JP2001027811A

JP2001027811A - 感光性ペーストおよびディスプレイ

Info

Publication number: JP2001027811A
Application number: JP2000129399A
Authority: JP
Inventors: Yoshiki Masaki; 孝樹正木; Kunihiko Nakada; 邦彦中田; Akiko Okino; 暁子沖野
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-05-07
Filing date: 2000-04-28
Publication date: 2001-01-30
Anticipated expiration: 2020-04-28
Also published as: JP4507350B2

Abstract

(57)【要約】【課題】感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法
による隔壁形成で良好なパターニング性を得て、なおか
つ反射率の高い隔壁を形成することにより輝度の高いデ
ィスプレイを得る。【解決手段】低融点ガラスを含有し、焼成後に白色に変
化することを特徴とする感光性ペースト。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は隔壁の形成に用いる
感光性ペーストに関するものであり、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、プラズマアドレス液晶ディスプ
レイ、電子放出素子（ＦＥＤ、フィールドエミッショ
ン）または蛍光表示管や有機電界発光素子（有機ＥＬ、
エレクトロルミネッセンス）を用いた画像表示装置など
に用いることができる。

【０００２】

【従来の技術】軽い薄型のいわゆるフラットパネルディ
スプレイが注目されている。フラットパネルディスプレ
イとして液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに開発され
ているが、これには画像が暗い、視野角が狭いといった
短所がある。ＰＤＰや電子放出素子または蛍光表示管を
用いた画像表示装置は、液晶ディスプレイに比べて明る
い画像が得られると共に、視野角が広い、さらに大画面
化、高精細化の要求に応えられることから、そのニーズ
が高まりつつある。

【０００３】電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰
極電子放出素子がある。冷陰極電子放出素子には電界放
出型(ＦＥ型）、金属／絶縁層／金属型(ＭＩＭ型）や表
面伝導型などがある。このような冷陰極電子源を用いた
画像形成装置は、それぞれのタイプの電子放出素子から
放出される電子ビームを蛍光体に照射して蛍光を発生さ
せることで画像を表示するものである。この装置におい
て、前面ガラス基板と背面ガラス基板にそれぞれの機能
を付与して用いるが、背面ガラス基板には、複数の電子
放出素子とそれらの素子の電極を接続するマトリックス
状の配線が設けられる。これらの配線は、電子放出素子
の電極部分で交差することになるので絶縁するための絶
縁層が設けられる。さらに両基板の間で耐大気圧支持部
材として隔壁（スペーサ）が形成される。

【０００４】蛍光表示管（ＶＦＤ）の構造と電気的動作
機構は、ＣＲＴと異なりＶＦＤでは数十Ｖの電圧による
数十ｍＡの低速電子流で蛍光体を励起する。このような
ＶＦＤ素子を用いたディスプレイにおいても、発光領域
を区切るため格子状などの隔壁が形成される。

【０００５】有機電界発光素子は、陰極から注入された
電子と陽極から注入された正孔とが両極に挟まれた有機
蛍光体内で再結合して発光することを応用したものであ
るが、薄型化が可能であること、低駆動電圧下での高輝
度発光が可能であること、蛍光材料を選ぶことにより多
色発光が可能であることなどから注目されている。有機
電界発光素子の作製においても、隔壁が形成される。

【０００６】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内で対
向するアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放
電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発
生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てる
ことによって表示を行う。

【０００７】ＰＤＰにおける隔壁は、従来、絶縁ガラス
ペーストをスクリーン印刷法でパターン状に印刷して乾
燥するという工程を繰り返して所定の高さにした後、焼
成して形成していた。しかしながら、スクリーン印刷法
では、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め基板
上に形成されている放電電極と絶縁ガラスペーストの印
刷場所との位置合わせが難しく、位置精度が得られ難い
という問題がある。しかも、所定の隔壁高さを得るため
多数回の重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁および
その側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精
度が得られないため、表示品質が悪くなり、また、作業
性が悪く歩留まりも低いなどの問題点がある。またスク
リーン印刷法では、ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴
い要求される、高アスペクト比で高精細の隔壁が得られ
ない。

【０００８】このような問題を改良する方法として、特
開平６−２９５６７６号公報などで、感光性ペーストを
用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁を形成する方
法が開示されている。しかし、従来は感光性ペーストの
感度や解像度が低く、高アスペクト比で高精細な隔壁が
得られなかった。

【０００９】一方、ＰＤＰの蛍光体層からの発光の効率
を向上するために隔壁の反射率を高くしたいという要求
がある。つまり、隔壁の光透過率が高く反射率が低い
と、隔壁側面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光体層
から発光される表示光の反射が不足し、さらに、隣の隔
壁間の蛍光体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度が高
く、色純度の良好なディスプレイが得られない。これに
対し、特公平６−４４４５２号公報には、ガラス粉末と
それと異なる屈折率を有する充填材との混合物を用いた
隔壁の形成を開示しているが、感光性ペーストとして要
求される高い光透過率とは反するため、パターニング性
が損なわれる。

【００１０】また、隔壁の気孔率が大きいと密着強度が
低下するのに加えて、強度の不足、また、放電時に気孔
から排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの
発光特性低下の原因となる。パネルの放電寿命、輝度安
定性などの発光特性を考慮すると、気孔率は１５％以下
であることが好ましく、より好ましくは１０％以下、さ
らに好ましくは３％以下である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、感光性
ペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成
は、良好なパターニング性を得るために光の透過性の高
い感光性ペーストを用いることが必要である一方、その
結果、得られる隔壁は反射率が低く良好な表示特性が得
られないという問題点を有する。

【００１２】本発明の目的は、良好なパターニングが可
能でコスト的にも有利なフォトリソグラフィ法により、
輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い白色隔壁の形
成に用いられる感光性ペーストを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、低融
点ガラスを含有し、焼成後に白色に変化することを特徴
とする感光性ペーストである。

【００１４】また本発明は、上記の感光性ペーストを用
いて隔壁を形成したことを特徴とするディスプレイであ
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に本発明をプラズマディスプ
レイの作製手順に従って説明する。但し本発明は、プラ
ズマアドレス液晶ディスプレイならびに電子放出素子、
蛍光表示管または有機電界発光素子を用いたディスプレ
イにおいても、好ましく適用される。

