JP2001168011A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】シート部材の表面に塗布液を均一に塗布でき、
かつ汚染のない薄膜形成装置を提供する。 【解決手段】フィルムＦの面積と同等、またはフィルム
Ｆの面積より大きい載置面４１を有し、かつフィルムＦ
の裏面の外周側を吸着する複数の吸着溝４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄを有する載置部４１と、フィルムＦ
を載置面４１に載置したベース部材４を回転させる駆動
機構２と、載置面４１に載置されたフィルムＦの表面に
レジストを供給するレジスト塗布ノズル６と、レジスト
塗布ノズル６によって表面にレジストが供給されたフィ
ルムＦを駆動機構２によって回転させた状態で、載置面
４１に載置されたフィルムＦの表面の外周側に供給され
た塗布液を除去するように、フィルムＦの表面の外周側
に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル７と、を備えてい
る。
かつ汚染のない薄膜形成装置を提供する。 【解決手段】フィルムＦの面積と同等、またはフィルム
Ｆの面積より大きい載置面４１を有し、かつフィルムＦ
の裏面の外周側を吸着する複数の吸着溝４２ａ，４２
ｂ，４２ｃ，４２ｄを有する載置部４１と、フィルムＦ
を載置面４１に載置したベース部材４を回転させる駆動
機構２と、載置面４１に載置されたフィルムＦの表面に
レジストを供給するレジスト塗布ノズル６と、レジスト
塗布ノズル６によって表面にレジストが供給されたフィ
ルムＦを駆動機構２によって回転させた状態で、載置面
４１に載置されたフィルムＦの表面の外周側に供給され
た塗布液を除去するように、フィルムＦの表面の外周側
に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル７と、を備えてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
おいてシート状フィルム等のシート部材の表面に塗布液
を供給して、シート部材の表面に薄膜を形成する薄膜形
成装置に関する。
おいてシート状フィルム等のシート部材の表面に塗布液
を供給して、シート部材の表面に薄膜を形成する薄膜形
成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程において、フィルム等の
シート部材の表面に塗布液を供給して一旦シート部材の
表面に薄膜を形成し、次に薄膜が形成されたシート部材
とウエハ等の基板とを重ね合わせて、シート部材の表面
の薄膜を基板に平坦に転写して基板の表面に薄膜を形成
し、さらに薄膜をシート部材から剥離するという工程が
ある。
シート部材の表面に塗布液を供給して一旦シート部材の
表面に薄膜を形成し、次に薄膜が形成されたシート部材
とウエハ等の基板とを重ね合わせて、シート部材の表面
の薄膜を基板に平坦に転写して基板の表面に薄膜を形成
し、さらに薄膜をシート部材から剥離するという工程が
ある。
【０００３】図６は、この工程に用いられるシート部材
の表面に薄膜を形成する装置を示している。この薄膜形
成装置１００は、薄膜形成用塗布装置１１０と乾燥装置
１２０とを備えており、薄膜形成用塗布装置１１０と乾
燥装置１２０とが搬送機構１５０を介して接続されてい
る。この薄膜形成用塗布装置１１０としては周知のスピ
ンナーが用いられている。このスピンナーは、定速回転
される試料台１１１と、シート部材であるフィルムＦを
吸引し試料台１１１に密着させる吸引機構１１２と、薬
液供給機構１１３内に貯蔵された薄膜形成用液を試料台
１１１上のフィルムＦの表面に噴射するノズル１１４と
を備えている。乾燥装置１２０は、ホットプレート１２
１と、フィルムＦを吸引しホットプレート１２１に密着
させる吸引機構１２２とで構成されている。この乾燥装
置１２０は、フィルムＦが乾燥時の熱により変形したま
ま乾燥しないように、フィルムＦの裏面を吸引しながら
フィルムＦに形成された薄膜を乾燥させる。なお、符号
１３０，１４０は、薄膜形成装置１００外にある搬送系
との接続口である。
の表面に薄膜を形成する装置を示している。この薄膜形
成装置１００は、薄膜形成用塗布装置１１０と乾燥装置
１２０とを備えており、薄膜形成用塗布装置１１０と乾
燥装置１２０とが搬送機構１５０を介して接続されてい
る。この薄膜形成用塗布装置１１０としては周知のスピ
ンナーが用いられている。このスピンナーは、定速回転
される試料台１１１と、シート部材であるフィルムＦを
吸引し試料台１１１に密着させる吸引機構１１２と、薬
