JP2001054746A - ガスノズル - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 吹出口からのガスの流速分布を均一にするこ
とができるガスノズルを提供する。 【解決手段】 箱型をなすノズル本体１１の一端面側に
当該ノズル本体１１内のヘッダ１１ｃにガス１を供給す
る管型の供給口１１ａを設け、ノズル本体１１の他端面
側に上記ヘッダ１１ｃからのガス１を吹き出すスリット
状の吹出口１１ｂを形成し、焼結金属やセラミックスな
どからなる多孔質体１２をノズル本体１１の内部の供給
口１１ａと吹出口１１ｂとの間に当該ノズル本体１１の
内部を供給口１１ａ側と吹出口１１ｂ側とに仕切るよう
にして設けてなる。
とができるガスノズルを提供する。 【解決手段】 箱型をなすノズル本体１１の一端面側に
当該ノズル本体１１内のヘッダ１１ｃにガス１を供給す
る管型の供給口１１ａを設け、ノズル本体１１の他端面
側に上記ヘッダ１１ｃからのガス１を吹き出すスリット
状の吹出口１１ｂを形成し、焼結金属やセラミックスな
どからなる多孔質体１２をノズル本体１１の内部の供給
口１１ａと吹出口１１ｂとの間に当該ノズル本体１１の
内部を供給口１１ａ側と吹出口１１ｂ側とに仕切るよう
にして設けてなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスノズルに関
し、特に、常圧ＣＶＤ装置でガスを導入する場合や、ガ
スを吹き付けて対象物を加熱または冷却する場合などに
適用すると有効なものである。
し、特に、常圧ＣＶＤ装置でガスを導入する場合や、ガ
スを吹き付けて対象物を加熱または冷却する場合などに
適用すると有効なものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体や絶縁体などの製造において、大
型の基板に薄膜を形成する場合には、低コストで連続的
に成膜することができる常圧ＣＶＤ装置が用いられてい
る。この常圧ＣＶＤ装置に用いられているガスノズル
は、例えば、図１２，１３に示すように、管型の供給口
２１１ａ，２２１ａおよびスリット状の吹出口２１１
ｂ，２２１ｂを有する箱型のノズル本体２１１，２２１
の内部に、小孔２１２ａ，２２２ａを多数形成した通気
部２１２，２２２が設けられている。
型の基板に薄膜を形成する場合には、低コストで連続的
に成膜することができる常圧ＣＶＤ装置が用いられてい
る。この常圧ＣＶＤ装置に用いられているガスノズル
は、例えば、図１２，１３に示すように、管型の供給口
２１１ａ，２２１ａおよびスリット状の吹出口２１１
ｂ，２２１ｂを有する箱型のノズル本体２１１，２２１
の内部に、小孔２１２ａ，２２２ａを多数形成した通気
部２１２，２２２が設けられている。
【０００３】このようなガスノズル２１０，２２０にお
いては、ノズル本体２１１，２２１の供給口２１１ａ，
２２１ａからヘッダ２１１ｃ，２２１ｃ内にガス１を供
給すると、当該ガス１がヘッダ２１１ｃ，２２１ｃから
通気部２１２，２２２の小孔２１２ａ，２２２ａを流通
し、流通方向（本体２１１，２２１の長手方向）での流
通量を均一化されるので、吹出口２１１ｂ，２２１ｂか
ら吹き出すガス１の吹出方向での量を均一化することが
できる。
いては、ノズル本体２１１，２２１の供給口２１１ａ，
２２１ａからヘッダ２１１ｃ，２２１ｃ内にガス１を供
給すると、当該ガス１がヘッダ２１１ｃ，２２１ｃから
通気部２１２，２２２の小孔２１２ａ，２２２ａを流通
し、流通方向（本体２１１，２２１の長手方向）での流
通量を均一化されるので、吹出口２１１ｂ，２２１ｂか
ら吹き出すガス１の吹出方向での量を均一化することが
できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たようなガスノズル２１０，２２０では、吹出口２１１
ｂ，２２１ｂの開口面に沿った方向（ガス１の吹出方向
と直交する方向）でのガス１の流速分布が均一にならな
いため、形成した膜の厚さにムラを生じてしまう場合が
あった。
たようなガスノズル２１０，２２０では、吹出口２１１
ｂ，２２１ｂの開口面に沿った方向（ガス１の吹出方向
と直交する方向）でのガス１の流速分布が均一にならな
いため、形成した膜の厚さにムラを生じてしまう場合が
あった。
【０００５】このようなことから、本発明は、吹出口か
らのガスの流速分布を均一にすることができるガスノズ
ルを提供することを目的とした。
らのガスの流速分布を均一にすることができるガスノズ
ルを提供することを目的とした。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ための、本発明によるガスノズルは、ガスを供給される
供給口と、前記供給口からの前記ガスを吹き出す吹出口
とを有するノズル本体を備えてなるガスノズルにおい
て、前記ノズル本体の内部の前記供給口と前記吹出口と
