JPH10172435A - プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉 - Google Patents
プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉Info
- Publication number
- JPH10172435A JPH10172435A JP32975996A JP32975996A JPH10172435A JP H10172435 A JPH10172435 A JP H10172435A JP 32975996 A JP32975996 A JP 32975996A JP 32975996 A JP32975996 A JP 32975996A JP H10172435 A JPH10172435 A JP H10172435A
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- Japan
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- display panel
- plasma display
- gas supply
- muffle
- furnace
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- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各マッフル間の温度差をなくすとともに、封
入用発光ガスの使用量を低減し、真空排気装置を安価な
ものとするプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封
着炉を提供する。 【解決手段】 炉内壁近傍にヒータ（Ｈ1）を設けたバ
ッチ式真空炉本体（１）の真空室（Ｒ）に、周囲に封着
材を介して重ね合わせた表面ガラス基板と背面ガラス基
板とからなるプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体
（Ｗ）を収納するマッフル（７）を多段に配置して、少
なくとも前記各マッフル間に、補助ヒータ（Ｈ2）と冷
却管（Ｃ）を配設するとともに、前記真空室に復圧用気
体供給管（１２）と第１真空排気装置（８）を接続する
一方、前記マッフルに発光ガス供給管（１５）と第２真
空排気装置（１０）を接続したプラズマ・ディスプレイ
・パネル用排気・封着炉。
入用発光ガスの使用量を低減し、真空排気装置を安価な
ものとするプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封
着炉を提供する。 【解決手段】 炉内壁近傍にヒータ（Ｈ1）を設けたバ
ッチ式真空炉本体（１）の真空室（Ｒ）に、周囲に封着
材を介して重ね合わせた表面ガラス基板と背面ガラス基
板とからなるプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体
（Ｗ）を収納するマッフル（７）を多段に配置して、少
なくとも前記各マッフル間に、補助ヒータ（Ｈ2）と冷
却管（Ｃ）を配設するとともに、前記真空室に復圧用気
体供給管（１２）と第１真空排気装置（８）を接続する
一方、前記マッフルに発光ガス供給管（１５）と第２真
空排気装置（１０）を接続したプラズマ・ディスプレイ
・パネル用排気・封着炉。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ・ディス
プレイ・パネル、特に、排気チップ管を不要としたプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉に関するも
のである。
プレイ・パネル、特に、排気チップ管を不要としたプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、一方のガラス基板（パネル）に設
ける排気チップ管を不要としたプラズマ・ディスプレイ
・パネルの製作方法として、たとえば、特開昭６３−２
５００３７号公報、特開平４−２６４３２８号公報に開
示された技術がある。この方法は、真空室内に、表面ガ
ラス基板と裏面ガラス基板とをその電極を対向、かつ、
直交させるとともに、周囲に封着材を介して重ね合わせ
たプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を位置させ、
真空室内を排気したのちＮｅ（ネオン）ガス等の発光ガ
スを供給して加熱することにより、両ガラス基板を封着
