の何れでも構わないが、溶剤がフィルム中に
多く残存していると、フィルムロール保管中に平面性が
悪化する場合があるので、湿式浴終了後のフィルムを用
いる方が好ましい。

【０１１４】貼り合わせの方法としては、一方のフィル
ムロールを巻きだし、キャスト面（支持体接触面）に溶
剤、接着剤等の塗液を公知のグラビアコーター、リバー
スコーター、ロールコーター、メタリングバー等で均一
に塗布し、その上にもう一方のロールから巻きだしたフ
ィルムをキャスト面同士が貼り合わさるように重ね、ニ
ップロールにより圧着し、加熱ロール、テンター等で熱
処理を行うことにより、含有水分、塗液溶剤を除去する
ことにより本発明のフィルムを得ることができる。

【０１１５】テンターでの熱処理は、フィルムの厚み、
ポリマーの構成により適切に選択されるものであるが、
フィルム温度が２００〜３５０℃となるように、熱風の
温度、風速を調整して行われるものである。更に、フィ
ルムの両面に吹き付ける熱風の温度差を１０℃以内、ま
た、風速差を４ｍ／秒以内とすることにより、両面とも
表面性の均一なフィルムとすることができる。

【０１１６】以上のように形成されるフィルムは、その
製膜工程中で延伸が行なわれるが、延伸倍率は、面倍率
で０．８〜４．０（面倍率とは、延伸後のフィルム面積
を延伸前のフィルムの面積で除した値で定義する。１以
下はリラックスを意味する。）の範囲内にあることが好
ましい。面倍率が０．８未満であると、フィルム表面が
大きくうねり、実用に適さないことがある。また、延伸
倍率が４．０より高いと、Ｌ１が増加することがある。
より好ましくは１．２から１．８である。

【０１１７】本発明のフィルムを得る第２の方法は、湿
式浴終了後のフィルムを上に述べたようなテンターでの
熱処理を終了させて、それからオフラインで貼り合わせ
る方法である。貼り合わせの方法は、前述の第１の方法
と同様の方法が利用可能である。

【０１１８】尚、貼り合わせ前のフィルムを多層構造と
する場合、例えば２層の場合には、重合した芳香族ポリ
アミド溶液を二分し、少なくとも一方を上記した本発明
で好ましく使用されるポリマーに調製し、積層すること
により製造でき、更に３層以上の場合も同様である。積
層の方法としては、周知の方法、例えば、口金内での積
層、複合管での積層や、一旦１層を形成しておいてその
上に他の層を積層する方法などが挙げられる。

【０１１９】次に、本発明における特性値について、そ
の測定法および評価基準を説明する。

【０１２０】（１）高さ０．２７μｍ以上の粗大突起個
数（Ｈ１） フィルム表面１０ｃｍ²以上を、実体顕微鏡により偏光
下で異物を観察し、マーキングする。マーキングした異
物の高さを、波長５４６ｎｍで多重干渉計を用いて観測
し、干渉縞が１重環以上のものの個数を１００ｃｍ²当
たりの数に換算する。また、下の（２）に記す方法で測
定しても差し支えない。

【０１２１】（２）高さ０．１２μｍ以上の粗大突起個
数（Ｌ１） フィルム表面１ｃｍ²以上を、実体顕微鏡により観察
し、平坦面より高い突起をマーキングする。マーキング
したものについて、レーザー顕微鏡により高さプロファ
イルを測定し、平坦面より０．１２μｍ以上高いものの
個数をカウントし、１００ｃｍ²当たりの数に換算す
る。

【０１２２】（３）高さ５〜２０ｎｍの突起個数 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、以下の条件で、場
所を変えて測定を１０回行う。 装置：NanoScopeIII AFM(Digital Instruments社製） カンチレバー：シリコン単結晶 走査モード ：タッピングモード 走査範囲 ：５μｍ×５μｍ 走査速度 ：０．５Ｈｚ 測定環境 ：温度 ２５℃、相対湿度 ５５％ 平坦面より、５〜２０ｎｍの範囲にある突起個数を測定
し、その平均をとって、１ｍｍ２当たりの数に換算す
る。

