JP4597300B2 - ディスプレイ用部材の製造方法およびディスプレイの隔壁形成用感光性ぺースト - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は隔壁（障壁、リブ、スペーサーともいう）を有するディスプレイとその製造方法に関するものであり、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、電子放出素子または蛍光表示管を用いた画像表示装置などに用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】
大きく重いブラウン管に代わる画像表示装置として、軽い薄型のいわゆるフラットパネルディスプレイが注目されている。フラットパネルディスプレイとして液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに開発されているが、これには画像が暗い、視野角が狭いといった短所がある。一方、自発光型の放電型ディスプレイであるＰＤＰや電子放出素子を用いた画像表示装置は、液晶ディスプレイに比べて明るい画像が得られると共に、視野角が広い、さらに大画面化、高精細化の要求に応えられることから、そのニーズが高まりつつある。
【０００３】
電子放出素子を用いた画像表示装置は、平面でかつ明るく見やすいなどの利点を有している。電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子がある。冷陰極電子放出素子には電界放出型(ＦＥ型）、金属／絶縁層／金属型(ＭＩＭ型）や表面伝導型などがある。このような冷陰極電子源を用いた画像形成装置は、それぞれのタイプの電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光体に照射して蛍光を発生させることで画像を表示するものである。この装置において、前面ガラス基板(フェースプレートともいう）と背面ガラス基板(素子基板ともいう）にそれぞれの機能を付与して用いるが、背面ガラス基板には、複数の電子放出素子とそれらの素子の電極を接続するマトリックス状の配線が設けられる。これらの配線は、電子放出素子の電極部分で交差することになるので絶縁するための絶縁層(誘電体層）が設けられる。さらに両基板の間で耐大気圧支持部材として隔壁が形成される。
【０００４】
ＰＤＰは、液晶ディスプレイに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることからＯＡ機器および情報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内でアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てることによって表示を行う。
【０００５】
プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイは、ＴＦＴ−ＬＣＤのＴＦＴ（薄膜トランジスター）アレイ部分をプラズマチャネルに置き換えたもので、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同じ構造である。また、プラズマ発生部分については、ＰＤＰにおける技術が適用されている。
【０００６】
プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程度、ピッチ４８０μｍ程度の隔壁で区切られている。つまり上記の各種ディスプレイは、いずれも隔壁を必要とする。以下、これらの各種ディスプレイを代表してＰＤＰについて記述する。
【０００７】
ＰＤＰにおける隔壁は、従来、絶縁ガラスペーストをスクリーン印刷法でパターン状に印刷して乾燥するという工程を繰り返して所定の高さにした後、焼成して形成していた。しかしながら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め基板上に形成されている放電電極と絶縁ガラスペーストの印刷場所との位置合わせが難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。しかも、所定の隔壁高さを得るため多数回の重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁およびその側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また、作業性が悪く歩留まりも低いなどの問題点がある。特にＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト比で高精細の隔壁の製造が技術的に困難となり、また、コスト的にも不利になってきている。
【０００８】
このような問題を改良する方法として、特開平６−２９５６７６号公報などで、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁を形成する方法が提案されている。しかし、これらの公報に開示された技術では、感光性ペーストの感度や解像度が低く、高アスペクト比で高精細な隔壁が得られないために、例えば、８０μｍを越えるような高さの隔壁パターンを加工する場合、複数回の加工工程（塗布・乾燥、露光、現像）を必要とするため、工程が長くなる欠点があった。
【０００９】
特開平８−５０８１１号公報では、感光性ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法が提案されている。しかし、この方法では、ピッチが２００μｍ以下、隔壁の線幅が５０μｍ以下の高精細隔壁を作製する際、線幅の太り、現像残り（残膜）が発生し、パターン形成性が悪いという問題があった。また、焼成時に有機成分が消失し難く、そのため剥がれや着色の原因になるという問題があった。また、焼成時の収縮が大きく、所望の高さの隔壁を得るためにパターン形成時の高さを高くする必要があり、パターン形成時のマージンが小さく、歩留まりが悪くなるという問題があった。
【００１０】
一方、ＰＤＰの蛍光体層からの発光の効率を向上するために隔壁の反射率を高くしたいという要求がある。すなわち、隔壁の透過率が高いと、隔壁側面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光体層から発光される表示光の反射が不足し、さらに、隣の隔壁間の蛍光体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度が高く、色純度の良好なディスプレイが得られない。これに対し、特公平６−４４４５２号公報には、ガラス粉末とそれと異なる屈折率を有する充填材との混合物を用いた隔壁の形成を開示しているが、このような組成物は、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成には不適切である。また、特開平８−１３８５５９号公報には、形成された隔壁の表面に表示に特定の波長の光のみを反射する反射膜を形成する方法が提案されているが、その反射膜の形成のために工程が増えるなどの問題がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、感光性ガラスペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成は、良好なパターニング性を得るために光の透過性の高い感光性ガラスペーストを用いることが必要である一方、その結果、得られる隔壁は反射率が低く良好な表示特性が得られないという矛盾を有する。
【００１２】
本発明の目的は、良好なパターニングが可能でコスト的にも有利なフォトリソグラフィ法により、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い白色隔壁を有するディスプレイ用部材を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明のディスプレイ用部材の製造方法は、低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥し、フォトリソグラフィ法でパターニングし、パターンを焼成して隔壁を形成する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法であって、フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とする。
また、本発明のディスプレイの隔壁形成用感光性ぺーストは、低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストであって、前記フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明における隔壁のパターニングにはフォトリソグラフィ技術が用いられる。本発明では、フォトリソグラフィ法に関する上記の課題を、第一の態様では、平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡを用いることにより解決した。
【００１８】
第二の態様においては、粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種のフィラーＢのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲にあるフィラーを用いることにより解決した。
【００１９】
以下その２つの態様について順に述べる。
【００２０】
第一の態様では、フィラーＡの粒径が上記範囲内にあると、露光光の波長である３５０〜４２０ｎｍよりも小さいので、ペースト中にフィラーＡが分散して存在してもパターン露光の妨げにならず、パターン形成に悪影響を与えることがない。このように照射光波長よりも微細な粒子を用いることはペースト塗布膜の状態での露光光の散乱を防止するのに有効であることを見出した。一方、隔壁を焼成すると、フィラーＡの存在は隔壁の白色化に有効に作用し、本発明の目的である良好な表示特性に好ましい、５０％以上の全光線反射率を得ることができる。このような平均粒子径を有するフィラーＡの添加による隔壁の反射率の向上効果の原因については、必ずしも明らかではないが、次のように推定される。すなわち、微細な平均粒子径を有するフィラーＡは焼成の工程で凝集して粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を構成する。するとこの凝集粒子は母体となるガラスに対して一般的に高屈折率のフィラーを使用しているために、このフィラーによる散乱が顕著になり、隔壁の反射率を向上させ、蛍光体層からの発光の効率を向上することができる。さらに、機構はよく分からないが、フィラーＡは、ペースト中で均一に高分散していればいるほど焼成後の反射率がより向上することも見いだされている凝集粒子としてより好ましいサイズは粒子径で０．５〜１．０μｍである。ここでいう凝集粒子の粒子径とは、電子顕微鏡による凝集粒の観察写真を画像処理し、凝集粒子の見かけの面積と同面積の円に換算した際の直径をいう。さらに、一部には、焼成後に隔壁が完全に緻密化されず微細な気泡などのボイドが均一に微細な状態で存在し、これらが隔壁を白色化して反射効果を示すものと推定している。
【００２１】
焼成後の隔壁の倒れを防止し、下部層との密着性を高めるためには隔壁の気孔率は１〜６％の範囲が好ましく、より好ましくは１〜４％である。気孔率が６％より大きいとガラス基板との密着強度が低下するのに加えて、隔壁の強度不足、また、放電時に気孔から排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの発光特性低下の原因となる場合がある。パネルの放電寿命、輝度安定性などの発光特性を考慮すると、１〜４％が好ましい。１％未満では、緻密な隔壁であり過ぎるため前面版と背面板パネルを封着する時に、僅かな応力によっても亀裂が入りやすくなり封着時欠陥が増加する傾向にあるため好ましくない。
【００２２】
本発明におけるフィラーＡは、平均粒子径を０．０８μｍ以下とすることが必要である。０．０８μｍを越えると、良好なパターニング性を得ることが難しくなる。また、フィラーＡは、平均粒子径を０．００５μｍ以上とすることが必要である。０．００５μｍ未満では、微細になりすぎて凝集しやすくなりペースト中に均一に充填・分散することが技術的に難しくなる。そのため、良好なパターニング性を得ることが難しくなる。フィラーＡの平均粒子径の好ましい範囲は０．００５〜０．０３μｍであり、より好ましい範囲は０．００５〜０．０５μｍである。また、フィラーＡの粒度分布のピークも０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることが好ましい。フィラーＡは、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、酸化亜鉛、酸化錫の群から選ばれた少なくとも一種を含むことが、高い軟化点を有することと、低融点ガラスに対して高屈折率の成分が多いので焼成後に高い反射率を得られることから、好ましい。
【００２３】
フィラーＡは、ペースト中に存在している状態での粒径と、焼成された後に隔壁内に存在する状態での粒径は異なり、後者ではやや粒径が大きい方に分布して存在する。これは焼成後にフィラーＡが微粒子であるために低温でも焼結し、粒成長するためと推定される。これは、後述のフィラーＢにおいても同様である。
【００２４】
第一の態様において、隔壁を構成する無機微粒子は、低融点ガラス７０〜９５重量％と本発明におけるフィラーＡ５〜３０重量％とからなることが必要である。フィラーＡが５重量％未満では、添加による反射率向上の効果が得られない。また、３０重量％を超えると微粒子のフィラーＡは凝集しやすいため光透過を阻害するようになりパターニング性が低下し、所望の隔壁パターンが得られない。
より好ましいフィラーＡの組成比は１０〜２５重量％である。
【００２５】
本発明の第二の態様においては、フィラーＢの粒度分布のピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にある。
【００２６】
従ってフィラーＢは、露光光の波長である３５０〜４２０ｎｍよりも小さいので、ペースト中にフィラーが分散して存在してもパターン露光の妨げにならず、パターン形成に悪影響を与えることがない。このように照射光波長よりも微細な粒子を用いることはペースト塗布膜の状態での露光光の散乱を防止するのに有効であることを見出した。一方、隔壁を焼成すると、フィラーＢの存在は隔壁の白色化に有効に作用し、本発明の目的である良好な表示特性に好ましい、５０％以上の全光線反射率を得ることができる。このような粒度分布のピークを有するフィラーＢの添加による隔壁の反射率の向上効果の原因については、上記のフィラーＡの効果と同様に考えられている。
【００２７】
本発明におけるフィラーＢは、粒度分布のピークを０．０８μｍ以下とすることが必要である。０．０８μｍを越えると、良好なパターニング性を得ることができない。また、フィラーＢは、粒度分布のピークを０．００５μｍ以上とすることが必要である。０．００５μｍ未満では、微細になりすぎて凝集しやすくなりペースト中に均一に充填・分散することが技術的に難しくなる。そのため、良好なパターニング性を得ることができない。フィラーＢの粒度分布のピークの好ましい範囲は０．００５〜０．０８μｍであり、より好ましい範囲は０．００５〜０．０５μｍである。フィラーＢは、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、酸化錫、酸化亜鉛の群から選ばれた少なくとも一種を含むことが、高い軟化点を有することと、高屈折率の成分が多いので焼成後に高い反射率を得られることから、好ましい。
【００２８】
本発明の第二の態様のフィラーは、粒度分布に少なくとも２つ以上のピークを有する。粒度分布に２つ以上のピークを有することにより、焼成後に緻密な組織が得られ、強度の高い隔壁を形成することができる。特に、フィラーが上記フィラーＢ以外に１．５〜５μｍの範囲内に粒度分布のピークを有するフィラーＣを含むことが好ましい。１．５〜５μｍの範囲内に粒度分布のピークを有するフィラーＣを含むことにより、焼成前のパターン形成性を維持しつつ、焼成後の隔壁の強度を保持し、焼成収縮率を抑制し、形状保持率を高める効果がある。ただし、フィラーＢの存在による効果を損なわないために、隔壁を構成する無機成分に対して、フィラーＣを５〜３０重量％、フィラーＢを５〜２０重量％とすることが好ましい。
【００２９】
フィラーＣは、感光性ガラスペーストにおける感光性有機成分や低融点ガラスの平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、平均屈折率が１．４５〜１．６５の範囲内にあることが好ましい。フィラーＣの平均屈折率をこの範囲内とするために、組成を調整した高融点ガラスやコーディエライトをフィラーＣとして好ましく用いることができる。
【００３０】