の間に前記ガスの圧力損失を増大させるガス流速調整手
段を設けたことを特徴とする。
ための、本発明によるガスノズルは、ガスを供給される
供給口と、前記供給口からの前記ガスを吹き出す吹出口
とを有するノズル本体を備えてなるガスノズルにおい
て、前記ノズル本体の内部の前記供給口と前記吹出口と
の間に前記ガスの圧力損失を増大させるガス流速調整手
段を設けたことを特徴とする。
【０００７】上述したガスノズルにおいて、前記ガス流
速調整手段が多孔質体であることを特徴とする。
速調整手段が多孔質体であることを特徴とする。
【０００８】上述したガスノズルにおいて、前記多孔質
体の孔径が２０〜２００μｍであり、当該多孔質体の空
隙率が３０〜５０％であることを特徴とする。
体の孔径が２０〜２００μｍであり、当該多孔質体の空
隙率が３０〜５０％であることを特徴とする。
【０００９】上述したガスノズルにおいて、前記ノズル
本体が複数隣接して設けられていることを特徴とする。
本体が複数隣接して設けられていることを特徴とする。
【００１０】上述したガスノズルにおいて、前記ノズル
本体が前記供給口を複数有していることを特徴とする。
本体が前記供給口を複数有していることを特徴とする。
【００１１】上述したガスノズルにおいて、前記吹出口
の開口面がスリット状をなしていることを特徴とする。
の開口面がスリット状をなしていることを特徴とする。
【００１２】上述したガスノズルにおいて、前記吹出口
が矩型または同一平面に沿って前記ガスを吹き付けでき
るように環状をなしていることを特徴とする。
が矩型または同一平面に沿って前記ガスを吹き付けでき
るように環状をなしていることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明によるガスノズルの実施の
形態を以下に説明するが、本発明は、以下の実施の形態
に限定されるものではない。
形態を以下に説明するが、本発明は、以下の実施の形態
に限定されるものではない。
【００１４】［第一番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第一番目の実施の形態を図１を用いて説明す
る。図１は、そのガスノズルの概略構成図である。
スノズルの第一番目の実施の形態を図１を用いて説明す
る。図１は、そのガスノズルの概略構成図である。
【００１５】図１に示すように、箱型をなすノズル本体
１１の一端面側には、当該ノズル本体１１内のヘッダ１
１ｃにガス１を供給する管型の供給口１１ａが設けられ
ている。このノズル本体１１の他端面側には、上記ヘッ
ダ１１ｃからのガス１を吹き出すスリット状の吹出口１
１ｂが形成されている。ノズル本体１１の内部の供給口
１１ａと吹出口１１ｂとの間には、焼結金属やセラミッ
クスなどからなるガス流速調整手段である多孔質体１２
が当該ノズル本体１１の内部を供給口１１ａ側と吹出口
１１ｂ側とに仕切るようにして設けられており、当該多
孔質体１２は、孔径が２０〜２００μｍ、空隙率が３０
〜５０％となっている。
１１の一端面側には、当該ノズル本体１１内のヘッダ１
１ｃにガス１を供給する管型の供給口１１ａが設けられ
ている。このノズル本体１１の他端面側には、上記ヘッ
ダ１１ｃからのガス１を吹き出すスリット状の吹出口１
１ｂが形成されている。ノズル本体１１の内部の供給口
１１ａと吹出口１１ｂとの間には、焼結金属やセラミッ
クスなどからなるガス流速調整手段である多孔質体１２
が当該ノズル本体１１の内部を供給口１１ａ側と吹出口
１１ｂ側とに仕切るようにして設けられており、当該多
孔質体１２は、孔径が２０〜２００μｍ、空隙率が３０
〜５０％となっている。
【００１６】このようなガスノズル１０においては、ノ
ズル本体１１の供給口１１ａからヘッダ１１ｃ内にガス
１を供給すると、当該ガス１が多孔質体１２内を通過し
た後に吹出口１１ｂから吹き出すようになる。ここで、
ガス１が多孔質体１２を通過する際、圧力損失が大きい
ため、ガス１が多孔質体１２を通過する前にノズル本体
１１のヘッダ１１ｃ内で吹出口１１ｂの開口面に沿って
均一に分散するようになる。このため、ガス１は、多孔
質体１２を通過した後の吹出口１１ｂから吹き出す流速
分布が均一に揃うようになる。
ズル本体１１の供給口１１ａからヘッダ１１ｃ内にガス
１を供給すると、当該ガス１が多孔質体１２内を通過し
た後に吹出口１１ｂから吹き出すようになる。ここで、
ガス１が多孔質体１２を通過する際、圧力損失が大きい
ため、ガス１が多孔質体１２を通過する前にノズル本体
１１のヘッダ１１ｃ内で吹出口１１ｂの開口面に沿って
均一に分散するようになる。このため、ガス１は、多孔
質体１２を通過した後の吹出口１１ｂから吹き出す流速
分布が均一に揃うようになる。
【００１７】よって、例えば、図２に示すように、ヘッ
ダ１１ｃの吹出口１１ｂの長手方向一端側に供給口２１