【００１６】プラズマディスプレイの背面板の基板に
は、ソーダガラスやプラズマディスプレイ用ガラス基板
（旭硝子社製ＰＤ２００など）を使うことができる。基
板上に、導電性金属により電極を形成する。導電性金属
としては、銀、銅、クロム、アルミニウム、ニッケル、
金等を用いることができる。電極は幅２０〜２００μｍ
のストライプ状に形成される。次いで電極を被覆するよ
うに誘電体層を好ましく形成する。

【００１７】次いで誘電体層上に、もしくは電極が形成
された基板上に隔壁を形成する。隔壁は、本発明の感光
性ペーストを塗布し、露光し、露光部分と未露光部分の
現像液に対する溶解度差を利用して現像した後に焼成し
て形成する。

【００１８】本発明の感光性ペーストは、低融点ガラス
を必須成分とする。低融点ガラスを用いることにより、
露光時のパターニング性を阻害することがなく、また焼
成により隔壁を形成することができる。

【００１９】低融点ガラス粉末は、隔壁が通常、ガラス
基板上に形成されることを考慮し、ガラス転移点４００
〜５５０℃、荷重軟化点（屈伏点とも云う）４５０〜６
００℃であることが好ましい。荷重軟化点を４５０℃以
上とすることで、ディスプレイ形成の後工程において隔
壁が変形することがなく、軟化点を６００℃以下とする
ことで、焼成時に溶融し強度の高い隔壁を得ることがで
きる。また、低融点ガラスの平均屈折率は、感光性ペー
ストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をと
り、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．６５の
範囲内とすることが好ましい。

【００２０】上記の特性を満たす低融点ガラス粉末は、
酸化物換算表記で以下の様な組成である。

【００２１】酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化
カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を
用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０
重量％であることが好ましい。

【００２２】アルカリ金属酸化物は、ガラスの軟化点、
熱膨張係数のコントロールを容易にするのみならず、ガ
ラスの屈折率を低くすることができるため、感光性有機
成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。アル
カリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とすることでガ
ラスの低融点化の効果を得ることができ、１５重量％以
下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に
熱膨張係数を小さく抑えることができる。アルカリ金属
としては、ガラスの屈折率を下げることやイオンのマイ
グレーションを防止することを考慮するならリチウムを
選択するのが好ましい。

【００２３】酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好
ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化
ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効
であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱
膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチ
による剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とす
ることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付
けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑え
ることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス
転移点、軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温
度を低くすることができる。

【００２４】酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しな
いガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、
さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、
さらには２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ま
しい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、軟
化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。
また、４５重量％以上とすることでガラスの化学的安定
性を維持することができる。

【００２５】酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムの
うち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量
％、さらには２〜１０重量％であることが好ましい。こ
れらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に
有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電
気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好
ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得
ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともで
きる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張
係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができ
る。またガラスの化学的安定性も維持できる。

【００２６】酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げて
ガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライ
フ延長にも有効である。１０〜２５重量％の範囲で配合
することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転
移点、軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを
容易とすることができる。

【００２７】さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネ
シウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数
を制御するために配合されることが好ましい。酸化カル
シウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％
配合するのが好ましい。合計量が２重量％以上とするこ
とで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下
とすることでガラスの化学的安定性を維持することがで
きる。

【００２８】また、上記の組成には表記されていない
が、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させる
ことなく低融点化させる成分でありこれも配合されるこ
とが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる
傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが
好ましい。

【００２９】低融点ガラス粉末は、ペースト形成時の充
填性および分散性が良好で、ペーストの均一な厚さでの
塗布が可能であると共にパターン形成性を良好に保つた
めには、平均粒子径が１〜７μｍであり、最大粒子径が
４０μｍ以下であることが好ましい。

【００３０】また本発明の感光性ペーストは、焼成後に
白色に変化することが重要である。焼成後に白色に変化
しないと、例えば露光時に高透過性を期して透明な感光
性ペーストを使用しても焼成後にディスプレイの高輝度
な表示特性を達成することができず、一方、焼成前から
白色を呈する感光性ペーストを使用したら露光光まで反
射してしまい良好なパターニング性を得ることができな
い。焼成後に呈する白色は、ＸＹＺ表色系におけるＹ値
で６０以上、さらには７０以上、またさらには８０以上
であることが好ましい。

【００３１】焼成後に白色に変化するという特性は、焼
成により白色の酸化物に変換する化合物を本発明の感光
性ペーストに含有させることによって達成できる。

【００３２】本発明において、焼成により白色の酸化物
に変換する化合物として、粒子径が０．００３〜０．０
２μｍの酸化物微粒子および分子オーダで透明な酸化物
溶液を用いることができる。分子オーダで透明な溶液を
感光性ペースト中に含有する場合は、ペースト中で均一
に分散されるため露光時の高透過率が維持できるので好
ましい。その結果、パターン形成性が損なわれることな
く良好なパターン形成性が維持できる。また、透明な酸
化物溶液を添加するとペースト中に均一に高分散するこ
とができるので焼成後に高反射率が得られる特徴があ
る。このような特徴を有する化合物として下記のものが
挙げられる。

【００３３】このような化合物としては、例えばＡｌ，
Ｚｒ，Ｔｉ，Ｙ，Ｃｅ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｓｉの化合物の群
から選ばれた少なくとも一種を含むことが好ましい。こ
れらの化合物は熱分解・酸化されてそれぞれの酸化物、
すなわち、アルミナ、ジルコニア、チタニア、イットリ
ア、セリア、酸化スズ、酸化タンタルおよびシリカとな
って、白色に変化することができる。特に、アルミナ、
ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、酸化亜
鉛、酸化錫、酸化タンタルの屈折率は、それぞれ１．６
４〜１．７６、２．３５〜２．７１、２．０５〜２．
２、２．２６、２．１３、２．０、２．７４であり、低
融点ガラスの平均屈折率との差という点から好ましく用
いることができる。一方、シリカは平均屈折率が１．４
６で上記の他の酸化物に比して低融点ガラスとの平均屈
折率の差は小さいが、下記するようなＳｉの化合物の平
均屈折率は特に感光性ペーストの他成分の平均屈折率と
の差が小さく、比較的多量に入れてもパターニング性を
損なうことがないため、その点で好ましい。

