CN115220306A - 气浴装置及光刻机 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种气浴装置和光刻机,通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板,以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配,以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置,从而可以调整气流的流体直径和方向,有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时,通过设置导流板,以延伸气流通道,并进一步的避免涡旋的产生。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种气浴装置装置及光刻机。
背景技术
温度控制技术是应用于超精密设备内部的环境控制技术的重点,对于温度敏感区域,通常采用恒温冷却液或恒温空气喷淋(气浴),来实现该区域高精度的温度等环境参数的控制,以避免外部环境或装备本身其他部分导致的温度等其他参数波动的影响。
光刻机是一种高精密设备,其内部环境洁净度和部件的温度对光刻精度影响较大。目前气浴是抑制污染、温度控制的主要手段之一。具体的,气浴装置通过向工件台、掩模台、硅片传输装置等关键区域及部件输送恒温恒压的气流,达到控制空间及部件颗粒度、温度的目的。而现有的气浴装置会导致出现涡旋,出风不均等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种气浴装置及光刻机,以解决现有技术中镜气浴装置及光刻机中存在涡旋且出风不均等问题。
为解决上述问题,本发明提供一种气浴装置,所述气浴装置包括:
本体,所述本体内具有气浴腔,所述本体上还具有至少一进气口和至少一出气口,所述出气口设在所述本体的底部,所述进气口和所述出气口连通所述气浴腔;
至少一分流板,所述分流板设置在所述气浴腔内,其中,至少一个所述分流板对应一个所述进气口设置,所述分流板远离所述进气口的端部弯折设置,且朝向远离所述进气口的方向延伸,以将由所述进气口流入的气流进行分流至至少两个气流通道中,所述气流经所述气流通道分流后从所述出气口流出;
至少一导流板,所述导流板位于所述出气口上方,并与所述分流板远离所述进气口的端部固定连接,且朝向远离所述进气口的方向延伸,以延伸所述气流通道。
可选的,所述分流板的弯折处的形状为非直角形。
可选的,所述分流板的弯折处的形状为圆弧形,其中,所述圆弧形的弧线对应的圆心角的角度为30°~90°。
可选的,所述分流板包括依次连接的第一隔板和弯折板,所述第一隔板靠近所述进风口设置,所述弯折板与所述第一隔板远离所述进气口的端部固定连接。
可选的,所述导流板包括第二隔板,所述第二隔板与所述弯折板远离所述进气口的一端固定连接,并朝向远离所述进气口方向延伸,以及所述第二隔板的长度大于所述第一隔板的长度。
可选的,所述导流板还包括至少一个第三隔板,所述第三隔板排布在所述第二隔板的延伸方向上,并与所述第二隔板间隔设置。
可选的,所述第三隔板与所述第二隔板之间的间隔距离大于所述第二隔板的长度。
可选的,所述第三隔板至少为两个,至少两个所述第三隔板间隔设置。
可选的,相邻所述第三隔板之间的间隔距离与所述第三隔板和所述第二隔板之间的间隔距离相等。
可选的,所述分流板和所述导流板分别至少为两个,至少两个所述分流板依次间隔设置,且至少两个所述导流板依次间隔设置。
可选的,相邻两个所述导流板之间的间隔距离相等,且相邻两个所述分流板之间的间隔距离相等。
可选的,所述本体包括底板、形成在所述底板上的侧壁以及盖设在所述侧壁上的顶板,所述底板、所述侧壁以及所述顶板围设形成所述气浴腔,所述进气口形成在所述侧壁上,所述出气口形成在所述底板上,且至少位于所述导流板下方。
可选的,所述出气口包括多个,多个所述出气口间隔设置,且相邻所述出气口之间的间隔距离相等。
为解决上述问题,本发明还提供一种光刻机,包括如上述任意一项所述的气浴装置。