ａを設けたノズル本体１１を備えたガスノズル２０であ
っても、上記ガスノズル１０の場合と同様に、ガス１が
多孔質体１２を通過する前にノズル本体１１のヘッダ１
１ｃ内で吹出口１１ｂの開口面に沿って均一に分散する
ようになるので、多孔質体１２を通過した後の吹出口１
１ｂから吹き出すガス１の流速分布を均一に揃えること
ができる。
ダ１１ｃの吹出口１１ｂの長手方向一端側に供給口２１
ａを設けたノズル本体１１を備えたガスノズル２０であ
っても、上記ガスノズル１０の場合と同様に、ガス１が
多孔質体１２を通過する前にノズル本体１１のヘッダ１
１ｃ内で吹出口１１ｂの開口面に沿って均一に分散する
ようになるので、多孔質体１２を通過した後の吹出口１
１ｂから吹き出すガス１の流速分布を均一に揃えること
ができる。
【００１８】ここで、上記作用を図３を用いてさらに詳
しく説明する。図３は、作用説明図である。
しく説明する。図３は、作用説明図である。
【００１９】ノズル本体１１内のヘッダ１１ｃに供給口
２１ａから供給されたガス１の動圧ｑｔ2 は、下記の式
（１）で表され、当該ガス１の多孔質体１２での圧力損
失ΔＰ3 は、下記の式（２）で表される。
２１ａから供給されたガス１の動圧ｑｔ2 は、下記の式
（１）で表され、当該ガス１の多孔質体１２での圧力損
失ΔＰ3 は、下記の式（２）で表される。
【００２０】 qt2 ＝ (γ/2g)・(Q/A2)2 （１） ΔP3＝ξ(L3/Ｄp ）・｛γ(V3)2/2g｝ （２） ただし、qt2 ＝ヘッダでの動圧(mmAq) γ ＝ガスの比重量(kg/m3) ｇ ＝重力加速度(9.8m/s2) Ｑ ＝ガスの流量(m3/s) Ａ2 ＝ヘッダの断面積(m2) ΔP3＝多孔質体での圧力損失(mmAq) Ｌ3 ＝多孔質体の厚さ（ｍ） Ｄp ＝多孔質体の球相当径（ｍ） Ｖ3 ＝多孔質体でのガス流速(m/s) ＝Q/A3 Ａ3 ＝多孔質体の断面積(m2) ξ ＝｛300(1-ε)2｝／｛( Ｄp V3／νv ) ε3 ｝ ε ＝空隙率 νv ＝動粘性係数(m2/s)
【００２１】ここで、例えば、ヘッダ１１ｃを、長さ
０．５ｍ、幅０．０４ｍ、高さ０．０２ｍとし、多孔質
体１２を、長さ０．５ｍ、幅０．０２ｍ、厚さ０．０１
ｍ、球相当径（Ｄp ）１．７×１０-4ｍ、空隙率（ε）
０．４とし、ガス１として空気を毎分１２０リットルの
流量で供給口２１ａから導入した場合、上記動圧ｑｔ2
および圧力損失ΔＰ3 は、次の値となる。ただし、ガス
の比重量（γ）は１．２ｋｇ／ｍ3 とし、動粘性係数
（νv ）は２．３８×１０-5ｍ2 ／ｓとする。
０．５ｍ、幅０．０４ｍ、高さ０．０２ｍとし、多孔質
体１２を、長さ０．５ｍ、幅０．０２ｍ、厚さ０．０１
ｍ、球相当径（Ｄp ）１．７×１０-4ｍ、空隙率（ε）
０．４とし、ガス１として空気を毎分１２０リットルの
流量で供給口２１ａから導入した場合、上記動圧ｑｔ2
および圧力損失ΔＰ3 は、次の値となる。ただし、ガス
の比重量（γ）は１．２ｋｇ／ｍ3 とし、動粘性係数
（νv ）は２．３８×１０-5ｍ2 ／ｓとする。
【００２２】 qt2 ＝｛1.2/(2×9.8)｝・｛ 2×10-3/(0.02×0.04) ｝2 ＝0.38mmAq Ｖ3 ＝(2×10-3) ／(0.5×0.02) ＝0.2m/s ξ ＝｛300(1-0.4)2 ｝／｛(1.7×10-4×0.2/2.38×10-5) ×(0.4)3｝ ＝1.18×103 ΔP3＝1.18×103 ×(0.01/1.7 ×10-4) ・｛1.2 ×(0.2)2｝／(2×9.8) ＝170mmAq
【００２３】よって、ヘッダ１１ａ内での動圧ｑｔ2 が
多孔質体１２での圧力損失ΔＰ3 よりもはるかに小さ
く、多孔質体１２の出側で両側に生じる速度分布差が最
大でも（０．３８／１７０）×１００＝０．２％となる
ので、当該速度分布差を従来の限界値（１０％程度）よ
りも極めて小さくすることができ、問題を生じることの
ない均一な値（１％以下）にまで抑制することができ
る。
多孔質体１２での圧力損失ΔＰ3 よりもはるかに小さ
く、多孔質体１２の出側で両側に生じる速度分布差が最
大でも（０．３８／１７０）×１００＝０．２％となる
ので、当該速度分布差を従来の限界値（１０％程度）よ
りも極めて小さくすることができ、問題を生じることの
ない均一な値（１％以下）にまで抑制することができ
る。
【００２４】したがって、前述したような多孔質体１２
を設けたガスノズル１０，２０においては、吹出口１１
ｂからのガス１の流速分布を均一にすることができると
共に、供給口１１ａ，２１ａの位置を各種条件等に応じ
て自由に設定することができる。
を設けたガスノズル１０，２０においては、吹出口１１
ｂからのガス１の流速分布を均一にすることができると
共に、供給口１１ａ，２１ａの位置を各種条件等に応じ
て自由に設定することができる。
【００２５】また、ガスノズル１０，２０の寸法や、必