【００３４】得られた隔壁が白色を呈し反射率を向上さ
せるメカニズムは明らかではないが、次のように推定さ
れている。すなわち、加えられた白色の酸化物に変換す
る化合物が焼成の過程で微細なサイズの酸化物に変換さ
れ、これらの微細酸化物粒子が粒子径０．３〜２μｍの
凝集粒子を構成し、この凝集粒子は母体となるガラスに
対して高屈折率の成分であるため、この凝集粒子による
散乱が顕著になり、隔壁の反射率を向上させ、蛍光体層
からの発光の効率を向上するものである。凝集粒子とし
て、より好ましいサイズは粒子径で０．５〜１．０μｍ
である。ここでいう凝集粒子の粒子径は、イオンエッチ
ング法で処理した試料を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）
を用いて２万倍に拡大した観察写真を画像処理し、凝集
粒子の見かけの面積と同面積の円に換算した際の直径を
いう。５０個の凝集粒子について観察・画像処理を行
い、それらの平均値を凝集粒子の粒子径とした。

【００３５】これらの化合物は特に限定されるものでは
ないが、上記の金属のアルコキシド誘導体類、β−ジケ
トン類の錯体、β−ケト酸エステル類の錯体、有機カル
ボン酸誘導体類などが用いられる。これらの化合物はそ
のまま感光性ペーストの構成成分として加えることがで
きるが、一部、前加工を施した後で加えることも可能で
ある。

【００３６】アルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブ
トキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−
ペントキシ基、ｔ−ペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、
ｎ−ヘプトキシ基、ｎ−オクトキシ基などを用いること
ができる。また、β−ジケトン類、β−ケト酸エステル
類の具体例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルア
セトン、ジベンゾイルメタン、メチルアセトアセテー
ト、エチルアセトアセテート、ベンゾイルアセトアセテ
ート、エチルベンゾイルアセテート、メチルベンゾイル
アセテートなどが上げられる。

【００３７】Ｔｉを例として具体的な化合物名をあげる
と、テトラ−ｉ−プロピルチタネート、テトラ−ｎ−ブ
チルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
（２−エチルヘキシル）チタネート、テトラステアリル
チタネート、ジプロポオキシチタンビス（アセチルアセ
トナート）、チタンアセチルアセトナート、チタンテト
ラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナ
ート、チタンオクチルグレコレート、チタンラクテー
ト、チタンエチルアセトアセテート、ポリヒドロキシチ
タンステアレート、チタントリエタノールアミネート、
ジ−ｉ−プロポキシビス（アセチルアセトナト）チタ
ン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミン）チ
タンなどがある。

【００３８】金属アルコキシド類では、加水分解および
重縮合を経て形成されたゲル状物が焼成工程で金属酸化
物に変換してガラスやセラミックスになることが知られ
ているが、これらの成分も類似の化学変化を経て、目的
とする金属酸化物を形成するものと推定される。従っ
て、前述したようにこれらの加水分解や重縮合過程を別
途行ったものを感光性ペーストの構成成分として加える
ことも可能である。

【００３９】金属アルコシド類の溶液を感光性ペースト
中に添加した場合、塗布膜を形成した後に８０℃前後の
温度を加えるとペーストがゲル化して現像不能となり、
パターン形成ができなことがしばしば生じる。パターン
形成ができなくなる詳細な機構は不明であるが、感光性
ポリマー中のカルボキシル基やモノマーとアルコキシド
中の金属イオンとが反応する結果、感光性ポリマーが現
像液に溶解できなくなるためと推定される。

【００４０】また、金属アルコキシド溶液中の微量の水
分を１００ｐｐｍ以下に除去することによって金属アル
コキシドの加水分解を抑制することやアルコキシド溶液
に対する安定な混合溶媒を選択することによって金属ア
ルコシドの安定性を上げることができる（追加記載）。

【００４１】焼成により白色の酸化物に変換する酸化物
の含有量は溶媒を除いた状態の感光性ペーストに対して
３〜３０重量％であることが好ましい。３重量％以上と
することで、添加による反射率向上の効果を得ることが
できる。また、３０重量％以下とすることで、光透過を
阻害せずパターニング性を保つことができる。また、３
０重量％を越えるとペーストの安定性が低下し、粘度が
径時変化するようになり、膜厚の均一な塗布膜形成が難
しくなる。より好ましくは、６〜３０重量％である。

【００４２】感光性ペーストに配合される感光性有機成
分としては、照射光を吸収して生起する重合および／ま
たは架橋反応などによって光硬化して溶剤に不溶になる
型の感光性成分を用いることが好ましい。すなわち、感
光性有機成分として、感光性モノマー、感光性または非
感光性オリゴマーもしくはポリマーを好ましく用いるこ
とができる。

【００４３】感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭
素二重結合を有する化合物が好ましく、官能基として、
ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート
基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合
物が応用される。特に多官能アクリレート化合物および
／または多官能メタクリレート化合物を有機成分中に１
０〜８０重量％含有させたものが好ましい。多官能アク
リレート化合物および／または多官能メタクリレート化
合物には多様な種類の化合物が開発されているので、そ
れらから反応性、屈折率などを考慮して選択することが
可能である。ガラス成分等の屈折率との整合のために感
光性有機成分の屈折率を制御する方法として、屈折率が
１．５５〜１．８の感光性モノマーを採用する方法が簡
便である。このような高い屈折率を有する感光性モノマ
ーは、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原
子を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモノ
マから選択することができる。

