JP2001030419A - 複合積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
性または絶縁性といった特定の電気的特性を十分に発揮
させることができる多層回路基板を提供する。 【解決手段】 ガラス粉末およびセラミック粉末を含む
基材層22,24,26と誘電体セラミック粉末を含む
機能材料層23と磁性体セラミック粉末を含む機能材料
層25とを備える生の積層体を作製し、これを所定の温
度で焼成することによって、ガラス粉末の少なくとも一
部を焼結させるとともに、基材層22,24,26に含
まれるガラス材料の一部を機能材料層23,25に拡散
あるいは流動させ、これによって、機能材料層23,2
5に含まれる誘電体セラミック粉末および磁性体セラミ
ック粉末を、焼結させずに、互いに固着させる。
Description
びその製造方法に関するもので、特に、誘電性、磁性、
抵抗性または絶縁性のような特定の電気的特性を有する
セラミック材料を含む機能材料層を備え、多層回路基板
やチップ状電子部品といった電子部品としての用途に有
利に向けられる、複合積層体およびその製造方法に関す
るものである。
て、たとえば、積層構造を有する多層回路基板や電子部
品に備える積層構造を有するチップ状の部品本体があ
る。これら多層回路基板や部品本体の内部には、通常、
内部電極またはビアホール接続部のような内部導電部材
が設けられている。
めの基材がセラミックをもって構成される場合には、通
常、その製造にあたっては、セラミックを焼結させるた
めに基材を焼成する工程を必要とし、そのため、内部導
電部材は、基材の焼成工程において同時に焼成処理に付
されることになる。
られている信号の高周波化や高速化に対応するために
は、上述の内部導電部材には、銀、金または銅のような
低抵抗金属を導電成分として用いなければならない。
ような低抵抗金属を導電成分とする内部導電部材を基材
と同時焼成可能とするためには、基材はたとえば100
0℃以下の温度で焼成可能でなければならない。そのた
め、基材の材料として、セラミックに加えて、セラミッ
クの焼結助剤として機能するガラスを含有させた、ガラ
スおよびセラミックの複合材料が有利に用いられる。
クの複合材料からなる基材を備えるガラスセラミック多
層回路基板によれば、高密度配線および薄層化が可能で
あることから、近年のチップ状電子部品等の小型化およ
び軽量化の傾向に対応して、これらを実装するための回
路基板についての小型化および軽量化の要望をも有利に
満たすことができる。
の一態様として、基材となるガラス粉末およびセラミッ
ク粉末を含むグリーンシート上に、誘電性、磁性等の特
定の電気的特性を有するセラミックからなる粉末を含む
機能材料スラリーを印刷したり、成形して得られたグリ
ーンシートを積み重ねたりして、これら機能材料を基材
と同時に焼成することによって得られた、ガラスセラミ
ック多層回路基板がある。このようなガラスセラミック
多層回路基板によれば、これに対して特定の機能あるい
は多機能を任意に与えることができる。
板を製造しようとする場合、機能材料も基材と同時に焼
成されることになるので、機能材料スラリーには、基材
に含まれるガラス粉末と同じガラス粉末を適量添加する
ことによって、焼成時における基材と機能材料スラリー
との間での膨張係数の違いや焼結時の収縮のタイミング
の違いをできるだけ低減し、界面における剥がれ等の欠
陥が生じないように配慮される。
製造されるガラスセラミック多層回路基板の場合と実質
的に同様の製造方法を適用することによって、マザー積
層体を作製した後、このマザー積層体をカットすれば、
複数の電子部品のための部品本体となるチップを得るこ
とも可能である。
たコンデンサ1が断面図で示されている。
材料層2の両側において機能材料層2に接するように設
けられる基材層3および4とを有する積層体を構成する
部品本体5を備えている。機能材料層2と基材層3およ
び4の各々との界面に沿って、機能材料層2を介して対
向するように、内部導電部材としての内部電極6および
7が形成されている。内部電極6および7は、それぞ
れ、部品本体5の相対向する端面8および9にまで引き
出され、これら端面8および9上に形成された外部電極
10および11に接続される。
ットすることによって得られるもので、このマザー積層
体は、機能材料層2、基材層3および4ならびに内部電
極6および7にそれぞれ対応する要素を備えている。
ガラス粉末およびセラミック粉末を含んでいる。また、
機能材料層2は、焼成前の段階では、誘電性を有する誘
電体セラミックからなる粉末を含んでいる。そして、焼
成工程を経て、マザー積層体あるいは部品本体5が得ら
れるわけであるが、この焼成時における基材層3および
4と機能材料層2との間での膨張係数の違いや焼結時の
収縮のタイミングの違いをできるだけ低減するため、前
述したように、機能材料層2となる機能材料スラリーに
は、基材層3および4に含まれるガラス粉末と同じガラ
ス粉末が適量添加される。
サ1においては、機能材料層2は誘電体セラミックを含
み、内部電極6および7間においてより大きな静電容量
を取得できるようにしている。したがって、機能材料層
2における誘電体セラミックは、その密度が高い方が好
ましい。
よび4と機能材料層2との間での膨張係数の違いや焼結
時の収縮のタイミングの違いを低減するためには、基材
層3および4に含まれるガラス粉末と同じガラス粉末
を、機能材料層2にある程度の量をもって添加しなけれ
ばならず、そのため、機能材料層2における誘電体セラ
ミックの密度を低下させ、機能材料層2に対して要求さ
れる誘電性を低下させる結果を招いてしまうことがあ
る。
を解決し得る、複合積層体およびその製造方法、より特
定的には、積層構造を有する電子部品のための部品本体
およびその製造方法を提供しようとすることである。
積層体に向けられる。この発明に係る複合積層体は、上
述した技術的課題を解決するため、第1の粉末の集合体
を含む基材層と、この基材層に接するように設けられ、
かつ、第2の粉末の集合体を含む機能材料層とを備え、
第1の粉末の集合体が、ガラス材料を含み、第2の粉末