要とする吹き出し流速および吹き出し流速分布等に応じ
て、前述したように圧力損失計算を行い、多孔質体１２
の孔径を２０〜２００μｍの範囲とし、多孔質体１２の
空隙率を３０〜５０％の範囲とし、これら範囲内から適
切な値を選択することにより、吹出口１１ｂから吹き出
すガス１の流速分布の均一化を実現することができる。
よって、多孔質体の孔径および空隙率を上記範囲内から
適正に選択すれば、実用的なガスノズルの寸法や、吹き
出し流速および吹き出し流速分布に対応することができ
るので、上述した効果を確実に得ることができる。
要とする吹き出し流速および吹き出し流速分布等に応じ
て、前述したように圧力損失計算を行い、多孔質体１２
の孔径を２０〜２００μｍの範囲とし、多孔質体１２の
空隙率を３０〜５０％の範囲とし、これら範囲内から適
切な値を選択することにより、吹出口１１ｂから吹き出
すガス１の流速分布の均一化を実現することができる。
よって、多孔質体の孔径および空隙率を上記範囲内から
適正に選択すれば、実用的なガスノズルの寸法や、吹き
出し流速および吹き出し流速分布に対応することができ
るので、上述した効果を確実に得ることができる。
【００２６】［第二番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第二番目の実施の形態を図４を用いて説明す
る。図１は、そのガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第二番目の実施の形態を図４を用いて説明す
る。図１は、そのガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
【００２７】図４に示すように、本実施の形態のガスノ
ズル３０は、ノズル本体１１の吹出口１１ｂ部分に多孔
質体３２を設けたものである。
ズル３０は、ノズル本体１１の吹出口１１ｂ部分に多孔
質体３２を設けたものである。
【００２８】したがって、このようなガスノズル３０に
おいては、前述した実施の形態の場合と同様に作用し
て、前述した実施の形態の場合と同様な効果を得ること
ができる。
おいては、前述した実施の形態の場合と同様に作用し
て、前述した実施の形態の場合と同様な効果を得ること
ができる。
【００２９】［第三番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第三番目の実施の形態を図５を用いて説明す
る。図５は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第三番目の実施の形態を図５を用いて説明す
る。図５は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
【００３０】図５に示すように、本実施の形態のガスノ
ズル４０は、二つのノズル本体４１を隣接させたもので
ある。
ズル４０は、二つのノズル本体４１を隣接させたもので
ある。
【００３１】このようなガスノズル４０においては、前
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態の場合と同様な効果を得ることができるのはも
ちろんのこと、異なるガス１ａ，１ｂを各供給口１１ａ
にそれぞれ供給することにより、各吹出口１１ｂから各
ガス１ａ，１ｂを基板等の対象物に対して一括して吹き
付けることができる。
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態の場合と同様な効果を得ることができるのはも
ちろんのこと、異なるガス１ａ，１ｂを各供給口１１ａ
にそれぞれ供給することにより、各吹出口１１ｂから各
ガス１ａ，１ｂを基板等の対象物に対して一括して吹き
付けることができる。
【００３２】なお、本実施の形態では、二つのノズル本
体４１を隣接させたが、例えば、図６に示すように、三
つのノズル本体５１を隣接させてガスノズル５０を構成
すれば、異なる三つのガス１ａ〜１ｃを各供給口１１ａ
にそれぞれ供給することにより、各吹出口１１ｂから各
ガス１ａ〜１ｃを基板等の対象物に対して一括して吹き
付けることができるのはもちろんのこと、四つ以上のノ
ズル本体を隣接させれば、四つ以上のガスを一括して吹
き付けることが可能である。
体４１を隣接させたが、例えば、図６に示すように、三
つのノズル本体５１を隣接させてガスノズル５０を構成
すれば、異なる三つのガス１ａ〜１ｃを各供給口１１ａ
にそれぞれ供給することにより、各吹出口１１ｂから各
ガス１ａ〜１ｃを基板等の対象物に対して一括して吹き
付けることができるのはもちろんのこと、四つ以上のノ
ズル本体を隣接させれば、四つ以上のガスを一括して吹
き付けることが可能である。
【００３３】また、図７に示すように、各ノズル本体４
１のヘッダ１１ｃの吹出口１１ｂの長手方向一端側に供
給口２１ａを設けてガスノズル６０を構成すれば、上述