【０１２３】（４）引張りヤング率・伸度 フィルムを幅１０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに切断し、チャ
ック間距離１００ｍｍにして、引張速度３００ｍｍ／
分、チャート速度５００ｍｍ／分、温度２３℃、相対湿
度６５％の条件下にて、インストロンタイプの引張試験
装置にて引っ張る。得られた荷重ー伸び曲線の立ち上が
り部の接線より引張りヤング率を求める。また、フィル
ム破断時の長さからチャック間距離を減じたものを、チ
ャック間距離で除したものに１００を乗じて伸度とし
た。

【０１２４】（５）エラーレート 得られた磁気ディスクに、信号を（２，７）ＲＬＬ変調
方式で記録し、各面それぞれ測定した。記録する信号は
記録密度を変えて２種類測定した。 (1) 線記録密度２００ｋｂｐｉ、トラック密度７５００
ｔｐｉ (2) 線記録密度３００ｋｂｐｉ、トラック密度１０００
０ｔｐｉ 評価基準は、以下の通りである。 ×：両面のエラーレート比（片面のエラーレートを他面
のエラーレートで除した値）が、０．２〜５．０の範囲
を超えるもの、あるいは、少なくとも片面のエラーレー
トが、２０ｘ１０−６を超えるもの。 △：エラーレート比が０．２〜５．０の範囲であって、
少なくとも片面のエラーレートが、１０〜２０ｘ１０−
６であるもの。 ○：エラーレート比が０．２〜５．０の範囲であって、
少なくとも片面のエラーレートが、１〜１０ｘ１０−６
であるもの。 ◎：エラーレート比が０．２〜５．０の範囲であって、
少なくとも片面のエラーレートが、１ｘ１０−６以下で
あるもの。

【０１２５】（６）出力 得られたディスクに、上記（５）(2)の記録を行い、ス
ピンスタンドを用いてディスクを３０００ｒｐｍで回転
させながら、出力をモニターし、初期出力（ｄＢ）を測
定した。基準として、γ−酸化鉄を磁性体として用いた
重層塗布ディスクの出力（０ｄＢ）を用いた。評価基準
は以下の通りである。 ×：両面の出力差が２ｄＢをこえるもの、あるいは、少
なくとも片面の出力が、０ｄＢ未満であるもの。 △：両面の出力差が２ｄＢ以下であって、少なくとも片
面の出力が、０〜２ｄＢであるもの。 ○：両面の出力差が２ｄＢ以下であって、少なくとも片
面の出力が、２〜４ｄＢであるもの。 ◎：両面の出力差が２ｄｂ以下であって、少なくとも片
面の出力が、４ｄＢ以上のもの。

【０１２６】（７）耐久性 （６）の出力測定において、初期出力から６ｄＢ低下す
るまでのパス数を測定した。評価基準は以下の通りであ
る。 ×：両面のパス数差が１００万パスを超えるもの、ある
いは、少なくとも片面のパス数が６００万パス未満のも
の。 △：両面のパス数差が１００万パス以下であって、少な
くとも片面のパス数が、６００〜８００万パスであるも
の。 ○：両面のパス数差が１００万パス以下であって、少な
くとも片面のパス数が、８００〜１０００万パスである
もの。 ◎：両面のパス数差が１００万パス以下であって、少な
くとも片面のパス数が、１０００万パスを超えるもの。

【０１２７】

【実施例】次に、実施例に基づき本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１２８】実施例１ 予め濾過精度１．２μｍの燒結金属フィルターと濾過精
度０．６μｍのポリプロピレン製フィルターを通過させ
たＮ−メチルー２ーピロリドン（以下、ＮＭＰと略す）
に、芳香族ジアミン成分として、９０モル％に相当する
２−クロルパラフェニレンジアミンと、１０モル％に相
当する４、４’−ジアミノジフェニルエ−テルとを溶解
させ、これに１００モル％に相当する２−クロルテレフ
タル酸クロリドを添加し、２時間撹拌して重合を完了し
た。これを水酸化リチウムで中和して、ポリマ濃度１０
重量％、粘度３０００ポイズの芳香族ポリアミド溶液
（以下溶液Ａとする）を得た。

【０１２９】こうして得られた製膜原液を濾過精度５μ
ｍと０．９μｍの焼結金属フィルタ−を通した後、径が
３０μｍ以上の表面欠点の頻度が０．０１個／ｍｍ²の
エンドレスベルト上に、キャスト時溶液温度６０℃で流
延した。この時のキャスト時の支持体温度（Ｔｂ）は１
３０℃、熱風温度（Ｔａ）は１７０℃であった。ベルト
から剥離されたフィルムは、続いて４０℃の水浴中で、
長手方向（以下、ＭＤと略す）に１．２倍延伸しつつ５
分間浸漬後、連続的に巻き取った。このフィルムの厚み
は、ドライベースで約３５μｍであった。

