JP2000509562A - 流体容器内で基板を処理する装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 流体容器（１）内で基板（１２）を処理する装置が、流体容器（１）の上方に運ぶことができる第１の基板搬送装置（６；７）を有しており、該基板搬送装置が少なくとも１つの基板保持装置（２０；２１）を有しており、該基板保持装置が、基板（１２）を第１の位置で保持し、第２の位置で解放する。簡単な構造で装置の生産性を改善するとともに、基板を確実かつ信頼性良好に処理するようにするために、第２の基板搬送装置（７；６）が第１の基板搬送装置に不動に結合されていて、該第１の基板搬送装置と一緒に運動可能である。この装置を操作するためのプロセスが開示されている。

Description

【発明の詳細な説明】 流体容器内で基板を処理する装置および方法 本発明は、流体容器内で基板を処理する装置であって、流体容器の上方に運ぶ ことができる第１の基板搬送装置が設けられており、該基板搬送装置が少なくと も１つの基板保持装置を有しており、該基板保持装置が、基板を第１の位置で保 持し、第２の位置で解放するようになっている形式のものに関する。さらに本発 明は基板を搬送するための方法に関する。 冒頭で述べた形式の装置は同一出願人のドイツ連邦共和国特許出願公開第４４ １３０７７号明細書に基づき公知である。処理しようとする基板の、基板搬送装 置への挿入、および、処理された基板の、基板搬送装置からの取り出しは、この 公知の装置においては方法の点からも、また特に、必要とされる時間的手間の点 からも煩わしいので、この公知の装置の生産性は制限される。 ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９５４６９９０号明細書から、同一出願人 に基づき、基板の化学的な給湿処理のための装置が公知である。これらの基板は 、鉛直方向に運動する第１搬送キャリッジによって上昇・下降可能である。さら に、基板のための第２の搬送キャリッジを有するキャリヤが設けられている。 このキャリヤは、基板を運動させる第１の搬送キャリッジに対して相対運動可能 である。キャリヤなしの流体容器内への、および流体容器内からの基板の案内、 導出入はこのような公知の装置の対象ではない。 欧州特許出願公開第３８５５３６号明細書には、キャリヤ内への、およびキャ リヤからの基板の挿入および持ち上げ出しのための装置が示され記載されている 。このキャリヤは流体容器内に位置している。このキャリヤ自体は、流体容器か ら基板が持ち上げ出されたあとで、やはり持ち上げ出される。 ドイツ連邦共和国特許出願公開第４４２５２０８号明細書に基づき、半導体加 工機械にロードおよび／またはアンロード装置を結合するための装置が公知であ る。この装置においては、移動可能なユニット内部に、ロード・アンロード装置 のための位置調整可能な収容エレメントが設けられている。この収容エレメント は、互いに重なる少なくとも２つの平面相互間で調節可能である。このユニット は、半導体加工機械に対して方向付けられたカップリングエレメントに固定する ための方向付け・保持エレメントを有している。 米国特許第４８４０５３０号明細書は、基板処理装置に所属の基板支持体から 、更なる搬送のために設けられたキャリヤへ、またその逆に半導体基板を搬送す るための装置を示している。 本発明の課題は、特に簡単な構造を有する装置によ って、しかも、特に僅かな時間的手間で確実かつ信頼性良好に、流体容器内で基 板を処理し、かつ流体容器に対するローディング・アンローディングを行うこと を可能にするような装置および方法を提供して、このような装置の生産性を改善 可能にすることである。 この課題は本発明に基づき、第２の基板搬送装置が設けられており、該基板搬 送装置が、第１の基板搬送装置に不動に結合されていて、該第１の基板搬送装置 と一緒に運動可能であることにより解決される。第２の基板搬送装置によって、 流体容器内における基板交換を著しく促進することができる。この場合、１つの 基板パッケージの処理中、既に第２の基板搬送装置に、基板もしくはさらに処理 しようとする別の基板パッケージがローディングされる。このようなダブル基板 搬送装置は特に構造的にも簡単なので、第２の基板搬送装置のための付加的な手 間は、生産速度が著しく高くなるという面から見て僅かなものである。