液供給機構１１３内に貯蔵された薄膜形成用液を試料台
１１１上のフィルムＦの表面に噴射するノズル１１４と
を備えている。乾燥装置１２０は、ホットプレート１２
１と、フィルムＦを吸引しホットプレート１２１に密着
させる吸引機構１２２とで構成されている。この乾燥装
置１２０は、フィルムＦが乾燥時の熱により変形したま
ま乾燥しないように、フィルムＦの裏面を吸引しながら
フィルムＦに形成された薄膜を乾燥させる。なお、符号
１３０，１４０は、薄膜形成装置１００外にある搬送系
との接続口である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
薄膜形成装置であると、スピンナーにおいては単にフィ
ルムＦを吸引機構１１２により試料台１１１に単に密着
させているだけであるので、フィルムＦが試料台１１１
に対してズレてしまうという恐れがある。フィルムＦが
試料台１１１からズレたままの状態で薄膜形成用液を試
料台１１１上のフィルムＦの表面にノズル１１４から噴
射すると、フィルムＦの表面に薄膜形成用液が均一に塗
布できなくなってしまう。
薄膜形成装置であると、スピンナーにおいては単にフィ
ルムＦを吸引機構１１２により試料台１１１に単に密着
させているだけであるので、フィルムＦが試料台１１１
に対してズレてしまうという恐れがある。フィルムＦが
試料台１１１からズレたままの状態で薄膜形成用液を試
料台１１１上のフィルムＦの表面にノズル１１４から噴
射すると、フィルムＦの表面に薄膜形成用液が均一に塗
布できなくなってしまう。
【０００５】また、このスピンナーでは、フィルムＦの
表面全体に薄膜が形成されてしまうので、搬送機構１５
０により薄膜形成後のフィルムＦを搬送する際には、搬
送機構１５０に薄膜形成用液が付着してしまい、薄膜形
成装置１００内が汚染されてしまうことになる。特に、
この薄膜形成装置１００ならば、薄膜形成用塗布装置１
１０の下流側に配置された乾燥装置１２０が汚染されて
しまう。
表面全体に薄膜が形成されてしまうので、搬送機構１５
０により薄膜形成後のフィルムＦを搬送する際には、搬
送機構１５０に薄膜形成用液が付着してしまい、薄膜形
成装置１００内が汚染されてしまうことになる。特に、
この薄膜形成装置１００ならば、薄膜形成用塗布装置１
１０の下流側に配置された乾燥装置１２０が汚染されて
しまう。
【０００６】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであって、シート部材の表面に塗布液を均一に塗布で
き、かつ汚染を抑制した薄膜形成装置を提供することを
目的とする。
のであって、シート部材の表面に塗布液を均一に塗布で
き、かつ汚染を抑制した薄膜形成装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、シート部材の表面に塗布液を供給して薄
膜を形成する薄膜形成装置において、シート部材の面積
と同等、またはシート部材の面積より大きい載置面を有
し、かつシート部材の裏面の外周側を吸着する複数の吸
着溝を有する載置部と、シート部材を載置面に載置した
状態で前記載置部を回転させる駆動手段と、前記載置面
に載置されたシート部材の表面に塗布液を供給する第１
供給手段と、前記第１供給手段によって表面に塗布液が
供給されたシート部材を前記駆動手段によって回転させ
た状態で、前記載置面に載置されたシート部材の表面の
外周側に供給された塗布液を除去するように、シート部
材の表面の外周側に洗浄液を供給する第２供給手段と、
を備えている。なお、ここでいう「載置部」には、載置
台や板状の回転部材が考えられる。
に、本発明は、シート部材の表面に塗布液を供給して薄
膜を形成する薄膜形成装置において、シート部材の面積
と同等、またはシート部材の面積より大きい載置面を有
し、かつシート部材の裏面の外周側を吸着する複数の吸
着溝を有する載置部と、シート部材を載置面に載置した
状態で前記載置部を回転させる駆動手段と、前記載置面
に載置されたシート部材の表面に塗布液を供給する第１
供給手段と、前記第１供給手段によって表面に塗布液が
供給されたシート部材を前記駆動手段によって回転させ
た状態で、前記載置面に載置されたシート部材の表面の
外周側に供給された塗布液を除去するように、シート部
材の表面の外周側に洗浄液を供給する第２供給手段と、
を備えている。なお、ここでいう「載置部」には、載置
台や板状の回転部材が考えられる。
【０００８】また、本発明の薄膜形成装置において、前
記第２供給手段により塗布液を除去されたシート部材の
表面の外周側を吸着する吸着部を有し、前記吸着部でシ
ート部材の表面の外周側を吸着しつつ、前記載置面に対