して両ガラス基板間に発光ガスを封入するものである。
ける排気チップ管を不要としたプラズマ・ディスプレイ
・パネルの製作方法として、たとえば、特開昭６３−２
５００３７号公報、特開平４−２６４３２８号公報に開
示された技術がある。この方法は、真空室内に、表面ガ
ラス基板と裏面ガラス基板とをその電極を対向、かつ、
直交させるとともに、周囲に封着材を介して重ね合わせ
たプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を位置させ、
真空室内を排気したのちＮｅ（ネオン）ガス等の発光ガ
スを供給して加熱することにより、両ガラス基板を封着
して両ガラス基板間に発光ガスを封入するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記方法を
採用して複数のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体
を排気・封着処理するには、真空室内に複数のプラズマ
・ディスプレイ・パネル組立体を配置する必要があり、
真空室の内容積が大きくなる。そのため、真空室内に供
給する発光ガス量も多く、しかもこの発光ガスは１封着
工程が終了すれば排気されるため、発光ガスの消費量が
増大し生産コストが大きくなる。また、加熱手段は真空
室の、たとえば底部に配置するが、プラズマ・ディスプ
レイ・パネル組立体を段積みすれば、各プラズマ・ディ
スプレイ・パネル組立体間で温度差が生じて均質なプラ
ズマ・ディスプレイ・パネルを同時に得ることができな
い。さらに、大容積の真空室を高真空にするため真空排
気装置も大型で高価なものを使用しなければならないと
いう課題を有していた。
採用して複数のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体
を排気・封着処理するには、真空室内に複数のプラズマ
・ディスプレイ・パネル組立体を配置する必要があり、
真空室の内容積が大きくなる。そのため、真空室内に供
給する発光ガス量も多く、しかもこの発光ガスは１封着
工程が終了すれば排気されるため、発光ガスの消費量が
増大し生産コストが大きくなる。また、加熱手段は真空
室の、たとえば底部に配置するが、プラズマ・ディスプ
レイ・パネル組立体を段積みすれば、各プラズマ・ディ
スプレイ・パネル組立体間で温度差が生じて均質なプラ
ズマ・ディスプレイ・パネルを同時に得ることができな
い。さらに、大容積の真空室を高真空にするため真空排
気装置も大型で高価なものを使用しなければならないと
いう課題を有していた。
【０００４】したがって、本発明の第１の目的は、複数
のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を排気・封着
処理するにもかかわらず、発光ガスの使用量が少なく、
かつ、各プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体間で温
度差が生じないばかりか、真空排気装置も安価なものを
使用できるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封
着炉を提供することである。また、第２の目的は、封着
工程で封入に供されなかった発光ガスを再度使用するよ
うにして発光ガスの消費量を極力少なくして生産コスト
をさらに低下させることのできるプラズマ・ディスプレ
イ・パネル用排気・封着炉を提供することである。
のプラズマ・ディスプレイ・パネル組立体を排気・封着
処理するにもかかわらず、発光ガスの使用量が少なく、
かつ、各プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体間で温
度差が生じないばかりか、真空排気装置も安価なものを
使用できるプラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封
着炉を提供することである。また、第２の目的は、封着
工程で封入に供されなかった発光ガスを再度使用するよ
うにして発光ガスの消費量を極力少なくして生産コスト
をさらに低下させることのできるプラズマ・ディスプレ
イ・パネル用排気・封着炉を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明にかかるプラズマ
・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉は、前記目的を
達成するため、炉内壁近傍にヒータを設けたバッチ式真
空炉本体の真空室に、周囲に封着材を介して重ね合わせ
た表面ガラス基板と背面ガラス基板とからなるプラズマ