【０１３０】このフィルムのベルト接触面側にグラビア
ロール方式で、ＮＭＰをＷＥＴ厚みで０．２μｍとなる
ように塗布し、この上に上記と同様のフィルムをベルト
接触面同士が合わさるように、ニップロールを用いて貼
り合わせた。次いで、両端をクリップで把持してテンタ
ーに導入して、熱処理および幅方向（以下、ＴＤと略
す）に１．３３倍の延伸を施した。熱処理は、熱風にて
行い、上段（フィルムの上側）の熱処理条件は、風速１
１ｍ／秒、温度３２０℃、下段（フィルムの下側）の熱
処理条件も、風速１１ｍ／秒、温度３２０℃に調整して
行った。テンターから出たフィルムをワインダーで巻き
取り、スリットして厚さ５０μｍの芳香族ポリアミドフ
ィルムを得た。

【０１３１】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．７ＧＰａ、１４．７ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ３３％、３４％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共にＨ１，Ｌ１が極めて少ないものであった。
ここで、Ａ面は、テンターにおいて上段側の面を表し、
Ｂ面は、下段側の面を表す（以下、特に指定のない限
り、同様）。次に、このフィルムを用いて塗布型磁気デ
ィスクを作成した。用いた磁性塗料、非磁性塗料の組成
を以下に記す。

【０１３２】 (1)磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００Oe、比表面積５０m²／ｇ、σs ５８emu/g 板径３０nm、板状比３．５ ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 ＃５０（旭カーボン社製） ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 (2)非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径０．０３５μm 、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m²/g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ８重量％ コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 ＭＲ１１０ １２部 ＵＲ８２００ ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部。

【０１３３】上記塗料のそれぞれについて、各成分をニ
ーダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散させ
た。得られた分散液にポリイソシアネートを、非磁性層
の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には１０部を加
え、さらにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え，１μm
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性
層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。

【０１３４】得られた非磁性塗料を乾燥後の厚さが１．
２μｍとなるように、更にその直後に、その上に磁性塗
料を乾燥後の厚さが０．２μｍとなるように上記フィル
ムに、両面とも同時重層塗布を行った。両層がまだ湿潤
状態にある内に、周波数５０Ｈｚ、磁場強度２５０ガウ
ス、また周波数５０Ｈｚ、磁場強度１２０ガウスの２つ
の磁場強度交流磁場発生装置の中を通過させて、ランダ
ム配向処理を行い乾燥後、７段のカレンダーで温度１０
０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、ディスク
外径９４ｍｍに打ち抜いた後、表面研磨処理を行い、磁
気ディスクを得た。

【０１３５】このディスクの磁気特性を表２に示す。高
記録密度時にも、エラーレートが極めて小さく、耐久
性、出力にも優れ、実用価値が高いものであった。

【０１３６】実施例２ 実施例１と同様に芳香族ポリアミド溶液を調製した。一
方、ＮＭＰにポリエーテルスルホン（住友化学（株）製
スミカエクセルＰＥＳ−７６００Ｐ、以下ＰＥＳと略
す）を１５重量％溶解させ、実施例１のＮＭＰと同様に
濾過を行った。この溶液を芳香族ポリアミド溶液に、Ｐ
ＥＳが芳香族ポリアミドに対して６重量％となるように
ブレンドし、６０℃で３時間十分に混合し、製膜原液を
得た。

【０１３７】この製膜原液を実施例１と同様に製膜し、
厚さ５０μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

【０１３８】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．６ＧＰａ、１４．６ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ３３％、３３％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共にＨ１，Ｌ１が極めて少ない優れたものであ
った。

【０１３９】このフィルムを用いて、実施例１と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。エラーレート、耐久性に優れ、且つ出力も高
い優れたものであった。