【００４４】感光性オリゴマーおよび感光性ポリマー
は、光反応で形成される硬化物物性の向上やペーストの
粘度の調整などの役割を果たすことから好ましく用いら
れる。感光性オリゴマーおよび感光性ポリマーの好まし
い態様は、炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ば
れた成分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の
骨格を有するものである。特に、分子側鎖にカルボキシ
ル基と不飽和二重結合を有する重量平均分子量２０００
〜６万、より好ましくは３０００〜４万のオリゴマーま
しくはポリマーが用いられる。側鎖にカルボキシル基を
有することにより、未露光部分のアルカリ水溶液に対す
る溶解性を得ることができる。このような側鎖にカルボ
キシル基などの酸基を有するオリゴマーもしくはポリマ
ーの酸価は５０〜１４０、好ましくは７０〜１２０の範
囲になるようにコントロールすることが好ましい。

【００４５】感光性オリゴマーもしくはポリマーを得る
ために、不飽和二重結合を導入するには、カルボキシル
基を側鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに、グリ
シジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和
化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライ
ドまたはアリルクロライドを付加反応させるとよい。

【００４６】さらに、上記のようにカルボキシル基を側
鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに不飽和二重結
合を導入して感光性を付与するには、カルボキシル基と
アミン系化合物との間で塩結合を形成させる方法を用い
ることもできる。例えば、ジアルキルアミノアクリレー
トやジアルキルアミノメタクリレートを反応させて塩結
合を形成してアクリレートまたはメタクリレート基を感
光性基とすることができる。エチレン性不飽和基数は、
反応条件により適宜選択することができる。

【００４７】さらに、光重合開始剤を添加することによ
り、活性光線のエネルギー吸収能力を付与することがで
きる。光重合開始剤には、1分子系直接開裂型、イオン
対間電子移動型、水素引き抜き型、2分子複合系など機
構的に異なる種類があり、それらから選択して用いられ
る。また、光重合開始剤の効果を補助するために増感剤
を加えることもできる。

【００４８】以上の感光性有機成分の感光性ペーストに
対する配合率は、１０〜４０重量％、さらには１５〜３
５重量％が好ましい。感光性有機成分の量が少なすぎる
と、良好なパターニング性が得られにくい傾向にあり、
多すぎると、焼成後に収縮率が大きくなり隔壁の形状制
御が困難となる傾向にある。

【００４９】焼成時の隔壁の形状を安定させるために、
フィラーを好ましく添加することができる。フィラー
は、感光性ペーストにおける感光性有機成分や低融点ガ
ラス等他の成分との平均屈折率の整合をとり、露光光の
散乱を抑えるために、平均屈折率が１．４５〜１．６５
の範囲内にあることが好ましい。フィラーの平均屈折率
をこの範囲内とするためには、高融点ガラスおよびコー
ディエライトから選ばれた少なくとも一種を用いること
が好ましい。

【００５０】高融点ガラスとしては、ガラス転移点５０
０〜１２００℃、荷重軟化点５５０〜１２００℃を有す
るものが好ましく、このような高融点ガラスは、酸化珪
素および酸化アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上含
有する組成を有するものが好ましく、これらの含有量合
計が５０重量％以上であることが必要な熱特性を得るの
に有効である。高融点ガラスの組成はこれに限定される
ものではないが、例えば以下のような酸化物換算組成の
ものを用いることができる。酸化珪素１５〜５０重量％酸化ホウ素５〜２０重量％酸化バリウム２〜１０重量％酸化アルミニウム１５〜５０重量％。

【００５１】コーディエライトの屈折率は１．５８であ
り、低融点ガラス成分および感光性有機成分の平均屈折
率と近似するので、本発明のフィラー成分として好適で
ある。

【００５２】これらのフィラーの配合割合は無機微粒子
中の３０重量％以下であることが好ましい。より好まし
くは２０重量％以下である。

【００５３】フィラーの平均粒子径は１．５〜５μｍで
あることが好ましい。平均粒子径が小さすぎると、粉末
の凝集性が大きくなるため、ペーストへの充填・分散性
が悪くなり、高精細なパターン形成が難しくなる傾向に
ある。また、フィラー成分は焼成工程で溶融することが
ないので、平均粒子径が大きすぎると、形成された隔壁
の頂部の凹凸が大きくなりクロストークが発生する傾向
にある。

【００５４】感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により
１万〜２０万ｃｐｓ(センチ・ポイズ）程度に調整して
使用される。使用される有機溶媒としては、プロピレン
グリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘ
キサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、
イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらの
うちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられ
る。焼成により白色の酸化物に変換する化合物を予め処
理する際に用いた溶媒が感光性ペーストを形成する際の
溶媒と異なる場合に、これらの混合溶媒系となってもよ
い。

【００５５】感光性ペーストには、この他に、紫外線吸
収剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散
剤、界面活性剤その他の添加剤を加えることもできる。

【００５６】本発明のガラスペーストは、各種成分を所
定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機
などの混連・分散手段によって均質に混合・分散し作製
する。

【００５７】このようなガラスペーストを基板上もしく
は誘電体層上に塗布する。感光性ペーストを塗布する前
に、塗布面の表面処理を行って接着性を向上させること
が有効である。このような表面処理にはシラン系カップ
リング剤や金属アルコキシ化合物などが用いられる。

【００５８】感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷
法、バーコーター法、ロールコータ法、ドクターブレー
ド法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さ
は、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を
考慮して決めることができる。

【００５９】塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォト
マスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成す
る。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着し
て行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミ
ティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源とし
ては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧
水銀灯が最もよく使用される。露光条件はペーストの塗
布膜厚さによって異なるが、５〜３０ｍＷ／ｃｍ²の出
力の超高圧水銀灯を用いて２０秒から５分間程度の露光
を行う。

【００６０】現像は、浸漬法、スプレー法、ブラシ法な
どにより行われる。本発明の感光性ペーストの好ましい
態様として挙げた側鎖にカルボキシル基を有する感光性
有機成分では、アルカリ水溶液での現像が可能になる。
アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼
成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。有機ア
ルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることが
できる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサ
イド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなど
があげられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜
１重量％、より好ましくは０．１〜０．５重量％であ
る。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が完全に除去され
難くなる傾向にあり、アルカリ濃度が高すぎると、露光
部のパターンが剥離したり、侵食したりする傾向にあ
る。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管
理上好ましい。