と同様な効果を得ることができる。
１のヘッダ１１ｃの吹出口１１ｂの長手方向一端側に供
給口２１ａを設けてガスノズル６０を構成すれば、上述
と同様な効果を得ることができる。
【００３４】［第四番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第四番目の実施の形態を図８を用いて説明す
る。図８は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第四番目の実施の形態を図８を用いて説明す
る。図８は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
【００３５】図８に示すように、本実施の形態のガスノ
ズル７０は、ヘッダ１１ａと同様な形状をなすような広
口の吹出口７１ｂを有するノズル本体１１を備えたもの
である。
ズル７０は、ヘッダ１１ａと同様な形状をなすような広
口の吹出口７１ｂを有するノズル本体１１を備えたもの
である。
【００３６】このようなガスノズル７０においては、前
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、吹出口７１ｂがヘッダ１１ａと同様な形状をな
すような広口であるので、当該吹出口７１ｂから吹き出
すガス１の流速を遅くすることができる。
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、吹出口７１ｂがヘッダ１１ａと同様な形状をな
すような広口であるので、当該吹出口７１ｂから吹き出
すガス１の流速を遅くすることができる。
【００３７】［第五番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第五番目の実施の形態を図９を用いて説明す
る。図９は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第五番目の実施の形態を図９を用いて説明す
る。図９は、ガスノズルの概略構成図である。ただし、
前述した実施の形態の場合と同様な部材については、前
述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符号を用
いることにより、その説明を省略する。
【００３８】図９に示すように、本実施の形態のガスノ
ズル８０は、二股に分岐した管型の供給口８１ａをノズ
ル本体１１のヘッダ１１ｃに設けたものである。
ズル８０は、二股に分岐した管型の供給口８１ａをノズ
ル本体１１のヘッダ１１ｃに設けたものである。
【００３９】このようなガスノズル８０においては、前
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、供給口８１ａから供給されたガス１が二方向に
分流してノズル本体１１内のヘッダ１１ａに流入するよ
うになることから、供給口８１ａに供給した際のガス１
の流速に対して、ノズル本体１１内のヘッダ１１ｃに流
入するガス１の流速を１／２にすることができるので、
前述した各ガスノズルの場合よりも、ヘッダ１１ｃ内の
ガス１の動圧をさらに下げることができ、吹出口１１ｂ
から吹き出すガス１の流速分布の均一性をさらに向上さ
せることができる。
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、供給口８１ａから供給されたガス１が二方向に
分流してノズル本体１１内のヘッダ１１ａに流入するよ
うになることから、供給口８１ａに供給した際のガス１
の流速に対して、ノズル本体１１内のヘッダ１１ｃに流
入するガス１の流速を１／２にすることができるので、
前述した各ガスノズルの場合よりも、ヘッダ１１ｃ内の
ガス１の動圧をさらに下げることができ、吹出口１１ｂ
から吹き出すガス１の流速分布の均一性をさらに向上さ
せることができる。
【００４０】［第六番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第六番目の実施の形態を図１０を用いて説明
する。図１０は、ガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第六番目の実施の形態を図１０を用いて説明
する。図１０は、ガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
【００４１】図１０に示すように、本実施の形態のガス
ノズル９０は、矩型をなすノズル本体９１を用いたもの
である。
ノズル９０は、矩型をなすノズル本体９１を用いたもの
である。
【００４２】このようなガスノズル９０においては、前
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、ガス１を矩型に吹き出すことができるので、矩
型をなす対象物に対して容易にガス１を吹き付けること
ができる。