高融点ガラスとしては、ガラス転移点５００〜１２００℃、軟化点５５０〜１２００℃を有するものが好ましく、このような高融点ガラスは、酸化珪素および酸化アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上含有する組成を有するものが好ましく、これらの含有量合計が５０重量％以上であることが必要な熱特性を得るのに有効である。高融点ガラスの組成はこれに限定されるものではないが、例えば以下のような酸化物換算組成のものを用いることができる。
酸化珪素 １５〜５０重量％
酸化ホウ素 ５〜２０重量％
酸化バリウム ２〜１０重量％
酸化アルミニウム １５〜５０重量％
さらに具体的には、例えば、酸化珪素３８重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化バリウム５重量％、酸化アルミニウム３６重量％で、その他の成分として酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムを少量づつ含有するガラス転移点６２５℃、軟化点７４６℃の高融点ガラスの平均屈折率は、およそ１．５９であり、これは本発明で好ましく使用される低融点ガラスの平均屈折率と同等である。
【００３１】
フィラーＣのもう一つの成分であるコーディエライトの屈折率はおよそ１．５８であり、好適である。
【００３２】
隔壁は通常、ガラス基板上に形成されることを考慮し、低融点ガラスは、ガラス転移点４００〜５５０℃、軟化点４５０〜６００℃であることが好ましい。軟化点を４５０℃以上とすることで、ディスプレイ形成の後工程において隔壁が変形することがなく、軟化点を６００℃以下とすることで、焼成時に溶融し強度の高い隔壁を得ることができる。
【００３３】
また、低融点ガラスの平均屈折率は、感光性ガラスペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．６５の範囲内とすることが好ましい。
【００３４】
上記の特性を満たす低融点ガラスは、例えば酸化物換算表記で以下の様な組成で得ることができる。
【００３５】
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０重量％であることが好ましい。
【００３６】
アルカリ金属酸化物は、ガラスの軟化点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみならず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とすることでガラスの低融点化の効果を得ることができ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。アルカリ金属としては、ガラスの屈折率を下げることやイオンのマイグレーションを防止することを考慮するならリチウムを選択するのが好ましい。
【００３７】
酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とすることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑えることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス転移点、軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。
【００３８】
酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しないガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、さらには２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ましい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。また、４５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００３９】
酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量％、さらには２〜１０重量％であることが好ましい。これらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともできる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができる。またガラスの化学的安定性も維持できる。
【００４０】
酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライフ延長にも有効である。１０〜２５重量％の範囲で配合することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転移点、軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを容易とすることができる。
【００４１】
さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するために配合されることが好ましい。酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％配合するのが好ましい。合計量を２重量％以上とすることで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００４２】
また、上記の組成には表記されていないが、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させることなく低融点化させる成分でありこれも配合されることが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが好ましい。
【００４３】
本発明では、隔壁製造の際に上記のような第一の態様ではフィラーＡ、第二の態様では少なくともフィラーＢとさらに好ましくはフィラーＣを含むフィラーおよび低融点ガラスから各々なる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストを用いる。感光性有機成分としては、これに限定されるものではないが、照射光を吸収して生起する重合および／または架橋反応などによって光硬化して溶剤に不溶になる型の感光性成分を用いることが好ましい。
【００４４】
すなわち、感光性有機成分は、感光性モノマー、感光性または非感光性オリゴマーもしくはポリマーを主成分とし、光重合開始剤を含有するものが好ましく用いられる。感光性有機成分には、必要に応じて紫外線吸収剤、重合禁止剤、増感剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、その他の添加剤を加えることもできる。
【００４５】
感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素二重結合を有する化合物が好ましく、官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が使用できる。
【００４６】
特に多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物を有機成分中に１０〜８０重量％含有させたものが好ましい。多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物には多様な種類の化合物が開発されているので、それらから反応性、屈折率などを考慮して選択することが可能である。
【００４７】
感光性有機成分の屈折率を制御する方法として、屈折率１．５５〜１．８を有する感光性モノマーを選んで含有させて、感光性有機成分の平均屈折率を無機材料の平均屈折率に近づける方法が簡便である。このような高い屈折率を有する感光性モノマーは、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモノマから選択することができる。
【００４８】
感光性有機成分として、光反応で形成される硬化物物性の向上やペーストの粘度の調整などの役割を果たすと成分としてオリゴマーもしくはポリマーを加えることができる。
【００４９】
これらのオリゴマーもしくはポリマーは、炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の骨格を有するものである。特に、分子側鎖にカルボキシル基と不飽和二重結合を有する重量平均分子量２０００〜６万、より好ましくは３０００〜４万のオリゴマーましくはポリマーが用いられる。側鎖のカルボキシル基を有するので、感光後に未露光部分をアルカリ水溶液で現像できる感光性ペーストを与えることができる。このような側鎖にカルボキシル基などの酸基を有するオリゴマーもしくはポリマーの酸価は５０〜１５０、好ましくは７０〜１２０の範囲になるようにコントロールすることが好ましい。
【００５０】
感光性オリゴマーもしくはポリマーを得るために、不飽和二重結合を導入するには、カルボキシル基を側鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させるとよい。
【００５１】
さらに、上記のようにカルボキシル基を側鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに不飽和二重結合を導入して感光性を付与するには、カルボキシル基とアミン系化合物との間で塩結合を形成させる方法を用いることもできる。例えば、ジアルキルアミノアクリレートやジアルキルアミノメタクリリレートを反応させて塩結合を形成してアクリレートまたはメタクリレート基を感光性基とすることができる。エチレン性不飽和基数は、反応条件により適宜選択することができる。
【００５２】
感光性モノマー、オリゴマーもしくはポリマーはいずれも活性光線のエネルギー吸収能力はないので、光反応を開始するためには、さらに、光重合開始剤が必要成分であり、場合によって光重合開始剤の効果を補助するために増感剤を加えることがある。光重合開始剤には、1分子系直接開裂型、イオン対間電子移動型、水素引き抜き型、2分子複合系など機構的に異なる種類があり、それらから選択して用いられる。
【００５３】
感光性ペーストの無機微粒子と感光性有機成分との配合比率としては、６０／４０〜９０／１０（重量部）が好ましい。さらに、６５／３５〜８５／１５（重量部)であることが焼成による収縮率の点からも好ましい。
【００５４】
感光性ペーストは、通常、無機微粒子、感光性モノマー、感光性または非感光性オリゴマーもしくはポリマー、光重合開始剤を基本成分とし、必要に応じてその他の添加剤および溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散することにより製造することができる。
【００５５】
感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により１万〜２０万ｃｐｓ(センチ・ポイズ）程度に調整して使用される。この時使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。
【００５６】
本発明におけるディスプレイでは、隔壁はガラス基板上に直接形成する場合もあるが、多くはガラス基板上の電極を被覆するように形成されている誘電体層の上に形成される。いずれの場合においても、感光性ペーストを塗布する前に、塗布面の表面処理を行って接着性を向上させることが有効である。このような表面処理には通常シラン系カップリング剤や金属アルコキシ化合物などが用いられる。
【００５７】
感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコータ法、ドクターブレード法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さは、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を考慮して決めることができる。
【００５８】
塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォトマスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成する。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着して行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源としては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧水銀灯が最もよく使用される。超高圧水銀灯を光源として、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光条件はペーストの塗布膜厚さによって異なるが、通常５〜６０ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒から１０分間露光を行う。
【００５９】
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。本発明で好ましく用いられる感光性ペーストは、側鎖にカルボキシル基を有するので、アルカリ水溶液での現像が可能になる。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜２重量％、より好ましくは０．１〜０．８重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が完全に除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、露光部のパターンを剥離させたり、侵食したりするおそれがある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６０】
感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の工程を経て形成された隔壁パターンは次に焼成炉で焼成されて、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機微粒子成分中の低融点ガラスを溶融させて無機質の隔壁を形成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００６１】
バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パターンが形成されたガラス基板を室温から５００℃程度まで数時間掛けてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として設定された５５０〜６００℃に３０〜１２０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼成温度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければならないので自ずから上限が存在する。焼成温度が高すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダレなどの欠陥が発生する。
【００６２】
本発明では、第一の態様では平均粒子径０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡ成分の効果により、第二の態様では、粒度分布に少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種のフィラーＢのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲にあることにより、白色度の向上した隔壁が得られる。隔壁の全光線反射率は５０％以上であることが好ましく、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。全光線反射率（Ｒｔ）は入射角８度で入射した光の全反射を測定したものである。全光線反射率がこの条件を満たすことにより、蛍光体層からの発光を高い割合で開口部から外部に放射することになり輝度を高めると共に、隣の発光色への影響を遮断することができ、それぞれの発光色の色純度を高めることができる。色純度は、ＣＩＥ色度図におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の座標値（Ｒｘ，Ｒｙ），（Ｇｘ，Ｇｙ），（Ｂｘ，Ｂｙ）がそれぞれ下記の関係式（１），（２），（３）範囲にあることが好ましく、本発明によりこの範囲内とすることができる。
（１）０．６５≦Ｒｘ≦０．７２および０．２４≦Ｒｙ≦０．３３
（２）０．０８≦Ｇｘ≦０．１２および０．７５≦Ｇｙ≦０．８２
（３）０．１６≦Ｂｘ≦０．２０および０．０１≦Ｂｙ≦０．０６。
【００６３】
さらに反射のうち、入射角０度で入射した光の拡散成分を測定し、これを拡散反射率（Ｒｄ）とし、この時、（Ｒｔ−Ｒｄ）／Ｒｔ＝Ｒｎとして計算される値Ｒｎを直進反射率とする。本発明では、直進反射率が３％以下であることが好ましく、さらには１％以下であることが好ましい。すなわち、拡散反射率の割合が高いことが好ましく、隔壁での反射光の反射方向はランダムであることが好ましい。隔壁の表面で反射された光は色々な方向に反射を繰り返して、できるだけ多くが開口部から外部に放射されることが輝度向上に有効となるからである。