するシート部材の搬出入を行う搬送手段をさらに備えて
もよい。
記第２供給手段により塗布液を除去されたシート部材の
表面の外周側を吸着する吸着部を有し、前記吸着部でシ
ート部材の表面の外周側を吸着しつつ、前記載置面に対
するシート部材の搬出入を行う搬送手段をさらに備えて
もよい。
【０００９】また、本発明の薄膜形成装置において、前
記複数の吸着溝を、複数の環状溝にしてもよい。
記複数の吸着溝を、複数の環状溝にしてもよい。
【００１０】また、本発明の薄膜形成装置において、前
記複数の吸着溝を、前記載置面に同芯円状に形成された
複数の吸着溝にしてもよい。
記複数の吸着溝を、前記載置面に同芯円状に形成された
複数の吸着溝にしてもよい。
【００１１】さらに、本発明の薄膜形成装置において、
前記複数の吸着溝を、前記載置面に吸着孔を円形に配置
して吸着孔群を形成し、前記吸着孔群を同芯円状に形成
させてもよい。
前記複数の吸着溝を、前記載置面に吸着孔を円形に配置
して吸着孔群を形成し、前記吸着孔群を同芯円状に形成
させてもよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下図面に基づいて本発明に係る
薄膜形成装置の実施の形態を説明する。図１は、本発明
に係る薄膜形成装置を示す概略構成図である。
薄膜形成装置の実施の形態を説明する。図１は、本発明
に係る薄膜形成装置を示す概略構成図である。
【００１３】中空の回転軸１は、載置部に相当する円板
状のベース部材４の下方に設けられた駆動機構２により
鉛直軸回りに回転可能である。この回転軸１の上端部に
は、ベース部材４が一体的に連結されている。また、こ
の回転軸１は、基台３に対して回転可能になっている。
このベース部材４の上面には、シート部材の一種である
フィルムＦを載置するための平面な載置面４１が形成さ
れている。なお、この載置面４１の面積は、フィルムＦ
の面積と同等、またはフィルムＦの面積より大きいもの
である。
状のベース部材４の下方に設けられた駆動機構２により
鉛直軸回りに回転可能である。この回転軸１の上端部に
は、ベース部材４が一体的に連結されている。また、こ
の回転軸１は、基台３に対して回転可能になっている。
このベース部材４の上面には、シート部材の一種である
フィルムＦを載置するための平面な載置面４１が形成さ
れている。なお、この載置面４１の面積は、フィルムＦ
の面積と同等、またはフィルムＦの面積より大きいもの
である。
【００１４】載置面４１の外周側には、フィルムＦの裏
面の外周側を吸着保持するために、図２に示すように、
同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２
ｄが形成されている（図２では４つ）。これら複数の溝
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄは、中空軸１および基
台３内に形成された連通管１１を介して、吸引機構５と
連通されている。また、連通管１１の途中には、吸着溝
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄによるフィルムＦの吸
着を制御するための開閉弁１２が設けられている。
面の外周側を吸着保持するために、図２に示すように、
同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２
ｄが形成されている（図２では４つ）。これら複数の溝
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄは、中空軸１および基
台３内に形成された連通管１１を介して、吸引機構５と
連通されている。また、連通管１１の途中には、吸着溝
４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄによるフィルムＦの吸
着を制御するための開閉弁１２が設けられている。
【００１５】駆動機構２は、駆動源となるモータ２１
と、このモータ２１の回転軸となる軸部２２と、軸部２
２の上端に取り付けられたプーリ２３とを備えている。
また、回転軸１の下側の周囲にも、プーリ１３が設けら
れている。そして、プーリ２３とプーリ１３とには、無
端ベルト２４が掛け渡されている。モータ２１の回転駆
動は、回転軸２２、プーリ２３、無端ベルト２４、およ
びプーリ１３に伝わって、回転軸１が回転することによ
ってベース部材４の載置面４１に載置されたフィルムＦ
は回転される。
と、このモータ２１の回転軸となる軸部２２と、軸部２
２の上端に取り付けられたプーリ２３とを備えている。
また、回転軸１の下側の周囲にも、プーリ１３が設けら
