TW495774B - Hybrid laminate and manufacturing method therefor - Google Patents

Hybrid laminate and manufacturing method therefor Download PDF

Info

Publication number
TW495774B
TW495774B TW089111263A TW89111263A TW495774B TW 495774 B TW495774 B TW 495774B TW 089111263 A TW089111263 A TW 089111263A TW 89111263 A TW89111263 A TW 89111263A TW 495774 B TW495774 B TW 495774B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
powder
active material
layer
material layer
base
Prior art date
Application number
TW089111263A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuya Nakao
Hirokazu Kameda
Shigeyuki Kuroda
Kenji Tanaka
Masaru Kojima
Original Assignee
Murata Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co filed Critical Murata Manufacturing Co
Application granted granted Critical
Publication of TW495774B publication Critical patent/TW495774B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/041—Printed circuit coils
    • H01F41/043—Printed circuit coils by thick film techniques
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/22—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
    • B32B5/30—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being formed of particles, e.g. chips, granules, powder
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/16—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/40—Structural combinations of fixed capacitors with other electric elements, the structure mainly consisting of a capacitor, e.g. RC combinations
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814—Conductive parts
    • H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4857—Multilayer substrates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49866—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
    • H01L23/49894—Materials of the insulating layers or coatings
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/162—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed capacitors
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/165—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed inductors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2315/00—Other materials containing non-metallic inorganic compounds not provided for in groups B32B2311/00 - B32B2313/04
    • B32B2315/02—Ceramics
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2315/00—Other materials containing non-metallic inorganic compounds not provided for in groups B32B2311/00 - B32B2313/04
    • B32B2315/08—Glass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/08—PCBs, i.e. printed circuit boards
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00—Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006—Printed inductances
    • H01F17/0013—Printed inductances with stacked layers
    • H01F2017/0026—Multilayer LC-filter
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
    • H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