の集合体が、誘電性、磁性、抵抗性および絶縁性から選
ばれる少なくとも1つの特定の電気的特性を有するセラ
ミック材料を含み、第1の粉末の少なくとも一部は、焼
結状態にあり、かつ、第2の粉末は、未焼結状態にある
が、基材層の材料の一部が機能材料層に拡散あるいは流
動することによって、互いに固着されていることを特徴
としている。
層の材料の一部は、機能材料層の全域に拡散あるいは流
動しており、第2の粉末のすべてが基材層の材料によっ
て互いに固着されていることが好ましい。
て、第1の粉末の少なくとも一部は、第2の粉末の焼結
温度より低い融点を有することが好ましい。
て、ガラス材料は、焼成により溶融してガラス化した材
料を含むことが好ましい。
て、第1の粉末の集合体は、さらにセラミック材料を含
むことが好ましい。
て、第1の粉末の集合体は、アノーサイト系結晶化ガラ
ス、ホウケイ酸ガラスおよびコージエライト系結晶化ガ
ラスのうちの少なくとも1種およびアルミナの混合材料
を含むことが好ましい。
て、複数の基材層を備え、これら複数の基材層が、機能
材料層を介して積層されたり、あるいは、複数の機能材
料層を備え、これら複数の機能材料層が、基材層を介し
て積層されたりする積層構造を有していてもよい。後者
の場合、複数の機能材料層は、第1および第2の機能材
料層を備え、第1の機能材料層に含まれるセラミック材
料と第2の機能材料層に含まれるセラミック材料とは、
電気的特性が互いに異なっていてもよい。
けられる場合には、この複合積層体の表面および/また
は内部に設けられる導電部材をさらに備えている。
体の製造方法にも向けられる。この発明に係る複合積層
体の製造方法は、前述した技術的課題を解決するため、
ガラス材料を含む第1の粉末を用意する第1のステップ
と、第1の粉末の少なくとも一部を焼結させ得る温度で
は焼結しない、誘電性、磁性、抵抗性および絶縁性から
選ばれる少なくとも1つの特定の電気的特性を有するセ
ラミック材料を含む第2の粉末を用意する第2のステッ
プと、第1の粉末を含む生の状態にある基材層と、この
基材層に接するように設けられ、かつ、第2の粉末を含
む生の状態にある機能材料層とを備える、生の積層体を
作製する第3のステップと、第1の粉末の少なくとも一
部を焼結させるとともに、基材層の材料の一部を機能材
料層に拡散あるいは流動させることによって、第2の粉
末を、焼結させずに、互いに固着させるように、生の積
層体を所定の温度で焼成する第4のステップとを備える
ことを特徴としている。
1のステップにおいて、好ましくは、基材層は、第1の
粉末を含む第1のグリーンシートの状態で用意される。
層は、第2の粉末を含む第2のグリーンシートの状態で
用意され、第1のステップは、第2のグリーンシートを
第1のグリーンシートに接するように積層するステップ
を備えていてもよい。
よる多層回路基板21の一部を示す断面図である。図2
は、 この多層回路基板21における図1に示した部分に
よって実現される回路を示す等価回路図である。
22、これに接する機能材料層23、これに接する基材
層24、これに接する機能材料層25、およびこれに接
する基材層26とを有する積層構造を備えている。
するように、内部導電部材としてのコンデンサ電極27
および28が形成されている。また、基材層24と機能
材料層25との間の界面に沿って、内部導電部材として
のインダクタ電極29および30が形成されている。ま
た、機能材料層25と基材層26との間の界面に沿っ
て、内部導電部材としてのグラウンド電極31が形成さ
れている。
は、基材層22の外表面上には、外部導電部材としての
外部端子電極32および33が形成されている。
続部34を介して、一方のコンデンサ電極27に接続さ
れ、他方の外部電子電極33は、ビアホール接続部35
を介して、他方のコンデンサ電極28に接続される。ま
た、一方のコンデンサ電極27は、ビアホール接続部3
6を介して、一方のインダクタ電極29の一方端に接続
され、このインダクタ電極29の他方端は、ビアホール
接続部37を介して、グラウンド電極31に接続され
る。他方のコンデンサ電極28は、ビアホール接続部3
8を介して、他方のインダクタ電極30の一方端に接続
され、このインダクタ電極30の他方端は、ビアホール
接続部39を介して、グラウンド電極31に接続され
る。
1に示した部分によって、図2に示すような等価回路を
実現している。図2において、コンデンサCは、コンデ
ンサ電極27および28によって与えられ、インダクタ
L1およびL2は、それぞれ、インダクタ電極30およ
び29によって与えられる。
め、基材層22、24および26の各々となるべきグリ
ーンシートが用意されるとともに、機能材料層23およ
び25の各々となるべきグリーンシートが用意され、 こ
れらグリーンシートの特定のものの表面には、内部導電
部材としてのコンデンサ電極27および28、インダク
タ電極29および30ならびにグラウンド電極31が形
成され、また、これらグリーンシートの特定のものに
は、内部導電部材としてのビアホール接続部34〜39
が設けられる。
示すような断面構造を与えるように積み重ねられ、プレ
スされた後、適宜の条件で焼成される。そして、外部導
電部材としての外部端子電極32および33が形成され
る。なお、外部端子電極32および33は、焼成前の段
階で形成されていてもよい。
ーンシートは、ガラス粉末を含み好ましくは、さらにセ
ラミック粉末を含んでいる。
しては、焼成により溶融してガラス化した材料を含んで
いてもよい。また、このガラス材料としては、たとえ
ば、アノーサイト系結晶化ガラスが有利に用いられ、そ
の他、ホウケイ酸ガラス、コージエライト系結晶化ガラ
ス等も用いることができる。
ては、たとえば、アルミナが有利に用いられる。
末を含むグリーンシートを得るため、ガラス粉末および
セラミック粉末に、分散媒およびバインダ等を混合し
て、スラリーを作製し、このスラリーに対して、たとえ
ばドクターブレード法によるシート成形が実施される。
ルコールまたはそれらの混合物等を用いることができ、
バインダとしては、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール等