【００６４】
このようにして得られた隔壁に挟まれたセル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布してプラズマディスプレイパネル用の背面基板が構成される。この背面基板と前面基板とを張り合わせた後、封着、ガス封入してプラズマディスプレイが作製される。これらの技術は、プラズマアドレス液晶ディスプレイおよび電子放出素子または蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても、好ましく適用される。
【００６５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。
【００６６】
（測定方法）
（１）全光線反射率の測定
反射率の測定の条件は下記の通りである。測定装置：ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（島津製作所製）
スリット幅：７．５ｎｍ
測定速度：SLOW(約４points/sec)
光源：ハロゲンランプ(340nm以上）
検出器：ＰＭＴ(860nm以下）
副白板：ＢａＳＯ4
入射角：８度
測定には、ガラス基板にペーストをスクリーン印刷法で塗布し乾燥した後、５７０℃で１５分間焼成した厚さ３０μｍの膜を用いた。
【００６７】
（２）粒度分布・平均粒子径
粉末の粒度分布・平均粒子径は、レーザー回折散乱法を利用した粒度分布計（マイクロトラックＨＲＡ粒度分析計 ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３２０−Ｘ１００）を用い、以下の条件にて測定した。
試料量 ：１ｇ
分散条件 ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液中で行う。
粒子屈折率：無機粉末の種類によって変更する（リチウム系ガラス粉末では、１．６、ビスマス系ガラス粉末では、１．８８の値を使用した。）
溶媒屈折率：１．３３
測定数 ：２回
無機微粉末が屈折率の等しい複数種の粉末からなる場合は、各粉末を混合後、該粉末を上記の方法で測定した。また無機微粉末が屈折率の異なる複数種の粉末からなる場合には、まず単独粉末それぞれをレーザー回折散乱法で測定し、その後、単独粉末の粒度分布と粉末の混合比から複合粉末の粒度分布を計算して求めた。
【００６８】
（３）色純度の測定
大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した。
【００６９】
（４）粒子の平均粒子径の測定
堀場製作所製の動的光散乱式粒径分布測定装置ＬＢ−５００を用いて測定した。
【００７０】
（５）隔壁における粒子の平均粒子径の測定
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて対応箇所を５０万倍に拡大して撮影し、その写真の画像処理から平均粒子径を算出した。
【００７１】
（６）気孔率の測定
連続自動粉体真密度測定器（（株）セイシン企業製、オートトゥルーデンサーＭＡＴ−７０００）を用いて測定した。気孔率Ｐ（％）は、焼成膜を粉砕した微粉末での値を真密度ｄｔｈ、焼成膜の形態での値を嵩密度ｄｅｘとした時、Ｐ＝｛１−（ｄｅｘ／ｄｔｈ）｝×１００と定義される。
真密度は、塗布・焼成膜を乳鉢で指頭に感じない程度の３２５メッシュ以下くらいまで粉砕して測定する。一方、嵩密度は、塗布・焼成膜の一部を形状を崩さないように削りとり、粉砕を行わないこと以外は真密度の場合と同様にして計測した。
【００７２】
（７）軟化点の測定
ここでいう軟化点は、厳密には荷重軟化点を意味する。粒度を調整したガラス粉末約５０ｍｇを白金セルに入れ、示差熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて、アルミナ粉末を標準試料として、室温から２０Ｋ／ｍｉｎで昇温して得られたＤＴＡ曲線より、最初の吸熱の極小値の温度を軟化点とした。
【００７３】
（比較例１）
酸化物換算組成が、酸化リチウム６．８％、酸化ケイ素２３％、酸化ホウ素３３％、酸化バリウム４．５％、酸化アルミニウム１９．５％、酸化亜鉛２．８％、酸化マグネシウム５．８％、酸化カルシウム４．６％の低融点ガラスを用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、軟化点は５３０℃、熱膨張係数は７５×１０-7／Ｋであった。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍ、屈折率１．５８の非球状粉末として使用した。この低融点ガラス粉末１００重量部に対して、０．０８重量部のアゾ系有機染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。
【００７４】
一方、γ−ブチロラクトンに感光性ポリマーを４０％溶液になるように混合し、撹拌しながら６０℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。用いた感光性ポリマーは、メタクリル酸４０％、メチルメタクリレート３０％およびスチレン３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたもので、その重量平均分子量は４３，０００，酸価は９５であった。
【００７５】
室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー(以下に示すＭＧＰ４００）、光重合開始剤(以下に示すＩＣ−３６９）および増感剤(２，４−ジエチルチオキサントン）を加えて溶解させた。
ＭＧＰ４００：X2N-CH(CH3)-CH2-(OCH2CH(CH3))n-NＸ2
Ｘ：-CH2CH(H)-CH2O-CO-C(CH3)=CH2
ｎ：２〜１０
ＩＣ−３６９：‘Irgacure369’（チバガイギー社製品）
2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン-1
その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００７６】
低融点ガラス、平均粒子径０．０１２μｍのシリカ粉末(アエロジル社製、製品番号：２００）であるフィラーＡと有機ビヒクルを３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得た。感光性ペーストに含まれる各成分の量（重量部）は、低融点ガラス５６、フィラーＡ１４、感光性ポリマー１９、感光性モノマー７．５、光重合開始剤２．４、増感剤２．４とした。低融点ガラスとフィラーＡの混合比率は８０：２０であった。また、このときのフィラーＡの粒度分布のピークは０．０１５μｍである。
【００７７】
この感光性ガラスペーストについて前述の方法により反射率を測定したところ、ｇ線での全光線反射率は８２％、直進反射率は１．５％であった。
【００７８】
次いで、プラズマディスプレイパネルを作製した。まず、１００ｍｍ角ガラス基板上に、平均粒径１．５μｍの球状銀粉末および感光性有機成分を含む感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、ピッチ１５０μｍ、線幅４０μｍのストライプ状パターンを形成した。次に、空気中で５８０℃、２０分間焼成し、銀含有量９７．５％、ガラスフリット量２．５％の電極層を形成した。この電極層の厚みは、３．８μｍであった。
【００７９】
次にエチルセルロース５％のテルピネオール溶液３０ｇ、平均粒子径０．２４μｍのルチル型酸化チタン５ｇ、ガラス粉末（酸化物表記の組成：酸化ビスマス６７％、酸化ケイ素１０％、酸化ホウ素１２％、酸化アルミニウム３％、酸化亜鉛３％、酸化ジルコニウム５％）１６５ｇを混合・予備混練をした後、三本ローラにかけて誘電体ペーストを作製した。この誘電体ペーストを上記の電極層を形成したガラス基板上に、スクリーン印刷法でメッシュ３２５のスクリーンを用いて乾燥厚み２２μｍになるように塗布した。続いて５７０℃で３０分間焼成して厚み１２μｍの誘電体層を形成した。
【００８０】
次に、本比較例の感光性ガラスペーストを、３２５メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷により塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚の調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の塗布膜厚さは１６０μｍとした。
【００８１】
続いて、１５０μｍピッチ、線幅２０μｍのネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯で露光量１Ｊ／ｃｍ2のプロキシミティ露光を施した。露光後のパターンを、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけることにより現像し、その後、シャワースプレーにより光硬化していないスペース部分を水洗除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。
【００８２】
このようにして得られた隔壁パターンを空気中、５６０℃で３０分間焼成して白色隔壁を形成した。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１３０μｍ、隔壁中央部の線幅３０μｍ、ピッチ１５０μｍの良好な形状であった。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８３】
次に、ディスペンサーを用いて隔壁間に、赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体ペーストを塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成してプラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。
【００８４】
次に、この背面板とプラズマディスプレイパネル用の前面板とを合わせ、封着、ガス封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを得た。このパネルに電圧を印加して表示を行い、全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定したところ、輝度は４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０３５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。
【００８５】
比較例２
低融点ガラスとフィラーＡの混合比を８５：１５とした以外は比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６８％、直進反射率は１．２％あった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３８０ｃｄ／ｍ2 であり、色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６８，０．３１）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７７）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７、０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８６】
比較例３
フィラーＡとして平均粒子径０．０３μｍのシリカ粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７８％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【００８７】
比較例４
フィラーＡとして平均粒子径０．０１３μｍのアルミナ粉末(石原産業社製、製品番号：ＴＴＯ−５１）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８１％、直進反射率は１．１％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３８０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８８】
比較例５
フィラーＡとして平均粒子径０．０２１μｍのチタニア粉末(デグサ社製、製品番号：Ｐ２５）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８４％、直進反射率は０．７％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４４０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２６）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１８，０．０３）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【００８９】
比較例６
フィラーＡとして、平均粒子径０．００５μｍのチタニア系微粒子を含有する溶液濃度２０％を用いた以外は、比較例１を繰り返した。ここで用いたチタニア系微粒子（触媒化成社製、“オプトレイク”５０２）は、酸化チタン４１．８％、酸化錫３７．１％、酸化ケイ素２１．１％から構成されたものであった。
【００９０】
焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．５％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４５０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２９）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００９１】
比較例７
フィラーＡとして平均粒子径０．００８μｍのチタニア系粉末を用いた以外は、比較例１を繰り返した。ここで用いたチタニア系微粒子（触媒化成社製、“オプトレイク”５０７）は、酸化チタン４１％、酸化錫４４％、酸化ケイ素１５％から構成されたものであった。
【００９２】
焼成後の全光線反射率は８６％、直進反射率は１．３％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４６０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６９，０．２９）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１８，０．０３）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は２％であった。
【００９３】
比較例８
フィラーとして平均粒子径０．０１５μｍのジルコニア粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７３％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【００９４】
比較例９
感光性モノマーとして、ＭＧＰ４００の代わりにビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）ｎ−プロピルアミン（ＧＭＰＡ）を用いた他は比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７５％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６８，０．３０）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１１，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０４６）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００９５】
実施例１
低融点ガラスとして、比較例１と同じものを用いた。フィラーＣとして、酸化物換算組成が、酸化珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％の高融点ガラスを用いた。この高融点ガラスのガラス転移点は６５２℃、軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０-7／Ｋ、ピーク粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であった。またフィラーＢとして、ピーク粒子径が０．０１２μｍのシリカ粉末を用いた。
【００９６】
