JP2001195983A - プラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 短時間で脱ガスが完了し、残留ガスが少な
く、かつ排気管のないプラズマディスプレイパネル（以
下パネルという）の製造装置を提供する。 【解決手段】 前面基板と背面基板とを低融点ガラスで
加熱封着し、パネルを形成する封着チャンバ１と、前記
前面基板又は背面基板に設けられたガス導入口を介し
て、前記パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガ
ス導入口を封止するガス導入・封止チャンバ２とを備え
たパネルの製造装置であって、ガス導入・封止チャンバ
２内に、低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部
材９をガス導入・封止チャンバ２内の所定の位置Ｐ１に
供給する第１の機構５と、蓋部材９を所定の位置Ｐ１か
ら加熱装置８上に移載する第２の機構４と、パネル内を
真空排気した後、パネル内に放電ガスを導入する第３の
機構３１と、低融点ガラスが塗布された金属板９を加熱
装置８で加熱することで、ガス導入口を封止する第４の
機構４１とを設けたことを特徴とする。
く、かつ排気管のないプラズマディスプレイパネル（以
下パネルという）の製造装置を提供する。 【解決手段】 前面基板と背面基板とを低融点ガラスで
加熱封着し、パネルを形成する封着チャンバ１と、前記
前面基板又は背面基板に設けられたガス導入口を介し
て、前記パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガ
ス導入口を封止するガス導入・封止チャンバ２とを備え
たパネルの製造装置であって、ガス導入・封止チャンバ
２内に、低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部
材９をガス導入・封止チャンバ２内の所定の位置Ｐ１に
供給する第１の機構５と、蓋部材９を所定の位置Ｐ１か
ら加熱装置８上に移載する第２の機構４と、パネル内を
真空排気した後、パネル内に放電ガスを導入する第３の
機構３１と、低融点ガラスが塗布された金属板９を加熱
装置８で加熱することで、ガス導入口を封止する第４の
機構４１とを設けたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造装置とその製造方法に係わり、特に、
パネルの封止、排気ガス出し、放電ガス導入、及び真空
封止を一貫して行う装置、及び、この装置を使用したプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
レイパネルの製造装置とその製造方法に係わり、特に、
パネルの封止、排気ガス出し、放電ガス導入、及び真空
封止を一貫して行う装置、及び、この装置を使用したプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネルは、前面基
板及び背面基板からなり、それぞれの基板に形成された
電極を直交して対向するように組み合わせ、背面基板に
予め設けられた貫通孔と連結するように給排気用のガラ
ス管（以下、ここでは排気管という）を低融点ガラスで
取り付け、これらを封止炉に投入して低融点ガラスを溶
かしガラス容器を形成する。そして、排気管を介してパ
ネル内を真空排気すると共に、パネルを加熱し、内部の
ガス出しを行う。所定の真空度になるように、所定の時
間脱ガスを行った後、同じく排気管を介してパネル内
に、放電ガスとして、例えば、ネオン（Ｎｅ）、アルゴ
ン（Ａｒ）、あるいはキセノン(Ｘｅ)、又はこれらの混
合ガスを５３２００〜７９８００Ｐａ（４００〜６００
ｔｏｒｒ）程度充填し、前記排気管をガスバーナ等で封
じ切った排気管付きのプラズマディスプレイパネルが一
般的である。
板及び背面基板からなり、それぞれの基板に形成された
電極を直交して対向するように組み合わせ、背面基板に
予め設けられた貫通孔と連結するように給排気用のガラ
ス管（以下、ここでは排気管という）を低融点ガラスで
取り付け、これらを封止炉に投入して低融点ガラスを溶
かしガラス容器を形成する。そして、排気管を介してパ
ネル内を真空排気すると共に、パネルを加熱し、内部の
ガス出しを行う。所定の真空度になるように、所定の時
間脱ガスを行った後、同じく排気管を介してパネル内
に、放電ガスとして、例えば、ネオン（Ｎｅ）、アルゴ
ン（Ａｒ）、あるいはキセノン(Ｘｅ)、又はこれらの混
合ガスを５３２００〜７９８００Ｐａ（４００〜６００
ｔｏｒｒ）程度充填し、前記排気管をガスバーナ等で封
じ切った排気管付きのプラズマディスプレイパネルが一
般的である。
【０００３】また、第二の方法として、背面基板と前面
基板とを組み合わせて、真空チャンバー内に設置し、真
空排気、脱ガスを行い、しかる後に真空チャンバー内に
放電ガスを充填し、基板周囲部の低融点ガラスを溶かし
封着する方法が知られている。この場合、パネルには排
気管もガス導入孔もない構造となっている。
基板とを組み合わせて、真空チャンバー内に設置し、真
空排気、脱ガスを行い、しかる後に真空チャンバー内に
放電ガスを充填し、基板周囲部の低融点ガラスを溶かし
封着する方法が知られている。この場合、パネルには排
気管もガス導入孔もない構造となっている。
【０００４】第三の方法としては、１０〜２０ｍｍのセ
ミチップ管をガス導入孔に設置し、そのセミチップ管の
基板周辺部を小室で覆い、セミチップ管を介してパネル
内の残留ガスを排気後ガス封止を行い、該小室に設けた
石英窓からハロゲンランプでセミチップ管を照射して溶
かし封止する方法が提案されている。
ミチップ管をガス導入孔に設置し、そのセミチップ管の
基板周辺部を小室で覆い、セミチップ管を介してパネル
内の残留ガスを排気後ガス封止を行い、該小室に設けた
石英窓からハロゲンランプでセミチップ管を照射して溶