    • H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30—Technical effects
    • H01L2924/301—Electrical effects
    • H01L2924/3011—Impedance
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H1/00—Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network
    • H03H2001/0021—Constructional details
    • H03H2001/0085—Multilayer, e.g. LTCC, HTCC, green sheets
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
    • H03H7/01—Frequency selective two-port networks
    • H03H7/0115—Frequency selective two-port networks comprising only inductors and capacitors
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/03—Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/08—Magnetic details
    • H05K2201/083—Magnetic materials
    • H05K2201/086—Magnetic materials for inductive purposes, e.g. printed inductor with ferrite core
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4688—Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

495774 五、發明說明（1) 發明背景 1.發明範圍 本發明係 一混合疊層 料層包括具 一明確的電 板及基 2.相關 本發 係具有 疊層結 有内部 當基 括一陶 烤步驟 遭受焙 為達 阻金屬 導電組 在此 銀，金 時燒結 好係使 合成材 片之 技藝 明關 配置 構。 導電 底如 瓷， 〇結 烤。 現今 ，如 件用 情況 ，及 ，基 用一 料， 關於 ，該 有， 氣特 電子 說明 切之 於具 該多 構件 前述 且在 果在 混合疊層 混合疊層 如電介性 性的陶瓷 元件使用 疊層係一 有疊層結 層電路板 ，如内部 供該多層 生產該基 該基底培 電子裝置用信 銀，金，及銅 〇 下，為使内部 銅之導電組件 底之燒結溫度 包括作燒結陶 作基底成分材 及其製造方法，及係更特別關於 係具有一作用材料層，該作用材 ， 磁性，電阻性及絕緣性，之 材料，及其係便於供如多層電路 以及該混合疊層製造方法。 呈基片形狀之單元本體，該單元 構或電子元件之多層電路板中的 及單元本體之内部結構通常係具 電極或通私孔連接部份。 電路板及单元本體使用時’係包 底中通常係需要燒結該陶瓷之焙 烤步驟中，其内部導電構件也係 號之高頻率及高速度需求，低電 ，係必須作前述内部導電構件之 導電構件具有低電阻金屬，如 ，該等組件係必須可隨該基底同 係約1，0 0 0 °c或以下。因此，最 瓷輔助劑用之玻璃添加於陶瓷的 料用。
O:\64\64582.ptd 第6頁 / /Η· 五、發明說明（2) 七述’使用具有以玻璃陶入 瓷多層雷路柄眸，上_ 司是己成之基底的玻璃-陶 此，為因Λ子其而/、度導線及—薄層、结構即可實現，因 係要Φ土片元件體積小及重量輕之現行趨熱， ，、要求電路板必須裝 勢， 有 、在用脰積小及重量輕之基片元件。 陶究多ρ路層電路板實例中，-玻璃-得，其；時培烤一基底及一作用材料而獲 i—基底，而作用材料則藉塗以含具有明：二片材係形 ::性及磁性，之陶瓷粉劑的作 ：：生，如 =未經燒結的片材成形。根據前述之破：成或错^ ;生：明確功能或多項功能係加諸 旬“層電 田生產W述之玻璃—陶奢多声雷 瓦續 :所具有之量相同，係添加於作用 y *置與該基 :防：f;與該作用材料敷間膨脹係數與收ΐΐΓί烤 防止如在介面處分裂之缺點發生。“率之差異， ^外，於母疊層藉與用於前述作用材 ί2!路板方法相同之-製造方法成形：ΐ破璃''陶 70件單元本體用之基片俜可萨 ，供作複數電 圖8所示係以前述方V生Υ之猎二 該電容器1係具有單元本體5,〇圖。 ；；作^料層2及基底3與4，該基底係、以且礙層’該疊層^有 :-表面相接觸。為内部導電構件之乍用材料層2上 用材料層2與基底3及4之個別介面 彼广㈣及7係沿作 1 t此隔作用材料層2
第7頁 495774 五、發明說明（3) ' "—"- 相對之方式成形。該内部電極6及7係伸向該單元本體5之 相對邊緣面8及9，及分別與在邊緣面8及9上形成之外恭炼 10及11相連接。 卜“5 4述之單元本體5係切割自母疊層，及該母疊層係具有 個別對應該作用材料層2，該基底層3與4，及該内部ς 與7之元件。 a 在^烤階段别完成之該基底層3與4係包括玻璃粉劑陶 究粉劑。料，在悟烤階段前完成之該作用材料層;1 係及： 2 /、有电介質特性之電介質陶瓷粉劑。該疊 Γ用t步驟而成。為減少培料，該基底3與二 粉劑，ϊί Λ膨其脹係數與收縮率之差異’ 一適量之玻璃 該作：材料層2之作用材料V中 係添加於成形 曼m該電容器1，該作用材料層2係包括電介質陶 m:;内部電極6與7間產生較大之靜電容。ξ 高之密度。、材枓層2中之電介質陶兗最好係具有一較 但為減少培烤時， 係數與收縮率之差显了二底3曰與4與該作用材料層2間膨脹 3與4所具有之量相1、，適畺之玻璃粉劑，其量與該基底 係包括於該作f ’係需添加該作用材料層2中。結果 及作用材料層2所+㈢命中之^介質陶瓷密度係會減低， 發明概述 而之兒介質特性有時係會減退。 為克服前述之問題 在本發明一最佳實例中係提供一混 495774 i五、發明說明（4) ί 合疊層，該疊層係包括：一含第一粉劑粉塊之基底層；及 一與該基底層接觸且含第二粉劑粉塊之作用材料層；其中 該第一粉劑之粉塊係包括玻璃材料；該第二粉劑之粉塊係 包括具有選自電介性，磁性，電阻性及絕緣性之至少一明 確的電氣特性的陶瓷材料；至少該第一粉劑之一部份係呈 燒結狀態；及該第二粉劑係呈非燒結狀態，而且係藉該基 底層之一部份材料擴散或流入該作用材料層中而彼此黏合 在一起。 在前述之混合疊層中，該基底層之材料部份最好係擴散 於或流過該作用材料層之整個面積，及全部第二粉劑最好 係藉該基底層之材料黏合在一起。 - 在前述之混合疊層中，最好係至少該第一粉劑之一部份 具有較該第二粉劑燒結溫度低之融點。 在前述之混合疊層中，該玻璃材料最好係包括一因燒結 而玻璃化之材料。 在前述之混合疊層中，該第一粉劑之粉塊最好係更進一 步包括一陶瓷材料。 在前述之混合疊層中，該第一粉劑之粉塊最好係包括一 鋁與至少一結晶鈣斜長石玻璃，硼硅玻璃，與結晶堇青石 玻璃之混合材料。 前述之混合疊層係可具有一結構，該結構係包括複數之 基底層，其中該複數基底層係以該作用材料層在其間之方 式疊合而成，或係可具有一結構，該結構係包括複數作用 材料層在基底層間之疊合。在該結構中，該複數作用材料