を用いることができる。
て、可塑剤、分散剤、消泡剤等を添加してもよい。
ーブレード法の他、押出し成形、ロール成形、粉末プレ
ス成形などの方法を用いることもできる。
ーンシートは、特定の電気的特性を有するセラミック材
料からなる粉末を含んでいる。
して、コンデンサ電極27および28が形成されるの
で、機能材料層23となるべきグリーンシートは、チタ
ン酸バリウム系セラミック粉末のように、誘電性を有す
る誘電体セラミック粉末を含んでいる。
タ電極29および30が形成されるので、この機能材料
層25となるべきグリーンシートは、たとえばフェライ
トのような磁性を有する磁性体セラミック粉末を含んで
いる。
ミック材料粉末は、これに分散媒およびバインダ等を添
加することによって、スラリーの状態とされ、このスラ
リーに対してドクターブレード法を適用することによっ
て、グリーンシートの状態とされる。
ーに含まれるバインダおよび分散媒等は、前述した基材
層22、24および26のためのスラリーに含まれるバ
インダおよび分散媒等と同じであっても異なっていても
よい。
グリーンシートの成形についても、ドクターブレード法
に限らず、押出し成形法、ロール成形法、粉末プレス成
形法などを用いることができる。
ため、上述したようなグリーンシートを得た後、これら
と基材層22、24および26となるべきグリーンシー
トとを積み重ねるのではなく、基材層22、24または
26となるべきグリーンシートに対して、機能材料層2
3または25のためのスラリーをスプレー塗布する方
法、ロール塗布する方法、デッピング塗布する方法、印
刷する方法等を用いることもできる。
の各々に含まれる機能セラミック材料粉末を焼結させな
いが、基材層22、24および26に含まれるガラス粉
末を溶融させ得る温度が適用される。したがって、この
焼成工程によって、基材層22、24および26ならび
に機能材料層23および25に含まれるバインダ等が除
去されるとともに、基材層22、24および26に含ま
れるガラス粉末を構成するガラスが溶融し、これら基材
層22、24および26が固着される。同時に、基材層
22、24および26内のガラス粉末の溶融によっても
たらされた溶融ガラスの一部は、機能材料層23および
25に拡散あるいは流動し、典型的には、キャピラリー
力に基づき浸透し、この浸透したガラスは、機能セラミ
ック材料粉末の間隙を充填し、これら機能材料セラミッ
ク粉末を互いに固着させる。
能材料セラミック粉末がより微粒であればあるほど、ガ
ラスの粘性流動を引き起こすキャピラリー力が強くな
り、ガラスの充填状態をより密なものにすることが容易
である。
路基板21が得られる。
らわかるように、機能材料層23および25に含まれる
機能セラミック材料と基材層22、24および26に含
まれるガラス材料とは、互いに濡れ性の良好な組み合わ
せとすることが望ましい。
るいは流動したガラスと機能セラミック材料とが反応
し、液相焼結が進む場合もある。このような反応によっ
て、致命的な欠陥を生じさせるものではないが、焼成後
の寸法精度の向上のためには、機能セラミック材料とし
ては、できるだけガラス材料と反応しないものを選ぶこ
とが望ましい。
これを一部において変更することによって、たとえば、
チップ状のLCフィルタ部品とすることもできる。すな
わち、図示した外部端子電極32および33ならびにビ
アホール接続部34および35を省略しながら、図1に
おいて端断線で示された部分を端面とし、ここに外部端
子電極を形成し、これら外部端子電極の各々に、コンデ
ンサ電極27および28が接続されるようにすることに
よって、図2に示すような等価回路を有するLCフィル
タ部品とすることができる。
コンデンサ41を示す断面図である。
機能材料層42の両側において機能材料層42に接する
ように設けられる基材層43および44とを有する複合
積層体を構成する部品本体45を備えている。
各々との界面に沿い、かつ機能材料層42を介して対向
するように、内部導電部材としての内部電極46および
47が形成されている。内部電極46および47は、そ
れぞれ、部品本体45の相対向する端面48および49
にまで引き出され、これら端面48および49上に形成
された外部導電部材としての外部電極50および51に
接続される。
ることによって得られるもので、このマザー積層体は、
機能材料層42、基材層43および44ならびに内部電
極46および47にそれぞれ対応する要素を備えてい
る。
は、前述した多層回路基板21の場合と実質的に同様の
方法によって製造することができる。
3および44は、焼成前の段階では、ガラス粉末および
セラミック粉末を含んでいる。また、機能材料層42
は、焼成前の段階では、誘電性を有する誘電体セラミッ
クからなる粉末を含むが、ガラス材料を含んでいない。
そして、焼成工程において、基材層43および44に含
まれるガラス粉末の少なくとも一部が焼結し、機材層4
3および44に含まれるセラミック粉末が互いに固着さ
れるとともに、基材層43および44に含まれるガラス
材料の一部が機能材料層42に拡散あるいは流動し、そ
れによって、機能材料層42に含まれる誘電体セラミッ
ク粉末は、焼結することなく、拡散あるいは流動したガ
ラス材料によって互いに固着される。
インダクタ61を示す断面図である。
けられた2つの機能材料層62および63とこれら機能
材料層62および63の両側において機能材料層62お
よび63の各々に接するように設けられる基材層64お
よび65とを有する複合積層体とを構成する部品本体6
6を備えている。
って、インダクタ電極67が形成され、機能材料層62
と機能材料層63との界面に沿って、インダクタ電極6
8が形成され、機能材料層63と基材層65との界面に
沿って、インダクタ電極69が形成される。また、機能
材料層62を貫通するように、ビアホール接続部70が
形成され、機能材料層63を貫通するように、ビアホー
ル接続部71が形成される。
ビアホール接続部70および71は、内部導電部材とな
るもので、インダクタ電極67、ビアホール接続部7
0、インダクタ電極68、ビアホール接続部71、イン
ダクタ電極69の順に接続され、それによって、一部に