【０１４０】実施例３ 実施例２で得られた芳香族ポリアミドフィルムを用い
て、金属薄膜型磁気ディスクを作製した。

【０１４１】フィルムを大気中で温度１７０℃に加熱す
る脱ガス処理を行った後、スパッタ装置に設置し、基板
温度を１８０℃に加熱しながら、ＤＣマグネトロンスパ
ッタ法でＣｒ−Ｔｉ下地膜を６０ｎｍ成膜し、さらに引
き続きＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ磁性層を３０ｎｍ成膜し、さら
にその上にメタンを原料としたプラズマＣＶＤ法で硬質
炭素保護膜を２０ｎｍ成膜した。次にこの保護膜上にパ
ーフルオロポリエーテル系潤滑剤（アウジモント社製Ｆ
ＯＭＢＬＩＮ Ｚ−ＤＯＬ）をフッ素系溶剤（住友３Ｍ
社製ＦＣ−７７）に溶解した溶液を、ディップコート法
で塗布して厚み１ｎｍの潤滑膜を作成した。この磁性
層、保護膜、潤滑膜は、フィルムの両面に対して付与し
た。次いで、ディスク外径９４ｍｍに打ち抜き、磁気デ
ィスクとした。

【０１４２】このディスクの磁気特性を表２に示す。エ
ラーレート、耐久性に優れ、且つ出力も高い優れたもの
であった。

【０１４３】実施例４ 実施例１と同様の濾過を行ったＮＭＰ中に分散させた一
次粒径６０ｎｍのコロイダルシリカを、芳香族ポリアミ
ド重合前に芳香族ポリアミドに対して０．５重量％とな
るように添加した以外は、実施例１と同様にして、厚さ
５０μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得た。

【０１４４】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．６ＧＰａ、１４．６ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ３５％、３４％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共にＨ１が少ないものであった。

【０１４５】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。高記録密度時のエラーレートがやや大きくな
ったが、充分に実用価値の高いものであった。

【０１４６】実施例５ 実施例２のポリマーを用いて、ベルト上での乾燥条件
を、ベルト温度９５℃、熱風温度１９０℃とする以外は
同様にして、厚さ５０μｍの芳香族ポリアミドフィルム
を得た。

【０１４７】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．２ＧＰａ、１４．２ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ２５％、２４％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共にＨ１は少ないが、Ｌ１は多いものであっ
た。

【０１４８】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。高記録密度時のエラーレートがやや大きくな
ったが、実用価値の高いものであった。

【０１４９】実施例６ 実施例４と同様のポリマーを用いて、湿式工程までは同
様に製膜した。湿式工程終了後、両端を把持して連続的
にテンターに導入した。テンターでの熱処理は実施例１
と同様に行い、ワインダーで巻き取り、厚さ２５μｍの
芳香族ポリアミドフィルムを得た。

【０１５０】このフィルムのベルト接触面側にグラビア
ロール方式で、水性ポリウレタン樹脂（大日本インキ
（株）製ハイドランＡＰ４０）を乾燥厚みで約０．１μ
ｍとなるように塗布し、この上に上記と同様のフィルム
をベルト接触面同士が合わさるようにニップロールを用
いて貼り合わせた。次いで、両端をクリップで把持して
テンターに導入して、定長下で２００℃の熱処理を行う
ことにより接着剤の溶剤を除去し、厚さ約５０μｍの芳
香族ポリアミドを得た。

【０１５１】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．８ＧＰａ、１４．８ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ３５％、３４％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共にＨ１が少ないものであった。

【０１５２】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。高記録密度時のエラーレートがやや大きくな
ったが、実用価値の高いものであった。

【０１５３】実施例７ 実施例１と同様にして準備したＮＭＰに、芳香族ジアミ
ン成分としてパラフェニレンジアミンを７０モル％、ｏ
−トリジンを３０モル％溶解させ、次いで酸無水物成分
として、無水ピロメリット酸を５０モル％、３，３’、
４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物を５０モ
ル％添加して、３０℃で３時間重合反応を行い、ポリア
ミド酸溶液を得、製膜原液とした。

【０１５４】この製膜原液を、ベルト上での乾燥温度
を、ベルト温度１１０℃、熱風温度１７０℃とし、テン
ターでの熱処理温度を上下段共に４５０℃とする以外
は、実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの芳香族ポリ
イミドフィルムを得た。

【０１５５】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ８．７ＧＰａ、８．７ＧＰａ、伸度はＭＤ，ＴＤ
それぞれ１８％、１８％であり、等方的なフィルムであ
った。また、フィルムの表面性について表１に示すが、
両面共にＨ１，Ｌ１が少ないものであった。

【０１５６】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。フィルムのヤング率がやや低いためか、耐久
性、出力が若干低めであるが、実用価値の高いものであ
った。