れている。そして、プーリ２３とプーリ１３とには、無
端ベルト２４が掛け渡されている。モータ２１の回転駆
動は、回転軸２２、プーリ２３、無端ベルト２４、およ
びプーリ１３に伝わって、回転軸１が回転することによ
ってベース部材４の載置面４１に載置されたフィルムＦ
は回転される。
【００１６】ベース部材４の載置面４１の中央部上方に
は、載置面４１に載置されたフィルムＦの表面にレジス
ト（塗布液）を塗布するためのレジスト塗布ノズル６が
設けられている。このレジスト塗布ノズル６は、図示し
ない駆動機構により、矢印Ａに示すように、載置面４１
の上方位置Ｐ２と退避位置Ｐ１との間で移動可能であ
る。また、ベース部材４の載置面４１の上方には、フィ
ルムＦの表面の外周側に洗浄液を供給する洗浄液供給ノ
ズル７が設けられている。この洗浄液供給ノズル７は、
図示しない移動機構により、矢印Ｂに示すように、載置
面４１の上方位置Ｐ４と退避位置Ｐ３との間で移動可能
である。
は、載置面４１に載置されたフィルムＦの表面にレジス
ト（塗布液）を塗布するためのレジスト塗布ノズル６が
設けられている。このレジスト塗布ノズル６は、図示し
ない駆動機構により、矢印Ａに示すように、載置面４１
の上方位置Ｐ２と退避位置Ｐ１との間で移動可能であ
る。また、ベース部材４の載置面４１の上方には、フィ
ルムＦの表面の外周側に洗浄液を供給する洗浄液供給ノ
ズル７が設けられている。この洗浄液供給ノズル７は、
図示しない移動機構により、矢印Ｂに示すように、載置
面４１の上方位置Ｐ４と退避位置Ｐ３との間で移動可能
である。
【００１７】なお、レジスト塗布ノズル６は、第１供給
手段に相当し、洗浄液供給ノズル７は、第２供給手段に
相当する。
手段に相当し、洗浄液供給ノズル７は、第２供給手段に
相当する。
【００１８】図３は、搬送機構の概略構成図である。搬
送機構８は、支持部材８１と、この支持部材８１の最下
端部から外側に延出された４本のアーム８２〜８５を備
えている（図３（ｂ）参照）。このアーム８２〜８５の
先端部には、下側を向いた吸着保持部８２ａ〜８５ａが
設けられており、この吸着保持部８２ａ〜８５ａには、
フィルムＦの表面の外周側を吸着するための吸着孔８２
ｂ〜８５ｂが形成されている。４本のアーム８２〜８５
の内部には、吸着孔８２ｂ〜８５ｂに連通されている吸
引管８２ｃ〜８５ｃが形成されており、これら吸引管８
２ｃ〜８５ｃは、支持部材８１の内部に形成されている
吸引管８１ｃを介して、図示しない吸引機構に連通され
ている。なお、搬送機構８がフィルムＦを搬送する際に
は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、図示し
ない駆動機構によって、フィルムＦの表面の外周側を吸
着した状態で、フィルムＦの搬送を行う。
送機構８は、支持部材８１と、この支持部材８１の最下
端部から外側に延出された４本のアーム８２〜８５を備
えている（図３（ｂ）参照）。このアーム８２〜８５の
先端部には、下側を向いた吸着保持部８２ａ〜８５ａが
設けられており、この吸着保持部８２ａ〜８５ａには、
フィルムＦの表面の外周側を吸着するための吸着孔８２
ｂ〜８５ｂが形成されている。４本のアーム８２〜８５
の内部には、吸着孔８２ｂ〜８５ｂに連通されている吸
引管８２ｃ〜８５ｃが形成されており、これら吸引管８
２ｃ〜８５ｃは、支持部材８１の内部に形成されている
吸引管８１ｃを介して、図示しない吸引機構に連通され
ている。なお、搬送機構８がフィルムＦを搬送する際に
は、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、図示し
ない駆動機構によって、フィルムＦの表面の外周側を吸
着した状態で、フィルムＦの搬送を行う。
【００１９】次に、本発明に係る薄膜形成装置の処理動
作について説明する。図４は、薄膜形成装置の処理動作
を示すフローチャートである。
作について説明する。図４は、薄膜形成装置の処理動作
を示すフローチャートである。
【００２０】まず最初に、搬送機構８の吸着保持部８２
ａ〜８５ａにフィルムＦを吸着保持しつつ、搬送機構８
を図示しない駆動機構により移動させて、ベース部材４
の載置面４１にフィルムＦを載置する（ステップＳ
１）。なお、このときレジスト塗布ノズル６は、図１に
示すＰ１の位置にあり、洗浄液供給ノズル６は、図１に
示すＰ３の位置にある。フィルムＦが載置面４１に載置
されると、開閉弁１２を「閉」の状態から「開」の状態
へ切り換え、載置面４１の吸着溝４２ａ〜４２ｄによる
フィルムＦの裏面の外周側への吸着を開始する（ステッ
プＳ２）。それとともに、吸着孔８２ｂ〜８５ｂの吸着
を解除して、吸着保持部８２ａ〜８５ａによるフィルム