述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述した実
施の形態と同様な効果を得ることができるのはもちろん
のこと、ガス１を矩型に吹き出すことができるので、矩
型をなす対象物に対して容易にガス１を吹き付けること
ができる。
【００４３】［第七番目の実施の形態］本発明によるガ
スノズルの第七番目の実施の形態を図１１を用いて説明
する。図１１は、ガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
スノズルの第七番目の実施の形態を図１１を用いて説明
する。図１１は、ガスノズルの概略構成図である。ただ
し、前述した実施の形態の場合と同様な部材について
は、前述した実施の形態の説明で用いた符号と同様な符
号を用いることにより、その説明を省略する。
【００４４】図１１に示すように、本実施の形態のガス
ノズル１００は、吹出口１０１ｂを内側に向けて環状を
なすノズル本体１０１を用いたものである。
ノズル１００は、吹出口１０１ｂを内側に向けて環状を
なすノズル本体１０１を用いたものである。
【００４５】このようなガスノズル１００をにおいて
は、前述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述
した実施の形態と同様な効果を得ることができるのはも
ちろんのこと、円柱型をなす対象物に対して容易にガス
１を吹き付けることができる。
は、前述した実施の形態の場合と同様に作用して、前述
した実施の形態と同様な効果を得ることができるのはも
ちろんのこと、円柱型をなす対象物に対して容易にガス
１を吹き付けることができる。
【００４６】
【発明の効果】本発明によるガスノズルは、ガスを供給
される供給口と、前記供給口からの前記ガスを吹き出す
吹出口とを有するノズル本体を備えてなるガスノズルに
おいて、前記ノズル本体の内部の前記供給口と前記吹出
口との間に前記ガスの圧力損失を増大させるガス流速調
整手段を設けたことから、供給口からノズル本体内にガ
スを供給すると、ガス流速調整手段により上記ガスの圧
力損失が増大し、ノズル本体内でガスが吹出口の開口面
に沿って均一に分散するようになるので、吹出口から吹
き出すガスの流速分布を均一に揃えることができる。
される供給口と、前記供給口からの前記ガスを吹き出す
吹出口とを有するノズル本体を備えてなるガスノズルに
おいて、前記ノズル本体の内部の前記供給口と前記吹出
口との間に前記ガスの圧力損失を増大させるガス流速調
整手段を設けたことから、供給口からノズル本体内にガ
スを供給すると、ガス流速調整手段により上記ガスの圧
力損失が増大し、ノズル本体内でガスが吹出口の開口面
に沿って均一に分散するようになるので、吹出口から吹
き出すガスの流速分布を均一に揃えることができる。
【００４７】また、前記ガス流速調整手段が多孔質体で
あるので、上述した効果を簡単に得ることができる。
あるので、上述した効果を簡単に得ることができる。
【００４８】また、ガスノズルの寸法や、必要とする吹
き出し流速および吹き出し流速分布等に応じて、前述し
たように圧力損失計算を行い、多孔質体の孔径を２０〜
２００μｍの範囲とし、多孔質体の空隙率を３０〜５０
％の範囲とし、これら範囲内から適切な値を選択するこ
とにより、吹出口から吹き出すガスの流速分布の均一化
を実現することができる。よって、多孔質体の孔径およ
び空隙率を上記範囲内から適正に選択すれば、実用的な
ガスノズルの寸法や、吹き出し流速および吹き出し流速
分布に対応することができるので、上述した効果を確実
に得ることができる。
き出し流速および吹き出し流速分布等に応じて、前述し
たように圧力損失計算を行い、多孔質体の孔径を２０〜
２００μｍの範囲とし、多孔質体の空隙率を３０〜５０
％の範囲とし、これら範囲内から適切な値を選択するこ
とにより、吹出口から吹き出すガスの流速分布の均一化
を実現することができる。よって、多孔質体の孔径およ
び空隙率を上記範囲内から適正に選択すれば、実用的な
ガスノズルの寸法や、吹き出し流速および吹き出し流速
分布に対応することができるので、上述した効果を確実
に得ることができる。
【００４９】また、前記ノズル本体を複数隣接して設け
れば、異なるガスを各供給口にそれぞれ供給することに
より、各吹出口から各ガス対象物等に対して一括して吹
き付けることができる。
れば、異なるガスを各供給口にそれぞれ供給することに
より、各吹出口から各ガス対象物等に対して一括して吹
き付けることができる。
【００５０】また、前記ノズル本体が前記供給口を複数
有していれば、ガスをノズル本体内に複数に分流して供
給することができるので、ノズル本体内に流入するガス
の流速を低減することができ、ノズル本体内のガスの動
圧をさらに下げて、吹出口から吹き出すガスの流速分布
の均一性をさらに向上させることができる。