おいてコイル状に延びる部分を有するインダクタ導体7
2が形成される。インダクタ導体72の各端部は、それ
ぞれ、部品本体66の相対向する端面73および74に
まで引き出され、これら端面73および74上に形成さ
れた外部導電部材としての外部電極75および76に接
続される。
積層体をカットすることによって得られるもので、この
マザー積層体は、機能材料層62および63、基材層6
4および65、インダクタ電極67〜69ならびにビア
ホール接続部70および71にそれぞれ対応する要素を
備えている。
ー積層体は、前述した多層回路基板21あるいは部品本
体45のためのマザー積層体の場合と実質的に同様の方
法によって製造することができる。
前での段階では、ガラス粉末およびセラミック粉末を含
んでいる。また、機能材料層62および63は、焼成前
の段階では、磁性を有する磁性体セラミックからなる粉
末を含み、ガラス材料を含んでいない。そして、焼成工
程において、基材層64および65に含まれるガラス材
料が機能材料層62および63に拡散あるいは流動し、
それによって、機能材料層62および63に含まれる磁
性体セラミック粉末が互いに固着される。
インダクタ61aを示す断面図である。図5に示すイン
ダクタ61aは、図4に示したインダクタ61に備える
要素と共通する多くの要素を備えているので、図5にお
いて、図4に示した要素に相当する要素には同様の参照
符号を付し、重複する説明は省略する。
品本体66aにおいて、機能材料層62と基材層64と
の間、および機能材料層63と基材層65との間に、そ
れぞれ、別の機能材料層77および78を設けたことを
特徴としている。
おける収縮を抑制するように作用するもので、焼成前の
段階では、セラミック粉末を含むが、ガラス材料を含ん
でいない。ここで用いられるセラミック粉末としては、
インダクタ61aに要求される電気的特性に悪影響を及
ぼさない限り、誘電性、磁性、抵抗性または絶縁性とい
った任意の電気的特性を有するセラミック材料からなる
ものを用いることができるが、たとえばアルミナのよう
な絶縁性を有するセラミック材料からなるものが無難に
用いることができる。
に含まれるガラス材料は、機能材料層77および78な
らびに62および63に拡散あるいは流動して、これら
機能材料層77および78ならびに62および63に含
まれるセラミック粉末を互いに固着する。
77および78による収縮抑制作用は、特に、基材層6
4および65に含まれるガラス材料と機能材料層62お
よび63に含まれるセラミック材料とが反応して、機能
材料層62および63が面方向に収縮しやすい場合にお
いて顕著な効果を発揮する。機能材料層77および78
に含まれるたとえばアルミナのようなセラミック粉末
は、ガラス材料とほとんど反応しないため、機能材料層
77および78においては面方向の収縮が実質的に生じ
ず、したがって、これらに接する機能材料層62および
63における収縮をも有利に抑制することができる。
は、機能材料層62および63に接するように設けるこ
とが効果的であるが、部品本体66aの他の部分に設け
られてもよい。また、これら機能材料層77および78
のような収縮抑制を目的とする機能材料層は、前述した
多層回路基板21やコンデンサ41等においても適用す
ることができる。
抵抗器81を示す断面図である。
材料層82の両側において機能材料層82に接するよう
に設けられる基材層83および84とを有する複合積層
体を構成する部品本体85を備えている。
および87上には、外部電極88および89が形成さ
れ、これら外部電極88および89は、機能材料層82
の各端面にそれぞれ接続される。
等の場合と同様、マザー積層体をカットすることによっ
て得られるもので、このマザー積層体は、機能材料層8
2ならびに基材層83および84にそれぞれ対応する要
素を備えている。
おいて、基材層83および84は、焼成前の段階では、
ガラス粉末およびセラミック粉末を含んでいる。また、
機能材料層82は、焼成前の段階では、抵抗性を有する
抵抗体セラミックからなる粉末を含み、ガラス材料を含
んでいない。そして、焼成工程において、基材層83お
よび84に含まれるガラス材料は、機能材料層82に拡
散あるいは流動し、機能材料層82に含まれるセラミッ
ク粉末を互いに固着する。
層23、25、42、62、63、77、78および8
2の各々には、特定の電気的特性を有する1種類のセラ
ミック粉末のみを含有させたが、複数種類のセラミック
粉末を含有させてもよく、さらには、たとえば誘電体セ
ラミック粉末と磁性体セラミック粉末とを混合して含有
させてもよい。
基づいて説明する。
41を製造しようとするものである。
粉末として、粒径約5μmのSi−Ca−Al−Mg系
ガラス粉末と粒径約0.5μmのアルミナ粉末とを用意
し、これらを、前者が60重量部、後者が40重量部と
なるように混合し、この混合物に、分散媒およびバイン
ダを添加し、混合して、スラリーを得た。
リーに対してドクターブレード法を適用することによっ
て、シートを成形し、これを乾燥させることによって、
厚み300μmの基材層43および44となるべき第1
のグリーンシートを作製した。
ミック粉末として、粒径約0.7μmであって、比誘電
率(ε)が1700のチタン酸バリウム系セラミック粉
末を用い、上述した第1のグリーンシートの場合と同様
の方法によって、厚み18μmの機能材料層42のため
の第2のグリーンシートを作製した。
効対向領域の大きさが3mm□となるように銀ペースト
の焼付けによる内部電極46および47を形成し、その
後、第2のグリーンシートを挟むように、第1のグリー
ンシートを積み重ね、1000kg/cm2 の圧力でプ
レスした。次いで、このようにして得られた生の状態に
あるマザー積層体を、空気中において、880℃の温度
で2時間焼成した。
ると、全体としての反りや機能材料層42と基材層43
および44の各々との界面での剥がれ等の欠陥がなく良
好であった。また、面方向での収縮率は1.2%であ
り、吸水率は0%であった。
て、部品本体45となるべきチップを得、これに銀ペー
ストの焼付けによる外部電極50および51を設けて、
コンデンサ41を完成させた。このコンデンサ41につ