かし封止する方法が提案されている。
【０００５】しかしながら、前記排気管のある従来の方
法では、両基板の間隔が１００〜２００μｍ高さの微細
隔壁によって仕切られている上に、排気管のコンダクタ
ンスも小さいため、真空排気脱ガスに１０時間以上を要
し、生産性が非常に低く、また、ロットによっては排気
が不十分となって放電ガスの純度が悪くなり、放電特性
にばらつきが生じ易いと言う欠点があった。
法では、両基板の間隔が１００〜２００μｍ高さの微細
隔壁によって仕切られている上に、排気管のコンダクタ
ンスも小さいため、真空排気脱ガスに１０時間以上を要
し、生産性が非常に低く、また、ロットによっては排気
が不十分となって放電ガスの純度が悪くなり、放電特性
にばらつきが生じ易いと言う欠点があった。
【０００６】更に、排気管をチップオフした後に残るガ
ラス管（チップ管）は非常に脆く、少々の衝撃でも破壊
してしまうため、パネルの取り扱いには細心の注意が必
要であるばかりでなく、駆動電子回路と組み合わせてモ
ジュール化するとき保護キャップを取り付けたり、モジ
ュールの設計上電子部品やプリント板との干渉を避ける
考慮が必要であった。
ラス管（チップ管）は非常に脆く、少々の衝撃でも破壊
してしまうため、パネルの取り扱いには細心の注意が必
要であるばかりでなく、駆動電子回路と組み合わせてモ
ジュール化するとき保護キャップを取り付けたり、モジ
ュールの設計上電子部品やプリント板との干渉を避ける
考慮が必要であった。
【０００７】次に、上記に示した第二の方法、即ち、排
気管のない従来の方法については、排気時間に関しては
著しく改善されているものの、封止と同時にパネル内部
に残留ガスを閉じ込めてしまい、放電ガスの純度劣化を
ひきおこしていた。また、高価な放電ガスの使用量が多
く、コスト的にも問題があった。
気管のない従来の方法については、排気時間に関しては
著しく改善されているものの、封止と同時にパネル内部
に残留ガスを閉じ込めてしまい、放電ガスの純度劣化を
ひきおこしていた。また、高価な放電ガスの使用量が多
く、コスト的にも問題があった。
【０００８】上記第三の従来の方法では、第二の方法の
問題を解決しているものの、パネルに排気管が突出して
残留し、従来の排気管付きパネルと同様の取り扱い上の
問題を有している。
問題を解決しているものの、パネルに排気管が突出して
残留し、従来の排気管付きパネルと同様の取り扱い上の
問題を有している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来技術の欠点を改良し、特に、短時間で脱ガスが
完了し、残留ガスが少なく、かつ排気管のない新規なプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法を
提供するものである。
した従来技術の欠点を改良し、特に、短時間で脱ガスが
完了し、残留ガスが少なく、かつ排気管のない新規なプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法を
提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。
達成するため、基本的には、以下に記載されたような技
術構成を採用するものである。
【００１１】即ち、本発明に係わるプラズマディスプレ
イパネルの製造装置の第１態様は、前面基板と背面基板
とを低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背
面基板とを封着し、プラズマディスプレイパネルを形成
する封着チャンバと、前記前面基板又は背面基板に設け
られたガス導入口を介して、前記プラズマディスプレイ
パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口
を封止するガス導入・封止チャンバとを備えたプラズマ
ディスプレイパネルの製造装置であって、前記ガス導入
・封止チャンバ内に、低融点ガラスが塗布された金属板
からなる蓋部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定
の位置に供給する第１の機構と、前記蓋部材を前記所定
の位置から加熱装置上に移載する第２の機構と、前記プ
ラズマディスプレイパネル内を真空排気した後、前記プ
ラズマディスプレイパネル内に放電ガスを導入するため
の第３の機構と、前記低融点ガラスが塗布された金属板
を前記加熱装置で加熱することで、前記ガス導入口を封
止するための第４の機構とを設けたことを特徴とするも
のであり、叉、第２態様は、前記ガス導入・封止チャン
バ内の小室内に上下動する第１の部材を設けると共に、
前記第１の部材内に囲まれるように上下動する第２の部
材を設け、前記第２の部材に前記第４の機構を組み付
け、前記第１の部材に前記第３の機構を組み付けたこと
を特徴とするものであり、叉、第３態様は、前記封着チ
ャンバ内に、前記プラズマディスプレイパネルの前面基
板と背面基板とを固定したプラズマディスプレイパネル
を入れ、この封着チャンバを真空排気するように構成し
たことを特徴とするものであり、叉、第４態様は、前記
封着チャンバと前記ガス導入・封止チャンバとが、一つ
のチャンバであることを特徴とするものである。
イパネルの製造装置の第１態様は、前面基板と背面基板
とを低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背
面基板とを封着し、プラズマディスプレイパネルを形成
する封着チャンバと、前記前面基板又は背面基板に設け
られたガス導入口を介して、前記プラズマディスプレイ
パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口
を封止するガス導入・封止チャンバとを備えたプラズマ
ディスプレイパネルの製造装置であって、前記ガス導入
・封止チャンバ内に、低融点ガラスが塗布された金属板