Ｆの吸着を解除する（ステップＳ３）。ステップＳ３が
終了すると、搬送機構８は、ベース部材４の載置面４１
の上方の位置から一旦退避する（ステップＳ４）。
ａ〜８５ａにフィルムＦを吸着保持しつつ、搬送機構８
を図示しない駆動機構により移動させて、ベース部材４
の載置面４１にフィルムＦを載置する（ステップＳ
１）。なお、このときレジスト塗布ノズル６は、図１に
示すＰ１の位置にあり、洗浄液供給ノズル６は、図１に
示すＰ３の位置にある。フィルムＦが載置面４１に載置
されると、開閉弁１２を「閉」の状態から「開」の状態
へ切り換え、載置面４１の吸着溝４２ａ〜４２ｄによる
フィルムＦの裏面の外周側への吸着を開始する（ステッ
プＳ２）。それとともに、吸着孔８２ｂ〜８５ｂの吸着
を解除して、吸着保持部８２ａ〜８５ａによるフィルム
Ｆの吸着を解除する（ステップＳ３）。ステップＳ３が
終了すると、搬送機構８は、ベース部材４の載置面４１
の上方の位置から一旦退避する（ステップＳ４）。
【００２１】ステップＳ１からステップＳ４までのフィ
ルムＦの搬入・載置工程が終了すると、次に、モータ２
１の駆動を開始する（ステップＳ５）。なお、このとき
のフィルムＦの回転数は約１０００〜２０００ｒｐｍで
ある。次に、図１の矢印Ａに示すように、レジスト塗布
ノズル６をＰ１の位置からＰ２の位置へ移動させる（ス
テップＳ６）。そして、レジスト塗布ノズル６からレジ
ストをフィルムＦの表面中央部へ塗布する（ステップＳ
７）。フィルムＦの表面中央部に塗布されたレジスト
は、フィルムＦの回転にともなって、表面中心部から外
周へ広がっていき、フィルムＦの表面全体にレジストに
よる均一な薄膜Ｒが形成される。ステップＳ７が終了す
ると、図１の矢印Ａに示すように、レジスト塗布ノズル
６をＰ２の位置からＰ１の位置へ退避させる（ステップ
Ｓ８）。
ルムＦの搬入・載置工程が終了すると、次に、モータ２
１の駆動を開始する（ステップＳ５）。なお、このとき
のフィルムＦの回転数は約１０００〜２０００ｒｐｍで
ある。次に、図１の矢印Ａに示すように、レジスト塗布
ノズル６をＰ１の位置からＰ２の位置へ移動させる（ス
テップＳ６）。そして、レジスト塗布ノズル６からレジ
ストをフィルムＦの表面中央部へ塗布する（ステップＳ
７）。フィルムＦの表面中央部に塗布されたレジスト
は、フィルムＦの回転にともなって、表面中心部から外
周へ広がっていき、フィルムＦの表面全体にレジストに
よる均一な薄膜Ｒが形成される。ステップＳ７が終了す
ると、図１の矢印Ａに示すように、レジスト塗布ノズル
６をＰ２の位置からＰ１の位置へ退避させる（ステップ
Ｓ８）。
【００２２】ステップ５からステップＳ８までの塗布工
程が終了すると、次に、モータ２１の駆動を制御して、
フィルムＦの回転数を減少させる（ステップＳ９）。な
お、このときのフィルムＦの回転数は約５００ｒｐｍで
ある。次に、図１の矢印Ｂに示すように、洗浄液供給ノ
ズル７をＰ３の位置からＰ４の位置へ移動させる（ステ
ップＳ１０）。そして、洗浄液供給ノズル７から洗浄液
をフィルムＦの表面の外周側へ供給する（ステップＳ１
１）。このとき、洗浄液供給ノズル７の先端部はフィル
ムＦの中心側から外周側へ向いているので、洗浄液はフ
ィルムＦの表面の外周側の部分に中心側から外周へ向け
て供給される。これにより、フィルムＦの表面の外周側
にあるレジストが環状に除去される。なお、このとき洗
浄液としては、有機溶剤などが考えられる。ステップＳ
１１が終了すると、図１の矢印Ｂに示すように、レジス
ト塗布ノズル６をＰ４の位置からＰ２の位置へ退避させ
る（ステップＳ１２）。
程が終了すると、次に、モータ２１の駆動を制御して、
フィルムＦの回転数を減少させる（ステップＳ９）。な
お、このときのフィルムＦの回転数は約５００ｒｐｍで
ある。次に、図１の矢印Ｂに示すように、洗浄液供給ノ
ズル７をＰ３の位置からＰ４の位置へ移動させる（ステ
ップＳ１０）。そして、洗浄液供給ノズル７から洗浄液
をフィルムＦの表面の外周側へ供給する（ステップＳ１
１）。このとき、洗浄液供給ノズル７の先端部はフィル
ムＦの中心側から外周側へ向いているので、洗浄液はフ
ィルムＦの表面の外周側の部分に中心側から外周へ向け
て供給される。これにより、フィルムＦの表面の外周側
にあるレジストが環状に除去される。なお、このとき洗
浄液としては、有機溶剤などが考えられる。ステップＳ
１１が終了すると、図１の矢印Ｂに示すように、レジス
ト塗布ノズル６をＰ４の位置からＰ２の位置へ退避させ
る（ステップＳ１２）。
【００２３】ステップ９からステップＳ１２までの洗浄
工程が終了すると、次に、モータ２１の駆動を制御し
て、フィルムＦの回転数を増加させる（ステップＳ１