この低融点および高融点ガラス粉末１００重量部に対して、０．０８重量部のアゾ系有機染料“スダンIV”をアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。
【００９７】
感光性ポリマー溶液として、比較例１と同じものを用いた。室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー(ＭＧＰ４００）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）、ゲル化防止剤（ベンゾチアゾール）、分散剤（“ノプコスパース”）、重合禁止剤（ハイドロキノンモノエチルエーテル）および可塑剤（ジブチルフタレート）を加えて溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００９８】
溶剤を除去した有機成分の配合割合は、感光性ポリマー３８％、感光性モノマー３８％、光重合開始剤９．２％、ゲル化防止剤８．１％、分散剤１．４％、重合禁止剤０．３％、可塑剤４．２％である。
【００９９】
低融点ガラス、高融点ガラス(フィラーＣ）よびフィラーＢと有機ビヒクルを３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得た。感光性ペーストに含まれる各成分（重量部）は、低融点ガラス５０、高融点ガラス(フィラーＣ）１２、フィラーＢ３．３、感光性有機成分３５とした。無機成分中の低融点ガラス、フィラーＣおよびフィラーＢの混合比率は７６．６：１８．４：５となる。
【０１００】
この感光性ガラスペーストについて前述の方法により反射率を測定したところ、全光線反射率は７８％、直進反射率は１．４％であった。
形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１３５μｍ、隔壁中央部の線幅３３μｍ、ピッチ１５０μｍの良好な形状であった。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１０１】
次に、ディスペンサーを用いて隔壁間に、赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体ペーストを塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成して、プラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。
【０１０２】
次に、この背面板とプラズマディスプレイパネル用の前面板とを合わせ、封着、ガス封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを得た。このパネルに電圧を印加して表示を行い、全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定したところ、輝度は４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０５５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。
【０１０３】
実施例２
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０３μｍのチタニア粉末(石原産業製、製品番号：ＴＴＯ−５５）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２７）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７５）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０２５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１０４】
実施例３
フィラーＢとしてピーク粒子径０．００５μｍのチタニア粉末(石原産業製）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．７％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１１，０．７７）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１０５】
実施例４
フィラーＢとしてピーク粒子径０．００８μｍのチタニア粉末を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７５％、直進反射率は２．０％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３９０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２６）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１２，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０５２）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【０１０６】
実施例５
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０１３μｍのアルミナ粉末(デグサ社製、製品番号：アルミナＣ）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７３％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４３０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２５）、（ＧＸ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１０７】
実施例６
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０２μｍのジルコニア粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６５％、直進反射率は１．２％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３９０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２９）、（ＧＸ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４０）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【０１０８】
実施例７
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０３μｍのシリカ粉末を用い、低融点ガラス、高融点ガラスとフィラーＢの混合比率を７５：１８．３：６．７とした以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４４０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は２％であった。
【０１０９】
実施例８
低融点ガラスとして下記の酸化物換算組成および熱特性を有するものを用いた以外は実施例１を繰り返した。低融点ガラス組成：酸化リチウム８．６％、酸化珪素２０．１％、酸化ホウ素３１％、酸化アルミニウム２０．６％、酸化バリウム３．８％、酸化マグネシウム５．９％、酸化カルシウム４．２％、酸化亜鉛２．１％。ガラス転移点４７２℃、軟化点５１５℃、熱膨張係数８３×１０-7／Ｋ、屈折率１．５９焼成後の全光線反射率は８３％、直進反射率は１．１％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４１０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１１０】
実施例９
高融点ガラスの代わりにピーク粒子径２．５μｍのコーディエライトを用いたほかは、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６０％、直進反射率は２．０％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４５０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１１１】
比較例１０
電子放出素子を用いたディスプレイは、電子放出素子を作製した電子源を固定する背面基板と、蛍光体層とメタルバックが形成された前面基板を封着して作製した。前面基板と背面基板との間には、支持枠と耐大気圧支持部材としての隔壁（スペーサー）を作製した。
【０１１２】
表面伝導型電子放出素子および電極間配線を形成した基板上に、比較例１で用いた感光性ペーストをスクリーン印刷により全面塗布・乾燥し、これを繰り返して乾燥厚みが約１．０ｍｍの塗布膜を形成した。この塗布膜に、幅２ｍｍのストライプ状の開口部を１ｃｍピッチで有するフォトマスクを密着させて、出力１５ｍＷ／ｃｍ2の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は１．２Ｊ／ｃｍ2とした。
【０１１３】
次に、２回目の感光性ペーストの塗布・乾燥を行って、最初と同様の厚みの２段目の塗布膜を形成し、今度は開口部幅１．６ｍｍのフォトマスクを最初の露光部に対応するようにアライメントして同様に露光した。この手法を３段目まで繰り返し、３段目には幅１．２ｍｍの開口部を有するフォトマスクを使用した。このように露光処理の終わった塗布膜を比較例１と同様の手段で現像・水洗して、、断面が３段の雛壇状の高さ２．３ｍｍのストライプ状の隔壁（スペーサー）パターンを形成した。これを空気中５６０℃で３０分間焼成し、電子放出素子を用いたディスプレイ用の背面基板を得た。
【０１１４】
一方、ブラックマトリクスおよび３原色に発光する蛍光体層を形成しメタルバックを設けた前面基板を別途作成し、上記背面基板と封着して電子放出素子を用いたディスプレイを得た。得られたディスプレイは、白色隔壁の効果によりディスプレイの輝度は、３８０ｃｄ／ｍ2となり向上した。
【０１１５】
実施例１０
実施例１で用いた感光性ペーストを用いた以外は、比較例１０を繰り返した。得られたディスプレイは、白色隔壁の効果により輝度が向上した。得られたディスプレイの輝度は、３５０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。
【０１１６】
比較例１１
フィラーＡとして平均粒子径０．２４μｍのシリカ粉末(石原産業社製、製品番号：ＣＲ−ＥＬ）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。隔壁パターンの形状が頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１１７】
比較例１２
フィラーＡとして平均粒径０．１５μｍのアルミナ粉末を用いた以外は、比較例１を繰り返した。形成された隔壁パターンは頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１１８】
比較例１３
比較例１において、フィラーＡとして平均粒子径２．５μｍのコーディエライトを用いた。隔壁パターンの形成は良好に行われたが、焼成後の全光線反射率は５０％以下であり、作製したプラズマディスプレイパネルにおいては、輝度は、１００ｃｄ／ｍ2であり、輝度の向上効果がなく、隣の発光の洩れが観測され、色純度の低下が認められた。
【０１１９】
比較例１４
比較例１において、低融点ガラスの代わりに酸化物換算組成が、酸化珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％の高融点ガラスをフィラーＡとして用いた。この高融点ガラスのガラス転移点は６５２℃、軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０-7／Ｋ、平均粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であった。
【０１２０】
隔壁パターンの形成は良好に行われたが、焼成後の全光線反射率は５０％以下であり、作製したプラズマディスプレイパネルにおいては、輝度は、１４０ｃｄ／ｍ2であり、輝度の向上効果がなく、隣の発光の洩れが観測され、色純度の低下があった。
【０１２１】
比較例１５
フィラーＢの代わりにピーク粒子径０．２５μｍのチタニア粉末を用いた以外は、実施例１を繰り返した。隔壁パターンの形状が頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１２２】
比較例１６
フィラーＢの代わりにピーク粒子径０．１５μｍのアルミナ粉末を用いた以外は、実施例５を繰り返した。形成された隔壁パターンは頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１２３】
比較例１７
低融点ガラスと高融点ガラス（フィラーＣ）とフィラーＢとの混合比率を９５：３：２とした以外は実施例１を繰り返した。良好な形状の隔壁が得られたが、作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が１５０ｃｄ／ｍ2であり、本発明の目的の表示特性を満足するものではなかった。
【０１２４】
比較例１８
低融点ガラスと高融点ガラス（フィラーＣ）とフィラーＢとの混合比率を４５：３５：２０とした以外は実施例１を繰り返した。隔壁形状が不良であり、隔壁強度も不足であった。
【０１２５】
【発明の効果】
本発明によれば、良好なパターニングが可能でコスト的にも有利なフォトリソグラフィ法により、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い白色隔壁を有するディスプレイ用部材を提供することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は隔壁（障壁、リブ、スペーサーともいう）を有するディスプレイとその製造方法に関するものであり、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、電子放出素子または蛍光表示管を用いた画像表示装置などに用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】
大きく重いブラウン管に代わる画像表示装置として、軽い薄型のいわゆるフラットパネルディスプレイが注目されている。フラットパネルディスプレイとして液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに開発されているが、これには画像が暗い、視野角が狭いといった短所がある。一方、自発光型の放電型ディスプレイであるＰＤＰや電子放出素子を用いた画像表示装置は、液晶ディスプレイに比べて明るい画像が得られると共に、視野角が広い、さらに大画面化、高精細化の要求に応えられることから、そのニーズが高まりつつある。
【０００３】
電子放出素子を用いた画像表示装置は、平面でかつ明るく見やすいなどの利点を有している。電子放出素子には、熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子がある。冷陰極電子放出素子には電界放出型(ＦＥ型）、金属／絶縁層／金属型(ＭＩＭ型）や表面伝導型などがある。このような冷陰極電子源を用いた画像形成装置は、それぞれのタイプの電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光体に照射して蛍光を発生させることで画像を表示するものである。この装置において、前面ガラス基板(フェースプレートともいう）と背面ガラス基板(素子基板ともいう）にそれぞれの機能を付与して用いるが、背面ガラス基板には、複数の電子放出素子とそれらの素子の電極を接続するマトリックス状の配線が設けられる。これらの配線は、電子放出素子の電極部分で交差することになるので絶縁するための絶縁層(誘電体層）が設けられる。さらに両基板の間で耐大気圧支持部材として隔壁が形成される。
【０００４】
ＰＤＰは、液晶ディスプレイに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることからＯＡ機器および情報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間内でアノード電極およびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、この空間内に封入されているガスから発生する紫外線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てることによって表示を行う。
【０００５】
プラズマアドレス液晶（ＰＡＬＣ）ディスプレイは、ＴＦＴ−ＬＣＤのＴＦＴ（薄膜トランジスター）アレイ部分をプラズマチャネルに置き換えたもので、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同じ構造である。また、プラズマ発生部分については、ＰＤＰにおける技術が適用されている。