からなる蓋部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定
の位置に供給する第１の機構と、前記蓋部材を前記所定
の位置から加熱装置上に移載する第２の機構と、前記プ
ラズマディスプレイパネル内を真空排気した後、前記プ
ラズマディスプレイパネル内に放電ガスを導入するため
の第３の機構と、前記低融点ガラスが塗布された金属板
を前記加熱装置で加熱することで、前記ガス導入口を封
止するための第４の機構とを設けたことを特徴とするも
のであり、叉、第２態様は、前記ガス導入・封止チャン
バ内の小室内に上下動する第１の部材を設けると共に、
前記第１の部材内に囲まれるように上下動する第２の部
材を設け、前記第２の部材に前記第４の機構を組み付
け、前記第１の部材に前記第３の機構を組み付けたこと
を特徴とするものであり、叉、第３態様は、前記封着チ
ャンバ内に、前記プラズマディスプレイパネルの前面基
板と背面基板とを固定したプラズマディスプレイパネル
を入れ、この封着チャンバを真空排気するように構成し
たことを特徴とするものであり、叉、第４態様は、前記
封着チャンバと前記ガス導入・封止チャンバとが、一つ
のチャンバであることを特徴とするものである。
【００１２】叉、本発明に係わるプラズマディスプレイ
パネルの製造方法の第１態様は、前面基板と背面基板と
を低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面
基板とを封着した後、前記前面基板又は背面基板に設け
られたガス導入口を介して、前記プラズマディスプレイ
パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口
を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であ
って、前記プラズマディスプレイパネルの前面基板と背
面基板とを固定した後、封着チャンバに入れ、この封着
チャンバを真空排気する第１の工程と、前記前面基板又
は背面基板に設けたシールガラスを加熱して、前記前面
基板と背面基板とを封着する第２の工程と、前記封着し
たプラズマディスプレイパネルを真空排気したガス導入
・封止チャンバに入れ、前記プラズマディスプレイパネ
ル内を真空排気する第３の工程と、前記真空排気したプ
ラズマディスプレイパネル内に所定の放電ガスを導入す
る第４の工程と、前記プラズマディスプレイパネルのガ
ス導入口を封止する第５の工程と、を少なくとも含むこ
とを特徴とするものであり、叉、第２態様は、前記第５
の工程は、低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋
部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に供
給する工程と、前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装
置上に移載する工程と、前記加熱装置が、この加熱装置
上の低融点ガラスが塗布された金属板を、前記ガス導入
口に押し当て、前記ガス導入口を封止する工程と、を含
むことを特徴とするものである。
パネルの製造方法の第１態様は、前面基板と背面基板と
を低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面
基板とを封着した後、前記前面基板又は背面基板に設け
られたガス導入口を介して、前記プラズマディスプレイ
パネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口
を封止するプラズマディスプレイパネルの製造方法であ
って、前記プラズマディスプレイパネルの前面基板と背
面基板とを固定した後、封着チャンバに入れ、この封着
チャンバを真空排気する第１の工程と、前記前面基板又
は背面基板に設けたシールガラスを加熱して、前記前面
基板と背面基板とを封着する第２の工程と、前記封着し
たプラズマディスプレイパネルを真空排気したガス導入
・封止チャンバに入れ、前記プラズマディスプレイパネ
ル内を真空排気する第３の工程と、前記真空排気したプ
ラズマディスプレイパネル内に所定の放電ガスを導入す
る第４の工程と、前記プラズマディスプレイパネルのガ
ス導入口を封止する第５の工程と、を少なくとも含むこ
とを特徴とするものであり、叉、第２態様は、前記第５
の工程は、低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋
部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に供
給する工程と、前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装
置上に移載する工程と、前記加熱装置が、この加熱装置
上の低融点ガラスが塗布された金属板を、前記ガス導入
口に押し当て、前記ガス導入口を封止する工程と、を含
むことを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明に係わるプラズマディスプ
レイパネルの製造装置は、前面基板と背面基板とを低融
点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面基板と
を封着し、プラズマディスプレイパネルを形成する封着
チャンバと、前記前面基板又は背面基板に設けられたガ
ス導入口を介して、前記プラズマディスプレイパネル内
に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口を封止す
るガス導入・封止チャンバとを備えたプラズマディスプ
レイパネルの製造装置であって、前記ガス導入・封止チ
ャンバ内に、低融点ガラスが塗布された金属板からなる
蓋部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に