・ディスプレイ・パネル組立体を収納するマッフルを多
段に配置して、少なくとも前記各マッフル間に、補助ヒ
ータと冷却管を配設するとともに、前記真空室に復圧用
気体供給管と第１真空排気装置を接続する一方、前記マ
ッフルに発光ガス供給管と第２真空排気装置を接続した
構成としたものである。また、前記発光ガス供給管に追
出しガス供給管を接続するとともに、マッフルの排気管
と発光ガス供給管とを、発光ガス再生機とリザーブタン
クを介して接続した構成としたものである。
・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉は、前記目的を
達成するため、炉内壁近傍にヒータを設けたバッチ式真
空炉本体の真空室に、周囲に封着材を介して重ね合わせ
た表面ガラス基板と背面ガラス基板とからなるプラズマ
・ディスプレイ・パネル組立体を収納するマッフルを多
段に配置して、少なくとも前記各マッフル間に、補助ヒ
ータと冷却管を配設するとともに、前記真空室に復圧用
気体供給管と第１真空排気装置を接続する一方、前記マ
ッフルに発光ガス供給管と第２真空排気装置を接続した
構成としたものである。また、前記発光ガス供給管に追
出しガス供給管を接続するとともに、マッフルの排気管
と発光ガス供給管とを、発光ガス再生機とリザーブタン
クを介して接続した構成としたものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
にしたがって説明する。図１，図２は、本発明にかかる
プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔの断
面図で、１は内部に真空室Ｒを有する略直方体状のバッ
チ式真空炉本体（以下、炉本体という）で、その一側面
に設けた口字状フランジ部３に、装入・抽出扉（以下、
扉という）４が真空パッキン５を介してクランプシリン
ダ６により圧着開放可能に取り付けられている。
にしたがって説明する。図１，図２は、本発明にかかる
プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔの断
面図で、１は内部に真空室Ｒを有する略直方体状のバッ
チ式真空炉本体（以下、炉本体という）で、その一側面
に設けた口字状フランジ部３に、装入・抽出扉（以下、
扉という）４が真空パッキン５を介してクランプシリン
ダ６により圧着開放可能に取り付けられている。
【０００７】７は横方向に偏平な有底のマッフルで、こ
のマッフル７は前記炉本体１の前記扉４側の側壁２に開
口させたもので、上下に所定間隔をもって真空室Ｒに水
平に３段配設してある。Ｈ1は前記真空室Ｒの各内面に
設けた炉温制御用主ヒータ、Ｈ2は前記マッフル７間お
よび真空室Ｒの天井側と底部側に設けた主ヒータＨ1と
マッフル７間に水平に設けた補助ヒータで、両ヒータＨ
1，Ｈ2はそれぞれ独立制御されるものであり、各列の補
助ヒータＨ2間には冷却管Ｃが設けてある。
のマッフル７は前記炉本体１の前記扉４側の側壁２に開
口させたもので、上下に所定間隔をもって真空室Ｒに水
平に３段配設してある。Ｈ1は前記真空室Ｒの各内面に
設けた炉温制御用主ヒータ、Ｈ2は前記マッフル７間お
よび真空室Ｒの天井側と底部側に設けた主ヒータＨ1と
マッフル７間に水平に設けた補助ヒータで、両ヒータＨ
1，Ｈ2はそれぞれ独立制御されるものであり、各列の補
助ヒータＨ2間には冷却管Ｃが設けてある。
【０００８】なお、前記真空室Ｒは、開閉弁Ｖ1を備え
た排気管９を介して第１真空排気装置（低真空用）８に
接続されるとともに、開閉弁Ｖ3を備えた復圧用気体供
給管１２を介して復圧用気体供給源（図示せず）に接続
されている。また、前記炉本体１と扉４およびフランジ
部３とで形成される空間１４は、前記フランジ部３から
第２真空排気装置（高真空用）１０に開閉弁Ｖ2を備え
た排気管１１を介して接続されている。
た排気管９を介して第１真空排気装置（低真空用）８に
接続されるとともに、開閉弁Ｖ3を備えた復圧用気体供
給管１２を介して復圧用気体供給源（図示せず）に接続
されている。また、前記炉本体１と扉４およびフランジ
部３とで形成される空間１４は、前記フランジ部３から
第２真空排気装置（高真空用）１０に開閉弁Ｖ2を備え
た排気管１１を介して接続されている。
【０００９】さらに、前記各マッフル７の底部側（図１
の右側）は開閉弁Ｖ4を備えた発光ガス供給管１５を介
して発光ガス供給タンク１６に接続されている。
Ｖ3′，Ｖ4′は逃し弁である。なお、図２の配管関係は
模式的に記載したものである。
の右側）は開閉弁Ｖ4を備えた発光ガス供給管１５を介