【０００６】
プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程度、ピッチ４８０μｍ程度の隔壁で区切られている。つまり上記の各種ディスプレイは、いずれも隔壁を必要とする。以下、これらの各種ディスプレイを代表してＰＤＰについて記述する。
【０００７】
ＰＤＰにおける隔壁は、従来、絶縁ガラスペーストをスクリーン印刷法でパターン状に印刷して乾燥するという工程を繰り返して所定の高さにした後、焼成して形成していた。しかしながら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め基板上に形成されている放電電極と絶縁ガラスペーストの印刷場所との位置合わせが難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。しかも、所定の隔壁高さを得るため多数回の重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁およびその側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また、作業性が悪く歩留まりも低いなどの問題点がある。特にＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト比で高精細の隔壁の製造が技術的に困難となり、また、コスト的にも不利になってきている。
【０００８】
このような問題を改良する方法として、特開平６−２９５６７６号公報などで、感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁を形成する方法が提案されている。しかし、これらの公報に開示された技術では、感光性ペーストの感度や解像度が低く、高アスペクト比で高精細な隔壁が得られないために、例えば、８０μｍを越えるような高さの隔壁パターンを加工する場合、複数回の加工工程（塗布・乾燥、露光、現像）を必要とするため、工程が長くなる欠点があった。
【０００９】
特開平８−５０８１１号公報では、感光性ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法が提案されている。しかし、この方法では、ピッチが２００μｍ以下、隔壁の線幅が５０μｍ以下の高精細隔壁を作製する際、線幅の太り、現像残り（残膜）が発生し、パターン形成性が悪いという問題があった。また、焼成時に有機成分が消失し難く、そのため剥がれや着色の原因になるという問題があった。また、焼成時の収縮が大きく、所望の高さの隔壁を得るためにパターン形成時の高さを高くする必要があり、パターン形成時のマージンが小さく、歩留まりが悪くなるという問題があった。
【００１０】
一方、ＰＤＰの蛍光体層からの発光の効率を向上するために隔壁の反射率を高くしたいという要求がある。すなわち、隔壁の透過率が高いと、隔壁側面や隔壁間の底面に塗布されている蛍光体層から発光される表示光の反射が不足し、さらに、隣の隔壁間の蛍光体層の表示光の洩れ込みが起こり、輝度が高く、色純度の良好なディスプレイが得られない。これに対し、特公平６−４４４５２号公報には、ガラス粉末とそれと異なる屈折率を有する充填材との混合物を用いた隔壁の形成を開示しているが、このような組成物は、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成には不適切である。また、特開平８−１３８５５９号公報には、形成された隔壁の表面に表示に特定の波長の光のみを反射する反射膜を形成する方法が提案されているが、その反射膜の形成のために工程が増えるなどの問題がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、感光性ガラスペーストを用いたフォトリソグラフィ法による隔壁形成は、良好なパターニング性を得るために光の透過性の高い感光性ガラスペーストを用いることが必要である一方、その結果、得られる隔壁は反射率が低く良好な表示特性が得られないという矛盾を有する。
【００１２】
本発明の目的は、良好なパターニングが可能でコスト的にも有利なフォトリソグラフィ法により、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い白色隔壁を有するディスプレイ用部材を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明のディスプレイ用部材の製造方法は、低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥し、フォトリソグラフィ法でパターニングし、パターンを焼成して隔壁を形成する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法であって、フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とする。
また、本発明のディスプレイの隔壁形成用感光性ぺーストは、低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストであって、前記フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明における隔壁のパターニングにはフォトリソグラフィ技術が用いられる。本発明では、フォトリソグラフィ法に関する上記の課題を、第一の態様では、平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡを用いることにより解決した。
【００１８】
第二の態様においては、粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種のフィラーＢのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲にあるフィラーを用いることにより解決した。
【００１９】
以下その２つの態様について順に述べる。
【００２０】
第一の態様では、フィラーＡの粒径が上記範囲内にあると、露光光の波長である３５０〜４２０ｎｍよりも小さいので、ペースト中にフィラーＡが分散して存在してもパターン露光の妨げにならず、パターン形成に悪影響を与えることがない。このように照射光波長よりも微細な粒子を用いることはペースト塗布膜の状態での露光光の散乱を防止するのに有効であることを見出した。一方、隔壁を焼成すると、フィラーＡの存在は隔壁の白色化に有効に作用し、本発明の目的である良好な表示特性に好ましい、５０％以上の全光線反射率を得ることができる。このような平均粒子径を有するフィラーＡの添加による隔壁の反射率の向上効果の原因については、必ずしも明らかではないが、次のように推定される。すなわち、微細な平均粒子径を有するフィラーＡは焼成の工程で凝集して粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を構成する。するとこの凝集粒子は母体となるガラスに対して一般的に高屈折率のフィラーを使用しているために、このフィラーによる散乱が顕著になり、隔壁の反射率を向上させ、蛍光体層からの発光の効率を向上することができる。さらに、機構はよく分からないが、フィラーＡは、ペースト中で均一に高分散していればいるほど焼成後の反射率がより向上することも見いだされている凝集粒子としてより好ましいサイズは粒子径で０．５〜１．０μｍである。ここでいう凝集粒子の粒子径とは、電子顕微鏡による凝集粒の観察写真を画像処理し、凝集粒子の見かけの面積と同面積の円に換算した際の直径をいう。さらに、一部には、焼成後に隔壁が完全に緻密化されず微細な気泡などのボイドが均一に微細な状態で存在し、これらが隔壁を白色化して反射効果を示すものと推定している。
【００２１】
焼成後の隔壁の倒れを防止し、下部層との密着性を高めるためには隔壁の気孔率は１〜６％の範囲が好ましく、より好ましくは１〜４％である。気孔率が６％より大きいとガラス基板との密着強度が低下するのに加えて、隔壁の強度不足、また、放電時に気孔から排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの発光特性低下の原因となる場合がある。パネルの放電寿命、輝度安定性などの発光特性を考慮すると、１〜４％が好ましい。１％未満では、緻密な隔壁であり過ぎるため前面版と背面板パネルを封着する時に、僅かな応力によっても亀裂が入りやすくなり封着時欠陥が増加する傾向にあるため好ましくない。
【００２２】
本発明におけるフィラーＡは、平均粒子径を０．０８μｍ以下とすることが必要である。０．０８μｍを越えると、良好なパターニング性を得ることが難しくなる。また、フィラーＡは、平均粒子径を０．００５μｍ以上とすることが必要である。０．００５μｍ未満では、微細になりすぎて凝集しやすくなりペースト中に均一に充填・分散することが技術的に難しくなる。そのため、良好なパターニング性を得ることが難しくなる。フィラーＡの平均粒子径の好ましい範囲は０．００５〜０．０３μｍであり、より好ましい範囲は０．００５〜０．０５μｍである。また、フィラーＡの粒度分布のピークも０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることが好ましい。フィラーＡは、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、酸化亜鉛、酸化錫の群から選ばれた少なくとも一種を含むことが、高い軟化点を有することと、低融点ガラスに対して高屈折率の成分が多いので焼成後に高い反射率を得られることから、好ましい。
【００２３】
フィラーＡは、ペースト中に存在している状態での粒径と、焼成された後に隔壁内に存在する状態での粒径は異なり、後者ではやや粒径が大きい方に分布して存在する。これは焼成後にフィラーＡが微粒子であるために低温でも焼結し、粒成長するためと推定される。これは、後述のフィラーＢにおいても同様である。
【００２４】
第一の態様において、隔壁を構成する無機微粒子は、低融点ガラス７０〜９５重量％と本発明におけるフィラーＡ５〜３０重量％とからなることが必要である。フィラーＡが５重量％未満では、添加による反射率向上の効果が得られない。また、３０重量％を超えると微粒子のフィラーＡは凝集しやすいため光透過を阻害するようになりパターニング性が低下し、所望の隔壁パターンが得られない。
より好ましいフィラーＡの組成比は１０〜２５重量％である。
【００２５】
本発明の第二の態様においては、フィラーＢの粒度分布のピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にある。
【００２６】
従ってフィラーＢは、露光光の波長である３５０〜４２０ｎｍよりも小さいので、ペースト中にフィラーが分散して存在してもパターン露光の妨げにならず、パターン形成に悪影響を与えることがない。このように照射光波長よりも微細な粒子を用いることはペースト塗布膜の状態での露光光の散乱を防止するのに有効であることを見出した。一方、隔壁を焼成すると、フィラーＢの存在は隔壁の白色化に有効に作用し、本発明の目的である良好な表示特性に好ましい、５０％以上の全光線反射率を得ることができる。このような粒度分布のピークを有するフィラーＢの添加による隔壁の反射率の向上効果の原因については、上記のフィラーＡの効果と同様に考えられている。
【００２７】
本発明におけるフィラーＢは、粒度分布のピークを０．０８μｍ以下とすることが必要である。０．０８μｍを越えると、良好なパターニング性を得ることができない。また、フィラーＢは、粒度分布のピークを０．００５μｍ以上とすることが必要である。０．００５μｍ未満では、微細になりすぎて凝集しやすくなりペースト中に均一に充填・分散することが技術的に難しくなる。そのため、良好なパターニング性を得ることができない。フィラーＢの粒度分布のピークの好ましい範囲は０．００５〜０．０８μｍであり、より好ましい範囲は０．００５〜０．０５μｍである。フィラーＢは、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリア、酸化錫、酸化亜鉛の群から選ばれた少なくとも一種を含むことが、高い軟化点を有することと、高屈折率の成分が多いので焼成後に高い反射率を得られることから、好ましい。
【００２８】
本発明の第二の態様のフィラーは、粒度分布に少なくとも２つ以上のピークを有する。粒度分布に２つ以上のピークを有することにより、焼成後に緻密な組織が得られ、強度の高い隔壁を形成することができる。特に、フィラーが上記フィラーＢ以外に１．５〜５μｍの範囲内に粒度分布のピークを有するフィラーＣを含むことが好ましい。１．５〜５μｍの範囲内に粒度分布のピークを有するフィラーＣを含むことにより、焼成前のパターン形成性を維持しつつ、焼成後の隔壁の強度を保持し、焼成収縮率を抑制し、形状保持率を高める効果がある。ただし、フィラーＢの存在による効果を損なわないために、隔壁を構成する無機成分に対して、フィラーＣを５〜３０重量％、フィラーＢを５〜２０重量％とすることが好ましい。
【００２９】
フィラーＣは、感光性ガラスペーストにおける感光性有機成分や低融点ガラスの平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、平均屈折率が１．４５〜１．６５の範囲内にあることが好ましい。フィラーＣの平均屈折率をこの範囲内とするために、組成を調整した高融点ガラスやコーディエライトをフィラーＣとして好ましく用いることができる。
【００３０】
高融点ガラスとしては、ガラス転移点５００〜１２００℃、軟化点５５０〜１２００℃を有するものが好ましく、このような高融点ガラスは、酸化珪素および酸化アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上含有する組成を有するものが好ましく、これらの含有量合計が５０重量％以上であることが必要な熱特性を得るのに有効である。高融点ガラスの組成はこれに限定されるものではないが、例えば以下のような酸化物換算組成のものを用いることができる。
酸化珪素 １５〜５０重量％
酸化ホウ素 ５〜２０重量％
酸化バリウム ２〜１０重量％
酸化アルミニウム １５〜５０重量％
さらに具体的には、例えば、酸化珪素３８重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化バリウム５重量％、酸化アルミニウム３６重量％で、その他の成分として酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムを少量づつ含有するガラス転移点６２５℃、軟化点７４６℃の高融点ガラスの平均屈折率は、およそ１．５９であり、これは本発明で好ましく使用される低融点ガラスの平均屈折率と同等である。
【００３１】
フィラーＣのもう一つの成分であるコーディエライトの屈折率はおよそ１．５８であり、好適である。
【００３２】
隔壁は通常、ガラス基板上に形成されることを考慮し、低融点ガラスは、ガラス転移点４００〜５５０℃、軟化点４５０〜６００℃であることが好ましい。軟化点を４５０℃以上とすることで、ディスプレイ形成の後工程において隔壁が変形することがなく、軟化点を６００℃以下とすることで、焼成時に溶融し強度の高い隔壁を得ることができる。
【００３３】
また、低融点ガラスの平均屈折率は、感光性ガラスペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．６５の範囲内とすることが好ましい。
【００３４】
上記の特性を満たす低融点ガラスは、例えば酸化物換算表記で以下の様な組成で得ることができる。
酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウムのアルカリ金属酸化物のうち少なくとも１種を用い、その合計量が３〜１５重量％、さらには３〜１０重量％であることが好ましい。
【００３６】
アルカリ金属酸化物は、ガラスの軟化点、熱膨張係数のコントロールを容易にするのみならず、ガラスの屈折率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。アルカリ金属酸化物の合計量が３重量％以上とすることでガラスの低融点化の効果を得ることができ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係数を小さく抑えることができる。アルカリ金属としては、ガラスの屈折率を下げることやイオンのマイグレーションを防止することを考慮するならリチウムを選択するのが好ましい。
【００３７】
酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量％が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量％である。酸化ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離などを防ぐこともできる。５重量％以上とすることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付けた時にクラックを生じない。また、屈折率を低く抑えることができる。３０重量％以下とすることで、ガラス転移点、軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。