【００６１】現像により形成された隔壁パターンは次に
焼成炉で焼成し、有機成分を熱分解して除去し、同時に
無機微粒子成分中の低融点ガラスを溶融させて無機質の
隔壁を形成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板
の特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成され
る。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連
続型焼成炉を用いることができる。

【００６２】バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パタ
ーンが形成されたガラス基板を室温から５００℃程度ま
で数時間掛けてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として
設定された５２０〜５９０℃に３０〜１２０分間で上昇
させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼成温
度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければ
ならないので自ずから上限が存在する。焼成温度が高す
ぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダレ
などの欠陥が発生する傾向にある。

【００６３】このようにして得られた隔壁に挟まれたセ
ル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布し
てプラズマディスプレイパネル用の背面基板が構成され
る。この背面基板と前面基板とを張り合わせた後、封
着、ガス封入し、駆動用のドライバーＩＣを実装してプ
ラズマディスプレイが作製される。

【００６４】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。

【００６５】（測定方法）（１）全光線透過率、全光線反射率島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用
いて次のような条件で測定した。試料厚み：５０μｍ試料セル：石英セルスリット幅：７．５測定速度：SLOW（約100nm/min) 光源：ハロゲンランプ白板：ＢａＳＯ₄（サンプル側）副白板：ＢａＳＯ₄（リファレンス側）入射角：０度、８度積分球：６０φ積分球積分球の開口比率：１２．９％検出器：ホトマルおよびＰｂＳセル透過率測定の試料は、石英セル上に乾燥後厚みが５０μ
ｍになるように感光性ペーストをスクリーン印刷法で塗
布・乾燥し、試料の上に石英セルをのせて、調製した。
全光線透過率は、入射角０度で入射した光の全透過光を
測定した。反射率の測定に用いた試料は、透過率測定用
試料を、５７０℃で１５分間焼成した。厚さは約３０μ
ｍとなった。全光線反射率は入射角８度で入射した光の
全反射を測定した。

【００６６】（２）ＸＹＺ表色系の刺激値光源色の３刺激値ＸＹＺは、ＪＩＳＺ８７０１（ＸＹ
Ｚ表色系およびＸ₁₀Ｙ ₁₀Ｚ₁₀表色系による色の表示法）
に規定された方法で求めることができる。

【００６７】測定には、スガ試験機（株）製のカラーコ
ンピューターＳＭ−７−ＣＨ（光学条件；４５°照射，
０°受光）を用いた。

【００６８】測定試料は、８０ｍｍ角、厚さ１．３ｍｍ
のソーダガラス基板上にそれぞれのガラスペーストを乾
燥厚み５０μｍになるよう塗布し、これを５７０℃で１
５分間焼成して作製した。

【００６９】測定試料は、８０ｍｍ角、厚さ１．３ｍｍ
のソーダガラス基板上にそれぞれのガラスペーストを乾
燥厚み５０μｍになるよう塗布し、これを実施例１〜９
および実施例１４，１５については、５７０℃で１５
分、実施例１０〜１３については、５９０℃で、１５分
焼成後の試料を用いた。

【００７０】この試料を用い、Ｃ光（北窓光）２度視
野、基準として白色板（標準品として硫酸バリウム、Ｘ
＝９１．０６，Ｙ＝９３．０１，Ｚ＝１０６．９０のも
のを使用）を用いて測定した。測定に先立ち、ソーダガ
ラス基板のみに白色板を重ねて試料台において、零点合
わせを行った。測定試料は１２ｍｍφの測定孔を有する
試料台に焼成試料面を光照射方向にして置き、そのガラ
ス基板側に白色板を重ねて置くようにした。測定試料の
位置を変えて３点の測定を行い平均値を測定値とした。

【００７１】（実施例１）まず以下の手順にて感光性ペ
ーストを作製した。

【００７２】低融点ガラスとして、酸化物換算組成が、
酸化リチウム６．８％、酸化ケイ素２３％、酸化ホウ素
３３％、酸化バリウム４．５％、酸化アルミニウム１
９．５％、酸化亜鉛２．８％、酸化マグネシウム５．８
％、酸化カルシウム４．６％のガラスを用いた。この低
融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、荷重軟化点は５
３０℃、熱膨張係数は７５×１０^-7／Ｋであった。ガラ
ス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径
２．６μｍ、最大粒子径２２μｍ、タップ密度０．７５
ｇ／ｃｃ、屈折率１．５９の非球状粉末として使用し
た。これを５０重量部用意した。

【００７３】フィラーとして、酸化物換算組成が、酸化
珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸
化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛
２％、酸化マグネシウム５％の高融点ガラス粉末を用い
た。この高融点ガラス粉末のガラス転移点は６５２℃、
荷重軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０^-7／Ｋ、
平均粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であっ
た。これを１２重量部用意した。

【００７４】焼成により白色の酸化物に変換する化合物
としてテトラエトキシシランを用いた。これを酸化物に
換算して１０重量部となるよう用意した。

【００７５】以上の低融点ガラス、フィラーおよび化合
物の合計７２重量部に対して、０．０６重量部のアゾ系
有機染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えて
ホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉
末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレ
ーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃
の温度で乾燥した。

【００７６】一方、γ−ブチロラクトンに感光性ポリマ
ーを４０％溶液になるように混合し、撹拌しながら６０
℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。用いた感光
性ポリマーは、メタクリル酸４０％、メチルメタクリレ
ート３０％およびスチレン３０％からなる共重合体のカ
ルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリ
レートを付加反応させたもので、その重量平均分子量は
３２，０００，酸価は９５であった。

【００７７】室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノ
マー(ＭＧＰ４００）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）、
ゲル化防止剤（ベンゾトリアゾール）、分散剤（ノプコ
スパース）、重合禁止剤（ハイドロキノンモノメチルエ
ーテル）および可塑剤（ジブチルフタレート）を加えて
溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィ
ルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。

【００７８】溶剤を除いた有機成分の配合割合は、感光
性ポリマー３８％、感光性モノマー３８％、光重合開始
剤９．２％、ゲル化防止剤８．５％、分散剤１．６％、
重合禁止剤０．５％、可塑剤４．２％である。