いて、その容量をLCRメータによって測定し、機能材
料層42の比誘電率(ε)を求めたところ、1MHzに
おいて170の値が得られた。
層となるグリーンシートのためのスラリーにおいて、ホ
ウケイ酸ガラス粉末を、40体積%および50体積%の
添加量をもってそれぞれ添加したことを除いて、上述の
実施例と同様の操作を実施して、焼結後のマザー積層体
およびコンデンサを作製し、吸水率、収縮率および比誘
電率(ε)をそれぞれ求めた。
較例1および2についての吸水率、収縮率および比誘電
率(ε)が示されている。
同じ焼成温度を適用しながら、比較例1および2に比べ
て、高い比誘電率(ε)が得られ、また、収縮率も抑え
ることができる。
層42におけるガラスの添加量を30体積%としたもの
では、880℃での焼成では緻密化しなかった。
ラミック粉末として、たとえばチタン酸ジルコン酸鉛粉
末のような他の誘電体セラミック粉末を用いても、上述
の場合と実質的に同様の結果が得られた。
するインダクタ61を製造しようとするものである。
のグリーンシートとして、上述した実施例1の場合と同
様のものを用意した。
る磁性体セラミック粉末として、粒径約0.5μmのN
i−Zn系フェライト粉末を用い、このフェライト粉末
と印刷用ワニスとを混練し、ペースト状の印刷用スラリ
ーを作製した。
ーンシート上に、銀ペーストを用いての印刷および上述
の印刷用スラリーを用いての印刷を繰り返すことによっ
て、機能材料層62および63を形成するとともに、イ
ンダクタ電極67〜69ならびにビアホール接続部70
および71を形成した。ここで、インダクタ電極67〜
69ならびにビアホール接続部70および71によって
与えられたインダクタ導体72は、1.5ターンを有す
るものとした。
ンシートを積み重ね、前述した基材層65のためのグリ
ーンシートから基材層64のためのグリーンシートにま
で至る複合積層体を、100kg/cm2 の圧力でプレ
スした。
にあるマザー積層体を、空気中において、880℃の温
度で2時間焼成した。
ころ、全体としての反りや機能材料層62および63な
らびに基材層64および65の各々の間の界面での剥が
れ等の欠陥はなく良好であった。また、面方向の収縮率
は0.8%であり、吸水率は0%であった。
し、それによって部品本体66となるチップを得、これ
に銀ペーストの焼付けによる外部電極75および76を
形成して、インダクタ61を完成させた。このインダク
タ61について、インピーダンスの周波数特性を測定
し、フィルタ性能を評価した。図7に、インピーダンス
の周波数変化が示されている。
Z=R+jXで表されるもので、このようにインピーダ
ンスを複素数表示したときのRが実数部を示し、Xが虚
数部を示している。正弦波の信号を入力した場合、位相
の同じ部分をR、位相のずれ分をXとして測定でき、|
Z|は、R2 +X2 の平方根すなわち(R2 +X2 )
1/2 を表している。
て得られたインダクタ61によれば、100MHzにお
いて、インピーダンスが17Ωのフィルタ機能を与える
ことができる。
体セラミック粉末として、たとえばMn−Zn系フェラ
イト粉末のような他の磁性体セラミック粉末を用いた場
合でも、上述した場合と実質的に同様の結果が得られ
た。
率が0.8%であったが、機能材料層62および63に
おいて用いるNi−Zn系フェライトが合成度の低い材
料である場合には、面方向の収縮率が5%以上となるも
のもあった。これは、機能材料層62および63に拡散
あるいは流動するガラス材料とフェライト材料とが反応
し、液相焼結が進むためである。このような収縮を抑制
し、寸法精度の向上のためには、図5に示すような別の
機能材料層77および78を備える構成を採用すること
が好ましい。図5に示した構造において、粒径約0.5
μmnアルミナ粉末を含む機能材料層77および78
を、8μmの各厚みをもって形成すると、面方向の収縮
率を0.5%程度にまで低減することができた。
を有する抵抗器81を製造しようとするものである。
ートとして、前述した実施例1における第1のグリーン
シートと同様のものを用意した。
ラミック粉末として、粒径約1μmのRuO粉末を用
い、これと印刷用ワニスとを混練し、ペースト状の印刷
用スラリーを作製した。
ンシート上に、全面にわたって、スクリーン印刷法によ
り、上述の印刷用スラリーを、18μmの厚みをもって
付与し、次いで、他方の基材層83のためのグリーンシ
ートをこの上に積み重ね、100kg/cm2 の圧力で
プレスした。
にあるマザー積層体を、空気中において、880℃の温
度で2時間焼成した。
察したところ、全体としての反りや機能材料層82と基
材層83および84の各々との間の界面での剥がれ等の
欠陥がなく良好であった。また、面方向の収縮率は3.
0%であり、吸水率は0%であった。
本体35となるチップを得た後、銀ペーストの焼付けに
よる外部電極88および89を形成して、抵抗器81を
完成させた。この抵抗器81について、抵抗値をテスタ
ーによって測定し、機能材料層82における体積抵抗率
を求めた結果、0.03Ω・mmの値が得られた。
ラミック粉末として、RuO粉末以外の抵抗体セラミッ
ク粉末を用いても、上述した場合と実質的に同様の結果
が得られた。
単独の機能を有するコンデンサ41、インダクタ61も
しくは61a、または抵抗器81に関して各特性を評価
するものであったが、これら単独の機能を有する電子部
品についての評価は、たとえば、図1に示した多層回路
基板21についても当てはまるものである。なぜなら、
図示の多層回路基板21や他の多層回路基板あるいは複
合電子部品は、単独の機能を有する電子部品の集合体で
あるとみなすことができるからである。
ス材料を含む第1の粉末の集合体を含む基材層と、この
基材層に接するように設けられ、かつ、誘電性、磁性、
抵抗性および絶縁性から選ばれる少なくとも1つの特定
の電気的特性を有するセラミック材料を含む第2の粉末
の集合体を含む機能材料層とを備え、第1の粉末の少な
くとも一部は、焼結状態にあり、かつ、第2の粉末は、
未焼結状態にあるが、基材層の材料の一部が機能材料層
に拡散あるいは流動することによって、互いに固着され