第２の基 板搬送装置によって基板搬送装置に対するローディング・アンローディングを、 本来の処理個所とは別個に隔たって行うことができるため、搬送確実性も高まる ので、より僅かな廃棄率を達成することができる。 互いに不動に結合された両基板搬送装置が搬送装置を同時に運動させるための 共通の装置を有していると極めて有利である。従って、これらの両基板搬送装置 を運動させるための機械的な操作装置にかかる手間は 、ただ１つの基板搬送装置における手間よりもさほど大きいものではない。 本発明の特に有利な構成によれば、搬送装置にローディングおよび／またはア ンローディングするための基板用の少なくとも１つのロードおよび／またはアン ロードステーションが設けられている。この場合、流体容器の両側に、それぞれ １つのロードおよび／またはアンロードステーションが設けられていると特に有 利である。 少なくとも１つのロードおよび／またはアンロードステーションが基板支持体 を乾燥させるための装置を有していると有利である。この基板支持体からは基板 が搬送装置内にもたらされるか、またはこの基板支持体内に基板が搬送装置から 挿入される。こうして、基板支持体は、湿った基板の取り出し後、乾燥過程後に 、処理された乾燥させられた基板を収容するために直ぐに再び使用することがで きる。 本発明の特に有利な構成によれば、基板保持装置が少なくとも１つの回転可能 な保持ロッドを有している。この保持ロッドは、保持ロッドの回転位置に応じて 、基板を基板搬送装置内で保持するかまたは解放する。基板搬送装置および基板 保持装置のこのような構成はドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６１５９６９ 号明細書に詳細に記載されており、このような構成は本願の内容に該当するので 、繰り返しを避ける。 搬送装置がそれぞれカップの形状で形成されていると特に有利である。この場 合、カップの互いに対向して位置する２つの壁が、基板のためのスリットを有し ていると特に有利である。これらのスリット内では基板が、カップ内に押しずら され、カップから取り外されかつ／またはカップ内で係止されたときにはそれら の位置において互いに平行に保持される。カップはプロセスカツプ(Prozesshaub en)であると有利である。このプロセスカップは、マランゴニ法に基づく乾燥プ ロセスを実施可能にするために、少なくとも１つの流体のために特に流入開口を 有している。この点に関しては繰り返しを避けるために、同一出願人によるドイ ツ連邦共和国特許出願公開第１９５４６９９０号明細書、同第１９６１５９７０ 号明細書または同第１９６３７８７５号明細書を参照されたい。これらの対象と なるものはこの点に関してはやはり本願の内容になるものである。 前記課題は、請求項１から１３までのいずれか１項記載の第１の基板搬送装置 と第２の基板搬送装置とを備えた流体容器内で基板を処理する方法によっても、 流体容器の上方に位置する基板搬送装置の基板を処理する一方、他方の基板搬送 装置から基板をアンローディングし、かつ／または、該基板搬送装置に基板をロ ーディングすることによって解決される。つまり、基板の処理過程中には、本発 明による方法および本発明 による装置によって、本発明によるダブル搬送装置の他方の基板搬送装置に同時 にローディングおよび／またはアンローディングすることが可能である。これに より過程全体が著しく促進され、装置仝体の生産性が従来の装置と比べて著しく 促進される。ローディング・アンローディング過程は本発明においては従来の装 置と異なり、流体容器の上方ではなく、流体容器から隔たったところで行われる ので、装置自体をより簡単に構成し、ローディング・アンローディング過程をよ り確実かつより信頼性良好に行うことができるので、廃棄率が低減される。 本発明による装置が流体容器の一方の側に配置された唯１つのロード・アンロ ード装置を有していても有利に使用可能であるが、しかし、流体容器の両側にそ れぞれ１つのロードおよび／またはアンロード装置が設けられていると特に有利 である。この場合、その方法は次のような工程を有していると特に有利である。 （a）基板を流体容器から第１の基板搬送装置内に持ち上げ出し、同時に、第 ２のロードおよび／またはアンロードステーションの上方に位置する第２の基板 搬送装置にローディングする。この場合これらの基板は第１および第２の基板搬 送装置に保持され係止される。 （b）両基板搬送装置を、第１の基板搬送装置が第１のロードおよび／または アンロードステーション の上方に位置しかつ第２の基板搬送装置が流体容器の上方に位置するような位置 に運動させる。処理過程中に、有利にはプロセスカップの形で形成された基板搬 送装置が流体容器の上方で、できる限り外方に向かって密に閉鎖するようにした い場合には、両基板搬送装置の運動もしくは移動の前に、これらの両基板搬送装 置を僅かに持ち上げ、これによりその後初めて移動を行うと有利である。 （c）同時に基板を第１の基板搬送装置から第１のロード・アンロードステー ションに位置する基板支持体内に、基板を第２の基板搬送装置から流体容器内に アンローディングする。 （d）両基板搬送装置を、第１の基板搬送装置が流体容器の上方に位置しかつ 第２の基板搬送装置が第２のロードおよび／またはアンロードステーションの上 方に位置するような位置に運動させる。 前記プロセス経過は任意に頻繁に繰り返し可能であり、迅速なプロセス経過を 高い生産性を持って可能にする。 カップの形、つまりダブルカップの形の基板搬送装置が、ドイツ連邦共和国特 許出願公開第１９６１５９６９号に基づく基板保持装置のための回転可能な保持 ロッドを有して構成されている場合、工程(a)の間もしくは工程(a)の後に、第１ および第２の搬送装置の保持 ロッドを回転させることにより、基板を保持する第１の位置内に係止を行い、工 程(c)の間もしくはこの工程(c)の後に第１および第２の搬送装置の保持ロッドを 回転させることにより、基板を解放する第２の位置にもたらすと有利である。 本発明のさらに別の有利な構成によれば、基板を、前記工程(a)中に流体容器 から第２の基板搬送装置内に持ち上げ出す時に乾燥させる。このような乾燥過程 は例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第４４１３０７７号明細書および前述の 同一出願人によるドイツ連邦共和国出願明細書に記載されている。 特に、いわゆるマランゴニ乾燥法が用いられる場合、本発明による方法のさら に別の有利な手段によれば、基板を流体容器からカップとして形成された第１の 搬送装置内に持ち上げ出す間にガスをカップ内に導入する。 本発明による方法のさらに別の有利な手段によれば、基板支持体を、第１およ び／または第２のロードおよび／またはアンロードステーションで、第１および ／または第２の基板搬送装置へのローディング後、つまり基板が基板支持体には 位置していない場合に乾燥する。さらに乾燥ガスが基板支持体に吹き付けられる と有利である。 以下に本発明の実施例を唯１つの図面につき説明する。この図面では、本発明 による装置の１実施例が概 略的に横断面図で示されている。 唯１つの図面は流体容器１を概略的に示している。この流体容器の一方の側に は、第１のロードおよび／またはアンロードステーション２が、他方の側には、 第２のロードおよび／またはアンロードステーション３が、それぞれ１つの基板 昇降装置４；５を有した状態で概略的に示されている。 第１のロードおよび／またはアンロードステーション２の上方には、第１の基 板搬送装置６が位置しており、流体容器１の上方には第２の基板搬送装置７が位 置している。これらの基板搬送装置はそれぞれカップとして形成されている。カ ップ６，７は結合エレメント８を介して互いに不動に結合されている。 第２のロード・アンロードステーション３は付加的に概略的に図示した基板支 持体乾燥装置９を有している。この基板支持体乾燥装置によって、乾燥ガスが、 やはり概略的に図示された基板支持体１０に吹き付けられる。 流体容器１は、ナイフ状の条片の形の保持装置１１を有している。この保持装 置によって基板１２は流体容器１内に沈め込まれ、この流体容器から持ち上げ出 される。流体容器１および保持装置１１の実施例はドイツ連邦共和国特許出願公 開第４４０１３０７７号明細書または前記まだ公開されていない、同一出願人の 出願明細書に記載されているので、繰り返しを避ける ために、これらの明細書を参照されたい。 カップ６，７は図示の実施例の場合、プロセスカップとして形成されており、 従って流入開口１３と分配開口１４，１５を有している。これらの流入開口１３ と分配開口１４，１５とを介して処理ガス、例えば窒素とイソプロピルアルコー ルとから成る混合物がカップ６；７の内部に流入させられる。