本发明提供的一种气浴装置中,通过在气浴装置的本体内设置对应进气口设置且朝向远离进气口方向延伸的分流板,以使得从进气口流入的气流能够经气流通道重新分配,以均匀的从出气口流出。而分流板远离进气口弯折设置,从而可以调整气流的流体直径和方向,有效防止了流经气流通道内的气流产生涡旋。同时,通过设置导流板,以延伸气流通道,并进一步的避免涡旋的产生。
附图说明
图1是本发明一实施例的气浴装置的一种结构示意图;
图2是本发明一实施例的气浴装置中的导流板的结构示意图;
图3是本发明一实施例的气浴装置的另一种结构示意图;
附图标记如下:
1-本体;
11-底板; 12-侧壁;
2-分流板;
21-第一隔板; 22-弯折板;
3-导流板;
31-第二隔板; 32-第三隔板;
4-进气管;
100-气浴腔; 101-气流通道;
201-进气口; 202-出气口。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的气浴装置和光刻机作进一步详细说明。根据下面说明,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。此外,附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的,各附图需要展示的侧重点不同,有时会采用不同的比例。
图1是本发明一实施例的气浴装置的结构示意图。图2是本发明一实施例的气浴装置中的分流板的结构示意图。如图1和图2所示,本实施例的所述气浴装置包括:本体1及设置在本体1中的至少一个分流板2和至少一个导流板3。
其中,所述本体1内具有气浴腔100,所述本体1上还具有至少一进气口201和至少一出气口202,所述出气口202设置在所述本体1的底部,所述进气口201和所述出气口202连通所述气浴腔100。
以及,所述分流板2设置在所述气浴腔100内,其中,至少一个所述分流板2对应一个所述进气口201设置,所述分流板2远离所述进气口201的端部弯折设置,且朝向远离搜索进气口201的方向延伸,以将由所述进气口201流入的气流进行分流至至少两个所述气流通道101中,所述气流经所述气流通道101分流后从所述出气口202流出。
所述导流板3位于所述出气口202上方,并与所述分流板2远离所述进气口201的端部固定连接,且朝向远离所述进气口201的方向延伸,以延伸所述气流通道101。
在本实施例中,通过在气浴装置的本体1内设置对应所述进气口201设置且朝向远离所述进气口201方向延伸的分流板2,以使得从所述进气口201流入的所述气流能够经所述气流通道101重新分配,以均匀的从所述出气口202流出。而所述分流板2远离所述进气口201弯折设置,从而可以调整气流的流体直径和方向,有效防止了流经气流通道101内的气流产生涡旋。同时,通过设置导流板3,以延伸所述气流通道101,并进一步的避免涡旋的产生。
继续参图1所示,本实施例中,所述本体1包括:底板11、形成在所述底板11上的侧壁12以及盖设在所述侧壁12上的顶板(图中未示出),所述底板11、所述侧壁12和所述顶板围设形成所述气浴腔100。所述底板11、所述侧壁12以及所述顶板的形状为矩形,所述侧壁12的数量为4个,4个所述侧壁12、所述底板11以及所述顶板围设形成所述气浴腔100,所述气浴腔100为矩形腔。
继续参图1所示,所述气浴装置还包括形成在所述本体1上的进气管4。所述进气管4固定在所述侧壁12上,并与形成在所述侧壁12上的所述进气口201导通,所述出气口202形成在所述底板11上,且所述出气口202至少部分位于所述导流板3下方,以使所述气流从所述本体1下方流出。可选的,所述出气口202可以仅部分位于所述导流板3下方,所述底板11也可以整面均设置有所述出气口202。以及,在本实施例中,所述进气口201的形状为圆形、矩形或三角形等形状,所述出气口202为一个,所述出气口202的形状为矩形,流经所有所述气流通道101的气流从一个所述出气口202流出。
当然,其他实施例中,所述出气口202也可以为多个,且相邻所述出气口202之间的间隔距离相等。所述出气口202的形状可以为圆形、矩形、三角形等。
进一步的,继续参图1所示,在本实施例中,所述分流板2至少有两个,至少两个所述分流板2依次间隔设置。且相邻两个所述分流板2之间的间隔距离相等。如此,即可使每个气流通道101内的气流流量以及直径相等,以进一步使整个气浴腔100内的气流均匀化。