有していれば、ガスをノズル本体内に複数に分流して供
給することができるので、ノズル本体内に流入するガス
の流速を低減することができ、ノズル本体内のガスの動
圧をさらに下げて、吹出口から吹き出すガスの流速分布
の均一性をさらに向上させることができる。
【００５１】また、前記吹出口の開口面がスリット状を
なしていれば、吹出口から吹き出すガスの流速を高める
ことができる。
なしていれば、吹出口から吹き出すガスの流速を高める
ことができる。
【００５２】また、前記吹出口が矩型または同一平面に
沿って前記ガスを吹き付けできるように環状をなしてい
れば、矩型や円柱型の対象物に対してガスを効率よく吹
き付けることができる。
沿って前記ガスを吹き付けできるように環状をなしてい
れば、矩型や円柱型の対象物に対してガスを効率よく吹
き付けることができる。
【図１】本発明によるガスノズルの第一番目の実施の形
態の概略構成図である。
態の概略構成図である。
【図２】本発明によるガスノズルの第一番目の実施の形
態の他の例の概略構成図である。
態の他の例の概略構成図である。
【図３】図２のガスノズルの作用説明図である。
【図４】本発明によるガスノズルの第二番目の実施の形
態の概略構成図である。
態の概略構成図である。
【図５】本発明によるガスノズルの第三番目の実施の形
態の概略構成図である。
態の概略構成図である。
【図６】本発明によるガスノズルの第三番目の実施の形
態の他の例の概略構成図である。
態の他の例の概略構成図である。
【図７】本発明によるガスノズルの第三番目の実施の形
態の他の例の概略構成図である。
態の他の例の概略構成図である。
【図８】本発明によるガスノズルの第四番目の実施の形
態の概略構成図である。
態の概略構成図である。
【図９】本発明によるガスノズルの第五番目の実施の形
態の概略構成図である。
態の概略構成図である。
【図１０】本発明によるガスノズルの第六番目の実施の
形態の概略構成図である。
形態の概略構成図である。
【図１１】本発明によるガスノズルの第七番目の実施の
形態の概略構成図である。
形態の概略構成図である。
【図１２】従来のガスノズルの一例の概略構成図であ
る。
る。
【図１３】従来のガスノズルの他の例の概略構成図であ
る。
る。
１，１ａ，１ｂ，１ｃ ガス １０，２０，３０，４０，５０，６０，７０，８０，９
０，１００ ガスノズル １１，４１，５１，９１，１０１ ノズル本体 １１ａ，２１ａ，８１ａ，９１ａ，１０１ａ 供給口 １１ｂ，７１ｂ，９１ｂ，１０１ｂ 吹出口 １１ｃ，９１ｃ，１０１ｃ ヘッダ １２，３２，９２，１０２ 多孔質体
０，１００ ガスノズル １１，４１，５１，９１，１０１ ノズル本体 １１ａ，２１ａ，８１ａ，９１ａ，１０１ａ 供給口 １１ｂ，７１ｂ，９１ｂ，１０１ｂ 吹出口 １１ｃ，９１ｃ，１０１ｃ ヘッダ １２，３２，９２，１０２ 多孔質体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 明 長崎県長崎市深堀町５丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 小阪 健一郎 長崎県長崎市深堀町５丁目717番１号 三 菱重工業株式会社長崎研究所内 Ｆターム(参考） 4F033 AA14 BA01 CA05 DA01 EA01 GA10 HA01 HA05 NA01 4K030 EA04 EA05 5F045 EE20 EF01 EF02 EF04 EF05 EF11
Claims (7)
- 【請求項１】 ガスを供給される供給口と、前記供給口
からの前記ガスを吹き出す吹出口とを有するノズル本体
を備えてなるガスノズルにおいて、前記ノズル本体の内
部の前記供給口と前記吹出口との間に前記ガスの圧力損
失を増大させるガス流速調整手段を設けたことを特徴と
するガスノズル。 - 【請求項２】 前記ガス流速調整手段が多孔質体である
ことを特徴とする請求項１に記載のガスノズル。 - 【請求項３】 前記多孔質体の孔径が２０〜２００μｍ
であり、当該多孔質体の空隙率が３０〜５０％であるこ
とを特徴とする請求項１または２に記載のガスノズル。 - 【請求項４】 前記ノズル本体が複数隣接して設けられ
ていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
載のガスノズル。 - 【請求項５】 前記ノズル本体が前記供給口を複数有し
ていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記
載のガスノズル。 - 【請求項６】 前記吹出口の開口面がスリット状をなし
ていることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記
載のガスノズル。 - 【請求項７】 前記吹出口が矩型または同一平面に沿っ
て前記ガスを吹き付けできるように環状をなしているこ