ている、複合積層体が提供され、また、この複合積層体
を製造するため、第1の粉末を含む生の状態にある基材
層と、この基材層に接するように設けられ、かつ、第2
の粉末を含む生の状態にある機能材料層とを備える、生
の複合積層体を作製し、次いで、第1の粉末の少なくと
も一部を焼結させるとともに、基材層の材料の一部を機
能材料層に拡散あるいは流動させることによって、第2
の粉末を、焼結させずに、互いに固着させるように、生
の複合積層体を所定の温度で焼成することが行なわれ
る。
での焼成が可能であるとともに、機能材料層において
は、特定の電気的特性を有するセラミック材料を含む第
2の粉末を互いに固着させるに足る量をもって、基材層
のガラス材料を拡散あるいは流動させれば十分であるの
で、機能材料層における特定の電気的特性を有するセラ
ミック材料の密度を高めることができる。そのため、機
能材料層において、セラミック材料が有する特定の電気
的特性を最大限に発揮させることができ、この発明によ
る複合積層体が電子部品に適用されると、優れた電気的
特性を有する電子部品を実現することが可能になる。
複合積層体に必要な機械的強度を与え、機能材料層によ
って電気的特性を与えるようにしているので、複合積層
体に対して、特定の電気的機能あるいは多くの電気的機
能を任意に与えることができる。その結果、任意の機能
を有する電子部品を実現できるとともに、多機能を有す
る電子部品を実現することができる。
第2の機能材料層を備え、第1の機能材料層に含まれる
セラミック材料と第2の機能材料層に含まれるセラミッ
ク材料とのそれぞれの電気的特性が互いに異なるように
することにより、たとえばLCフィルタ部品のような複
合的な特性を有する電子部品を容易に実現することがで
きる。
料と基材層に含まれるガラス材料との組み合わせに関し
て、互いに実質的に反応しないものを用いると、焼成時
における収縮を抑制する作用を機能材料層に対して与え
ることができ、寸法精度の優れた複合積層体を得ること
ができる。
が、機能材料層の全域に拡散あるいは流動しており、第
2の粉末のすべてが基材層の材料によって互いに固着さ
れるようにすれば、機能材料層における機械的強度をよ
り高めることができる。
なくとも一部が、第2の粉末の焼結温度より低い融点を
有するようにすれば、前述したような焼成工程によっ
て、第2の粉末を焼結させずに、基材層の材料の一部を
もって第2の粉末を互いに固着させることを、より確実
に達成することができる。
る第1の粉末の集合体がさらにセラミック材料を含んで
いると、複合積層体の機械的強度をより高めることがで
きる。
しての多層回路基板21の一部を示す断面図である。
実現される等価回路を示す図である。
1を示す断面図である。
1を示す断面図である。
1aを示す断面図である。
示す断面図である。
ダクタ61のインピーダンスの周波数特性を示す図であ
る。
を示す断面図である。
4 基材層 23,25,42,62,63,77,78,82 機
能材料層 27,28 コンデンサ電極 29,30,67,68,69 インダクタ電極 31 グラウンド電極 32,33 外部端子電極 34〜39,70,71 ビアホール接続部 45,66,66a,85 部品本体 46,47 内部電極 50,51,75,76,88,89 外部電極
Claims (13)
- 【請求項1】 第1の粉末の集合体を含む基材層と、前
記基材層に接するように設けられ、かつ、第2の粉末の
集合体を含む機能材料層とを備える、複合積層体であっ
て、 前記第1の粉末の集合体は、ガラス材料を含み、 前記第2の粉末の集合体は、誘電性、磁性、抵抗性およ
び絶縁性から選ばれる少なくとも1つの特定の電気的特
性を有するセラミック材料を含み、 前記第1の粉末の少なくとも一部は、焼結状態にあり、
かつ、前記第2の粉末は、未焼結状態にあるが、前記基
材層の材料の一部が前記機能材料層に拡散あるいは流動
することによって、互いに固着されていることを特徴と
する、複合積層体。 - 【請求項2】 前記基材層の材料の一部は、前記機能材
料層の全域に拡散あるいは流動しており、前記第2の粉
末のすべてが前記基材層の材料によって互いに固着され
ていることを特徴とする、請求項1に記載の複合積層
体。 - 【請求項3】 前記第1の粉末の少なくとも一部は、前
記第2の粉末の焼結温度より低い融点を有することを特
徴とする、請求項1または2に記載の複合積層体。 - 【請求項4】 前記ガラス材料は、焼成により溶融して
ガラス化した材料を含むことを特徴とする、請求項1な
いし3のいずれかに記載の複合積層体。 - 【請求項5】 前記第1の粉末の集合体は、さらにセラ
ミック材料を含むことを特徴とする、請求項1ないし4
のいずれかに記載の複合積層体。 - 【請求項6】 前記第1の粉末の集合体は、アノーサイ
ト系結晶化ガラス、ホウケイ酸ガラスおよびコージエラ
イト系結晶化ガラスのうちの少なくとも1種およびアル
ミナの混合材料を含むことを特徴とする、請求項5に記
載の複合積層体。 - 【請求項7】 複数の前記基材層を備え、複数の前記基
材層は、前記機能材料層を介して積層されていることを
特徴とする、請求項1ないし6のいずれかに記載の複合
積層体。 - 【請求項8】 複数の前記機能材料層を備え、複数の前
記機能材料層は、前記基材層を介して積層されているこ
とを特徴とする、請求項1ないし7のいずれかに記載の
複合積層体。 - 【請求項9】 複数の前記機能材料層は、第1および第
2の機能材料層を備え、前記第1の機能材料層に含まれ
る前記セラミック材料と前記第2の機能材料層に含まれ
る前記セラミック材料とは、電気的特性が互いに異なっ
ている、請求項8に記載の複合積層体。 - 【請求項10】 表面および/または内部に設けられる
導電部材をさらに備え、前記基材層、前記機能材料層お
よび前記導電部材をもって電子部品を構成することを特
徴とする、請求項1ないし9のいずれかに記載の複合積
層体。 - 【請求項11】 ガラス材料を含む第1の粉末を用意す
る第1のステップと、 前記第1の粉末の少なくとも一部を焼結させ得る温度で
は焼結しない、誘電性、磁性、抵抗性および絶縁性から
選ばれる少なくとも1つの特定の電気的特性を有するセ