供給する第１の機構と、前記蓋部材を前記所定の位置か
ら加熱装置上に移載する第２の機構と、前記プラズマデ
ィスプレイパネル内を真空排気した後、前記プラズマデ
ィスプレイパネル内に放電ガスを導入するための第３の
機構と、前記低融点ガラスが塗布された金属板を前記加
熱装置で加熱することで、前記ガス導入口を封止するた
めの第４の機構とを設けたことを特徴とするものであ
り、このように構成することで、封着チャンバ内でプラ
ズマディスプレイパネルの封着が完了した後も、ガス導
入・封止チャンバで、ガス導入孔を介して排気を継続す
ることにより、封止時にパネル内に閉じ込められた残留
ガスを確実に、しかも短期間に除去することができる。
レイパネルの製造装置は、前面基板と背面基板とを低融
点ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面基板と
を封着し、プラズマディスプレイパネルを形成する封着
チャンバと、前記前面基板又は背面基板に設けられたガ
ス導入口を介して、前記プラズマディスプレイパネル内
に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口を封止す
るガス導入・封止チャンバとを備えたプラズマディスプ
レイパネルの製造装置であって、前記ガス導入・封止チ
ャンバ内に、低融点ガラスが塗布された金属板からなる
蓋部材を前記ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に
供給する第１の機構と、前記蓋部材を前記所定の位置か
ら加熱装置上に移載する第２の機構と、前記プラズマデ
ィスプレイパネル内を真空排気した後、前記プラズマデ
ィスプレイパネル内に放電ガスを導入するための第３の
機構と、前記低融点ガラスが塗布された金属板を前記加
熱装置で加熱することで、前記ガス導入口を封止するた
めの第４の機構とを設けたことを特徴とするものであ
り、このように構成することで、封着チャンバ内でプラ
ズマディスプレイパネルの封着が完了した後も、ガス導
入・封止チャンバで、ガス導入孔を介して排気を継続す
ることにより、封止時にパネル内に閉じ込められた残留
ガスを確実に、しかも短期間に除去することができる。
【００１４】
【実施例】以下に、本発明に係わるプラズマディスプレ
イパネルの製造装置とその製造方法の具体例を図面を参
照しながら詳細に説明する。
イパネルの製造装置とその製造方法の具体例を図面を参
照しながら詳細に説明する。
【００１５】図１乃至図５は、本発明に係わるプラズマ
ディスプレイパネルの製造装置とその製造方法の具体例
を示す図であって、これらの図には、前面基板と背面基
板とを低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と
背面基板とを封着し、プラズマディスプレイパネルを形
成する封着チャンバ１と、前記前面基板又は背面基板に
設けられたガス導入口を介して、前記プラズマディスプ
レイパネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導
入口を封止するガス導入・封止チャンバ２とを備えたプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置であって、前記ガ
ス導入・封止チャンバ２内に、低融点ガラスが塗布され
た金属板からなる蓋部材９を前記ガス導入・封止チャン
バ２内の所定の位置Ｐ１に供給する第１の機構５と、前
記蓋部材９を前記所定の位置Ｐ１から加熱装置８上に移
載する第２の機構４と、前記プラズマディスプレイパネ
ル内を真空排気した後、前記プラズマディスプレイパネ
ル内に放電ガスを導入するための第３の機構３１と、前
記低融点ガラスが塗布された金属板９を前記加熱装置８
で加熱することで、前記ガス導入口を封止するための第
４の機構４１とを設けたことを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの製造装置が示され、又、前記ガス導入
・封止チャンバ２内の小室３内に上下動する第１の部材
７を設けると共に、前記第１の部材７内に囲まれるよう
に上下動する第２の部材４２を設け、前記第２の部材４
２に前記第４の機構４１を組み付け、前記第１の部材７
に前記第３の機構３１を組み付けたことを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置が示され、又、前
記封着チャンバ１内に、前記プラズマディスプレイパネ
ルの前面基板と背面基板とを固定したプラズマディスプ
レイパネルを入れ、この封着チャンバ１を真空排気する
真空排気装置1ａを設けたプラズマディスプレイパネル
の製造装置が示されている。
ディスプレイパネルの製造装置とその製造方法の具体例
を示す図であって、これらの図には、前面基板と背面基
板とを低融点ガラスを加熱することで、前記前面基板と
背面基板とを封着し、プラズマディスプレイパネルを形
成する封着チャンバ１と、前記前面基板又は背面基板に
設けられたガス導入口を介して、前記プラズマディスプ
レイパネル内に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導
入口を封止するガス導入・封止チャンバ２とを備えたプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置であって、前記ガ
ス導入・封止チャンバ２内に、低融点ガラスが塗布され
た金属板からなる蓋部材９を前記ガス導入・封止チャン
バ２内の所定の位置Ｐ１に供給する第１の機構５と、前
記蓋部材９を前記所定の位置Ｐ１から加熱装置８上に移
載する第２の機構４と、前記プラズマディスプレイパネ
ル内を真空排気した後、前記プラズマディスプレイパネ
ル内に放電ガスを導入するための第３の機構３１と、前
記低融点ガラスが塗布された金属板９を前記加熱装置８