495774 五、發明說明（5) 層係可包括一第一及一第二作用材料.層，及含於該第一作 I用材料層之陶瓷粉劑與含於該第二作用材料層之陶瓷粉劑 係可具有彼此不同之電氣特性。 當本發明之混合疊層應用於電子元件時，該混合疊層係 更進一步包括一導電構件配置在其表面或層内中。 本發明另一最佳實例係提供一如前述之混合疊層製造方 法。為解決技術問題，該混合疊層製造方法係包括一第一 步驟，即準備第一粉劑，該粉劑係含一玻璃材料；一第二 步驟，即準備第二粉劑，該粉劑係具有選自電介性，磁 性，電阻性及絕緣性之至少一明確的電氣特性，及係未以 燒結該第一粉劑至少一部份之溫度燒_結；一第三步驟係在 未經燒結狀態中生產一混合疊層，該混合疊層係包括一在 未經燒結狀態中之基底層，該基底層係包括第一粉劑及一 在未經燒結狀態中之作用材料層，該作用材料層係與該基 底層接觸並含該第二粉劑；及一第四步驟，該步驟係以一 預定之溫度焙烤該未經燒結狀態中之疊層，其中至少該第 一粉劑之一部份係燒結，及一部份基底層材料係擴散或流 入該作用材料層中，這樣，該第二粉劑不經燒結即黏合在 一起。 在前述該混合疊層製造方法之第一步驟中，該基底層最 好係以一第一未經燒結片材含該第一粉劑方式準備。 在前述該混合疊層製造方法之第一步驟中，該作用材料 層最好係以一第二未經燒結片材含該第二粉劑方式準備， 及該第一步驟係可更進一步包括一疊置該第二未經燒結片
第10頁 495774 五、發明說明（6) | 材之步驟，這樣，該第二未經燒結片材即接觸於該第一未 經燒結片材。 根據前述之結構與配置，以低溫焙烤係可完成該混合疊 層，及在該作用材料層中，因其充分擴散或流動該基底層 i ! |之玻璃材料，使之以足夠之量與含具有一明確電氣特性之 陶瓷材料的第二粉劑緊密黏合，故含於該作用材料層中具 有一明確電氣特性之陶瓷材料密度係可增加。結果在該作 用材料層中，該陶瓷材料之明確的電氣特性係可充分利 用，及當本發明之混合疊層應用於電子元件時，係可實現 該具有超級電氣特性之電子元件。 此外，因具有該基底層，故可-提供-該混合疊層所需之機 械強度，及因具有該作用材料層，故可提供該混合疊層一 電氣特性，一明確電氣功能或數項電氣功能係可以選擇性 提供該混合疊層。結果具有一選擇性功能之電子元件係可 實現，及具有多項功能之電子元件係也可實現。 例如，當該作用材料層係包括一第一及一第二作用材料 層以及含於第一作用材料層之一陶瓷材料及含於第二作用 材料層之一陶究材料係設計使之彼此電氣特性不相同時， 一具有混合特性之電子元件，如一LC濾波器，係可立即實 現。 而且，當前述該二彼此不相互作用之材料，即一含於該 作用材料層之陶瓷材料與一含於該基底材料之玻璃材料係 考慮合併使用時，則該作用材料層於焙烤時，會具有一抑 制收縮之功能，而後，即可獲得具有尺寸極穩定之混合疊
第11頁 ^^774 ^^774
五、發明說明（7) 層。 田邛份之該基底層材料係設計使之擴散土 用材料厗夕入加 β+ Α 化狀、Α机過該作 声材ΙΙΐ 粉劑之全部係設計使之藉該基底 i -步：：黏合在一起’該作用材料層之機械強度即可更 中Π =該Ϊ 一粉劑之一部份係設計使之在前述、培烤步驟 /、雨广5亥第二粉劑燒結溫度低之融點時，該第二粉劑即 D不需該基底層材料之一部份燒結而更可靠地黏合在二 起。 =外，在本發明中，含於該基底層中之第一粉劑粉塊係 也包括一陶瓷材料時，該混合|層之鐵械強度即會更進一 步增加。 於參閱隨附之圖式時’係會自本發明之說明更瞭解本發 明之其他特徵與優點。 圖式簡單說明 田圖1係根據本發明第一實例之截面圖，以說明為一混合 疊層之多層電路板21的一部份； 圖2-係以圖2中該多層電路板21 一部份之電路圖； 圖3係根據本發明第二實例之一電容器4丨的截面圖； 圖4係根據本發明第三實例之一電感器6丨的截面圖； 圖5係根據本發明第四實例之一電感器6 1 a的截面圖； 圖6係根據本發明第三實例之一電阻8丨的截面圖； 圖7係圖4所示根據範例2製造之電感器6 1阻抗頻率特性 曲線圖；
第12頁
五、發明說明（8) ' 一'~ 田圖8係本發明關切之已前技藝電容器1截面圖。 最佳實例說明 f 1係說明根據本發明第一實例之多層電路板21 一部份 =戴面圖。圖2係圖1所示該多層電路板21 一部份之電路 邊多層電路板2 1係具有一疊層結構，該疊層結構係包括 ? q而下之基底層22，一接觸於基底層之作用材料層 作田一接觸於作用材料層之基底層24，一接觸於基底層之 材料層2 5 ’及一接觸於作用材料層之基底層2 6。 2内部電極構件用之電容器電極27及28係以彼此隔作用 層25: 23ί對之方式成形。此外―，沿丟底層24與作用材料 2曰9 Λ二之介面’係形成作一内部導電構件用之電感器電極 而且’沿作用材料層2 5與基底層2 6間之介面，係 >成作一内部導電構件用之接地電極31。 ’、 22 =層電路板21之一表面上，更明相，在該基底層 電⑽，係成形—作外部導電構件用之外部接線端 $部接線端電極32係通過一通路孔連接部份34連 ^谷Is電極27，及另一外部接線端電極33係通_踗 份35連接於另一電容器電賴。t容器電極二 a t ^ ^路孔連接部份3 6連接於一電感器電極29之一浐， 於端係通過一通路孔連接部份“接 38連接於另—带^ :谷15電極28通過一通路孔連接部份 、 甩感包極30之一端，及另一電感器電極3〇