これにより、マラ ンゴニ法に基づく基板１２の流体容器１からの持ち上げ時における乾燥過程を改 善しかつ促進することができる。 さらにカップ６，７は、スリット１６，１７をそれぞれの側壁に有している。 これらのスリットにおいては、基板１２が取り入れおよび取り出し中に案内され 、それらの位置で保持される。カップ６の壁１８には基板保持装置２０が、カッ プ７の壁１９には基板保持装置２１が回転可能な保持ロッドの形でそれぞれ位置 している。 基板保持装置として使用されるカップ６；７、回転可能な保持ロッドとして形 成された、カップ６；７に設けられた基板保持装置、および、これらの基板保持 装置の機能形式はドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６１５９６９号明細書に おいて詳細に記載されているので、これを参照されたい。このことに関しては本 出願の内容と同じなので、繰り返しを避ける。 唯一の図面に示された実施例に基づく本発明による 装置の機能を以下に説明する。 図面に示されたプロセス時点では、カップ６，７の回転可能の保持ロッド２０ ，２１が、基板１２を解放する第２の位置に位置しているので、これらの基板は 第１のロードおよび／またはアンロードステーション２内で基板昇降装置４によ ってカップ６から、もしくは、ナイフ状の条片１１によってカップ７から流体容 器１内に沈め込まれる。 カップ６からアンローディングされ、処理され、もしくは乾燥された基板１２ は、カップ６の下方に設けられた図示していない基板支持体内に置かれ、これに より処理された基板を更なる処理ステーションまたは更なる工程に供給すること ができる。 基板１２が第１のロード・アンロードステーション２もしくは流体容器１内に 完全に沈め込まれたあと、ダブルカップ６，７，８は符号２２で示した方向に移 動されて、第１のカップ６が流体容器１の上方に、第２のカップ７が第２のロー ド・アンロードステーション３の上方に位置するようになる。 ダブルカップ６，７，８が矢印２２で示した方向に移動される前に、このダブ ルカップは僅かに持ち上げ、移動のあとに再び沈め込むことができる。こうして 、流体容器１とカップ６；７との間の移行部をシールすることが可能である。こ のことは場合によっては処理過程にとって有利である。 カップ６が流体容器１の上方に、ひいてはカップ７が第２のロードおよび／ま たはアンロードステーション３の上方に位置しているときには、ナイフ状の条片 １１は流体容器１内で上方に向かって運動させられるので、基板１２は第１のカ ップ６のスリット１６内に押しずらされ、その後この基板は保持ロッド２０の上 方に位置するようになる。流体容器１から基板が持ち上げられている間、乾燥過 程が行われる。この乾燥過程は、マランゴニ法使用下で第１のカップ６内にガス を導入することによって促進されて行われる。第１のカップ６が流体容器１の上 方にローディングされると同時に、第２のロードおよび／またはアンロードステ ーション３の上方に位置する第２のカップ７にも、処理しようとする基板１２が ローディングされる。この場合、基板昇降装置５が基板１２を基板支持体１０か ら持ち上げ、基板が回転可能な保持ロッド２１を超え、これにより保持ロッドの 回転により、基板を保持する第１の位置に係止されるまで、第２のカップ７内に 押しずらされる。 次いで、ダブルカップ６，７，８が矢印２２とは逆の方向に移動させられて、 次いで第１のカップ６が第１のロードおよび／またはアンロードステーション２ の上方に、第２のカップ７が流体容器１の上方に位置するようになる。このこと は図面に示した通りである。流体容器１内のナイフ状の条片１１も第１のロード および／またはアンロードステーション２の基板昇降装置４も次いで上側位置に 移動される。保持ロッド２０，２１が回転すると、基板はカップ６，７から、基 板を解放する第２の位置に沈め込まれ、第１のロードおよび／またはアンロード ステーション２内で、図示ししていない基板支持体に置かれ、もしくは完全に流 体容器１の処理流体中に進入させられる。 次いで、ダブルカップ６，７，８は、第１のカップ６が流体容器１の上方に位 置しかつ第２のカップ７が第２のロードおよび／またはアンロードステーション ３の上方に位置しているような位置に再び移動される。上記の経過は任意に頻繁 に繰り返し可能である。 以上、本発明を有利な実施例につき説明した。