３）。そして、均一な薄膜Ｒが形成されたフィルムＦの
表面の乾燥処理を行う（ステップＳ１４）。なお、この
ときのフィルムＦの回転数は約１５００ｒｐｍである。
所定の時間乾燥処理が行われると、モータ２１の駆動を
制御して、フィルムＦの回転を停止させる（ステップＳ
１５）。
工程が終了すると、次に、モータ２１の駆動を制御し
て、フィルムＦの回転数を増加させる（ステップＳ１
３）。そして、均一な薄膜Ｒが形成されたフィルムＦの
表面の乾燥処理を行う（ステップＳ１４）。なお、この
ときのフィルムＦの回転数は約１５００ｒｐｍである。
所定の時間乾燥処理が行われると、モータ２１の駆動を
制御して、フィルムＦの回転を停止させる（ステップＳ
１５）。
【００２４】ステップＳ１３からステップＳ１５までの
乾燥工程が終了すると、搬送機構８が、載置面４１に載
置されたフィルムＦの上方に移動する（ステップＳ１
６）。そして、搬送機構８の吸着孔８２ｂ〜８５ｂが、
フィルムＦの表面の外周側（レジストの除去された部
分）の吸着を開始する（ステップＳ１７）。それととも
に、開閉弁１２を「開」の状態から「閉」の状態へ切り
換え、吸着溝４２ａ〜４２ｄによるフィルムＦの裏面へ
の吸着を解除する（ステップＳ１８）。そして、搬送機
構８の吸着保持部８２ａ〜８４ａによりフィルムＦを吸
着保持しつつ、ベース部材４の載置面４１からフィルム
Ｆを搬出する（ステップＳ１９）。これにより、薄膜形
成装置の一連の処理動作が終了する。
乾燥工程が終了すると、搬送機構８が、載置面４１に載
置されたフィルムＦの上方に移動する（ステップＳ１
６）。そして、搬送機構８の吸着孔８２ｂ〜８５ｂが、
フィルムＦの表面の外周側（レジストの除去された部
分）の吸着を開始する（ステップＳ１７）。それととも
に、開閉弁１２を「開」の状態から「閉」の状態へ切り
換え、吸着溝４２ａ〜４２ｄによるフィルムＦの裏面へ
の吸着を解除する（ステップＳ１８）。そして、搬送機
構８の吸着保持部８２ａ〜８４ａによりフィルムＦを吸
着保持しつつ、ベース部材４の載置面４１からフィルム
Ｆを搬出する（ステップＳ１９）。これにより、薄膜形
成装置の一連の処理動作が終了する。
【００２５】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、この発明は上記の実施の形態に限定されるも
のではない。上記の実施の形態では、ベース部材４の載
置面４１に同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４
２ｃ，４２ｄを形成したが、例えば、図５に示すよう
に、４つの吸着孔群４２ｅ，４２ｆ，４２ｇ，４２ｈを
同芯円状に設けてもよい。
てきたが、この発明は上記の実施の形態に限定されるも
のではない。上記の実施の形態では、ベース部材４の載
置面４１に同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４
２ｃ，４２ｄを形成したが、例えば、図５に示すよう
に、４つの吸着孔群４２ｅ，４２ｆ，４２ｇ，４２ｈを
同芯円状に設けてもよい。
【００２６】本発明の実施の形態によれば、以下のよう
な効果がある。まず、レジスト塗布ノズル６により表面
にレジストが供給されたフィルムＦをモータ２１の回転
によって回転させつつ、フィルムＦの裏面の外周側を吸
着孔４２ａ〜４２ｄに吸着した状態で、載置面４１に載
置されたフィルムＦの表面の外周側に塗布されたレジス
トを除去するように、洗浄液供給ノズル７がフィルムＦ
の表面の外周側に洗浄液を供給しているので、フィルム
Ｆの表面にレジストを均一に塗布でき、かつ薄膜形成装
置の汚染を抑制できる。
な効果がある。まず、レジスト塗布ノズル６により表面
にレジストが供給されたフィルムＦをモータ２１の回転
によって回転させつつ、フィルムＦの裏面の外周側を吸
着孔４２ａ〜４２ｄに吸着した状態で、載置面４１に載
置されたフィルムＦの表面の外周側に塗布されたレジス
トを除去するように、洗浄液供給ノズル７がフィルムＦ
の表面の外周側に洗浄液を供給しているので、フィルム
Ｆの表面にレジストを均一に塗布でき、かつ薄膜形成装
置の汚染を抑制できる。
【００２７】また、搬送機構８によってフィルムＦを搬
送する際に、フィルムＦの表面の外周側を搬送機構８の
吸着保持部８２ａ〜８５ａで吸着しつつ、載置面４１に
対するフィルムＦの搬出入を行うので、薄膜形成装置の
汚染をさらに効果的に抑制できる。特に、搬出時におい
ては、吸着保持部８２ａ〜８５ａは、レジストが除去さ
れたフィルムＦの表面の外周側を保持しているので、吸
着保持部８２ａ〜８５ａがレジストの薄膜Ｒを吸着して
剥がすという恐れもない。