で加熱することで、前記ガス導入口を封止するための第
４の機構４１とを設けたことを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの製造装置が示され、又、前記ガス導入
・封止チャンバ２内の小室３内に上下動する第１の部材
７を設けると共に、前記第１の部材７内に囲まれるよう
に上下動する第２の部材４２を設け、前記第２の部材４
２に前記第４の機構４１を組み付け、前記第１の部材７
に前記第３の機構３１を組み付けたことを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの製造装置が示され、又、前
記封着チャンバ１内に、前記プラズマディスプレイパネ
ルの前面基板と背面基板とを固定したプラズマディスプ
レイパネルを入れ、この封着チャンバ１を真空排気する
真空排気装置1ａを設けたプラズマディスプレイパネル
の製造装置が示されている。
【００１６】以下に、本発明を更に詳細に説明する。
【００１７】図１は、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルの製造装置の各チャンバの構成を示す図、図２は、
ガス導入・封止チャンバの要部の拡大断面図、図３は、
キャップを突き上げてプラズマディスプレイパネルを真
空排気し、又は、放電ガスを導入する際の断面図、図５
は、ヒータをプラズマディスプレイパネルのガス導入口
に押し当てた状態を示す図である。
ネルの製造装置の各チャンバの構成を示す図、図２は、
ガス導入・封止チャンバの要部の拡大断面図、図３は、
キャップを突き上げてプラズマディスプレイパネルを真
空排気し、又は、放電ガスを導入する際の断面図、図５
は、ヒータをプラズマディスプレイパネルのガス導入口
に押し当てた状態を示す図である。
【００１８】図１に示されているように、封着チャンバ
１に隣接してガス導入・封止チャンバ２が設けられてお
り、このガス導入・封止チャンバ２には、更に、小室３
と蓋部材移載機構４と蓋部材ストック機構５とが設けら
れている。
１に隣接してガス導入・封止チャンバ２が設けられてお
り、このガス導入・封止チャンバ２には、更に、小室３
と蓋部材移載機構４と蓋部材ストック機構５とが設けら
れている。
【００１９】蓋部材ストック機構５は、プラズマディス
プレイパネルのガス導入口を封止するための金属蓋部材
９を、ガス導入・封止チャンバ２内の位置Ｐ１に常に供
給するように構成されている。金属蓋部材９は、鉄−ニ
ッケル−クロム系合金、例えば、４２６合金をウエット
水素処理してクロムリッチ酸化膜を形成したもの片面
に、例えば、作業温度４３０℃の鉛ガラス系低融点ガラ
ス層を塗布して焼成したものである。
プレイパネルのガス導入口を封止するための金属蓋部材
９を、ガス導入・封止チャンバ２内の位置Ｐ１に常に供
給するように構成されている。金属蓋部材９は、鉄−ニ
ッケル−クロム系合金、例えば、４２６合金をウエット
水素処理してクロムリッチ酸化膜を形成したもの片面
に、例えば、作業温度４３０℃の鉛ガラス系低融点ガラ
ス層を塗布して焼成したものである。
【００２０】また、蓋部材移載機構４は、位置Ｐ１に置
かれた金属蓋部材９を小室３内に設けられた加熱装置の
ヒータ８上の位置Ｐ２に移載するものであり、先端に電
磁石を取り付けた移載用のアーム６を備え、図示しない
上下回転機構でアーム６を駆動する構成を採っている。
かれた金属蓋部材９を小室３内に設けられた加熱装置の
ヒータ８上の位置Ｐ２に移載するものであり、先端に電
磁石を取り付けた移載用のアーム６を備え、図示しない
上下回転機構でアーム６を駆動する構成を採っている。
【００２１】小室３内には、上下動する円筒状の排気兼
ガス導入キャップ（以下、キャップという）７が設けら
れ、キャップ７の先端部には、プラズマディスプレイパ
ネル１３にキャップ７の先端部を密着させるためのＯリ
ング１２が取り付けられている。また、放電ガス導入系
１０、及びガス導入・封止チャンバ２の排気系とは独立
した排気系１１が設けられ、放電ガス導入系１０と排気
系１１とは、キャップ7内に設けられたガス導入・排気
路７ａに連通している。キャップ７は、上下動可能でＯ
リングダブルシール１２ａで外気と真空シールされてい
る。
ガス導入キャップ（以下、キャップという）７が設けら
れ、キャップ７の先端部には、プラズマディスプレイパ
ネル１３にキャップ７の先端部を密着させるためのＯリ
ング１２が取り付けられている。また、放電ガス導入系
１０、及びガス導入・封止チャンバ２の排気系とは独立
した排気系１１が設けられ、放電ガス導入系１０と排気
系１１とは、キャップ7内に設けられたガス導入・排気
路７ａに連通している。キャップ７は、上下動可能でＯ
リングダブルシール１２ａで外気と真空シールされてい
る。
【００２２】また、キャップ７内には、棒状の部材４２
が設けられ、この棒状の部材４２上部には、ヒータ８が
取り付けられ、この棒状の部材４２も上下動可能で、Ｏ
リングダブルシール１２ｂで外気と真空シールされてい
る。
が設けられ、この棒状の部材４２上部には、ヒータ８が
取り付けられ、この棒状の部材４２も上下動可能で、Ｏ
リングダブルシール１２ｂで外気と真空シールされてい
る。
【００２３】次に、図５のフローチャートと図３、４を
用いて、本発明の製造方法について説明する。
用いて、本発明の製造方法について説明する。
【００２４】従来のパネルと同様に、プラズマディスプ
レイパネルの前面基板には、透明電極，バス電極，透明
誘電体層，ＭｇＯ保護層等が形成されており、背面基板
には、データ電極，誘電体層，隔壁，蛍光体層，シール
ガラス層等が形成されている。更に、背面基板には、排
気ガス出し兼放電ガス導入のための貫通穴であるガス導
入口が設けられている。
レイパネルの前面基板には、透明電極，バス電極，透明
誘電体層，ＭｇＯ保護層等が形成されており、背面基板
には、データ電極，誘電体層，隔壁，蛍光体層，シール