第13頁 495774 五、發明說明（9) ------- 之另一端通過一通路$ 时八-孔連接部份3 9連接於接地電極3 1。 如前述，部伤不於闯*1 、圖1之該多層電路板21的實際電路係 示如圖2。在圖2中，電容C係由電容器電極27及28給定， 及電感and L2由該電感器電極3〇及“分別給定。 生產前述之該多層電路板2 1時，係應準備成形為基底層 2 2 ’ 2 4 ’及2 6之未經燒結片件，以及準備成形為作用材料 層2 3及2 5之未經燒結片件。在未經燒結片件之表面上係應 成形内部導電構件，電容器電極2 7及2 8，電感器電極2 9及 3 0，及接地電極3 1，以及在未經燒結片件中係應成形内部 導電構件通路孔連接部份3 4至3 9。 下一步驟係該等未經燒結片件疊置成如圖1所示之 結構’及於壓务、後’在適當條件下培_烤。爾後，作外、曾 電構件用之外部接線端電極3 2及3 3即成形。該外部接°卩導 電極3 2及3 3係可在焙烤前之一階段中完成。 線端 成形為基底層2 2 ’ 2 4 ’及2 6之未經燒結片件係含 劑，及最好也含陶瓷粉劑。 #續粉 一含前述該玻璃粉劑之玻璃材料係包括藉焙烤融化 璃化之材料。該玻璃材料，如結晶鈣斜長石玻墦係可而坡 使用’此外，石朋娃玻璃，結晶堇青石玻璃，及諸如，先 係也可使用。 _者 鋁係可優先作一含前述該陶瓷粉劑之材料用。 為獲得前述含玻璃粉劑及陶瓷粉劑之該未經繞結片 係應以使一擴散媒介，一黏合端或諸如此類者與坡件’ 及陶瓷粉劑混合成漿方式準備，而後，以刮刀塗称=粉劑 嗞漿方
O:\64\64582.ptd 第14頁 495774 五、發明說明（ίο) 式形成該片件。 水，甲苯，酒精，或其混合液係可作前述擴散媒介之 用及丁醛樹脂，丙烯酸樹脂，尿酯樹脂，醋酸乙烯酯樹 月旨，聚乙烯醇，及諸如此類者係可作黏合劑之用。 此外，如需要時，塑化劑，擴散劑，變形劑，及諸如此類 者係可添加至前述之該漿中。 就成形未經燒結片件而言，除刮刀方法外，尚有其他方 法，如擠壓法，滚軋法，及粉劑壓縮成形法。 成形為作用材料層2 3及2 5之未經燒結片件係含包括具有 明確電氣特性陶瓷材料之粉劑。 在該實例中，因電容器電極2 7及2 8係成形在作用材料層 2 3之上，故成形為作用材料層2^3之未經燒結片件係應含具 有電介質特性，如鈦酸鋇之電介質陶瓷粉劑。 因電感器電極2 9及3 0係成形在作用材料層2 5之上，故成 形為作用材料層2 5之未經燒結片件係應含具有磁性，如鐵 之磁，性陶曼粉劑。 具有明確電氣特性之作用陶瓷粉劑係應添加擴散媒介及 黏合劑使之混合成漿狀，而後用刮刀法塗施該混合漿於該 未經燒結片件中。 如前述，作用材料層2 3及2 5用之含於該混合漿中的擴散 媒介及黏合劑係可與基底層2 2，2 4，及2 6用之含於該混合 漿中的擴散媒介及黏合劑相同或不一樣。 有關作用材料層2 3及2 5用之未經燒結片件的成形，除刮 刀方法外，尚有其他方法，如擠壓法，滾軋法，粉劑壓縮
O:\64\64582.ptd 第15頁 495774 五、發明說明（11) 成形法及諸如此類之方法可用。 於作用材料層23及25用之未經燒結片件成形後，另一種 替代疊置該未經燒結片件於成形基底層22，24，及26用之 未經燒結片件之方式係藉一方法，如噴塗，軋黏，浸塗及 印刷塗施成形作用材料層2 3及2 5用之混合漿於成形基底層 2 2，2 4，及2 6用未經燒結片件之上。 於培烤步驟加施一溫度，該溫度係應不能燒結該分別含 於作用材料層2 3及2 5中之作用陶瓷材料粉劑，但可熔融含 $基，層2 2 ’ 2 4，及2 6中之玻璃粉劑。結果以此焙烤步 :3於基底層22，24，及26中及含於作用材料層23及25 ^黏。背丨及類似者係予移除。_除含於基底層2 2，2 4，及 構成破璃粉劑之玻璃熔融外，基底層22，24，及26 。同時，含於基底層22，24，及26中之玻璃粉劑 生之部份熔解玻璃係擴散或流入作用材料層23及 會填充；用浸入作用材料層。結果，浸入之玻璃係 劑在一起。 材料粉劑間之空隙及黏合作用材料陶瓷粉 之劑含於作用材料層23及25構成更微細 達密集充填Ιί 使破璃流更黏揭’而後使玻璃立即 t : $即得圖1所示之該多層電路板2 1。 丄ί用多路板21製造方法知，含於作用材料㈣及 材料間具有：基底層22 ’ 24，及2 6中‘玻璃 ^ 極问潤濕度之組合係最佳。 ^ /74 五、發明說明（12) f螭擴散或流入作用材料層23及25時係 5應作用，結果有時係會產生液相燒結前=::料起 :丄係不會發行嚴重之缺點，就改善反，作 用陶瓷材料。 久愿作用之材料為作 在圖1所示之多層電路板21中， 妨之一部份，一呈晶片形狀之LC單元即错可 層電路 圖2所示相同電路之一 [c清、、古哭在叮一 P具有 及33 ’肖除示於圖i之通路孔連接部份以及^、泉 緣:二斷裂邊緣線處形成外部接線端電極，及 建接毛谷器電極26及28至各外銀接線端電極而成。及 圖圖3係說明根據本發明第二實例之一電容器41的戴面 一電容器41係具有由一混合疊層構成之單元本體45， 二本體係、具有—作用材料層42及成形在該作用材料層 則之基底層4 3及4 4，且彼此相接觸。 曰 内部電極46及47係沿該作用材料層42與該基底層43及44 之個別介面構成一内部導電構件，且隔該作用材料層42 波此相對該。内部電極46及47係分別伸向該單元本^45之 =對邊緣面48及49及與在邊緣面48及49上形成之為二部導 電構件的外部電極5 〇及5 1。 口 該單元本體45係可藉切割母疊層獲得，及該母疊層係具 有對應該作用材料層42，該基底層43及44，及該$ ^電極 46及47之元件。 °。
第17頁 五、發明說明（13) 仏形成該單元本體45用之母聂 夕層電路板2 1之方法生產。 足禮係可用相似於前述生產 即在焙烤完成前之一階段，配 及44係含玻璃粉劑及陶莞粉劑。f在母疊層之該基底層43 階段，該作用材料層42所含之外，在焙烤完成前之一 電介質陶瓷，且不含玻璃材料：係具有-電介質特性之 底層43及44中之至+ 一部p 女在培烤步驟中，含於該基 底層43之陶究粉劑‘緊“人劑係經燒結，該含於基 陶瓷粉劑係緊密黏合在一起" 起及該含於基底層44之 玻璃材料的-；份：擴：或已流：含於基底層43及44之 係含於該作用材料層42之電介質：：.用材料層42中。結果 下，藉該玻璃材料之# 1 、*瓷I劑，在未燒結情況 起。 +之擴月文或流入於以而f密黏合在一 本/明第三實例之-電感器61截面圖。 口亥私感器6 1係具有_由混合一间 單元本體係具有-作用鉍祖恳β9曰冓成之早7^本體66，該 基底層64及^ : 層2及63 ’且彼此相接觸，及 該作用材料層相接作用材料層62及63兩側’且分別與 介面：ΐ:用材料層62與該基底層64間之 料層63間之介面形成，及一電感器電極 :亥作：二： 層㈡與該基底層65間之介面形成。此外，= 份70係穿過該作用材料層62而及一 4