送する際に、フィルムＦの表面の外周側を搬送機構８の
吸着保持部８２ａ〜８５ａで吸着しつつ、載置面４１に
対するフィルムＦの搬出入を行うので、薄膜形成装置の
汚染をさらに効果的に抑制できる。特に、搬出時におい
ては、吸着保持部８２ａ〜８５ａは、レジストが除去さ
れたフィルムＦの表面の外周側を保持しているので、吸
着保持部８２ａ〜８５ａがレジストの薄膜Ｒを吸着して
剥がすという恐れもない。
【００２８】さらに、図２に示すように、載置面４１の
外周側に、同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４
２ｃ，４２ｄが形成されたり、あるいは、図５に示すよ
うに、４つの吸着孔群４２ｅ，４２ｆ，４２ｇ，４２ｈ
を同芯円状に設ければ、載置面４１に対するフィルムＦ
のズレを確実に防止することができる。
外周側に、同芯円状の複数の吸着溝４２ａ，４２ｂ，４
２ｃ，４２ｄが形成されたり、あるいは、図５に示すよ
うに、４つの吸着孔群４２ｅ，４２ｆ，４２ｇ，４２ｈ
を同芯円状に設ければ、載置面４１に対するフィルムＦ
のズレを確実に防止することができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る薄膜
形成装置によれば、第１供給手段によって表面に塗布液
が供給されたシート部材を駆動手段によって回転させつ
つ、シート部材の裏面の外周側を吸着した状態で、載置
部に載置されたシート部材の表面の外周側に供給された
塗布液を除去するように、第２供給手段がシート部材の
表面の外周側に洗浄液を供給しているので、シート部材
の表面に塗布液を均一に塗布でき、かつ薄膜形成装置の
汚染を抑制できるという効果がある。
形成装置によれば、第１供給手段によって表面に塗布液
が供給されたシート部材を駆動手段によって回転させつ
つ、シート部材の裏面の外周側を吸着した状態で、載置
部に載置されたシート部材の表面の外周側に供給された
塗布液を除去するように、第２供給手段がシート部材の
表面の外周側に洗浄液を供給しているので、シート部材
の表面に塗布液を均一に塗布でき、かつ薄膜形成装置の
汚染を抑制できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る薄膜形成装置を示す概略構成図で
ある。
ある。
【図２】ベース部材の載置面を示す図である。
【図３】搬送機構の概略構成図である。
【図４】薄膜形成装置の処理動作を示すフローチャート
である。
である。
【図５】ベース部材の載置面の他の実施の形態を示す図
である。
である。
【図６】従来の薄膜形成装置を示す全体構成図である。
１ 回転軸 ２ 回転機構 ４ ベース部材 ５ 吸引機構 ６ レジスト塗布ノズル ７ 洗浄液供給ノズル ８ 搬送機構 １１ 連通管 ２１ モータ ４１ 載置面 ４２ａ 吸着溝 ４２ｂ 吸着溝 ４２ｃ 吸着溝 ４２ｄ 吸着溝 ４２ｅ 吸着孔群 ４２ｆ 吸着孔群 ４２ｇ 吸着孔群 ４２ｈ 吸着孔群 ８１ 支持部材 ８１ｃ 吸引管 ８２ アーム ８３ アーム ８４ アーム ８５ アーム ８２ａ 吸着保持部 ８３ａ 吸着保持部 ８４ａ 吸着保持部 ８５ａ 吸着保持部 ８２ｂ 吸着孔 ８３ｂ 吸着孔 ８４ｂ 吸着孔 ８４ｂ 吸着孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AB16 EA05 4F042 AA07 EB09 EB23 5F046 JA10 JA15 JA22
Claims (5)
- 【請求項１】シート部材の表面に塗布液を供給して、シ
ート部材の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置におい
て、 シート部材の面積と同等、またはシート部材の面積より
大きい載置面を有し、かつシート部材の裏面の外周側を
吸着する複数の吸着溝を有する載置部と、 シート部材を載置面に載置した状態の前記載置部を回転
させる駆動手段と、 前記載置面に載置されたシート部材の表面に塗布液を供
給する第１供給手段と、 前記第１供給手段によって表面に塗布液が供給されたシ
ート部材を前記駆動手段によって回転させた状態で、前
記載置面に載置されたシート部材の表面の外周側に供給
された塗布液を除去するように、シート部材の表面の外
周側に洗浄液を供給する第２供給手段と、を備えたこと
を特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項２】請求項１に記載の薄膜形成装置であって、 前記第２供給手段により塗布液を除去されたシート部材
の表面の外周側を吸着する吸着部を有し、前記吸着部で
シート部材の表面の外周側を吸着しつつ、前記載置面に