ラミック材料を含む第2の粉末を用意する第2のステッ
プと、 前記第1の粉末を含む生の状態にある基材層と、前記基
材層に接するように設けられ、かつ、前記第2の粉末を
含む生の状態にある機能材料層とを備える、生の積層体
を作製する第3のステップと、 前記第1の粉末の少なくとも一部を焼結させるととも
に、前記基材層の材料の一部を前記機能材料層に拡散あ
るいは流動させることによって、前記第2の粉末を、焼
結させずに、互いに固着させるように、前記生の積層体
を所定の温度で焼成する第4のステップとを備えること
を特徴とする、複合積層体の製造方法。 - 【請求項12】 前記第1のステップにおいて、前記基
材層は、前記第1の粉末を含む第1のグリーンシートの
状態で用意されることを特徴とする、請求項11に記載
の複合積層体の製造方法。 - 【請求項13】 前記第1のステップにおいて、前記機
能材料層は、前記第2の粉末を含む第2のグリーンシー
トの状態で用意され、前記第1のステップは、前記第2
のグリーンシートを前記第1のグリーンシートに接する
ように積層するステップを備えることを特徴とする、請
求項12に記載の複合積層体の製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005501795A (ja) * | 2001-09-14 | 2005-01-20 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | セラミック基板の製造方法及びセラミック基板 |
WO2005104639A1 (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに圧電共振部品 |
JP2006093568A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | ガラスセラミック基板 |
JP2006089319A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | フェライトおよびガラスセラミック基板 |
US7781066B2 (en) | 2005-07-01 | 2010-08-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate, method for producing same, and composite green sheet for forming multilayer ceramic substrate |
JP2013051389A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-03-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 回路基板、半導体パワーモジュール、製造方法 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3656484B2 (ja) * | 1999-03-03 | 2005-06-08 | 株式会社村田製作所 | セラミック多層基板の製造方法 |
JP2001047423A (ja) * | 1999-08-09 | 2001-02-20 | Murata Mfg Co Ltd | 複合積層体およびその製造方法 |
JP3554962B2 (ja) * | 1999-10-28 | 2004-08-18 | 株式会社村田製作所 | 複合積層体およびその製造方法 |
DE10106049A1 (de) * | 2001-02-09 | 2002-09-12 | Siemens Ag | Glaskeramische Zusammensetzung und Verfahren zum Herstellen einer Glaskeramik unter Verwendung der glaskeramischen Zusammensetzung |
US6759740B2 (en) * | 2001-03-30 | 2004-07-06 | Kyocera Corporation | Composite ceramic board, method of producing the same, optical/electronic-mounted circuit substrate using said board, and mounted board equipped with said circuit substrate |
JP2002368422A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-12-20 | Murata Mfg Co Ltd | 多層セラミック基板及びその製造方法 |
US6835463B2 (en) * | 2002-04-18 | 2004-12-28 | Oakland University | Magnetoelectric multilayer composites for field conversion |
TW530377B (en) * | 2002-05-28 | 2003-05-01 | Via Tech Inc | Structure of laminated substrate with high integration and method of production thereof |
US6893710B2 (en) | 2003-04-18 | 2005-05-17 | Yageo Corporation | Multilayer ceramic composition |
US7128472B2 (en) * | 2003-07-31 | 2006-10-31 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for providing optoelectronic communication with an electronic device |