【００７９】前述の、低融点ガラス粉末とフィラーとテ
トラエトキシシランを混合して乾燥したものに有機ビヒ
クルを３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得
た。感光性ペーストに含まれる各成分（重量部）は、低
融点ガラス粉末５０、フィラーを１２、焼成後に酸化物
に変換する化合物を酸化物換算で１０，有機ビヒクルを
３５とした。無機材料中の低融点ガラス粉末、フィラー
および白色酸化物換算の混合比率は６９．４：１６．
７：１３．９となる。

【００８０】この感光性ペーストの厚さ５０μｍの塗布
膜は透明でその全光線透過率は７８％であり、その塗布
膜を５７０℃で１５分間焼成した膜は白色でその全光線
反射率は６６％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は７５であ
った。

【００８１】次いで、プラズマディスプレイパネルを作
製した。

【００８２】１００ｍｍ角ガラス基板上に電極層を形成
した。平均粒径１．５μｍの球状銀粉末および感光性有
機成分を含む感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグ
ラフィ法により、ピッチ１４０μｍ、線幅４０μｍのス
トライプ状パターンを形成し、空気中で５８０℃、１５
分間焼成し、銀含有量９７．５％、ガラスフリット量
２．５％の電極層を形成した。この電極層の厚みは２．
６μｍであった。

【００８３】次にエチルセルロース５％のテルピネオー
ル溶液３０ｇ、平均粒子径０．２４μｍのルチル型酸化
チタン５ｇ、ガラス粉末（酸化物表記の組成：酸化ビス
マス６７％、酸化ケイ素１０％、酸化ホウ素１２％、酸
化アルミニウム３％、酸化亜鉛３％、酸化ジルコニウム
５％）１６５ｇを混合・予備混練をした後、三本ローラ
にかけて誘電体ペーストを作製した。この誘電体ペース
トを上記の電極層を形成したガラス基板上に、スクリー
ン印刷法で３２５メッシュのスクリーンを用いて乾燥厚
み１８μｍになるように塗布した。続いて５７０℃で１
５分間焼成して厚み９μｍの誘電体層を形成した。

【００８４】次に、本実施例の感光性ガラスペースト
を、３２５メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印
刷法により塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を
回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚の
調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。
その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の塗
布膜厚さは１８０μｍであった。

【００８５】続いて、１４０μｍピッチ、線幅２０μｍ
のネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／
ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で露光量２５０ｍＪ／ｃｍ²の
プロキシミティ露光を施した。露光後のパターンを、３
５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２％水溶液
をシャワーで３００秒間かけることにより現像し、その
後、シャワースプレーにより水洗してガラス基板上にス
トライプ状の隔壁パターンを形成した。

【００８６】このようにして得られた隔壁パターンを空
気中、５７０℃で１５分間焼成して白色の隔壁を形成し
た。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察した
ところ、高さ１３５μｍ、隔壁中央部の線幅３３μｍ、
ピッチ１４０μｍの良好な形状であった。

【００８７】次に、孔径１５０μｍの吐出口を有する長
さ３ｍｍのニードルを５本、ピッチ４２０μｍで先端に
圧入したノズル（Ｌ／Ｄ＝２０）を用いて隔壁間に、赤
色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体
ペーストを塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成
して、プラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。

【００８８】次に、この背面板とプラズマディスプレイ
パネル用の前面板とを合わせ、封着、ガス封入し、駆動
回路を接続してプラズマディスプレイを得た。このパネ
ルに電圧を印加して表示を行い、全面点灯時の輝度を大
塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した
ところ、輝度は４１０ｃｄ／ｍ²であり、本発明の目的
の表示特性を満足するものであった。

【００８９】（実施例２）焼成後に白色の酸化物となる
化合物としてチタンアセチルアセトナートを用い、感光
性ポリマーとしてダイセル化学社製のサイクロマーＰ
（ＡＣＡ２１０、酸価１２０，分子量２８，０００）を
用いた以外は、実施例１を繰り返した。本実施例の感光
性ペーストの厚さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透
過率は７０％であり、焼成した膜は白色でその全光線反
射率は７５％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は８０であっ
た。

【００９０】この感光性ペーストを使用して隔壁を作成
し、それを用いて作製したプラズマディスプレイパネル
は、輝度が４６０ｃｄ／ｍ²であった。

【００９１】（実施例３）焼成後に白色の酸化物となる
化合物としてトリエトキシアルミニウムを用いた以外
は、実施例１を繰り返した。本実施例の感光性ペースト
の厚さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透過率は７３
％であり、焼成した膜は白色でその全光線反射率は７０
％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は７８であった。

【００９２】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４４０ｃｄ／ｍ²で
あった。

【００９３】（実施例４）焼成後に白色の酸化物となる
化合物としてジルコニウムアセチルアセトナートを用い
た以外は、実施例２を繰り返した。本実施例の感光性ペ
ーストの厚さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透過率
は６５％であり、焼成した膜は白色でその全光線反射率
は６０％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は７０であった。

【００９４】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が３６０ｃｄ／ｍ²で
あった。

【００９５】（実施例５）焼成後に白色の酸化物となる
化合物としてセリウムアセチルアセトナートを用い、低
融点ガラス、フィラーとセリア換算の混合比率を７５：
１０：１５とした以外は、実施例１を繰り返した。本実
施例の感光性ペーストの厚さ５０μｍ塗布膜は透明でそ
の全光線透過率は７４％であり、焼成した膜は白色でそ
の全光線反射率は６２％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は
６８であった。

【００９６】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ²で
あった。

【００９７】（実施例６）低融点ガラスとして下記の酸
化物換算組成および熱特性を有するものを用いた以外は
実施例１を繰り返した。低融点ガラス粉末組成：酸化リ
チウム８．６％、酸化珪素２０．１％、酸化ホウ素３１
％、酸化アルミニウム２０．６％、酸化バリウム３．８
％、酸化マグネシウム５．９％、酸化カルシウム４．２
％、酸化亜鉛２．１％。ガラス転移点４７２℃、荷重軟
化点５１５℃、熱膨張係数８３×１０^-7／Ｋ、屈折率
１．５９。