とを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のガス
ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233545A JP2001054746A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | ガスノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11233545A JP2001054746A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | ガスノズル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001054746A true JP2001054746A (ja) | 2001-02-27 |
Family
ID=16956748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11233545A Withdrawn JP2001054746A (ja) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | ガスノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001054746A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002343723A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | 半導体製造装置及び化合物半導体の製造方法 |
| JP2005256084A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Jfe Steel Kk | 化学蒸着処理の原料ガス供給用ノズル |
| JP2007129009A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Osaka Univ | エピタキシャルＳｉ膜の製造方法およびプラズマ処理装置 |
| US7268323B2 (en) | 2003-03-04 | 2007-09-11 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Heat treating apparatus and heat treating method for sheet-like article |
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| JP2008270839A (ja) * | 2008-07-24 | 2008-11-06 | Tadahiro Omi | プラズマ処理装置 |
| JP2009032332A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | ヘッド・ジンバル・アセンブリの製造方法及びヘッド・ジンバル・アセンブリの製造装置 |
| WO2010073666A1 (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-01 | キヤノンアネルバ株式会社 | ガス供給装置、真空処理装置及び電子デバイスの製造方法 |
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| KR20150129578A (ko) * | 2014-05-12 | 2015-11-20 | (주)솔라세라믹 | 스프레이 열 분해용 노즐 및 이를 포함하는 박막 형성 장치 |
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| CN114231948A (zh) * | 2021-12-22 | 2022-03-25 | 南京原磊纳米材料有限公司 | 一种用于ald设备的喷射装置 |
-
1999
- 1999-08-20 JP JP11233545A patent/JP2001054746A/ja not_active Withdrawn
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| DE102006043542B4 (de) * | 2006-09-12 | 2012-05-16 | Innovent E.V. | Verfahren zum Beschichten von Oberflächen |
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