JP2006147913A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Alps Electric Co Ltd | 回路基板、及びその製造方法 |
US20070060969A1 (en) * | 2005-09-15 | 2007-03-15 | Burdon Jeremy W | Implantable co-fired electrical feedthroughs |
US7998561B2 (en) | 2008-10-23 | 2011-08-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Ceramic laminate and method of manufacturing ceramic sintered body |
CN109819585A (zh) * | 2017-11-20 | 2019-05-28 | 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 | 电路板及其制作方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5563900A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-14 | Fujitsu Ltd | Multilyaer ceramic circuit board |
JPS6014494A (ja) * | 1983-07-04 | 1985-01-25 | 株式会社日立製作所 | セラミツク多層配線基板およびその製造方法 |
US5254191A (en) * | 1990-10-04 | 1993-10-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for reducing shrinkage during firing of ceramic bodies |
JPH0811696B2 (ja) * | 1993-04-22 | 1996-02-07 | 日本電気株式会社 | 多層ガラスセラミック基板とその製造方法 |
JPH08181443A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック多層基板およびその製造方法 |
WO1996039298A1 (en) * | 1995-06-06 | 1996-12-12 | Sarnoff Corporation | Method for the reduction of lateral shrinkage in multilayer circuit boards on a support |
-
1999
- 1999-07-27 JP JP21154699A patent/JP3601679B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
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- 2000-07-26 KR KR1020000043057A patent/KR100344923B1/ko active IP Right Grant
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005501795A (ja) * | 2001-09-14 | 2005-01-20 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | セラミック基板の製造方法及びセラミック基板 |
WO2005104639A1 (ja) * | 2004-04-20 | 2005-11-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに圧電共振部品 |
US7352116B2 (en) | 2004-04-20 | 2008-04-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate, method for manufacturing the same, and piezoelectric resonator component |
JP2006089319A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | フェライトおよびガラスセラミック基板 |
JP4587758B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2010-11-24 | 京セラ株式会社 | ガラスセラミック基板 |
JP2006093568A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Kyocera Corp | ガラスセラミック基板 |
JP4583121B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2010-11-17 | 京セラ株式会社 | ガラスセラミック基板 |
US7781066B2 (en) | 2005-07-01 | 2010-08-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic substrate, method for producing same, and composite green sheet for forming multilayer ceramic substrate |
JP2013051389A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-03-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 回路基板、半導体パワーモジュール、製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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