して発光ガス供給タンク１６に接続されている。
Ｖ3′，Ｖ4′は逃し弁である。なお、図２の配管関係は
模式的に記載したものである。
【００１０】つぎに、前記構成からなるプラズマ・ディ
スプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔを使用してプラズマ
・ディスプレイ・パネルの製作方法を説明する。まず、
開閉弁Ｖ1〜Ｖ4を閉とし、第１，第２真空排気装置８，
１０を停止した状態でクランプシリンダ６を操作して扉
４を開とし、各マッフル７内にプラズマ・ディスプレイ
・パネル組立体Ｗを適宜方法にて位置させたのち、扉４
とフランジ部３とをクランプシリンダ６により圧着す
る。
スプレイ・パネル用排気・封着炉Ｔを使用してプラズマ
・ディスプレイ・パネルの製作方法を説明する。まず、
開閉弁Ｖ1〜Ｖ4を閉とし、第１，第２真空排気装置８，
１０を停止した状態でクランプシリンダ６を操作して扉
４を開とし、各マッフル７内にプラズマ・ディスプレイ
・パネル組立体Ｗを適宜方法にて位置させたのち、扉４
とフランジ部３とをクランプシリンダ６により圧着す
る。
【００１１】そして、前記主ヒータＨ1と補助ヒータＨ2
とにより真空室Ｒ内を約３５０℃まで昇温して、この温
度を所定時間保持するとともに、真空室Ｒ内を前記第１
真空排気装置８により約１Ｔｏｒｒ、また、各マッフル
７内を第２真空排気装置１０により約１０-5Ｔｏｒｒに
真空排気する。真空室Ｒの温度を一定時間保持している
間に、プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗの脱ガ
スが行なわれる。脱ガス完了後、第１，第２真空排気装
置８，１０を停止して開閉弁Ｖ4を開として各マッフル
７内に発光ガスタンク１６内の発光ガスを供給してプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗ内に発光ガスを充
填するとともに、開閉弁Ｖ3を開、開閉弁Ｖ1を閉として
真空室Ｒ内に復圧用気体（たとえば空気）を供給して真
空室Ｒ内を復圧する。その後、前記主ヒータＨ1と補助
ヒータＨ2とにより真空室Ｒ内の温度を、たとえば、４
３０℃まで昇温して、その温度を所定時間保持する。こ
の間にマッフル７内のプラズマ・ディスプレイ・パネル
組立体Ｗの周囲に配置した封着材は軟化して、両ガラス
基板を封着することによりプラズマ・ディスプレイ・パ
ネル組立体Ｗ内に発光ガスが封入される。
とにより真空室Ｒ内を約３５０℃まで昇温して、この温
度を所定時間保持するとともに、真空室Ｒ内を前記第１
真空排気装置８により約１Ｔｏｒｒ、また、各マッフル
７内を第２真空排気装置１０により約１０-5Ｔｏｒｒに
真空排気する。真空室Ｒの温度を一定時間保持している
間に、プラズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗの脱ガ
スが行なわれる。脱ガス完了後、第１，第２真空排気装
置８，１０を停止して開閉弁Ｖ4を開として各マッフル
７内に発光ガスタンク１６内の発光ガスを供給してプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル組立体Ｗ内に発光ガスを充
填するとともに、開閉弁Ｖ3を開、開閉弁Ｖ1を閉として
真空室Ｒ内に復圧用気体（たとえば空気）を供給して真
空室Ｒ内を復圧する。その後、前記主ヒータＨ1と補助
ヒータＨ2とにより真空室Ｒ内の温度を、たとえば、４
３０℃まで昇温して、その温度を所定時間保持する。こ
の間にマッフル７内のプラズマ・ディスプレイ・パネル
組立体Ｗの周囲に配置した封着材は軟化して、両ガラス
基板を封着することによりプラズマ・ディスプレイ・パ
ネル組立体Ｗ内に発光ガスが封入される。
【００１２】なお、マッフル７内の圧力（Ｐ1）は温度
とともに発光ガスの膨張、収縮により変圧するため、た
とえば、下式に基づいて開閉弁Ｖ4と逃し弁Ｖ4′を操作
することによりコントロールする。
とともに発光ガスの膨張、収縮により変圧するため、た
とえば、下式に基づいて開閉弁Ｖ4と逃し弁Ｖ4′を操作
することによりコントロールする。
【数１】Ｐ1＝｛（２７３＋Ｔ℃）／（２７３＋２０
℃）｝×Ｐ0 Ｐ1＝マッフル内圧力 Ｐ0＝必要マッフル内圧力（２０℃） Ｔ＝マッフル内温度℃ また、真空室Ｒ内の圧力は、マッフル７の変形を避ける
ため、マッフル７内の圧力Ｐ1と略同じになるよう開閉
弁Ｖ3と逃し弁Ｖ3′を操作することによりコントロール
する。
℃）｝×Ｐ0 Ｐ1＝マッフル内圧力 Ｐ0＝必要マッフル内圧力（２０℃） Ｔ＝マッフル内温度℃ また、真空室Ｒ内の圧力は、マッフル７の変形を避ける