以及,每个所述进气口201至少对应设置一个所述分流板2。例如,在本实施例中,所述侧壁12上设有两个进气口201,则可对应设置3个分流板2,进而可形成5个气流通道101。其中,每个所述进气口201对应设置一个所述分流板2,所述进气口201对应设置的所述分流板2位于所述进气口201中间位置。另一所述分流板2位于相邻两个所述进气口201之间。如此一来,三个所述分流板2和侧壁12形成四个气流通道101。
继续参图1和图2所示,本实施例的所述分流板2端部的弯折处的形状为非直角形。所述分流板2的弯折处的形状例如可以为圆弧形、波浪形或所述弯折处具有夹角,该夹角的角度不为90°即可。而当所述分流板2的弯折处的形状圆滑时,所述分流板2的弯折处对气流的流体直径和方向的调整效果较佳,而避免产生涡旋。此外,当所述分流板2的弯折处为圆弧形时,所述分流板2对气流的流体直径和方向的调整效果最佳。以及,当所述分流板2的弯折处的形状为圆弧形时,所述圆弧形的弧线对应的圆心角的角度为30°~90°。
进一步的,在本实施例中,所有分流板2的弯折部分的弯折方向相同。如此,以使所有所述气流通道对应于所述导流板弯折处的部分,其直径不会差距较大,进而进一步的提升所述气流的均匀性。
此外,所述分流板2的圆弧形的弧线对应的直径,可以根据所述分流板2对应的所述进气口201的位置,以及所述分流板2朝向所述出气口202延伸的部分的位置确定。例如,本实施例中,所述分流板2靠近所述进气口201的点确定为第一点,沿垂直于设有所述进气口201的所述侧壁12方向上的1/4位置处取一点确定为第二点。先假设所述分流板2为一圆弧形分流板2,则该两点可确定圆弧形弯折部分的直径和圆心。之后再根据实际情况,确定圆弧形弯折板22的弧线长度,以及其对应的圆心角。其中,所述弧线长度和圆心角的具体值在此不做具体限定,以实际情况为准。
继续参图1和图2所示,在本实施例中,所述分流板2包括依次连接的第一隔板21,弯折板22。所述第一隔板21靠近所述进风口201设置,所述弯折板22与所述第一隔板21远离所述进风口201的一端固定连接。
进一步的,继续参图1和图2所示,所述导流板3包括第二隔板31,所述第二隔板31与所述弯折板22远离所述进气口201的一端固定连接,并朝向远离所述进风口21的方向延伸。其中,所述第二隔板31的长度大于所述第一隔板21的长度。在本实施例中,从所述进风口201流入的气流经所述第一隔板21分流后经所述弯折板22调整,再经所述第二隔板31缓冲,以消除所述气流的惯性后从所述出气口202流出,从而进一步的避免气流产生涡旋。
可选的,所述分流板2还包括至少一个第三隔板33,所述第三隔板33排布在所述第二隔板32的延伸方向上,并与所述第二隔板31间隔设置。如此,即可使相邻两个所述气流通道101内的所述气流能够通过间隔区进行能量交换,避免导流板过长而产生涡旋。其中,所述第三隔板32与所述第二隔板31之间的间隔距离大于所述第二隔板31的长度。以及,所述第三隔板32至少为两个,至少两个所述第三隔板32间隔设置。且相邻所述第三隔板32之间的间隔距离与所述第三隔板32和所述第二隔板31之间的间隔距离相等。如此,以使所述气流能量交换更均匀,以避免所述气流产生涡旋。
此外,在本实施例中,所述分流板2至少有两个,至少两个所述分流板2依次间隔设置。
继续参图1所示所述第一隔板21和所述第二隔板31之间不平行,较佳的,所述第一隔板21和所述第二隔板23相互垂直。
然而,其他实施例中,所述第一隔板21和所述第二隔板31之间是相互平行的。例如,图3是本发明一实施例的气浴装置的结构示意图,在图3所示的结构中,所述第一隔板21和所述第二隔板31相互平行设置。
此外,图3所示的结构中,所述进气口201为1个,所述分流板2为2个,两个分流板2将从一个所述进气口201流入的所述气流分割为三部分,从所述分流板2和所述侧壁12围设形成的三个气流通道101。所述分流板2的结构以及设计原理在此不做过多赘述。
进一步的,本实施例还提供一种光刻机,包括上述任意一项所述的气浴装置。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述,并非对本发明范围的任何限定,本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰,均属于权利要求书的保护范围。