【００３８】
酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しないガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量％、さらには２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ましい。２０重量％以上とすることで、ガラス転移点、軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にする。また、４５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００３９】
酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１５重量％、さらには２〜１０重量％であることが好ましい。これらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の調整に有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点でも好ましい。２重量％以上とすることで低融点化の効果を得ることができると共に結晶化による失透を防ぐこともできる。また、１５重量％以下とすることにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小さく抑えることができる。またガラスの化学的安定性も維持できる。
【００４０】
酸化アルミニウムはガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、ペーストのポットライフ延長にも有効である。１０〜２５重量％の範囲で配合することが好ましく、この範囲内とすることでガラス転移点、軟化点を低く保ち、ガラス基板上への焼き付けを容易とすることができる。
【００４１】
さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するために配合されることが好ましい。酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量％配合するのが好ましい。合計量を２重量％以上とすることで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量％以下とすることでガラスの化学的安定性を維持することができる。
【００４２】
また、上記の組成には表記されていないが、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させることなく低融点化させる成分でありこれも配合されることが好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる傾向にあるので、１〜２０重量％の範囲で配合するのが好ましい。
【００４３】
本発明では、隔壁製造の際に上記のような第一の態様ではフィラーＡ、第二の態様では少なくともフィラーＢとさらに好ましくはフィラーＣを含むフィラーおよび低融点ガラスから各々なる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストを用いる。感光性有機成分としては、これに限定されるものではないが、照射光を吸収して生起する重合および／または架橋反応などによって光硬化して溶剤に不溶になる型の感光性成分を用いることが好ましい。
【００４４】
すなわち、感光性有機成分は、感光性モノマー、感光性または非感光性オリゴマーもしくはポリマーを主成分とし、光重合開始剤を含有するものが好ましく用いられる。感光性有機成分には、必要に応じて紫外線吸収剤、重合禁止剤、増感剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、その他の添加剤を加えることもできる。
【００４５】
感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素二重結合を有する化合物が好ましく、官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が使用できる。
【００４６】
特に多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物を有機成分中に１０〜８０重量％含有させたものが好ましい。多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物には多様な種類の化合物が開発されているので、それらから反応性、屈折率などを考慮して選択することが可能である。
【００４７】
感光性有機成分の屈折率を制御する方法として、屈折率１．５５〜１．８を有する感光性モノマーを選んで含有させて、感光性有機成分の平均屈折率を無機材料の平均屈折率に近づける方法が簡便である。このような高い屈折率を有する感光性モノマーは、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモノマから選択することができる。
【００４８】
感光性有機成分として、光反応で形成される硬化物物性の向上やペーストの粘度の調整などの役割を果たすと成分としてオリゴマーもしくはポリマーを加えることができる。
【００４９】
これらのオリゴマーもしくはポリマーは、炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の骨格を有するものである。特に、分子側鎖にカルボキシル基と不飽和二重結合を有する重量平均分子量２０００〜６万、より好ましくは３０００〜４万のオリゴマーましくはポリマーが用いられる。側鎖のカルボキシル基を有するので、感光後に未露光部分をアルカリ水溶液で現像できる感光性ペーストを与えることができる。このような側鎖にカルボキシル基などの酸基を有するオリゴマーもしくはポリマーの酸価は５０〜１５０、好ましくは７０〜１２０の範囲になるようにコントロールすることが好ましい。
【００５０】
感光性オリゴマーもしくはポリマーを得るために、不飽和二重結合を導入するには、カルボキシル基を側鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させるとよい。
【００５１】
さらに、上記のようにカルボキシル基を側鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに不飽和二重結合を導入して感光性を付与するには、カルボキシル基とアミン系化合物との間で塩結合を形成させる方法を用いることもできる。例えば、ジアルキルアミノアクリレートやジアルキルアミノメタクリリレートを反応させて塩結合を形成してアクリレートまたはメタクリレート基を感光性基とすることができる。エチレン性不飽和基数は、反応条件により適宜選択することができる。
【００５２】
感光性モノマー、オリゴマーもしくはポリマーはいずれも活性光線のエネルギー吸収能力はないので、光反応を開始するためには、さらに、光重合開始剤が必要成分であり、場合によって光重合開始剤の効果を補助するために増感剤を加えることがある。光重合開始剤には、1分子系直接開裂型、イオン対間電子移動型、水素引き抜き型、2分子複合系など機構的に異なる種類があり、それらから選択して用いられる。
【００５３】
感光性ペーストの無機微粒子と感光性有機成分との配合比率としては、６０／４０〜９０／１０（重量部）が好ましい。さらに、６５／３５〜８５／１５（重量部)であることが焼成による収縮率の点からも好ましい。
【００５４】
感光性ペーストは、通常、無機微粒子、感光性モノマー、感光性または非感光性オリゴマーもしくはポリマー、光重合開始剤を基本成分とし、必要に応じてその他の添加剤および溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散することにより製造することができる。
【００５５】
感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により１万〜２０万ｃｐｓ(センチ・ポイズ）程度に調整して使用される。この時使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられる。
【００５６】
本発明におけるディスプレイでは、隔壁はガラス基板上に直接形成する場合もあるが、多くはガラス基板上の電極を被覆するように形成されている誘電体層の上に形成される。いずれの場合においても、感光性ペーストを塗布する前に、塗布面の表面処理を行って接着性を向上させることが有効である。このような表面処理には通常シラン系カップリング剤や金属アルコキシ化合物などが用いられる。
【００５７】
感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコータ法、ドクターブレード法などの一般的な方法で行うことができる。塗布厚さは、所望の隔壁の高さとペーストの焼成による収縮率を考慮して決めることができる。
【００５８】
塗布・乾燥した感光性ペースト膜にフォトマスクを介して露光を行って、隔壁パターンを形成する。露光の際、ペースト塗布膜とフォトマスクを密着して行う方法と一定の間隔をあけて行う方法（プロキシミティ露光）のいずれを用いても良い。露光用の光源としては、水銀灯やハロゲンランプが適当であるが、超高圧水銀灯が最もよく使用される。超高圧水銀灯を光源として、プロキシミティ露光を行うのが一般的である。露光条件はペーストの塗布膜厚さによって異なるが、通常５〜６０ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒から１０分間露光を行う。
【００５９】
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。本発明で好ましく用いられる感光性ペーストは、側鎖にカルボキシル基を有するので、アルカリ水溶液での現像が可能になる。アルカリとしては、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜２重量％、より好ましくは０．１〜０．８重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が完全に除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、露光部のパターンを剥離させたり、侵食したりするおそれがある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００６０】
感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の工程を経て形成された隔壁パターンは次に焼成炉で焼成されて、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機微粒子成分中の低融点ガラスを溶融させて無機質の隔壁を形成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によって異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００６１】
バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パターンが形成されたガラス基板を室温から５００℃程度まで数時間掛けてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として設定された５５０〜６００℃に３０〜１２０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼成温度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければならないので自ずから上限が存在する。焼成温度が高すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダレなどの欠陥が発生する。
【００６２】
本発明では、第一の態様では平均粒子径０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡ成分の効果により、第二の態様では、粒度分布に少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種のフィラーＢのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲にあることにより、白色度の向上した隔壁が得られる。隔壁の全光線反射率は５０％以上であることが好ましく、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。全光線反射率（Ｒｔ）は入射角８度で入射した光の全反射を測定したものである。全光線反射率がこの条件を満たすことにより、蛍光体層からの発光を高い割合で開口部から外部に放射することになり輝度を高めると共に、隣の発光色への影響を遮断することができ、それぞれの発光色の色純度を高めることができる。色純度は、ＣＩＥ色度図におけるＲ，Ｇ，Ｂ各色の座標値（Ｒｘ，Ｒｙ），（Ｇｘ，Ｇｙ），（Ｂｘ，Ｂｙ）がそれぞれ下記の関係式（１），（２），（３）範囲にあることが好ましく、本発明によりこの範囲内とすることができる。
（１）０．６５≦Ｒｘ≦０．７２および０．２４≦Ｒｙ≦０．３３
（２）０．０８≦Ｇｘ≦０．１２および０．７５≦Ｇｙ≦０．８２
（３）０．１６≦Ｂｘ≦０．２０および０．０１≦Ｂｙ≦０．０６。
【００６３】
さらに反射のうち、入射角０度で入射した光の拡散成分を測定し、これを拡散反射率（Ｒｄ）とし、この時、（Ｒｔ−Ｒｄ）／Ｒｔ＝Ｒｎとして計算される値Ｒｎを直進反射率とする。本発明では、直進反射率が３％以下であることが好ましく、さらには１％以下であることが好ましい。すなわち、拡散反射率の割合が高いことが好ましく、隔壁での反射光の反射方向はランダムであることが好ましい。隔壁の表面で反射された光は色々な方向に反射を繰り返して、できるだけ多くが開口部から外部に放射されることが輝度向上に有効となるからである。
【００６４】
このようにして得られた隔壁に挟まれたセル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布してプラズマディスプレイパネル用の背面基板が構成される。この背面基板と前面基板とを張り合わせた後、封着、ガス封入してプラズマディスプレイが作製される。これらの技術は、プラズマアドレス液晶ディスプレイおよび電子放出素子または蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても、好ましく適用される。
【００６５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、濃度（％）は特に断らない限り重量％である。
【００６６】
（測定方法）
（１）全光線反射率の測定
反射率の測定の条件は下記の通りである。測定装置：ＵＶ−３１０１ＰＣ型自記分光光度計（島津製作所製）
スリット幅：７．５ｎｍ
測定速度：SLOW(約４points/sec)
光源：ハロゲンランプ(340nm以上）
検出器：ＰＭＴ(860nm以下）
副白板：ＢａＳＯ4
入射角：８度
測定には、ガラス基板にペーストをスクリーン印刷法で塗布し乾燥した後、５７０℃で１５分間焼成した厚さ３０μｍの膜を用いた。
【００６７】
（２）粒度分布・平均粒子径
粉末の粒度分布・平均粒子径は、レーザー回折散乱法を利用した粒度分布計（マイクロトラックＨＲＡ粒度分析計 ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３２０−Ｘ１００）を用い、以下の条件にて測定した。
試料量 ：１ｇ
分散条件 ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液中で行う。
粒子屈折率：無機粉末の種類によって変更する（リチウム系ガラス粉末では、１．６、ビスマス系ガラス粉末では、１．８８の値を使用した。）
溶媒屈折率：１．３３
測定数 ：２回
無機微粉末が屈折率の等しい複数種の粉末からなる場合は、各粉末を混合後、該粉末を上記の方法で測定した。また無機微粉末が屈折率の異なる複数種の粉末からなる場合には、まず単独粉末それぞれをレーザー回折散乱法で測定し、その後、単独粉末の粒度分布と粉末の混合比から複合粉末の粒度分布を計算して求めた。
【００６８】
（３）色純度の測定
大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した。
【００６９】
（４）粒子の平均粒子径の測定
堀場製作所製の動的光散乱式粒径分布測定装置ＬＢ−５００を用いて測定した。
【００７０】
（５）隔壁における粒子の平均粒子径の測定