ガラス層等が形成されている。更に、背面基板には、排
気ガス出し兼放電ガス導入のための貫通穴であるガス導
入口が設けられている。
【００２５】これらの両基板を対向して組み立てて、治
具あるいはクリップ等で仮留めをする（ステップＳ
１）。仮留めされた基板を、図１に示した封止チャンバ
１に投入し（ステップＳ２）、排気装置１ａによる排
気、図示していない加熱ヒータを用いてガス出し、封着
を行う（ステップＳ３、４）。同時に、図１に示したガ
ス導入・封止チャンバ２を真空排気し（ステップＳ
５）、蓋部材ストック機構５にストックした金属蓋部材
９を蓋部材移載機構４でヒータ８上へ移載すると共に
（ステップＳ６）、ヒータの予備加熱を行う（ステップ
Ｓ７）。
具あるいはクリップ等で仮留めをする（ステップＳ
１）。仮留めされた基板を、図１に示した封止チャンバ
１に投入し（ステップＳ２）、排気装置１ａによる排
気、図示していない加熱ヒータを用いてガス出し、封着
を行う（ステップＳ３、４）。同時に、図１に示したガ
ス導入・封止チャンバ２を真空排気し（ステップＳ
５）、蓋部材ストック機構５にストックした金属蓋部材
９を蓋部材移載機構４でヒータ８上へ移載すると共に
（ステップＳ６）、ヒータの予備加熱を行う（ステップ
Ｓ７）。
【００２６】次に、封着完了したパネルを封止チャンバ
１よりガス導入・封止チャンバ２へ移動する（ステップ
Ｓ８）。この時、背面基板のガス導入口が、ヒータ８の
中心線近傍に位置している。
１よりガス導入・封止チャンバ２へ移動する（ステップ
Ｓ８）。この時、背面基板のガス導入口が、ヒータ８の
中心線近傍に位置している。
【００２７】小室３内のキャップ７を突き上げてパネル
背面基板１３に接触させ、排気系１１でパネル内部を継
続して排気しながら（ステップＳ９）、ガス導入・封止
チャンバ２をリークする（ステップＳ１０）。次いで、
放電ガス導入系１０より、例えばアルゴン（Ａｒ）、ネ
オン（Ｎｅ）、キセノン（Ｘｅ）を混合した放電ガスを
規定圧力５３２００〜７９８００Ｐａ（４００〜６００
ｔｏｒｒ）導入する（ステップＳ１１）。この状態を図
３に示す。
背面基板１３に接触させ、排気系１１でパネル内部を継
続して排気しながら（ステップＳ９）、ガス導入・封止
チャンバ２をリークする（ステップＳ１０）。次いで、
放電ガス導入系１０より、例えばアルゴン（Ａｒ）、ネ
オン（Ｎｅ）、キセノン（Ｘｅ）を混合した放電ガスを
規定圧力５３２００〜７９８００Ｐａ（４００〜６００
ｔｏｒｒ）導入する（ステップＳ１１）。この状態を図
３に示す。
【００２８】最後に、図４に示すように、ヒータを本加
熱すると共に（ステップＳ１２）、ヒータ８を突き上
げ、背面基板１３のガス導入口を低融点ガラスにてシー
ルする（ステップＳ１３）。
熱すると共に（ステップＳ１２）、ヒータ８を突き上
げ、背面基板１３のガス導入口を低融点ガラスにてシー
ルする（ステップＳ１３）。
【００２９】その後は、図３に示すように、ヒータ８を
引き下げ（ステップＳ１４）、キャップ７をリークし引
き下げる（ステップＳ１５）。パネルをアンローダ部に
移動して、１００℃以下に冷却後（ステップＳ１６）、
取り出し作業を完了する（ステップＳ１７）。
引き下げ（ステップＳ１４）、キャップ７をリークし引
き下げる（ステップＳ１５）。パネルをアンローダ部に
移動して、１００℃以下に冷却後（ステップＳ１６）、
取り出し作業を完了する（ステップＳ１７）。
【００３０】なお、上記説明では、封着チャンバとガス
導入・封止チャンバとを分離したインライン方式につい
て説明したが、全ての工程を１つのチャンバで行うバッ
チ式にも本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法を適用できることは明らかである。
導入・封止チャンバとを分離したインライン方式につい
て説明したが、全ての工程を１つのチャンバで行うバッ
チ式にも本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法を適用できることは明らかである。
【００３１】このように、本発明のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法は、前面基板と背面基板とを低融点
ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面基板とを
封着した後、前記前面基板又は背面基板に設けられたガ
ス導入口を介して、前記プラズマディスプレイパネル内
に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口を封止す
るプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前
記プラズマディスプレイパネルの前面基板と背面基板と
を固定した後、封着チャンバに入れ、この封着チャンバ
を真空排気する第１の工程と、前記前面基板又は背面基
板に設けたシールガラスを加熱して、前記前面基板と背
面基板とを封着する第２の工程と、前記封着したプラズ
マディスプレイパネルを真空排気したガス導入・封止チ
ャンバに入れ、前記プラズマディスプレイパネル内を真
空排気する第３の工程と、前記真空排気したプラズマデ
ィスプレイパネル内に所定の放電ガスを導入する第４の
工程と、前記プラズマディスプレイパネルのガス導入口
を封止する第５の工程と、を少なくとも含むことを特徴
とするものであり、この場合、前記第５の工程は、低融
点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部材を前記ガス
導入・封止チャンバ内の所定の位置に供給する工程と、
前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装置上に移載する
工程と、前記加熱装置が、この加熱装置上の低融点ガラ
スが塗布された金属板を、前記ガス導入口に押し当て、