第18頁 係穿過該作用材料層63而成。 k路孔連接彻[ 切774 五、發明說明（14) '一' ~ 一' -- # Ϊ =感^私極67至69及该通路孔連接部份70及71係作内 。v电構件用，及該電感器電極67，該通路孔連接部份 j，該電感器電極68，該通路孔連接部份71，及該電感器 电極6 9係依序連接。結果係形成一具有部份呈線圈狀伸延 部份的電感器導體72。該電感器導體72末端係伸向該單元 本體66之相對邊緣面及係連接至外部電極75及冗分別形成 在該邊緣面7 3及7 4上之一外部電極。 如述之该单元本體6 6係可以切割一母疊層獲得，及該母 疊層係具有個別對應該作用材料層62及63，該基底層^及 65 ’及該電感器電67至69之元件及該通路孔連接部份7〇 71。 —一 前述自該母疊層獲得該單元本體6 6係可藉大致相似於自 該母疊層生產該多層電路板21或該單元本體45之方法生 產。 即在完成焙烤前之一階段，使該基底層64及65含破璃於 劑及陶瓷粉劑。此外，該作用材料層62及63，在完成= 烤前之一階段，使之含具有磁性之陶瓷粉劑，但不含破璃 材料9在焙烤步驟中，含於該基底層64及65之破壤材料係 擴散或流入該作用材料層62及63，結果，含於該作用材料 層6 2及6 3之磁性粉劑係牢固地彼此黏合在一起。 ” 圖5係說明根據本發明第四實例之一電感器6 1 a的裁面 圖。因圖5所示該電感器6 1 a係具有數量對應於圖4所示電 感器6 1之元件，且在圖5中所示之參考號碼相同圖4所示， 故不重覆說明。
第19頁 / /4 五、發_ 圖5所示該電感器61a ，其特徵在該單元本坪 之置作用材料層77及78於該作用材料層62及％ ^底二: ^从及於該作用材料層63及該基底層65之間了 土 &層64 处忒作用材料層77及78，其具於焙烤步驟中抑 二係在焙烤完成前之一階段使之含陶：不：功 璃f劑。本實例中使用之陶竟粉劑，係具；:1可 =性，㈣氣，磁性，電阻性，及絕緣性之陶=電 =亥陶是對_電感器61a戶斤需電氣特性無 丌長久使用。例如’一具有絕緣特性之 ^向故 係可安全使用。 j无材枓，如鋁， ^烤步驟中，含於該基底祕及65中之㈣材 政或w入該作用材料層77，78，62，及63中， & =料層口，78,62，及63中之陶究粉劑牢== 能步驟中，1亥作用材料層77及78之收縮抑制功 糸效果卓者，特別於含於該基底層64及65中之玻 =含於該作用材料層62及63中之陶瓷材料彼此反應時為〆 然’結果’該作用材料層6 2及6 3係趨於沿該平面方向收 縮。因含於該作用材料層77及78中之陶瓷粉劑，如銘， 難以對一玻璃材料反應，因此即不會發生該作用材料屑，7 及78沿該平面方向之收縮，結果，與該作用材料層77 ^78 接觸之該作用材料層62及63的收縮係顯著抑制。 優點係前述之該作用材料層77及78係可接觸於該作用材 料層62及63 ;但該作用材料層77及78係也可配置在該單元
第20頁 五、發明說明（16) 本體66a之其他部份。此外’ 一抑制收縮之作用材料 該電 =該作用材料層77及78係可應用於該多層電路板21 各器4 1，及諸如此類者。 圖6係說明根據本發明第五實例之一電阻器81的截 豐層構成之單元本 層係在焙 劑及陶兗 一階段使 。在焙烤 散或流入 陶瓷粉劑 具有一明 ，42 ， 62 可包含， 混合在一 該電阻器8 1係具有一由混 單元本體係具有一作用材料 層係接觸於該作用材料層8 2 此外，在該單元本體8 5之 外部電極8 8及8 9，及該外部 用材料層8 2之邊緣面。 該單元本體8 5係可相似於 疊層切割獲得，及該母叠層 82及該基底層83及84之元件 獲得該單元本體85之母疊 之該基底層83及84含玻璁私 材料層82係在焙烤完成前Ζ 陶瓷粉劑，但不含玻璃材料 層83及84中之坡璃材料係擴 與含於該作用材料層8 2中之 在前述之實例中，僅一種 含於個別作用材料層2 3，2 5 中；但多種類別之陶瓷係也 曼粉劑及磁性陶瓷粉劑係可 層82與基底層83及84，該 之兩側。 相對邊緣面8 6及8 7上，係 電極88及89係分別連接至 鈾述該電容器4 1之方式自 係具有個別對應該作用材 烤完成前 粉劑。此 之含具有 步驟中， 該作用材 牢固地|占 確電氣特 ，63 ， 77 而且，例 之 外 Φ· 含 階 ，該 .基底 形成 該作 一母 料層 段使 作用 性之 基底 ，及 起。 瓷係 及82 質陶 層 起而包含 495774 五、發明說明（17) 中。 下述係以特殊範例說明本發明。 [範例1 ] 範例1係生產一示於圖3之電容器4 1。 首先，具有約5 /zm顆粒直徑之矽-鈣-鋁-鎂（Si—Ca-A1 — M g)玻璃粉及具有約〇 · 5 # m顆粒直徑之鋁粉係準備作某底 層43及44之原料成分用，及係以玻璃粉6〇與銘粉之重一漫 比混合在一起。然後一擴散劑及黏合劑係添加於該混八^ 料中並攪拌均勻，而成漿狀。 X此σ :空氣氣泡自混合漿中排除後’係用刮刀法成形3〇〇 ^ 知作基底層43及44用之第一未經-燒結-片件，並乾燥之。 同日可，使用具有約〇 · 7 # m顆粒直徑及一電介常數 (/ ) 1 700之鈦酸鋇陶瓷粉供作用材料層42用之電介質陶資 卷劑，及以前述製造第二未經燒結片件相同之方法形成】$ # m厚作作用材料層42用之第二未經燒結片件。 其次係在該第二未經燒結片件之兩側，藉焙烤—銀糊形 ^内部電極46及47，這樣，該電極46及47之有效相對面積 二：而後’該第一未經燒結片件係以該第二未
力片件f於中間方式疊層，並施以1 0 0 0 kg/cm2之壓 庳k 後所得在未經燒結狀態之母疊層係以8 8 0 °C之溫 度焙烤二小時。 當該母疊層 未發現該作用 離時，即係獲 焙烤後係應觀 材料層4 2與該 得一極佳之母 察其外表有無彎 基底層43及44間 疊層。此外，沿 曲及缺點，如 之個別介面分 該平面方向之
第22頁 495774 —---- 五、發明說明（18) 收縮係應為1 · 2 %，及水份 争、隹 收k應為0 % 〇 元本體45之晶片，及外，即可獲得一形成單 於該單元本體45之上，^ 及51係藉焙烤一銀糊配置 器4 1之作用材# jg 4 9 Μ 〇此忒電谷器4 1即屬完成。該電容 (lcr)測得，及尸一170二合係用電感—電容-電阻計 士 件17〇/1MHz之電介常數（ε)0 積:二=ί範例1及2相比較，除添加於40%體積及50%體 、、曰人將: 粉劑至欲形成作用材料層之未經燒結片件的 及電介常 及電介常數 m =二Π中^，培烤母疊層及電容器之操作係相似於完成前 乂耗列之操作。而後，係獲得水份吸收，收縮 數（ε )荨數據。 _ 在下述表1中所示係範例之吸收，收縮 (ε )以及範例1與2之比較。 [表1 ]
增加坡螭體積 範例· 與範例1比較 與範例2比較 0 vol% 40 vol% 50 vol% t份吸收： 0% 0% 0% 1.2% ^ 11.2% 11.3% _ε 170 47 34 自表1知，根據該範例，即使加施相同培烤溫度於該比 較範例1及2 ’係仍可獲得一較咼之電介^數（ε )，及收縮 係也可抑制。 此外，在另一比較範例中，一具有3 0 %體積破璃之作用
第23頁 五、發明說明G9) 材下80。。之培烤溫度使之密化。 陶瓷粉劑係作含；^ 1t使用另一種如鈦酸鋅鉛之電介質 以大致:二以::::層42用之電介質陶編 1，