しかしながら当業者にとって、 本発明の思想を逸脱することなしに変更を加えることは可能である。装置および 方法は乾燥過程の例で説明したが、本発明による装置および本発明による方法は 、他の処理過程と関連しても基板の搬送にとっても良好に使用可能である。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１１年３月２９日（１９９９．３．２９） 【補正内容】 文献「Patent Abstracts of Japan，第10巻、No．306(E446)、1986年10月17日 および特開昭６１−１２１３３７号公報」に基づきウェハーのための回転式操作 装置(Karussell-Handhabungsgeraet)が公知である。この回転式操作装置の場合 、回転部材の個々の位置においてそれぞれ１つのウェハーが種々異なる処理浴も しくは流体容器に、回転部材の回転運動によって間欠的にもたらされる。このよ うな装置は純然たる搬送装置として役立ち、この搬送装置によって、個々のウェ ハーはステーションからステーションにもたらされる。ウェハーを処理すること に関連した、このような装置の付加的な機能は設けられていない。 本発明の課題は、特に簡単な構造を有する装置によって、しかも、特に僅かな 時間的手間で確実かつ信頼性良好に、流体容器内で基板を処理し、かつ流体容器 に対するローディング・アンローディングを行うことを可能にするような装置お よび方法を提供して、このような装置の生産性を改善可能にすることである。 前記「Patent Abstracts of Japan，第10巻、No．306(E446)、1986年10月17日 および特開昭６１−１２１３３７号公報」に基づき公知の、流体容器と、流体容 器の上方にもたらすことが可能な基板搬送装置とによって基板を処理するための 装置から出発して、前記課題は、本発明に基づき、２つの搬送装置が複数の基板 のためのカップとして形成されており、該カップが少 なくとも１つの基板保持装置を有しており、該基板保持装置が、基板を第１の位 置で保持し、第２の位置で解放するようになっており、基板搬送装置が互いに不 動に結合されていて、基板搬送装置を交互に流体容器の上方で位置決めするため に直線運動可能であることにより解決される。 第２の基板搬送装置によって、流体容器内における基板交換を著しく促進する ことができる。 請求の範囲 1. 基板（１２）を処理する装置であって、流体容器（１）と、流体容器（１） の上方に運ぶことができる基板搬送装置（６；７）とが設けられている形式のも のにおいて、 ２つの搬送装置が複数の基板のためのカップとして形成されており、該カップ が少なくとも１つの基板保持装置（２０；２１）を有しており、該基板保持装置 が、基板（１２）を第１の位置で保持し、第２の位置で解放するようになってお り、基板搬送装置（７；６）が互いに不動に結合されていて、基板搬送装置（７ ；６）を交互に流体容器（１）の上方で位置決めするために直線運動可能である ことを特徴とする、基板を処理する装置。 2. 両基板搬送装置（６，７）を同時に運動させるための共通の装置が設けられ ている、請求項１記載の装置。 3. 搬送装置（６，７）にローディングおよび／またはアンローディングするた めの基板用の少なくとも１つのロードおよび／またはアンロードステーション（ ２，３）が設けられている、請求項１または２記載の装置。 4. 少なくとも１つのロードおよび／またはアンロードステーション（２，３） が、基板支持体（１０） を乾燥させるための装置（９）を有している、請求項１から３までのいずれか１ 項記載の装置。 5. 基板保持装置（２０，２１）が少なくとも１つの回転可能な保持ロッドを有 している、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。 6. 保持ロッド（２０，２１）が回転することによって、基板（１２）を保持す る第１の位置から、基板（１２）を解放する第２の位置にもたらすことができる ようになっている、請求項５記載の装置。 7. カップ（６，７）の互いに対向して位置する２つの壁が、基板（１２）のた めのスリット（１６；１７）を有している、請求項６記載の装置。 8. 保持ロッド（２０，２１）が、基板を保持する第１の位置に基板（１２）が 当て付けられている長手方向領域に、基板（１２）のためのスリットを有してい る、請求項４から７までのいずれか１項記載の装置。 