ため、マッフル７内の圧力Ｐ1と略同じになるよう開閉
弁Ｖ3と逃し弁Ｖ3′を操作することによりコントロール
する。
【００１３】前記のようにして、封着処理が完了する
と、前記主ヒータＨ1および補助ヒータＨ2を制御すると
ともに前記冷却管Ｃに冷媒（空気）を供給して、真空室
Ｒ内を冷却してマッフル７内を降温し、所定温度以下と
なったところで、扉４を開として各マッフル７からプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル組立体を取り出すものであ
る。
と、前記主ヒータＨ1および補助ヒータＨ2を制御すると
ともに前記冷却管Ｃに冷媒（空気）を供給して、真空室
Ｒ内を冷却してマッフル７内を降温し、所定温度以下と
なったところで、扉４を開として各マッフル７からプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル組立体を取り出すものであ
る。
【００１４】前記説明では、発光ガスは各マッフル７に
供給され、その一部がプラズマ・ディスプレイ・パネル
組立体内に封入され、残りはパネル取出し時、放散され
るため、発光ガスの使用量が増大することになる。した
がって、図２に仮想線で示すように、発光ガス供給タン
ク１６をリザーブタンク１６′とし、このリザーブタン
ク１６′と前記第２真空排気装置１０の開閉弁Ｖ2より
上流側の排気管１１との間に開閉弁Ｖ5を有する配管１
８を設け、発光ガス再生機１７を前記開閉弁Ｖ5とリザ
ーブタンク１６′との間に設けるとともに、リザーブタ
ンク１６′からの発光ガス供給管１５の開閉弁Ｖ4より
下流側に開閉弁Ｖ6を有するＮ2ガス等の追出しガス供給
管１９を設ける。そして、前記封着完了後、真空室Ｒ内
温度が約３５０℃以下となった時点で、開閉弁Ｖ5，Ｖ6
を開として各マッフル７内に追出しガスを供給してマッ
フル７内の残留発光ガスを発光ガス再生機１７に戻入
し、再生したのちリザーブタンク１６′に貯留し、その
後、扉４を開いてプラズマ・ディスプレイ・パネルを取
り出すようにしてもよい。このようにすれば、高価な発
光ガスを無駄にすることがなくそれだけコスト低減を行
なうことができる。
供給され、その一部がプラズマ・ディスプレイ・パネル
組立体内に封入され、残りはパネル取出し時、放散され
るため、発光ガスの使用量が増大することになる。した
がって、図２に仮想線で示すように、発光ガス供給タン
ク１６をリザーブタンク１６′とし、このリザーブタン
ク１６′と前記第２真空排気装置１０の開閉弁Ｖ2より
上流側の排気管１１との間に開閉弁Ｖ5を有する配管１
８を設け、発光ガス再生機１７を前記開閉弁Ｖ5とリザ
ーブタンク１６′との間に設けるとともに、リザーブタ
ンク１６′からの発光ガス供給管１５の開閉弁Ｖ4より
下流側に開閉弁Ｖ6を有するＮ2ガス等の追出しガス供給
管１９を設ける。そして、前記封着完了後、真空室Ｒ内
温度が約３５０℃以下となった時点で、開閉弁Ｖ5，Ｖ6
を開として各マッフル７内に追出しガスを供給してマッ
フル７内の残留発光ガスを発光ガス再生機１７に戻入
し、再生したのちリザーブタンク１６′に貯留し、その
後、扉４を開いてプラズマ・ディスプレイ・パネルを取
り出すようにしてもよい。このようにすれば、高価な発
光ガスを無駄にすることがなくそれだけコスト低減を行
なうことができる。
【００１５】前記説明では、マッフルは有底マッフルを
使用したが直管状のものとして、その両端を炉本体１の
両側壁２，２に支持させるものであってもよく、また、
両ガラス基板を封着材より高温で融解する支持材片、た
とえば混合物組成を若干変化させた低融点ガラス等で支
持し、封着工程で支持材片を溶融させて両ガラス基板を
封着させるようにしてもよい。さらに、前記補助ヒータ
Ｈ2と冷却管Ｃは少なくともマッフル７間に配設すれば
よい。
使用したが直管状のものとして、その両端を炉本体１の
両側壁２，２に支持させるものであってもよく、また、
両ガラス基板を封着材より高温で融解する支持材片、た
とえば混合物組成を若干変化させた低融点ガラス等で支
持し、封着工程で支持材片を溶融させて両ガラス基板を
封着させるようにしてもよい。さらに、前記補助ヒータ
Ｈ2と冷却管Ｃは少なくともマッフル７間に配設すれば
よい。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項１
に記載の発明のよれば、プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル組立体は内容積の小さいマッフル内に装入され、発光
ガスはこのマッフル内のみに供給するため発光ガスの使