乾例2係生產一呈古m A 首先，以相似於'//n示結構之電感器μ。 材料，準備第一未經=片為：。成基底層64及65所準備之 同時，以具有约η ς " 用材料層6 2及6 3中之陶:顆粒直，之鎳鋅鐵粉劑為含於作 混合，而成糊狀之印刷激粉劑’該鐵粉劑係與印刷用清漆 分別印刷二糊' 2 5 f = f基底層6 5之·該未經燒結片件上， 6 3。夢該電4 31 1伤7 0及7 1即成形於該作用材料層6 2及 ^ ^ t ί! ；6： ΐ6；；； ^ ^ ^ °今體係設計使之具有1. 5匝。 件下；Γ驟：开疊！該欲成？為另一基底層64之未經燒結片 之未經燒結片=成一混合豐層，及自該欲成形為基底層6 5 件之該混I晶至該欲成形為另一基底層6 4之未經燒結片 f此口 $層係加施以100 kg/cm〗之壓力。 88 未經燒結狀態中之母疊層在大氣中以 , Q巧2小時。 去ϊ目兮从m &烤後係應觀察其外表有無彎曲及缺點，如 "“ $ #料層62與該作用材料層63及該基底層64間
第24頁 ^5774 五、發明說明（20) 一· —--一 一 t η面以及該作用材料層6 3與該基底層6 5間之介面分離 即係獲彳于一極佳之母疊層。此外，沿該平面方向之收 縮係應為0· 8%，及水份吸收係應為〇%。 一更進一步係切割該焙烤後之母疊層，即可獲得一形成單 70本!i6f之晶片，及外部電極75及76係藉焙烤一銀糊配置 於该早兀本體66之上，如此該電感器61即屬完成。有關該 電感器6丨之阻抗頻率特性係予測量及濾、波特性係予評估。 阻抗對頻率之變化係於圖7中說明。 在圖7中，阻抗（Z)係以z = R+jx示之，及當阻抗係以複數 2不時，R係一複數之實數部份，及]·係一複數之虛數部 :。當信號以正弦波輸入時，在_相位中相同之部份係測量 為R之及在相位中之位移係測量為χ ’及|2丨係R2 + X2之平方 根，即（RHX2)1/2。 ~如圖7所示，根據於前述該範例所得之電感器61，係可 得一在1 0 0 MHz時為1 7 Ω阻抗之濾波功能。、口口 在用另一種磁性陶瓷粉劑如鎂〜辞鐵粉劑作一含於該作 用材料層62及63中之磁性陶瓷粉劑時，係也可獲得與前述
在前述之實例中，該沿平面方向之收縮制8% ;但於錄 辞鐵用於該作用材料層62及63時，传1古 A 〆 入 ;，故有時該沿平面方向之收縮不‘較 料起反應，與液相燒結過程之結果4:料與該鐵質材 改善尺寸之穩定性，最好係採用圖5所為干抑且制古丽述之收縮及 尸坏不具有作用材料層
第25頁 495774 五、發明說明（21) —- 77及78層之結構。在圖5所示結構中，於含具有顆粒直押 約0.5 am鋁之作用材料層77及78分別形成約8 之厚度 時，其沿平面方向之收縮係抑制至約〇 , 5 %。 [範例3 ] 範例3係生產具有圖6所示結構之一電阻8丨。 以相似於該範例1之方式準備第一未經燒結片件，以作 形成基底層8 3及8 4之未經燒結片件用。 同時，以具有約1 顆粒直徑之氧化釕電阻陶瓷粉劑 含於該作用材料層82之陶莞粉劑，該粉劑係與印刷用清 漆混合，而成糊狀之印刷漿。
下一步驟係在欲成形為基底展84之該未經燒結片件上， 以網目印刷法塗施18 厚之印刷漿’及欲成形為基底層 8 3之未經燒結片件係疊置於該欲成形為基底層8 4之未經燒 結片件上並加施1 〇 〇 k g / c m2之壓力。 下一步驟係一在未經燒結狀態中之母疊層在大氣中以 8 8 0 °C之溫度焙烤2小時。
當該母疊層培烤後係應觀察其外表有無彎曲及缺點，如 未發現該作用材料層82與該基底層83間及與該基底層84間 之"面刀離日守，即係獲得一極佳之母疊層。此外，沿該平 面方向之收縮係應為3 · 〇 %，及水份吸收係應為⑽。 更進步係切剎該焙烤後之母疊層，即可獲得一形成單 元本，6_6之晶片，及外部電極88及89係藉焙烤一銀糊配置 於該早兀本體66之上’ 士口此該電阻81即屬完成。有關該電 阻8 1之電阻係予測量而得其電阻性為〇 · 〇 3 Ω。
第26頁 495774 五、發明說明（22) 於使用非氧化釕作含於作用材料層8 2之電阻陶瓷粉劑用 時，係可得大致與前述相似之結果。 在前述之範例1至3中，各具有一單一功能之該電容器 41，該電感器61及61a，或該電阻81，係予評估；但供具 有一單一功能之電子元件之評估係可應用於，例如，圖1 所示之該多層電路板2 1。其理由係該多層電路板2 1，其他 多層電路板，或一混合電子裝置係可考慮為一包括複數各 具有一單一功能電子元件之總成。 本發明係已以最佳實例作特別說明，精於此技藝者係應 瞭解，前述及其他構形與細部内容之改變係可在不脫離本 發明精神下行之。 1 - -
第27頁 495774 案號89111263_年月曰 修正 圖式簡單說明
<1 <»
64582-910529.ptc 第28頁

Claims (1)

  1. 495774 案號 89111263 年_3 修正 六、申請專利範圍 1 . 一種混合疊層， 一基底層\其包 觸並含第二粉劑之粉 其中該第一粉劑 該第二粉劑之粉 阻性及絕緣性之至少 至少該第一粉劑之 該第二粉劑係呈非 份材料擴散或流入該 2 .根據申請專利範 之一部份材料係擴散 致全部該第二粉劑係 3 .根據申請專利範 該第一粉劑之一部份 點。 4 .根據申 料最好係包 5 .根據申 劑之粉塊係 6 .根據申 劑之粉塊係 璃，與結晶 7 .根據申 括複數之基 利範 因燒 請專利範 更進一步 請專利範 包括 堇青 請專 底層 請專 括一 鋁 石玻 利範 ，其 係包括： 括第一粉劑之粉塊；及與該基底層接 塊之作用材科層； 之粉塊係包括玻璃材料； 塊係包括具、有選自電介性，磁性，電 一特定的電氣特性的陶瓷材料； 一部份係呈燒結狀態； 燒結狀態，而且係藉該基底層之一部 作用材料層中而彼此黏合在一起。 圍第1項之混合疊層，其中該基底層 或流入該作用材料層整個區域，及大 藉該基底層之材料黏合在一起。 圍第1或第2項之混合疊層，其中至少 具有較該第二粉劑燒結溫度低之融 圍第1項之混合疊層，其中該玻璃材 結而玻璃化之材料。 圍第1項之混合疊層 包括一陶瓷材料。 圍第5項之混合疊層 與至少一結晶鈣斜長石玻璃，硼矽玻 璃之混合材料。 圍第1項之混合疊層，係更進一步包 中該複數基底層係以該作用材料層在 其中該第一粉 其中該第一粉
    64582-910529.ptc 第29頁 495774 _案號 89111263_年月日__ 六、申請專利範圍 其間之方式疊合而成合。 8 .根據申請專利範圍第1項之混合疊層，係更進一步包 括複數作用材料層，其中該複數作用材料層係以疊合該基 底層之間。 9 .根據申請專利範圍第8項之混合疊層，其中該複數作 用材料層係具有一第一作用材料層及一第二作用材料層， 及含於該第一作用材料層之陶瓷粉劑與含於該第二作用材 料層之陶瓷粉劑係可具有彼此不同之電氣特性。 1 0.根據申請專利範圍第1項之混合疊層，係更進一步包 括一導體構件配置在其表面上或其内部中，其中該基底 層，該作用材料層及該導體構件係構成一電子元件。 11. 一種製造混合疊層之方法，該方法係包括： 第一步驟，係準備含玻璃材料之第一粉劑； 第二步驟，係準備第二粉劑，該粉劑係具有選自電介 性，磁性，電阻性及絕緣性之至少一明確的電氣特性，及 係未以燒結該第一粉劑至少一部份之溫度燒結； 第三步驟，係在未經燒結狀態中生產一混合疊層，該 混合疊層係包括一在未經燒結狀態中之基底層，該基底層 係包括第一粉劑及一在未經燒結狀態中之作用材料層，該 作用材料層係與該基底層接觸並含該第二粉劑；及 第四步驟，係以一預定之溫度焙烤該未經燒結狀態中 之疊層，其中至少該第一粉劑之一部份係燒結，及一部份t 基底層材料係擴散或流入該作用材料層中，這樣，該第二 粉劑不經燒結即黏合在一起。