9. カップ（６，７）が少なくとも１つの流体のための流入開口（１３）を有す るプロセスカップである、請求項６から８までのいずれか１項記載の装置。 10．ロードおよび／またはアンロードステーション（２，３）が、基板（１２） を搬送装置（６，７）内に持ち上げ、かつ／または、搬送装置（６，７）から沈 め込ませるためのそれぞれ１つの基板上昇もしくは下降装置（４；５）を有して いる、請求項３か ら９までのいずれか１項記載の装置。 11．請求項１から請求項１０までのいずれか１項記載の、それぞれ複数の基板（ １２）を収容するためにカップとして形成された第１および第２の基板搬送装置 （６，７）を有する流体容器（１）内で基板（１２）を処理する方法において、 流体容器（１）の上方に位置する基板搬送装置（６；７）の基板（１２）を処 理する一方、他方の基板搬送装置（７；６）から基板（１２）をアンローディン グし、かつ／または、該基板搬送装置に基板をローディングすることを特徴とす る、流体容器内で基板を処理する方法。 12．次の工程つまり （a）基板（１２）を流体容器（１）からカップとして形成された第１の基 板搬送装置（６）内に持ち上げ出し、同時に、第２のロードおよび／またはアン ロードステーションの上方に位置する、カップとして形成された第２の基板搬送 装置（７）にローディングし、 （b）両基板搬送装置（６，７）を、第１の基板搬送装置が第１のロードお よび／またはアンロードステーションの上方に位置しかつ第２の基板搬送装置が 流体容器（１９）の上方に位置するような位置に直線運動させ、 （c）同時に基板を第１の基板搬送装置（６）から 第１のロードおよび／またはアンロードステーション（２）の基板支持体内に、 基板（１２）を第２の基板搬送装置（７）から流体容器（１）内にアンローディ ングし、 （d）両基板搬送装置（６，７）を、第１の基板搬送装置（６）が流体容器 （１）の上方に位置しかつ第２の基板搬送装置（７）が第２のロードおよび／ま たはアンロードステーション（３）の上方に位置するような位置に直線運動させ る工程が行われる、請求項１１記載の方法。 13．第１および／または第２の基板搬送装置（６，７）の保持ロッド（２０；２ １）が回転することにより、基板（１２）を保持する第１の位置に基板（１２） を係止させ、第１および／または第２の基板搬送装置（６，７）の保持ロッド（ ２０；２１）が回転することにより、基板（１２）を解放する第２の位置に基板 （１２）を解放する、請求項１２記載の方法。 14．基板（１２）を、前記工程(a)中に流体容器（１）から第２の基板搬送装置 （７）内に持ち上げ出す時に乾燥させる、請求項１１から１３までのいずれか１ 項記載の方法。 15．基板（１２）を流体容器（１）からカップとして形成された第１の搬送装置 （６）内に持ち上げ出す間にガスをカップ内に導入する、請求項１４記載の 方法。 16．基板支持体（１０）を、第１および／または第２のロードおよび／またはア ンロードステーション（２，３）で、第１および／または第２の基板搬送装置（ ６，７）へのローディング後に乾燥する、請求項１１から１４までのいずれか１ 項記載の方法。 17．乾燥ガスを基板支持体（１０）に吹き付ける、請求項１６記載の方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 流体容器（１）内で基板（１２）を処理する装置であって、流体容器（１） の上方に運ぶことができる第１の基板搬送装置（６；７）が設けられており、該 基板搬送装置が少なくとも１つの基板保持装置（２０；２１）を有しており、該 基板保持装置が、基板（１２）を第１の位置で保持し、第２の位置で解放するよ うになっている形式のものにおいて、 第２の基板搬送装置（７；６）が設けられており、該基板搬送装置が、第１の 基板搬送装置に不動に結合されていて、該第１の基板搬送装置と一緒に運動可能 であることを特徴とする、流体容器内で基板を処理する装置。 2. 両基板搬送装置（６，７）を同時に運動させるための共通の装置が設けられ ている、請求項１記載の装置。 3. 搬送装置（６，７）にローディングおよび／またはアンローディングするた めの基板用の少なくとも１つのロードおよび／またはアンロードステーション（ ２，３）が設けられている、請求項１または２記載の装置。 4. 