【００９８】本実施例の感光性ペーストの厚さ５０μｍ
塗布膜は透明でその全光線透過率は７３％であり、焼成
した膜は白色でその全光線反射率は６５％、ＸＹＺ表色
系におけるＹ値は７５であった。

【００９９】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ²で
あった。

【０１００】（実施例７）高融点ガラスの代わりに平均
粒子径２．５μｍのコーディエライトを用いた以外は、
実施例１を繰り返した。本実施例の感光性ペーストの厚
さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透過率は７６％で
あり、焼成した膜は白色でその全光線反射率は６５％、
ＸＹＺ表色系におけるＹ値は７４であった。

【０１０１】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ²で
あった。

【０１０２】（実施例８）チタンテトラアセチルアセト
ナートの代わりにテトラ−ｎ−ブチルチタネートを用い
て実施例２を繰り返した。本実施例の感光性ペーストの
厚さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透過率は７６％
であり、焼成した膜は白色でその全光線反射率は７０
％、ＸＹＺ表色系におけるＹ値は８０であった。

【０１０３】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４６０ｃｄ／ｍ²で
あった。

【０１０４】（実施例９）チタンテトラアセチルアセト
ナートの代わりにイットリウム(III）イソプロポキシド
を用いて実施例２を繰り返した。本実施例の感光性ペー
ストの厚さ５０μｍ塗布膜は透明でその全光線透過率は
７３％であり、焼成した膜は白色でその全光線反射率は
６６％、焼成膜のＸＹＺ表色系におけるＹ値は７０であ
った。

【０１０５】この感光性ペーストを用いて作製したプラ
ズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ²で
あった。

【０１０６】（実施例１０）無機微粒子として実施例１
と同じ低融点ガラス８０重量部と高融点ガラス１５重量
部を使用し、焼成した後、白色の酸化物となる化合物と
して酸化チタン換算で５重量部を用いた。焼成した後、
酸化チタンとなる成分は次のように処理して用いた。ｎ
−ブチルチタネートを、多価アルコール存在下に重縮合
させたものを用いた。エチレングリコールと水との混合
溶媒、ｎ−ブチルチタネートを室温でアンモニア触媒を
加えて２〜３時間撹拌処理したものを溶媒交換して用い
た。

【０１０７】感光性ペーストの構成成分は、実施例１と
同じ感光性ポリマー１５％、感光性モノマーとしては、
ＭＧＰ−４００を７．２％、光重合開始剤（ＩＣ−３６
９）３．６％、ゲル化防止剤（ベンゾトリアゾール）
３．１５％、分散剤（ノプコスパース：サンノプコ社
製）０．５％、酸化防止剤（ハイドロキノンモノメチル
エーテル）０．１％、フローノンＳＰ−１０００（共栄
社化学社製）０．７％と無機成分７０％である。溶媒に
はγ−ブチロラクトンを用いた。

【０１０８】本実施例の感光性ペーストの厚さ５０μｍ
塗布膜は透明でその全光線透過率は７８％であり、焼成
した膜は白色でその全光線反射率は７４％、ＸＹＺ表色
系におけるＹ値は８３であった。

【０１０９】この感光性ペーストを用いて隔壁パターン
を形成し、５９０℃、１５分間の焼成を行った以外は実
施例１に準じて作製したプラズマディスプレイパネル
は、輝度が４６０ｃｄ／ｍ²であった。

【０１１０】（実施例１１）本実施例では、低融点ガラ
スとして実施例６で使用したものを、感光性ポリマーと
してサイクロマーＰ（ダイセル化学社製：ＡＣＡ２５
０、酸価７０，分子量９，０００）を、そして焼成した
後、白色の酸化物に変換する化合物として、出発物質と
して四塩化チタンを使用し、これをイソプロピルアルコ
ールとエチレングリコール中で処理して塩化水素を排出
し、イソプロピルアルコールを除いた後、加水分解処理
したものを用い、無機微粒子の構成を低融点ガラス７
５、高融点ガラス２０、酸化物換算で焼成後白色酸化物
となる化合物５とした以外は、実施例１０を繰り返して
感光性ペーストを形成した。

【０１１１】本実施例の感光性ペーストの厚さ５０μｍ
塗布膜は透明でその全光線透過率は７９％であり、焼成
した膜は白色でその全光線反射率は７４％、ＸＹＺ表色
系におけるＹ値は８４であった。

【０１１２】この感光性ペーストを用いて、次のように
して格子状隔壁を形成した。

【０１１３】ガラス基板上にストライプ状のアドレス電
極（線幅５０μｍ、厚さ３μｍ、ピッチ２５０μｍ）を
形成し、この上に厚さ１５μｍの誘電体層を形成した
後、上記の感光性ペーストを乾燥厚さ９０μｍになるよ
うに塗布乾燥した。乾燥後、ピッチ２５０μｍ、線幅３
０μｍのストライプパターンを有するフォトマスクをア
ドレス電極と直交するような配置でセットして露光し
た。露光した後、上記の感光性ペーストをさらに塗布し
乾燥して乾燥厚さ９０μｍの塗布膜を形成した。この塗
布膜上に、ピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍのストライ
プパターンを有するフォトマスクをアドレス電極と平行
になるような配置でセットして露光した。

【０１１４】露光後、０．５％のエタノールアミン水溶
液中で現像し、さらに、５８０℃で１５分間焼成するこ
とにより、ピッチ２５０μｍ、線幅２０μｍ、高さ１３
０μｍの隔壁とピッチ２５０μｍ、線幅２３μｍ、高さ
６０μｍの補助隔壁を有する（格子状隔壁）ディスプレ
イ用部材を得ることができる。この部材の隣り合う隔壁
間に蛍光体層を形成することでプラズマディスプレイ用
背面板が作製される。このようにして得られたディスプ
レイは高い輝度４９０ｃｄ／ｍ²を示した。