    64582-910529.ptc 第30頁 495774 案號 89Π1263 年 月 曰 修正 六、申請專利範圍 1 2.根據申請專利範圍第1 1項之製造混合疊層之方法， 其中，在該第一步驟中，該基底層係以含第一粉劑之第一 未經燒結片件狀態準備。 1 3.根據申請'專利範圍第1 2項之製造混合疊層之方法， 其中，在該第一步驟中，該作用材料層係以含第二粉劑之 第二未經燒結片件狀態準備，及該第一步驟係包括疊置該 第二未經燒結片件使之接觸於該第一未經燒結片件。 Φ
    64582-910529.ptc 第31頁
TW089111263A 1999-07-27 2000-06-09 Hybrid laminate and manufacturing method therefor TW495774B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21154699A JP3601679B2 (ja) 1999-07-27 1999-07-27 複合積層体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW495774B true TW495774B (en) 2002-07-21

Family

ID=16607623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW089111263A TW495774B (en) 1999-07-27 2000-06-09 Hybrid laminate and manufacturing method therefor

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6306511B1 (zh)
JP (1) JP3601679B2 (zh)
KR (1) KR100344923B1 (zh)
DE (1) DE10033984A1 (zh)
GB (1) GB2354483B (zh)
TW (1) TW495774B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6893710B2 (en) 2003-04-18 2005-05-17 Yageo Corporation Multilayer ceramic composition

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3656484B2 (ja) * 1999-03-03 2005-06-08 株式会社村田製作所 セラミック多層基板の製造方法
JP2001047423A (ja) * 1999-08-09 2001-02-20 Murata Mfg Co Ltd 複合積層体およびその製造方法
JP3554962B2 (ja) * 1999-10-28 2004-08-18 株式会社村田製作所 複合積層体およびその製造方法
DE10106049A1 (de) * 2001-02-09 2002-09-12 Siemens Ag Glaskeramische Zusammensetzung und Verfahren zum Herstellen einer Glaskeramik unter Verwendung der glaskeramischen Zusammensetzung
US6759740B2 (en) * 2001-03-30 2004-07-06 Kyocera Corporation Composite ceramic board, method of producing the same, optical/electronic-mounted circuit substrate using said board, and mounted board equipped with said circuit substrate
JP2002368422A (ja) * 2001-04-04 2002-12-20 Murata Mfg Co Ltd 多層セラミック基板及びその製造方法
DE10145363A1 (de) * 2001-09-14 2003-04-10 Epcos Ag Verfahren zur Herstellung eines keramischen Substrats und keramisches Substrat
US6835463B2 (en) * 2002-04-18 2004-12-28 Oakland University Magnetoelectric multilayer composites for field conversion
TW530377B (en) * 2002-05-28 2003-05-01 Via Tech Inc Structure of laminated substrate with high integration and method of production thereof
US7128472B2 (en) * 2003-07-31 2006-10-31 International Business Machines Corporation Method and apparatus for providing optoelectronic communication with an electronic device
WO2005104639A1 (ja) * 2004-04-20 2005-11-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに圧電共振部品
JP4587758B2 (ja) * 2004-09-22 2010-11-24 京セラ株式会社 ガラスセラミック基板
JP4583121B2 (ja) * 2004-09-27 2010-11-17 京セラ株式会社 ガラスセラミック基板