少なくとも１つのロードおよび／またはアンロードステーション（２，３） が、基板支持体（１０）を乾燥させるための装置（９）を有している、請求 項１から３までのいずれか１項記載の装置。 5. 基板保持装置（２０，２１）が少なくとも１つの回転可能な保持ロッドを有 している、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。 6. 保持ロッド（２０，２１）が回転することによって、基板（１２）を保持す る第１の位置から、基板（１２）を解放する第２の位置にもたらすことができる ようになっている、請求項５記載の装置。 7. 搬送装置（６，７）がそれぞれカップとして形成されている、請求項１から ６までのいずれか１項記載の装置。 8. カップ（６，７）の互いに対向して位置する２つの壁が、基板（１２）のた めのスリット（１６；１７）を有している、請求項７記載の装置。 9. 保持ロッド（２０，２１）が、基板を保持する第１の位置に基板（１２）が 当て付けられている長手方向領域に、基板（１２）のためのスリットを有してい る、請求項５から８までのいずれか１項記載の装置。 10．カップ（６，７）がプロセスカップである、請求項７から９までのいずれか １項記載の装置。 11．カップ（６，７）が少なくとも１つの流体のための流入開口（１３）を有し ている、請求項７から１０までのいずれか１項記載の装置。 12．カップ（６，７）がマランゴニ法に基づく乾燥プ ロセスのために設けられている、請求項７から１１までのいずれか１項記載の装 置。 13．ロードおよび／またはアンロードステーション（２，３）が、基板（１２） を搬送装置（６，７）内に持ち上げ、かつ／または、搬送装置（６，７）から沈 め込ませるためのそれぞれ１つの基板上昇もしくは下降装置（４；５）を有して いる、請求項４から１２までのいずれか１項記載の装置。 14．請求項１から請求項１３までのいずれか１項記載の第１および第２の基板搬 送装置（６，７）を有する流体容器（１）内で基板（１２）を処理する方法にお いて、 流体容器（１）の上方に位置する基板搬送装置（６；７）の基板（１２）を処 理する一方、他方の基板搬送装置（７；６）から基板（１２）をアンローディン グし、かつ／または、該基板搬送装置に基板をローディングすることを特徴とす る、流体容器内で基板を処理する方法。 15．次の工程つまり （a）基板（１２）を流体容器（１）から第１の基板搬送装置（６）内に持 ち上げ出し、同時に、第２のロードおよび／またはアンロードステーションの上 方に位置する第２の基板搬送装置（７）にローディングし、 （b）両基板搬送装置（６，７）を、第１の基板搬 送装置が第１のロードおよび／またはアンロードステーションの上方に位置しか つ第２の基板搬送装置が流体容器（１９）の上方に位置するような位置に運動さ せ、 （c）同時に基板を第１の基板搬送装置（６）から第１のロードおよび／ま たはアンロードステーション（２）の基板支持体内に、基板（１２）を第２の基 板搬送装置（７）から流体容器（１）内にアンローディングし、 （d）両基板搬送装置（６，７）を、第１の基板搬送装置（６）が流体容器 （１）の上方に位置しかつ第２の基板搬送装置（７）が第２のロードおよび／ま たはアンロードステーション（３）の上方に位置するような位置に運動させる工 程が行われる、請求項１４記載の方法。 16．第１および／または第２の基板搬送装置（６，７）の保持ロッド（２０；２ １）が回転することにより、基板（１２）を保持する第１の位置に基板（１２） を係止させ、第１および／または第２の基板搬送装置（６，７）の保持ロッド（ ２０；２１）が回転することにより、基板（１２）を解放する第２の位置に基板 （１２）を解放する、請求項１５記載の方法。 17．基板（１２）を、前記工程(a)中に流体容器（１）から第２の基板搬送装置 （７）内に持ち上げ出す時 に乾燥させる、請求項１４から１６までのいずれか１項記載の方法。 18．基板（１２）を流体容器（１）からカップとして形成された第１の搬送装置 （６）内に持ち上げ出す間にガスをカップ内に導入する、請求項１７記載の方法 。 19．基板支持体（１０）を、第１および／または第２のロードおよび／またはア ンロードステーション（２，３）で、第１および／または第２の基板搬送装置（ ６，７）へのローディング後に乾燥する、請求項１４から１７までのいずれか１ 項記載の方法。 20．乾燥ガスを基板支持体（１０）に吹き付ける、請求項１９記載の方法。