前記ガス導入口を封止する工程と、を含むことを特徴と
するものである。
イパネルの製造方法は、前面基板と背面基板とを低融点
ガラスを加熱することで、前記前面基板と背面基板とを
封着した後、前記前面基板又は背面基板に設けられたガ
ス導入口を介して、前記プラズマディスプレイパネル内
に放電ガスを導入し、その後、前記ガス導入口を封止す
るプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前
記プラズマディスプレイパネルの前面基板と背面基板と
を固定した後、封着チャンバに入れ、この封着チャンバ
を真空排気する第１の工程と、前記前面基板又は背面基
板に設けたシールガラスを加熱して、前記前面基板と背
面基板とを封着する第２の工程と、前記封着したプラズ
マディスプレイパネルを真空排気したガス導入・封止チ
ャンバに入れ、前記プラズマディスプレイパネル内を真
空排気する第３の工程と、前記真空排気したプラズマデ
ィスプレイパネル内に所定の放電ガスを導入する第４の
工程と、前記プラズマディスプレイパネルのガス導入口
を封止する第５の工程と、を少なくとも含むことを特徴
とするものであり、この場合、前記第５の工程は、低融
点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部材を前記ガス
導入・封止チャンバ内の所定の位置に供給する工程と、
前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装置上に移載する
工程と、前記加熱装置が、この加熱装置上の低融点ガラ
スが塗布された金属板を、前記ガス導入口に押し当て、
前記ガス導入口を封止する工程と、を含むことを特徴と
するものである。
【００３２】
【発明の効果】本発明に係わるプラズマディスプレイパ
ネルの製造装置とその製造方法は、上述のように構成し
たので、以下のような効果を奏する。
ネルの製造装置とその製造方法は、上述のように構成し
たので、以下のような効果を奏する。
【００３３】前面基板と背面基板とが封着に先立って封
着チャンバ内で加熱，脱ガスされるため、従来の排気管
を介しての排気方法に比べて、短時間に排気工程を終了
させることができ、生産性の向上を図ることができた。
着チャンバ内で加熱，脱ガスされるため、従来の排気管
を介しての排気方法に比べて、短時間に排気工程を終了
させることができ、生産性の向上を図ることができた。
【００３４】更に、封着チャンバ内での封着完了後、引
き続いてガス導入・封止チャンバてパネル内を排気する
ため、前記パネル封着時にパネル内に残留したガスを速
やかに除去でき、パネル内に導入される放電ガスの純度
劣化を防止することができた。この結果、パネルの放電
特性の安定化、信頼性の向上をはかることができた。
き続いてガス導入・封止チャンバてパネル内を排気する
ため、前記パネル封着時にパネル内に残留したガスを速
やかに除去でき、パネル内に導入される放電ガスの純度
劣化を防止することができた。この結果、パネルの放電
特性の安定化、信頼性の向上をはかることができた。
【００３５】更に、小室内のキャップに設けた放電ガス
導入系を介して、パネル内に放電ガスを導入するため、
体積の大きな真空チャンバ内に放電ガスを充填する必要
がなく、高価なガスの使用量を節約することができた。
導入系を介して、パネル内に放電ガスを導入するため、
体積の大きな真空チャンバ内に放電ガスを充填する必要
がなく、高価なガスの使用量を節約することができた。
【００３６】また、ガス導入口を低融点ガラスと金属板
とで封止するため、パネルにチップ管が突出して残ら
ず、取り扱い上の問題点も解消された。
とで封止するため、パネルにチップ管が突出して残ら
ず、取り扱い上の問題点も解消された。
【図１】本発明に係わるプラズマディスプレイパネルの
製造装置の構成を示す図である。
製造装置の構成を示す図である。
【図２】ガス導入・封止チャンバに設けられた蓋部材ス
トック機構と蓋部材移載機構と小室との詳細な構成を示
す断面図である。
トック機構と蓋部材移載機構と小室との詳細な構成を示
す断面図である。
【図３】小室内のキャップをプラズマディスプレイパネ
ルに密着させ、パネル内を排気し、又は放電ガスを充填
している状態を示す図である。
ルに密着させ、パネル内を排気し、又は放電ガスを充填
している状態を示す図である。
【図４】小室内の加熱装置を押し上げ、蓋部材をプラズ
マディスプレイパネルのガス導入口に押し当て、ガス導
入口を封止している状態を示す図である。
マディスプレイパネルのガス導入口に押し当て、ガス導
入口を封止している状態を示す図である。
【図５】本発明の工程を示す流れ図である。
１ 封止チャンバ １ａ 真空排気装置 ２ ガス導入・封止チャンバ ３ 小室 ４ 蓋部材移載機構（第２の機構） ５ 蓋部材ストック機構（第１の機構） ６ アーム ７ 排気兼ガス導入キャップ（第１の部材） ７ａ ガス導入・排気路 ８ ヒータ ９ 金属蓋部材 １０ 放電ガス導入系 １１ 排気系 １２、１２ａ、１２ｂ Ｏリング １３ 背面基板 ３１ 第３の機構 ４１ 第４の機構 ４２ 第２の部材 Ｐ１、Ｐ２ 位置
Claims (6)
- 【請求項１】 前面基板と背面基板とを低融点ガラスを
加熱することで、前記前面基板と背面基板とを封着し、
プラズマディスプレイパネルを形成する封着チャンバ
と、前記前面基板又は背面基板に設けられたガス導入口
を介して、前記プラズマディスプレイパネル内に放電ガ
スを導入し、その後、前記ガス導入口を封止するガス導
入・封止チャンバとを備えたプラズマディスプレイパネ
ルの製造装置であって、 前記ガス導入・封止チャンバ内に、 低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部材を前記
ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に供給する第１