対するシート部材の搬出入を行う搬送手段をさらに備え
たことを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項３】請求項１または請求項２に記載の薄膜形成
装置において、 前記複数の吸着溝は、複数の環状溝であることを特徴で
ある薄膜形成装置。 - 【請求項４】請求項３に記載の薄膜形成装置であって、 前記複数の吸着溝は、前記載置面に同芯円状に形成され
た複数の吸着溝であることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項５】請求項１または請求項２に記載の薄膜形成
装置であって、 前記複数の吸着溝は、前記載置面に吸着孔を円形に配置
して吸着孔群を形成し、前記吸着孔群を同芯円状に形成
したことを特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35078399A JP2001168011A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35078399A JP2001168011A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001168011A true JP2001168011A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18412848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35078399A Abandoned JP2001168011A (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001168011A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012015247A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0379872U (ja) * | 1989-11-30 | 1991-08-15 | ||
| JPH05299332A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-12 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウェハのレジスト塗布方法及び吸着治具 |
| JPH07320999A (ja) * | 1993-03-25 | 1995-12-08 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法及びその装置 |
| JPH09162108A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-06-20 | Matsushita Electron Corp | 回転塗布装置 |
| JPH1154587A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-02-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JPH11204412A (ja) * | 1998-01-19 | 1999-07-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
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| JP2000228270A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-08-15 | Komatsu Ltd | 円盤状ヒータ及び温度制御装置 |
-
1999
- 1999-12-09 JP JP35078399A patent/JP2001168011A/ja not_active Abandoned
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040210 |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060124 |
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| A521 | Written amendment |
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