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて対応箇所を５０万倍に拡大して撮影し、その写真の画像処理から平均粒子径を算出した。
【００７１】
（６）気孔率の測定
連続自動粉体真密度測定器（（株）セイシン企業製、オートトゥルーデンサーＭＡＴ−７０００）を用いて測定した。気孔率Ｐ（％）は、焼成膜を粉砕した微粉末での値を真密度ｄｔｈ、焼成膜の形態での値を嵩密度ｄｅｘとした時、Ｐ＝｛１−（ｄｅｘ／ｄｔｈ）｝×１００と定義される。
真密度は、塗布・焼成膜を乳鉢で指頭に感じない程度の３２５メッシュ以下くらいまで粉砕して測定する。一方、嵩密度は、塗布・焼成膜の一部を形状を崩さないように削りとり、粉砕を行わないこと以外は真密度の場合と同様にして計測した。
【００７２】
（７）軟化点の測定
ここでいう軟化点は、厳密には荷重軟化点を意味する。粒度を調整したガラス粉末約５０ｍｇを白金セルに入れ、示差熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて、アルミナ粉末を標準試料として、室温から２０Ｋ／ｍｉｎで昇温して得られたＤＴＡ曲線より、最初の吸熱の極小値の温度を軟化点とした。
【００７３】
（比較例１）
酸化物換算組成が、酸化リチウム６．８％、酸化ケイ素２３％、酸化ホウ素３３％、酸化バリウム４．５％、酸化アルミニウム１９．５％、酸化亜鉛２．８％、酸化マグネシウム５．８％、酸化カルシウム４．６％の低融点ガラスを用いた。この低融点ガラスのガラス転移点は４９７℃、軟化点は５３０℃、熱膨張係数は７５×１０-7／Ｋであった。ガラス成分は、予めアトラクターで微粉末とし、平均粒子径２．６μｍ、屈折率１．５８の非球状粉末として使用した。この低融点ガラス粉末１００重量部に対して、０．０８重量部のアゾ系有機染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。
【００７４】
一方、γ−ブチロラクトンに感光性ポリマーを４０％溶液になるように混合し、撹拌しながら６０℃まで加熱して全てのポリマーを溶解した。用いた感光性ポリマーは、メタクリル酸４０％、メチルメタクリレート３０％およびスチレン３０％からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたもので、その重量平均分子量は４３，０００，酸価は９５であった。
【００７５】
室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー(以下に示すＭＧＰ４００）、光重合開始剤(以下に示すＩＣ−３６９）および増感剤(２，４−ジエチルチオキサントン）を加えて溶解させた。
ＭＧＰ４００：X2N-CH(CH3)-CH2-(OCH2CH(CH3))n-NＸ2
Ｘ：-CH2CH(H)-CH2O-CO-C(CH3)=CH2
ｎ：２〜１０
ＩＣ−３６９：‘Irgacure369’（チバガイギー社製品）
2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン-1
その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００７６】
低融点ガラス、平均粒子径０．０１２μｍのシリカ粉末(アエロジル社製、製品番号：２００）であるフィラーＡと有機ビヒクルを３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得た。感光性ペーストに含まれる各成分の量（重量部）は、低融点ガラス５６、フィラーＡ１４、感光性ポリマー１９、感光性モノマー７．５、光重合開始剤２．４、増感剤２．４とした。低融点ガラスとフィラーＡの混合比率は８０：２０であった。また、このときのフィラーＡの粒度分布のピークは０．０１５μｍである。
【００７７】
この感光性ガラスペーストについて前述の方法により反射率を測定したところ、ｇ線での全光線反射率は８２％、直進反射率は１．５％であった。
【００７８】
次いで、プラズマディスプレイパネルを作製した。まず、１００ｍｍ角ガラス基板上に、平均粒径１．５μｍの球状銀粉末および感光性有機成分を含む感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、ピッチ１５０μｍ、線幅４０μｍのストライプ状パターンを形成した。次に、空気中で５８０℃、２０分間焼成し、銀含有量９７．５％、ガラスフリット量２．５％の電極層を形成した。この電極層の厚みは、３．８μｍであった。
【００７９】
次にエチルセルロース５％のテルピネオール溶液３０ｇ、平均粒子径０．２４μｍのルチル型酸化チタン５ｇ、ガラス粉末（酸化物表記の組成：酸化ビスマス６７％、酸化ケイ素１０％、酸化ホウ素１２％、酸化アルミニウム３％、酸化亜鉛３％、酸化ジルコニウム５％）１６５ｇを混合・予備混練をした後、三本ローラにかけて誘電体ペーストを作製した。この誘電体ペーストを上記の電極層を形成したガラス基板上に、スクリーン印刷法でメッシュ３２５のスクリーンを用いて乾燥厚み２２μｍになるように塗布した。続いて５７０℃で３０分間焼成して厚み１２μｍの誘電体層を形成した。
【００８０】
次に、本比較例の感光性ガラスペーストを、３２５メッシュのスクリーンを用いたスクリーン印刷により塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚の調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の塗布膜厚さは１６０μｍとした。
【００８１】
続いて、１５０μｍピッチ、線幅２０μｍのネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯で露光量１Ｊ／ｃｍ2のプロキシミティ露光を施した。露光後のパターンを、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけることにより現像し、その後、シャワースプレーにより光硬化していないスペース部分を水洗除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。
【００８２】
このようにして得られた隔壁パターンを空気中、５６０℃で３０分間焼成して白色隔壁を形成した。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１３０μｍ、隔壁中央部の線幅３０μｍ、ピッチ１５０μｍの良好な形状であった。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８３】
次に、ディスペンサーを用いて隔壁間に、赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体ペーストを塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成してプラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。
【００８４】
次に、この背面板とプラズマディスプレイパネル用の前面板とを合わせ、封着、ガス封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを得た。このパネルに電圧を印加して表示を行い、全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定したところ、輝度は４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０３５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。
【００８５】
比較例２
低融点ガラスとフィラーＡの混合比を８５：１５とした以外は比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６８％、直進反射率は１．２％あった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３８０ｃｄ／ｍ2 であり、色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６８，０．３１）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７７）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７、０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８６】
比較例３
フィラーＡとして平均粒子径０．０３μｍのシリカ粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７８％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【００８７】
比較例４
フィラーＡとして平均粒子径０．０１３μｍのアルミナ粉末(石原産業社製、製品番号：ＴＴＯ−５１）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８１％、直進反射率は１．１％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３８０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００８８】
比較例５
フィラーＡとして平均粒子径０．０２１μｍのチタニア粉末(デグサ社製、製品番号：Ｐ２５）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８４％、直進反射率は０．７％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４４０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２６）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１８，０．０３）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【００８９】
比較例６
フィラーＡとして、平均粒子径０．００５μｍのチタニア系微粒子を含有する溶液濃度２０％を用いた以外は、比較例１を繰り返した。ここで用いたチタニア系微粒子（触媒化成社製、“オプトレイク”５０２）は、酸化チタン４１．８％、酸化錫３７．１％、酸化ケイ素２１．１％から構成されたものであった。
【００９０】
焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．５％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４５０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２９）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００９１】
比較例７
フィラーＡとして平均粒子径０．００８μｍのチタニア系粉末を用いた以外は、比較例１を繰り返した。ここで用いたチタニア系微粒子（触媒化成社製、“オプトレイク”５０７）は、酸化チタン４１％、酸化錫４４％、酸化ケイ素１５％から構成されたものであった。
【００９２】
焼成後の全光線反射率は８６％、直進反射率は１．３％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４６０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６９，０．２９）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１８，０．０３）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は２％であった。
【００９３】
比較例８
フィラーとして平均粒子径０．０１５μｍのジルコニア粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７３％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【００９４】
比較例９
感光性モノマーとして、ＭＧＰ４００の代わりにビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）ｎ−プロピルアミン（ＧＭＰＡ）を用いた他は比較例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７５％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６８，０．３０）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１１，０．７８）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０４６）で、鮮明かつ美麗な表示特性をを得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【００９５】
実施例１
低融点ガラスとして、比較例１と同じものを用いた。フィラーＣとして、酸化物換算組成が、酸化珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％の高融点ガラスを用いた。この高融点ガラスのガラス転移点は６５２℃、軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０-7／Ｋ、ピーク粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であった。またフィラーＢとして、ピーク粒子径が０．０１２μｍのシリカ粉末を用いた。
【００９６】
この低融点および高融点ガラス粉末１００重量部に対して、０．０８重量部のアゾ系有機染料“スダンIV”をアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザーで均質に撹拌し、この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いてアセトンを蒸発させ、１５０〜２００℃の温度で乾燥した。
【００９７】
感光性ポリマー溶液として、比較例１と同じものを用いた。室温の感光性ポリマー溶液に、感光性モノマー(ＭＧＰ４００）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）、ゲル化防止剤（ベンゾチアゾール）、分散剤（“ノプコスパース”）、重合禁止剤（ハイドロキノンモノエチルエーテル）および可塑剤（ジブチルフタレート）を加えて溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【００９８】
溶剤を除去した有機成分の配合割合は、感光性ポリマー３８％、感光性モノマー３８％、光重合開始剤９．２％、ゲル化防止剤８．１％、分散剤１．４％、重合禁止剤０．３％、可塑剤４．２％である。
【００９９】
低融点ガラス、高融点ガラス(フィラーＣ）よびフィラーＢと有機ビヒクルを３本ローラで混合・分散して感光性ペーストを得た。感光性ペーストに含まれる各成分（重量部）は、低融点ガラス５０、高融点ガラス(フィラーＣ）１２、フィラーＢ３．３、感光性有機成分３５とした。無機成分中の低融点ガラス、フィラーＣおよびフィラーＢの混合比率は７６．６：１８．４：５となる。
【０１００】
この感光性ガラスペーストについて前述の方法により反射率を測定したところ、全光線反射率は７８％、直進反射率は１．４％であった。
形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観察したところ、高さ１３５μｍ、隔壁中央部の線幅３３μｍ、ピッチ１５０μｍの良好な形状であった。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１０１】
次に、ディスペンサーを用いて隔壁間に、赤色、緑色、青色に発光する蛍光体粉末を含有する蛍光体ペーストを塗布し、乾燥することにより蛍光体層を形成して、プラズマディスプレイパネル用の背面板を得た。
【０１０２】
次に、この背面板とプラズマディスプレイパネル用の前面板とを合わせ、封着、ガス封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを得た。このパネルに電圧を印加して表示を行い、全面点灯時の輝度を大塚電子社製の測光機ＭＣＰＤ−２００を用いて測定したところ、輝度は４００ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０５５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。
【０１０３】
実施例２