【０１１５】（実施例１２）本実施例では、焼成後に白
色酸化物へ変換する化合物として実施例１１と同様に四
塩化チタンを出発物質として処理して形成したチタンア
ルコキシドにテトラエトキシシランを添加してチタンと
ケイ素の複合酸化物が形成される溶液を用いた。チタン
とケイ素の配合比は８０：２０である。低融点ガラス／
高融点ガラス／複合酸化物が７５／２０／５となるよう
に配合し、実施例１１に準じて感光性ペーストを調製し
た。

【０１１６】この感光性ペーストの厚さ５０μｍ塗布膜
は透明で、その全光線透過率は７７％であり、焼成した
膜は白色で、その全光線反射率は７３％、ＸＹＺ表色系
におけるＹ値は８２であった。

【０１１７】この感光性ペーストを使用して実施例１に
準じて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が
４５０ｃｄ／ｃｍ²であった。

【０１１８】（実施例１３）焼成した後、白色の酸化物
となる成分として実施例１１で用いたものを配合し、高
融点ガラスを用いず、低融点ガラスと白色の酸化物の配
合比を９０／１０とした他は実施例１０を繰り返した。

【０１１９】この感光性ペーストの厚さ５０μｍ塗布膜
は透明で、その全光線透過率は７６％であり、焼成した
膜は白色で、その全光線反射率は７０％、ＸＹＺ表色系
におけるＹ値は８０であった。

【０１２０】この感光性ペーストを使用して実施例１に
準じて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が
４４０ｃｄ／ｃｍ²であった。

【０１２１】（実施例１４）電子放出素子を用いたディ
スプレイは、電子放出素子を作製した電子源を固定する
背面基板と、蛍光体層とメタルバックが形成された前面
基板を封着して作製した。前面基板と背面基板との間に
は、支持枠と耐大気圧支持部材としての隔壁（スペーサ
ー）を作製した。

【０１２２】表面伝導型電子放出素子および電極間配線
を形成した基板上に、実施例１で用いた感光性ペースト
をスクリーン印刷により全面塗布・乾燥し、これを繰り
返して乾燥厚みが約１．０ｍｍの塗布膜を形成した。こ
の塗布膜に、幅２ｍｍのストライプ状の開口部を１ｃｍ
ピッチで有するフォトマスクを密着させて、出力１５ｍ
Ｗ／ｃｍ²の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は
１．２Ｊ／ｃｍ²とした。

【０１２３】次に、２回目の感光性ペーストの塗布・乾
燥を行って、最初と同様の厚みの２段目の塗布膜を形成
し、今度は開口部幅１．６ｍｍのフォトマスクを最初の
露光部に対応するようにアライメントして同様に露光し
た。この手法を３段目まで繰り返し、３段目には幅１．
２ｍｍの開口部を有するフォトマスクを使用した。この
ように露光処理の終わった塗布膜を実施例１と同様の手
段で現像・水洗して、断面が３段の雛壇状の高さ２．３
ｍｍのストライプ状の隔壁（スペーサー）パターンを形
成した。これを空気中５７０℃で３０分間焼成し、電子
放出素子を用いたディスプレイ用の背面基板を得た。

【０１２４】一方、ブラックマトリクスおよび３原色に
発光する蛍光体層を形成しメタルバックを設けた前面基
板を別途作成し、上記背面基板と封着して電子放出素子
を用いたディスプレイを得た。得られたディスプレイ
は、白色隔壁の効果により輝度が向上した。

【０１２５】（実施例１５）ストライプ状にインジウム
錫酸化物（ＩＴＯ）透明電極膜がパターニングされたガ
ラス基板に、実施例１で用いた感光性ペーストを塗布
し、厚さ１０μｍの塗布膜を得た。ＩＴＯ電極と直交す
るストライプ状のフォトマスクを用いて露光し現像して
幅２５μｍの隔壁パターンを形成した。これを５７０℃
で３０分焼成して幅２０μｍ、高さ７μｍの隔壁を形成
した。この基板を回転しながら、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−１，１’−ジ
フェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）を７０ｎｍ、
８−ヒドロキシキノリンアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）
を５５ｎｍ蒸着した後、基板の回転を止めて基板面に対
して垂直な方向からアルミニウムを１００ｎｍ蒸着し
た。全面に保護層として酸化ケイ素膜を形成して有機電
界発光素子を得た。

【０１２６】略記号の説明ＭＧＰ４００：X２N-CH(CH３)-CH２-(OCH２CH(CH３))n-NＸ２Ｘ：-CH２CH(H)-CH２O-CO-C(CH３)=CH２ｎ：２〜１０ＩＣ−３６９：Irgacure369（チバガイギー社製品） 2-ヘ゛ンシ゛ル-2-シ゛メチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)フ゛タノン-1

【０１２７】

【発明の効果】本発明によれば、感光性ペーストを用い
たフォトリソグラフィ法による隔壁形成で良好なパター
ニング性を得ることができ、なおかつ、輝度や色純度向
上に寄与する反射率の高い白色隔壁の形成することがで
きる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ 31/12 31/12 Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】低融点ガラスを含有し、焼成後に白色に変
化することを特徴とする感光性ペースト。
【請求項２】焼成により白色の酸化物に変換する化合物
を含有することを特徴とする請求項１記載の感光性ペー
スト。
【請求項３】焼成後に白色の酸化物に変換する化合物
が、Ａｌ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｙ，Ｃｅ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｓｉの
化合物の群から選ばれた少なくとも一種を含むことを特
徴とする請求項１または２記載の感光性ペースト。
【請求項４】請求項１〜３のいずれか記載の感光性ペー
ストを用いて隔壁を形成したことを特徴とするプラズマ
ディスプレイ。
【請求項５】請求項１〜３のいずれか記載の感光性ペー
ストを用いて隔壁を形成したことを特徴とするプラズマ
アドレス液晶ディスプレイ。
【請求項６】請求項１〜３のいずれか記載の感光性ペー
ストを用いて隔壁を形成したことを特徴とする電子放出
素子を用いたディスプレイ。
【請求項７】請求項１〜３のいずれか記載の感光性ペー
ストを用いて隔壁を形成したことを特徴とする有機電界
発光素子を用いたディスプレイ。