の機構と、 前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装置上に移載する
第２の機構と、 前記プラズマディスプレイパネル内を真空排気した後、
前記プラズマディスプレイパネル内に放電ガスを導入す
るための第３の機構と、 前記低融点ガラスが塗布された金属板を前記加熱装置で
加熱することで、前記ガス導入口を封止するための第４
の機構とを設けたことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネルの製造装置。 - 【請求項２】 前記ガス導入・封止チャンバ内の小室に
上下動する第１の部材を設けると共に、前記第１の部材
内に囲まれるように上下動する第２の部材を設け、前記
第２の部材に前記第４の機構を組み付け、前記第１の部
材に前記第３の機構を組み付けたことを特徴とする請求
項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。 - 【請求項３】 前記封着チャンバ内に、前記プラズマデ
ィスプレイパネルの前面基板と背面基板とを固定したプ
ラズマディスプレイパネルを入れ、この封着チャンバを
真空排気するように構成したことを特徴とする請求項１
又は２記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。 - 【請求項４】 前記封着チャンバと前記ガス導入・封止
チャンバとが、一つのチャンバであることを特徴とする
請求項１乃至３の何れかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造装置。 - 【請求項５】 前面基板と背面基板とを低融点ガラスを
加熱することで、前記前面基板と背面基板とを封着した
後、前記前面基板又は背面基板に設けられたガス導入口
を介して、前記プラズマディスプレイパネル内に放電ガ
スを導入し、その後、前記ガス導入口を封止するプラズ
マディスプレイパネルの製造方法であって、 前記プラズマディスプレイパネルの前面基板と背面基板
とを固定した後、封着チャンバに入れ、この封着チャン
バを真空排気する第１の工程と、 前記前面基板又は背面基板に設けたシールガラスを加熱
して、前記前面基板と背面基板とを封着する第２の工程
と、 前記封着したプラズマディスプレイパネルを真空排気し
たガス導入・封止チャンバに入れ、前記プラズマディス
プレイパネル内を真空排気する第３の工程と、 前記真空排気したプラズマディスプレイパネル内に所定
の放電ガスを導入する第４の工程と、 前記プラズマディスプレイパネルのガス導入口を封止す
る第５の工程と、 を少なくとも含むことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項６】 前記第５の工程は、 低融点ガラスが塗布された金属板からなる蓋部材を前記
ガス導入・封止チャンバ内の所定の位置に供給する工程
と、 前記蓋部材を前記所定の位置から加熱装置上に移載する
工程と、 前記加熱装置が、この加熱装置上の低融点ガラスが塗布
された金属板を、前記ガス導入口に押し当て、前記ガス
導入口を封止する工程と、 を含むことを特徴とする請求項５記載のプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001842A JP3440906B2 (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | プラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法 |
| US09/755,696 US6997769B2 (en) | 2000-01-07 | 2001-01-05 | Plasma display panel manufacturing apparatus and manufacturing method |
| KR10-2001-0000509A KR100406840B1 (ko) | 2000-01-07 | 2001-01-05 | 플라즈마 디스플레이 패널 제조 장치와 그 제조 방법 |
| US11/291,984 US20060084349A1 (en) | 2000-01-07 | 2005-12-02 | Plasma display panel manufacturing apparatus and manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001842A JP3440906B2 (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | プラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001195983A true JP2001195983A (ja) | 2001-07-19 |
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Family
ID=18531025
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000001842A Expired - Fee Related JP3440906B2 (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | プラズマディスプレイパネルの製造装置とその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6997769B2 (ja) |
| JP (1) | JP3440906B2 (ja) |
| KR (1) | KR100406840B1 (ja) |
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