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０３μｍのチタニア粉末(石原産業製、製品番号：ＴＴＯ−５５）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２７）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７５）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０２５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１０４】
実施例３
フィラーＢとしてピーク粒子径０．００５μｍのチタニア粉末(石原産業製）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．７％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４２０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２８）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１１，０．７７）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１０５】
実施例４
フィラーＢとしてピーク粒子径０．００８μｍのチタニア粉末を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７５％、直進反射率は２．０％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３９０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２６）、（Ｇｘ、Ｇｙ）＝（０．１２，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１６，０．０５２）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【０１０６】
実施例５
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０１３μｍのアルミナ粉末(デグサ社製、製品番号：アルミナＣ）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は７３％、直進反射率は１．６％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４３０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６６，０．２５）、（ＧＸ、Ｇｙ）＝（０．０９，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４５）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１０７】
実施例６
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０２μｍのジルコニア粉末(ナノテック社製）を用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６５％、直進反射率は１．２％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が３９０ｃｄ／ｍ2であり、また色純度は、（Ｒｘ、Ｒｙ）＝（０．６７，０．２９）、（ＧＸ、Ｇｙ）＝（０．１０，０．７６）、（Ｂｘ、Ｂｙ）＝（０．１７，０．０４０）で、鮮明かつ美麗な表示特性を得ることができた。この隔壁の気孔率は５％であった。
【０１０８】
実施例７
フィラーＢとしてピーク粒子径０．０３μｍのシリカ粉末を用い、低融点ガラス、高融点ガラスとフィラーＢの混合比率を７５：１８．３：６．７とした以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は８０％、直進反射率は１．４％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４４０ｃｄ／ｍ2であり、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は２％であった。
【０１０９】
実施例８
低融点ガラスとして下記の酸化物換算組成および熱特性を有するものを用いた以外は実施例１を繰り返した。低融点ガラス組成：酸化リチウム８．６％、酸化珪素２０．１％、酸化ホウ素３１％、酸化アルミニウム２０．６％、酸化バリウム３．８％、酸化マグネシウム５．９％、酸化カルシウム４．２％、酸化亜鉛２．１％。ガラス転移点４７２℃、軟化点５１５℃、熱膨張係数８３×１０-7／Ｋ、屈折率１．５９焼成後の全光線反射率は８３％、直進反射率は１．１％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４１０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は４％であった。
【０１１０】
実施例９
高融点ガラスの代わりにピーク粒子径２．５μｍのコーディエライトを用いたほかは、実施例１を繰り返した。焼成後の全光線反射率は６０％、直進反射率は２．０％であった。またこの感光性ガラスペーストを用いて作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が４５０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。この隔壁の気孔率は３％であった。
【０１１１】
比較例１０
電子放出素子を用いたディスプレイは、電子放出素子を作製した電子源を固定する背面基板と、蛍光体層とメタルバックが形成された前面基板を封着して作製した。前面基板と背面基板との間には、支持枠と耐大気圧支持部材としての隔壁（スペーサー）を作製した。
【０１１２】
表面伝導型電子放出素子および電極間配線を形成した基板上に、比較例１で用いた感光性ペーストをスクリーン印刷により全面塗布・乾燥し、これを繰り返して乾燥厚みが約１．０ｍｍの塗布膜を形成した。この塗布膜に、幅２ｍｍのストライプ状の開口部を１ｃｍピッチで有するフォトマスクを密着させて、出力１５ｍＷ／ｃｍ2の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は１．２Ｊ／ｃｍ2とした。
【０１１３】
次に、２回目の感光性ペーストの塗布・乾燥を行って、最初と同様の厚みの２段目の塗布膜を形成し、今度は開口部幅１．６ｍｍのフォトマスクを最初の露光部に対応するようにアライメントして同様に露光した。この手法を３段目まで繰り返し、３段目には幅１．２ｍｍの開口部を有するフォトマスクを使用した。このように露光処理の終わった塗布膜を比較例１と同様の手段で現像・水洗して、、断面が３段の雛壇状の高さ２．３ｍｍのストライプ状の隔壁（スペーサー）パターンを形成した。これを空気中５６０℃で３０分間焼成し、電子放出素子を用いたディスプレイ用の背面基板を得た。
【０１１４】
一方、ブラックマトリクスおよび３原色に発光する蛍光体層を形成しメタルバックを設けた前面基板を別途作成し、上記背面基板と封着して電子放出素子を用いたディスプレイを得た。得られたディスプレイは、白色隔壁の効果によりディスプレイの輝度は、３８０ｃｄ／ｍ2となり向上した。
【０１１５】
実施例１０
実施例１で用いた感光性ペーストを用いた以外は、比較例１０を繰り返した。得られたディスプレイは、白色隔壁の効果により輝度が向上した。得られたディスプレイの輝度は、３５０ｃｄ／ｍ2で、良好な表示特性が得られた。
【０１１６】
比較例１１
フィラーＡとして平均粒子径０．２４μｍのシリカ粉末(石原産業社製、製品番号：ＣＲ−ＥＬ）を用いた以外は、比較例１を繰り返した。隔壁パターンの形状が頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１１７】
比較例１２
フィラーＡとして平均粒径０．１５μｍのアルミナ粉末を用いた以外は、比較例１を繰り返した。形成された隔壁パターンは頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１１８】
比較例１３
比較例１において、フィラーＡとして平均粒子径２．５μｍのコーディエライトを用いた。隔壁パターンの形成は良好に行われたが、焼成後の全光線反射率は５０％以下であり、作製したプラズマディスプレイパネルにおいては、輝度は、１００ｃｄ／ｍ2であり、輝度の向上効果がなく、隣の発光の洩れが観測され、色純度の低下が認められた。
【０１１９】
比較例１４
比較例１において、低融点ガラスの代わりに酸化物換算組成が、酸化珪素３８％、酸化ホウ素１０％、酸化バリウム５％、酸化カルシウム４％、酸化アルミニウム３６％、酸化亜鉛２％、酸化マグネシウム５％の高融点ガラスをフィラーＡとして用いた。この高融点ガラスのガラス転移点は６５２℃、軟化点は７４６℃、熱膨張係数４３×１０-7／Ｋ、平均粒子径２．４μｍで平均屈折率は１．５９であった。
【０１２０】
隔壁パターンの形成は良好に行われたが、焼成後の全光線反射率は５０％以下であり、作製したプラズマディスプレイパネルにおいては、輝度は、１４０ｃｄ／ｍ2であり、輝度の向上効果がなく、隣の発光の洩れが観測され、色純度の低下があった。
【０１２１】
比較例１５
フィラーＢの代わりにピーク粒子径０．２５μｍのチタニア粉末を用いた以外は、実施例１を繰り返した。隔壁パターンの形状が頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１２２】
比較例１６
フィラーＢの代わりにピーク粒子径０．１５μｍのアルミナ粉末を用いた以外は、実施例５を繰り返した。形成された隔壁パターンは頭頂部に膨らみがあり、底部がくびれたものとなり、ディスプレイ用の隔壁として不都合であった。
【０１２３】
比較例１７
低融点ガラスと高融点ガラス（フィラーＣ）とフィラーＢとの混合比率を９５：３：２とした以外は実施例１を繰り返した。良好な形状の隔壁が得られたが、作製したプラズマディスプレイパネルは、輝度が１５０ｃｄ／ｍ2であり、本発明の目的の表示特性を満足するものではなかった。
【０１２４】
比較例１８
低融点ガラスと高融点ガラス（フィラーＣ）とフィラーＢとの混合比率を４５：３５：２０とした以外は実施例１を繰り返した。隔壁形状が不良であり、隔壁強度も不足であった。
【０１２５】
【発明の効果】
本発明によれば、良好なパターニングが可能でコスト的にも有利なフォトリソグラフィ法により、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い白色隔壁を有するディスプレイ用部材を提供することができる。
Claims (2)
- 低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥し、フォトリソグラフィ法でパターニングし、パターンを焼成して隔壁を形成する工程を含むことを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法であって、前記フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
- 低融点ガラス５０〜９０重量％とフィラー１０〜５０重量％からなる無機微粒子と感光性有機成分を含有する感光性ペーストであって、前記フィラーの粒度分布が少なくとも２つ以上のピークを有し、かつ、少なくとも１種の前記フィラーのピークが０．００５〜０．０８μｍの範囲内にあることを特徴とするディスプレイの隔壁形成用感光性ぺースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000018542A JP4597300B2 (ja) | 1999-02-01 | 2000-01-27 | ディスプレイ用部材の製造方法およびディスプレイの隔壁形成用感光性ぺースト |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-23474 | 1999-02-01 | ||
| JP2347499 | 1999-02-01 | ||
| JP2347399 | 1999-02-01 | ||
| JP11-23473 | 1999-02-01 | ||
| JP2000018542A JP4597300B2 (ja) | 1999-02-01 | 2000-01-27 | ディスプレイ用部材の製造方法およびディスプレイの隔壁形成用感光性ぺースト |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000290040A JP2000290040A (ja) | 2000-10-17 |
| JP2000290040A5 JP2000290040A5 (ja) | 2007-03-15 |
| JP4597300B2 true JP4597300B2 (ja) | 2010-12-15 |
Family
ID=27284275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000018542A Expired - Fee Related JP4597300B2 (ja) | 1999-02-01 | 2000-01-27 | ディスプレイ用部材の製造方法およびディスプレイの隔壁形成用感光性ぺースト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4597300B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4631153B2 (ja) * | 1999-12-02 | 2011-02-16 | パナソニック株式会社 | ディスプレイ用部材およびディスプレイ |
| KR100852706B1 (ko) | 2007-03-02 | 2008-08-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 격벽 형성용 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널 |
| KR100894062B1 (ko) | 2007-03-26 | 2009-04-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 격벽 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 패널 |
| JP2009170374A (ja) * | 2008-01-21 | 2009-07-30 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネルおよびそれを用いたプラズマディスプレイ装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000164121A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Fujifilm Olin Co Ltd | プラズマディスプレーパネル用の隔壁形成用ペースト及び隔壁形成方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1062981A (ja) * | 1996-08-13 | 1998-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成用ペースト |
| JPH11338142A (ja) * | 1998-05-25 | 1999-12-10 | Fujifilm Olin Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
-
2000
- 2000-01-27 JP JP2000018542A patent/JP4597300B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000164121A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Fujifilm Olin Co Ltd | プラズマディスプレーパネル用の隔壁形成用ペースト及び隔壁形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000290040A (ja) | 2000-10-17 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070129 |
|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A711 | Notification of change in applicant |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100802 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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