用量は従来方法に比べて著しく少なく経済的である。ま
た、プラズマ・ディスプレイ・パネルを収納するマッフ
ルは炉本体内に多段に配置されるが、各マッフル間に補
助ヒータと冷却管を配設するため、各マッフルを均一に
昇温、降温でき均一なプラズマ・ディスプレイ・パネル
を得ることができる。さらに、マッフル内容積は処理に
必要な最小限とすることができるため、それだけ高価な
高真空用第２真空排気装置も小型で安価なものを適用す
ることができる。請求項２に記載の発明によれば、請求
項１の発明において、発光ガス供給管に追出しガス供給
管を接続し、追出しガスをマッフル内に供給して、マッ
フル内の残留発光ガスを発光ガス再生機に戻入して、再
生したのちリザーブタンクに貯留するようにしたため、
発光ガスの無駄がなく、それだけ生産コストを低減し、
安価なプラズマ・ディスプレイ・パネルを得ることがで
きる。
に記載の発明のよれば、プラズマ・ディスプレイ・パネ
ル組立体は内容積の小さいマッフル内に装入され、発光
ガスはこのマッフル内のみに供給するため発光ガスの使
用量は従来方法に比べて著しく少なく経済的である。ま
た、プラズマ・ディスプレイ・パネルを収納するマッフ
ルは炉本体内に多段に配置されるが、各マッフル間に補
助ヒータと冷却管を配設するため、各マッフルを均一に
昇温、降温でき均一なプラズマ・ディスプレイ・パネル
を得ることができる。さらに、マッフル内容積は処理に
必要な最小限とすることができるため、それだけ高価な
高真空用第２真空排気装置も小型で安価なものを適用す
ることができる。請求項２に記載の発明によれば、請求
項１の発明において、発光ガス供給管に追出しガス供給
管を接続し、追出しガスをマッフル内に供給して、マッ
フル内の残留発光ガスを発光ガス再生機に戻入して、再
生したのちリザーブタンクに貯留するようにしたため、
発光ガスの無駄がなく、それだけ生産コストを低減し、
安価なプラズマ・ディスプレイ・パネルを得ることがで
きる。
【図１】 本発明にかかるプラズマ・ディスプレイ・パ
ネル用排気・封着炉の断面図。
ネル用排気・封着炉の断面図。
【図２】 図１のII−II線断面図と配管系統図。
１…真空炉本体、４…装入・抽出扉、７…マッフル、８
…第１真空排気装置、１０…第２真空排気装置、１２…
復圧用気体供給管、１５…発光ガス供給管、１６…発光
ガス供給タンク、１６′…リザーブタンク、１７…発光
ガス再生機、１９…追出しガス供給管、Ｃ…冷却管、Ｈ
1…主ヒータ、Ｈ2…補助ヒータ、Ｒ…真空室、Ｔ…真空
炉本体、Ｖ1〜Ｖ6…開閉弁、Ｗ…プラズマ・ディスプレ
イ・パネル組立体。
…第１真空排気装置、１０…第２真空排気装置、１２…
復圧用気体供給管、１５…発光ガス供給管、１６…発光
ガス供給タンク、１６′…リザーブタンク、１７…発光
ガス再生機、１９…追出しガス供給管、Ｃ…冷却管、Ｈ
1…主ヒータ、Ｈ2…補助ヒータ、Ｒ…真空室、Ｔ…真空
炉本体、Ｖ1〜Ｖ6…開閉弁、Ｗ…プラズマ・ディスプレ
イ・パネル組立体。
Claims (2)
- 【請求項１】 炉内壁近傍にヒータを設けたバッチ式真
空炉本体の真空室に、周囲に封着材を介して重ね合わせ
た表面ガラス基板と背面ガラス基板とからなるプラズマ
・ディスプレイ・パネル組立体を収納するマッフルを多
段に配置して、少なくとも前記各マッフル間に、補助ヒ
ータと冷却管を配設するとともに、前記真空室に復圧用
気体供給管と第１真空排気装置を接続する一方、前記マ
ッフルに発光ガス供給管と第２真空排気装置を接続した
ことを特徴とするプラズマ・ディスプレイ・パネル用排
気・封着炉。 - 【請求項２】 前記発光ガス供給管に追出しガス供給管
を接続するとともに、マッフルの排気管と発光ガス供給
管とを、発光ガス再生機とリザーブタンクを介して接続
したことを特徴とする前記請求項１に記載のプラズマ・
ディスプレイ・パネル用排気・封着炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32975996A JP3615335B2 (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32975996A JP3615335B2 (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172435A true JPH10172435A (ja) | 1998-06-26 |
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1996
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