Claims (14)
1.一种气浴装置,其特征在于,所述气浴装置包括:
本体,所述本体内具有气浴腔,所述本体上还具有至少一进气口和至少一出气口,所述出气口设在所述本体的底部,所述进气口和所述出气口连通所述气浴腔;
至少一分流板,所述分流板设置在所述气浴腔内,其中,至少一个所述分流板对应一个所述进气口设置,所述分流板远离所述进气口的端部弯折设置,且朝向远离所述进气口的方向延伸,以将由所述进气口流入的气流进行分流至至少两个气流通道中,所述气流经所述气流通道分流后从所述出气口流出;
至少一导流板,所述导流板位于所述出气口上方,并与所述分流板远离所述进气口的端部固定连接,且朝向远离所述进气口的方向延伸,以延伸所述气流通道。
2.如权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述分流板的弯折处的形状为非直角形。
3.如权利要求2所述的气浴装置,其特征在于,所述分流板的弯折处的形状为圆弧形,其中,所述圆弧形的弧线对应的圆心角的角度为30°~90°。
4.如权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述分流板包括依次连接的第一隔板和弯折板,所述第一隔板靠近所述进风口设置,所述弯折板与所述第一隔板远离所述进气口的端部固定连接。
5.如权利要求4所述的气浴装置,其特征在于,所述导流板包括第二隔板,所述第二隔板与所述弯折板远离所述进气口的一端固定连接,并朝向远离所述进气口方向延伸,以及所述第二隔板的长度大于所述第一隔板的长度。
6.如权利要求5所述的气浴装置,其特征在于,所述导流板还包括至少一个第三隔板,所述第三隔板排布在所述第二隔板的延伸方向上,并与所述第二隔板间隔设置。
7.如权利要求6所述的气浴装置,其特征在于,所述第三隔板与所述第二隔板之间的间隔距离大于所述第二隔板的长度。
8.如权利要求6所述的气浴装置,其特征在于,所述第三隔板至少为两个,至少两个所述第三隔板间隔设置。
9.如权利要求8所述的气浴装置,其特征在于,相邻所述第三隔板之间的间隔距离与所述第三隔板和所述第二隔板之间的间隔距离相等。
10.如权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述分流板和所述导流板分别至少为两个,至少两个所述分流板依次间隔设置,且至少两个所述导流板依次间隔设置。
11.如权利要求10所述的气浴装置,其特征在于,相邻两个所述导流板之间的间隔距离相等,且相邻两个所述分流板之间的间隔距离相等。
12.如权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述本体包括底板、形成在所述底板上的侧壁以及盖设在所述侧壁上的顶板,所述底板、所述侧壁以及所述顶板围设形成所述气浴腔,所述进气口形成在所述侧壁上,所述出气口形成在所述底板上,且至少位于所述导流板下方。
13.如权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述出气口包括多个,多个所述出气口间隔设置,且相邻所述出气口之间的间隔距离相等。
14.一种光刻机,其特征在于,包括如权利要求1~13任意一项所述的气浴装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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CN116841137A (zh) * | 2023-08-31 | 2023-10-03 | 光科芯图(北京)科技有限公司 | 气浴装置、温控系统以及曝光设备 |
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- 2021-04-20 CN CN202110426406.6A patent/CN115220306A/zh active Pending
Cited By (2)
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