【０１５７】比較例１ 実施例２のポリマーを用いて、実施例６と同様に製膜を
行い、厚さ５０μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得
た。このフィルムにおいては、ベルト接触面をＡ面、非
接触面をＢ面とする。

【０１５８】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．０ＧＰａ、１４．２ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ３９％、４２％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、Ａ面は優れたものであったが、Ｂ面は粗大突起が多
いものとなった。尚、Ｂ面表面を詳細に観察したとこ
ろ、高さが０．５μｍを超える粗大突起が多く、また、
不定型な凹凸も多く観察された。

【０１５９】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。Ｂ面のエラーレートが非常に大きくなり、ま
た出力も低く、両面使用が困難なものであった。

【０１６０】比較例２ 重合に使用するＮＭＰを濾過精度５μｍのプリプロピレ
ン製フィルターのみで濾過する以外は、実施例４と同様
にして、厚さ５０μｍの芳香族ポリアミドフィルムを得
た。

【０１６１】このフィルムのヤング率は、ＭＤ、ＴＤそ
れぞれ１４．４ＧＰａ、１４．５ＧＰａ、伸度はＭＤ，
ＴＤそれぞれ１９％、１８％であり、等方的なフィルム
であった。また、フィルムの表面性について表１に示す
が、両面共に粗大突起が多いものであった。

【０１６２】このフィルムを用いて、実施例３と同様に
磁気ディスクを作製した。このディスクの磁気特性を表
２に示す。両面共にエラーレートが非常に大きくなり、
使用が困難なものであった。

【０１６３】

【表１】

【０１６４】

【表２】

【０１６５】

【発明の効果】本発明の芳香族ポリアミドあるいは芳香
族ポリイミドフィルムは、両面共に同レベルに粗大突起
の少ない極めて精度の高い表面を有している。これによ
り、フィルムの両面を同様に使用することが可能とな
る。本発明のフィルムは、磁気記録媒体分野、電気電子
分野、包装分野等のいずれの用途にも好適に用いること
ができるが、特に、両面の高精度化が求められる磁気記
録媒体、とりわけ、磁気ディスク分野に好ましく使用で
きる。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA23C AA23D AB01C AB01D AK47A AK49B AR00C AR00D BA02 BA03 BA04 BA10A BA10B BA10C BA10D CA20C CA20D DD07 DE01C DE01D GB41 JG06C JG06D JK15 JM02C JM02D YY00 5D006 BA01 BA06 BB01 CB02 CB03 CB07 DA02 FA00

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一方の表面（Ａ面）と他方の表面（Ｂ面）
   の高さ０．２７μｍ以上の粗大突起個数（Ａ面側がＨ１
   Ａ、Ｂ面側がＨ１Ｂ：個／１００ｃｍ²）が、下式を充
   たすことを特徴とする芳香族ポリアミドあるいは芳香族
   ポリイミドフィルム。 ０≦Ｈ１Ａ≦１００ ０≦Ｈ１Ｂ≦１００ −２０≦Ｈ１Ａ−Ｈ１Ｂ≦２０
2. 【請求項２】Ａ面とＢ面の高さ０．１２μｍ以上の粗大
   突起個数（Ａ面側がＬ１Ａ、Ｂ面側がＬ１Ｂ：個／１０
   ０ｃｍ²）が、下式を充たす請求項１に記載の芳香族ポ
   リアミドあるいは芳香族ポリイミドフィルム。 ０≦Ｌ１Ａ≦４００ ０≦Ｌ１Ｂ≦４００ −８０≦Ｌ１Ａ−Ｌ１Ｂ≦８０
3. 【請求項３】Ａ面とＢ面の高さ５〜２０ｎｍの突起個数
   が、各面共に１００万〜２０００万個／ｍｍ²である請
   求項１または２に記載の芳香族ポリアミドあるいは芳香
   族ポリイミドフィルム。
4. 【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の芳香族ポ
   リアミドあるいは芳香族ポリイミドフィルムの少なくと
   も片面に磁性層を設けてなる磁気記録媒体。
5. 【請求項５】フィルムの両面に強磁性金属薄膜を形成し
   てなる請求項４に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】フィルムの両面に強磁性金属微粉末、ある
   いは強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散し
   てなる磁性層を形成してなる請求項４に記載の磁気記録
   媒体。