JP2006147913A (ja) * 2004-11-22 2006-06-08 Alps Electric Co Ltd 回路基板、及びその製造方法
WO2007004415A1 (ja) 2005-07-01 2007-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. 多層セラミック基板およびその製造方法ならびに多層セラミック基板作製用複合グリーンシート
US20070060969A1 (en) * 2005-09-15 2007-03-15 Burdon Jeremy W Implantable co-fired electrical feedthroughs
US7998561B2 (en) 2008-10-23 2011-08-16 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Ceramic laminate and method of manufacturing ceramic sintered body
JP2013051389A (ja) * 2011-08-01 2013-03-14 Ngk Spark Plug Co Ltd 回路基板、半導体パワーモジュール、製造方法
CN109819585A (zh) * 2017-11-20 2019-05-28 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 电路板及其制作方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5563900A (en) * 1978-11-08 1980-05-14 Fujitsu Ltd Multilyaer ceramic circuit board
JPS6014494A (ja) * 1983-07-04 1985-01-25 株式会社日立製作所 セラミツク多層配線基板およびその製造方法
US5254191A (en) * 1990-10-04 1993-10-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for reducing shrinkage during firing of ceramic bodies
JPH0811696B2 (ja) * 1993-04-22 1996-02-07 日本電気株式会社 多層ガラスセラミック基板とその製造方法
JPH08181443A (ja) * 1994-12-21 1996-07-12 Murata Mfg Co Ltd セラミック多層基板およびその製造方法
WO1996039298A1 (en) * 1995-06-06 1996-12-12 Sarnoff Corporation Method for the reduction of lateral shrinkage in multilayer circuit boards on a support

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6893710B2 (en) 2003-04-18 2005-05-17 Yageo Corporation Multilayer ceramic composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP3601679B2 (ja) 2004-12-15
KR100344923B1 (ko) 2002-07-20
GB2354483B (en) 2001-08-08
GB0014182D0 (en) 2000-08-02
US6306511B1 (en) 2001-10-23
DE10033984A1 (de) 2001-03-08
KR20010015440A (ko) 2001-02-26
GB2354483A (en) 2001-03-28
JP2001030419A (ja) 2001-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW495774B (en) Hybrid laminate and manufacturing method therefor
JP5799948B2 (ja) セラミック電子部品及びその製造方法
JP3407716B2 (ja) 複合積層電子部品
TWI277375B (en) Co-fired ceramic capacitor and method for forming ceramic capacitors or use in printed wiring boards
CN103971930B (zh) 多层陶瓷电容器及其制造方法
CN104021937B (zh) 多层陶瓷电子元件及其制造方法
CN107230549B (zh) 多层陶瓷电子元件及其制备方法
CN100484366C (zh) 多层陶瓷基板的制造方法
CN103050278B (zh) 多层陶瓷电容器及其制备方法
JP5796568B2 (ja) セラミック電子部品
JP2009529233A (ja) セラミック部品要素、セラミック部品及びその製造方法
TWI270332B (en) Multilayer ceramic board, manufacturing method thereof and piezoelectric resonant component
CN106910628A (zh) 层叠电子部件
JP2013179268A (ja) セラミック電子部品
CN106158314A (zh) 芯片型线圈组件及其制造方法
CN107921744A (zh) 层叠体和电子部件
CN103177875B (zh) 层叠陶瓷电子元器件
JP2004356333A (ja) 積層型電子部品およびその製法
JP2002505805A (ja) 埋込み受動素子を有するセラミック多層プリント回路基板
CN103247438A (zh) 陶瓷电子部件及其制造方法
TW511442B (en) Multilayered board and method for fabricating the same
TWI236686B (en) Method for manufacturing multilayer ceramic electronic component
JP2022105266A (ja) 積層型電子部品
JP2002057036A (ja) 積層複合電子部品及びその製造方法
JPH0155594B2 (zh)

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent