JP2928432B2 - 半導体ウエハの蒸気乾燥装置及びその消火方法及び洗浄システム - Google Patents
半導体ウエハの蒸気乾燥装置及びその消火方法及び洗浄システムInfo
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- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハの蒸気乾
燥装置及びその消火方法及び洗浄システムに関する。
燥装置及びその消火方法及び洗浄システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体デバイスの製造工程で
は、洗浄を行った半導体ウエハをＩＰＡ（イソプロピル
アルコール）等の有機溶媒の蒸気を利用して乾燥する半
導体ウエハの蒸気乾燥装置が用いられている。
は、洗浄を行った半導体ウエハをＩＰＡ（イソプロピル
アルコール）等の有機溶媒の蒸気を利用して乾燥する半
導体ウエハの蒸気乾燥装置が用いられている。
【０００３】このような半導体ウエハの蒸気乾燥装置、
例えばＩＰＡを用いた半導体ウエハの蒸気乾燥装置で
は、石英等から構成され、内部にＩＰＡを収容するため
の有機溶媒槽を備えている。この有機溶媒槽の下部に
は、ＩＰＡを加熱してＩＰＡ蒸気を発生させるためのヒ
ータが設けられており、一方、有機溶媒槽内の上部に
は、ＩＰＡ蒸気を冷却して凝縮させるための冷却機構が
設けられている。また、有機溶媒槽内には、複数枚の半
導体ウエハを支持して上下動させる昇降機構が設けられ
ており、前工程（通常洗浄工程）から搬送機構によって
搬送されてきた半導体ウエハをこの昇降機構上に載置
し、一旦半導体ウエハを有機溶媒槽内下部の蒸気雰囲気
内に浸漬して半導体ウエハに付着した水分等をＩＰＡに
置換し、この後、半導体ウエハを有機溶媒槽内上部に配
置して乾燥を行うように構成されている。
例えばＩＰＡを用いた半導体ウエハの蒸気乾燥装置で
は、石英等から構成され、内部にＩＰＡを収容するため
の有機溶媒槽を備えている。この有機溶媒槽の下部に
は、ＩＰＡを加熱してＩＰＡ蒸気を発生させるためのヒ
ータが設けられており、一方、有機溶媒槽内の上部に
は、ＩＰＡ蒸気を冷却して凝縮させるための冷却機構が
設けられている。また、有機溶媒槽内には、複数枚の半
導体ウエハを支持して上下動させる昇降機構が設けられ
ており、前工程（通常洗浄工程）から搬送機構によって
搬送されてきた半導体ウエハをこの昇降機構上に載置
し、一旦半導体ウエハを有機溶媒槽内下部の蒸気雰囲気
内に浸漬して半導体ウエハに付着した水分等をＩＰＡに
置換し、この後、半導体ウエハを有機溶媒槽内上部に配
置して乾燥を行うように構成されている。
【０００４】また、有機溶媒槽の周囲には、シャッター
機構が設けられており、乾燥処理を実行していない期間
中このシャッター機構を閉じて外部と隔離し、ＩＰＡ蒸
気ができるだけ外部に漏洩しないよう配慮されている。
機構が設けられており、乾燥処理を実行していない期間
中このシャッター機構を閉じて外部と隔離し、ＩＰＡ蒸
気ができるだけ外部に漏洩しないよう配慮されている。
【０００５】上記半導体ウエハの蒸気乾燥装置におい
て、ＩＰＡ等の有機溶媒は引火性であり、一方蒸気乾燥
装置には、ＩＰＡを加熱して蒸気を発生させるためのヒ
ータ等が設けられている。このため、従来から半導体ウ
エハの蒸気乾燥装置には、万一、ＩＰＡ等に火が着いた
場合、これを速やかに消火するための消火機構を備えた
ものが多い。
て、ＩＰＡ等の有機溶媒は引火性であり、一方蒸気乾燥
装置には、ＩＰＡを加熱して蒸気を発生させるためのヒ
ータ等が設けられている。このため、従来から半導体ウ
エハの蒸気乾燥装置には、万一、ＩＰＡ等に火が着いた
場合、これを速やかに消火するための消火機構を備えた
ものが多い。
【０００６】このような消火機構を備えた蒸気乾燥装置
では、消火にＣＯ2 ガス等を用いるため、各種センサー
等で火災が検知された場合、直ちに警報を発するととも
に装置の電源を切り、この後、作業員等が退避するため
の所定時間（例えば２０秒）が経過するまで待って有機
溶媒槽の上部等に設けられた消化器ノズルからＣＯ2ガ
スを噴出するよう構成されている。
では、消火にＣＯ2 ガス等を用いるため、各種センサー
等で火災が検知された場合、直ちに警報を発するととも
に装置の電源を切り、この後、作業員等が退避するため
の所定時間（例えば２０秒）が経過するまで待って有機
溶媒槽の上部等に設けられた消化器ノズルからＣＯ2ガ
スを噴出するよう構成されている。
【０００７】なお、上記センサー等による火災検出の他
に、作業員等による手動操作によっても、上記消火機構
を作動させることができるよう、通常、作動用スイッチ
等も設けられている。
に、作業員等による手動操作によっても、上記消火機構
を作動させることができるよう、通常、作動用スイッチ
等も設けられている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の半導体ウエハの蒸気乾燥装置では、火災検出あるいは
作動用スイッチ操作後、消化用のＣＯ2 ガス等の噴出を
２０秒程度遅らせて開始することにより、作業員等の安
全確保、あるいは、作動用スイッチ等を誤操作した場合
の取り消しを行うことができるようになっている。
の半導体ウエハの蒸気乾燥装置では、火災検出あるいは
作動用スイッチ操作後、消化用のＣＯ2 ガス等の噴出を
２０秒程度遅らせて開始することにより、作業員等の安
全確保、あるいは、作動用スイッチ等を誤操作した場合
の取り消しを行うことができるようになっている。
【０００９】しかしながら、このような半導体ウエハの
蒸気乾燥装置においても、さらに、安全性を向上させる
ことが当然要求される。
蒸気乾燥装置においても、さらに、安全性を向上させる
ことが当然要求される。
【００１０】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、従来に較べてさらに安全性を向上させる
ことのできる半導体ウエハの蒸気乾燥装置及びその消火
方法及び洗浄システムを提供しようとするものである。
されたもので、従来に較べてさらに安全性を向上させる
ことのできる半導体ウエハの蒸気乾燥装置及びその消火
方法及び洗浄システムを提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１の半
導体ウエハの蒸気乾燥装置は、内部に所定の有機溶媒を
収容する有機溶媒槽と、前記有機溶媒槽内の有機溶媒を
加熱して蒸気を発生させるための加熱機構と、前記有機
溶媒槽内に半導体ウエハを搬送して該半導体ウエハの乾
燥処理を行う搬送機構と、前記有機溶媒槽と外部とを隔
離するためのシャッター機構と、前記有機溶媒槽内で発
生した火災を検知するためのセンサーと、前記センサー
で火災が検知された場合、前記シャッター機構を閉動作
させ、この後前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給する消
火機構とを具備したことを特徴とする。請求項２の発明
は、請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置におい
て、前記搬送機構は、半導体ウエハの蒸気乾燥工程の前
工程から前記半導体ウエハを把持して前記有機溶媒槽内
に搬送し、前記半導体ウエハを把持した状態で蒸気乾燥
処理を実行するよう構成されていることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１記載の半導体ウエハの蒸気
乾燥装置において、前記センサーで火災が検知された場
合、前記搬送機構を前記有機溶媒槽から退避させ、この
後、前記シャッター機構を閉動作させ、しかる後、前記
有機溶媒槽に消火用ガスを供給するよう構成されたこと
を特徴とする。請求項４の発明は、請求項１記載の半導
体ウエハの蒸気乾燥装置において、前記消火機構が、前
記有機溶媒槽の上方に設けられたノズルから消火用ガス
を供給するよう構成されたことを特徴とする。請求項５
の発明は、請求項４記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置
において、前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、前記
有機溶媒槽を開閉自在に覆うカバーを備え、前記センサ
ーで火災が検知された場合、前記カバーを開放した後、
前記ノズルから消火用ガスを供給するよう構成されたこ
とを特徴とする。請求項６の発明は、請求項１記載の半
導体ウエハの蒸気乾燥装置において、前記センサーで火
災が検知された場合、前記シャッター機構を閉動作させ
た後、前記消火機構により消火用ガスを供給する前に、
消火機構以外の電源を切るよう構成されたことを特徴と
する。請求項７の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火方
法は、内部に所定の有機溶媒を収容する有機溶媒槽と、
前記有機溶媒槽内の有機溶媒を加熱して蒸気を発生させ
るための加熱機構と、前記有機溶媒槽内に半導体ウエハ
を搬送して該半導体ウエハの乾燥処理を行う搬送機構
と、前記有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシャッタ
ー機構と、前記有機溶媒槽内で発生した火災を検知する
ためのセンサーと、前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給
する消火機構とを具備した半導体ウエハの蒸気乾燥装置
の消火方法であって、前記有機溶媒槽内手発生した火災
を前記センサーで検知し、検知信号を発生する工程と、
前記検知信号の発生の後、前記シャッター機構を閉塞さ
せる工程と、前記シャッター機構を閉塞させた後、前記
消火機構を起動して前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給
する工程とを具備したことを特徴とする。請求項８の発
明は、請求項７記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消
火方法において、前記検知信号の発生の後、前記シャッ
ター機構を閉塞させる前に、前記搬送機構を退避させる
工程を具備するとともに、当該工程の後前記シャッター
機構を閉塞させる第１の制御信号を発生し、かつ、前記
検知信号の発生の後第１の時間経過後、前記シャッター
機構を閉塞させる第２の制御信号を発生し、前記第１の
時間より長い第２の時間経過後に、前記消火機構を起動
して前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給することを特徴
とする。請求項９の発明は、請求項８記載の半導体ウエ
ハの蒸気乾燥装置の消火方法において、前記消火機構
が、前記有機溶媒槽の上方に設けられたノズルから消火
用ガスを供給することを特徴とする。請求項１０の発明
は、請求項９記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火
方法において、前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、
前記有機溶媒槽を開閉自在に覆うカバーを備え、前記検
知信号の発生の後、前記カバーを開放させる第１のカバ
ー開放制御信号を発生し、かつ、前記検知信号の発生の
後第１の時間経過後、前記カバーを開放させる第２のカ
バー開放制御信号を発生することを特徴とする。請求項
１１の発明は、請求項８記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置の消火方法において、前記検知信号の発生の後、前
記第１の時間より長く、前記第２の時間より短い第３の
時間経過後に、前記消火機構以外の電源を切ることを特
徴とする。請求項１２の洗浄システムは、洗浄前の半導
体ウエハを複数枚収納するウエハキャリアを受け入れる
受け入れ部と、複数の前記半導体ウエハを洗浄する洗浄
部と、請求項１〜６記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置
が配設され、前記洗浄部によって洗浄された前記半導体
ウエハを乾燥する乾燥部と、洗浄、乾燥後の前記半導体
ウエハが複数枚収納されたウエハキャリアを払い出す払
い出し部とを具備したことを特徴とする。
導体ウエハの蒸気乾燥装置は、内部に所定の有機溶媒を
収容する有機溶媒槽と、前記有機溶媒槽内の有機溶媒を
加熱して蒸気を発生させるための加熱機構と、前記有機
溶媒槽内に半導体ウエハを搬送して該半導体ウエハの乾
燥処理を行う搬送機構と、前記有機溶媒槽と外部とを隔
離するためのシャッター機構と、前記有機溶媒槽内で発
生した火災を検知するためのセンサーと、前記センサー
で火災が検知された場合、前記シャッター機構を閉動作
させ、この後前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給する消
火機構とを具備したことを特徴とする。請求項２の発明
は、請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置におい
て、前記搬送機構は、半導体ウエハの蒸気乾燥工程の前
工程から前記半導体ウエハを把持して前記有機溶媒槽内
に搬送し、前記半導体ウエハを把持した状態で蒸気乾燥
処理を実行するよう構成されていることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１記載の半導体ウエハの蒸気
乾燥装置において、前記センサーで火災が検知された場
合、前記搬送機構を前記有機溶媒槽から退避させ、この
後、前記シャッター機構を閉動作させ、しかる後、前記
有機溶媒槽に消火用ガスを供給するよう構成されたこと
を特徴とする。請求項４の発明は、請求項１記載の半導
体ウエハの蒸気乾燥装置において、前記消火機構が、前
記有機溶媒槽の上方に設けられたノズルから消火用ガス
を供給するよう構成されたことを特徴とする。請求項５
の発明は、請求項４記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置
において、前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、前記
有機溶媒槽を開閉自在に覆うカバーを備え、前記センサ
ーで火災が検知された場合、前記カバーを開放した後、
前記ノズルから消火用ガスを供給するよう構成されたこ
とを特徴とする。請求項６の発明は、請求項１記載の半
導体ウエハの蒸気乾燥装置において、前記センサーで火
災が検知された場合、前記シャッター機構を閉動作させ
た後、前記消火機構により消火用ガスを供給する前に、
消火機構以外の電源を切るよう構成されたことを特徴と
する。請求項７の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火方
法は、内部に所定の有機溶媒を収容する有機溶媒槽と、
前記有機溶媒槽内の有機溶媒を加熱して蒸気を発生させ
るための加熱機構と、前記有機溶媒槽内に半導体ウエハ
を搬送して該半導体ウエハの乾燥処理を行う搬送機構
と、前記有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシャッタ
ー機構と、前記有機溶媒槽内で発生した火災を検知する
ためのセンサーと、前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給
する消火機構とを具備した半導体ウエハの蒸気乾燥装置
の消火方法であって、前記有機溶媒槽内手発生した火災
を前記センサーで検知し、検知信号を発生する工程と、
前記検知信号の発生の後、前記シャッター機構を閉塞さ
せる工程と、前記シャッター機構を閉塞させた後、前記
消火機構を起動して前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給
する工程とを具備したことを特徴とする。請求項８の発
明は、請求項７記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消
火方法において、前記検知信号の発生の後、前記シャッ
ター機構を閉塞させる前に、前記搬送機構を退避させる
工程を具備するとともに、当該工程の後前記シャッター
機構を閉塞させる第１の制御信号を発生し、かつ、前記
検知信号の発生の後第１の時間経過後、前記シャッター
機構を閉塞させる第２の制御信号を発生し、前記第１の
時間より長い第２の時間経過後に、前記消火機構を起動
して前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給することを特徴
とする。請求項９の発明は、請求項８記載の半導体ウエ
ハの蒸気乾燥装置の消火方法において、前記消火機構
が、前記有機溶媒槽の上方に設けられたノズルから消火
用ガスを供給することを特徴とする。請求項１０の発明
は、請求項９記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火
方法において、前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、
前記有機溶媒槽を開閉自在に覆うカバーを備え、前記検
知信号の発生の後、前記カバーを開放させる第１のカバ
ー開放制御信号を発生し、かつ、前記検知信号の発生の
後第１の時間経過後、前記カバーを開放させる第２のカ
バー開放制御信号を発生することを特徴とする。請求項
１１の発明は、請求項８記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置の消火方法において、前記検知信号の発生の後、前
記第１の時間より長く、前記第２の時間より短い第３の
時間経過後に、前記消火機構以外の電源を切ることを特
徴とする。請求項１２の洗浄システムは、洗浄前の半導
体ウエハを複数枚収納するウエハキャリアを受け入れる
受け入れ部と、複数の前記半導体ウエハを洗浄する洗浄
部と、請求項１〜６記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置
が配設され、前記洗浄部によって洗浄された前記半導体
ウエハを乾燥する乾燥部と、洗浄、乾燥後の前記半導体
ウエハが複数枚収納されたウエハキャリアを払い出す払
い出し部とを具備したことを特徴とする。
【００１２】
【作用】前述したように、従来の半導体ウエハの蒸気乾
燥装置では、センサーで火災が検知された場合、直ちに
装置の電源を切ってしまうため、シャッター機構の開閉
等は行うことができず、例えば、シャッター機構が開い
ているような場合、消化用のＣＯ2 ガス等が外部に多量
に流出する虞があったが、本発明の半導体ウエハの蒸気
乾燥装置では、有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシ
ャッター機構を閉じてから有機溶媒槽に消火用ガスを供
給するので、消火を効率良く行うことができるととも
に、消化用のＣＯ2 ガス等の外部への流出を抑制して、
安全性の向上を図ることができる。
燥装置では、センサーで火災が検知された場合、直ちに
装置の電源を切ってしまうため、シャッター機構の開閉
等は行うことができず、例えば、シャッター機構が開い
ているような場合、消化用のＣＯ2 ガス等が外部に多量
に流出する虞があったが、本発明の半導体ウエハの蒸気
乾燥装置では、有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシ
ャッター機構を閉じてから有機溶媒槽に消火用ガスを供
給するので、消火を効率良く行うことができるととも
に、消化用のＣＯ2 ガス等の外部への流出を抑制して、
安全性の向上を図ることができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００１４】図２は、本発明の一実施例の半導体ウエハ
の蒸気乾燥装置が配置された洗浄システムの構成を示す
もので、この洗浄システム１は、システム本体２と、こ
のシステム本体２の両側端部に設けられたインプットバ
ッファ機構３およびアウトプットバッファ機構４から構
成されている。
の蒸気乾燥装置が配置された洗浄システムの構成を示す
もので、この洗浄システム１は、システム本体２と、こ
のシステム本体２の両側端部に設けられたインプットバ
ッファ機構３およびアウトプットバッファ機構４から構
成されている。
【００１５】上記システム本体２の両側端部には、ロー
ダー５とアンローダ６が設けられており、これらの間
に、例えば石英等から構成された処理槽を有する洗浄お
よび乾燥装置７が一列に配置されている。本実施例にお
いては、洗浄および乾燥装置７は9 台（７ａ〜７ｉ）設
けられており、ローダー５側から順に、例えば、ウエハ
チャックの洗浄乾燥装置７ａ、半導体ウエハの薬液用洗
浄装置７ｂ、半導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｃ、半導
体ウエハの水洗用洗浄装置７ｄ、半導体ウエハの薬液用
洗浄装置７ｅ、半導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｆ、半
導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｇ、半導体ウエハの水洗
用洗浄装置７ｈ、半導体ウエハの蒸気乾燥装置７ｉ等と
されている。
ダー５とアンローダ６が設けられており、これらの間
に、例えば石英等から構成された処理槽を有する洗浄お
よび乾燥装置７が一列に配置されている。本実施例にお
いては、洗浄および乾燥装置７は9 台（７ａ〜７ｉ）設
けられており、ローダー５側から順に、例えば、ウエハ
チャックの洗浄乾燥装置７ａ、半導体ウエハの薬液用洗
浄装置７ｂ、半導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｃ、半導
体ウエハの水洗用洗浄装置７ｄ、半導体ウエハの薬液用
洗浄装置７ｅ、半導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｆ、半
導体ウエハの水洗用洗浄装置７ｇ、半導体ウエハの水洗
用洗浄装置７ｈ、半導体ウエハの蒸気乾燥装置７ｉ等と
されている。
【００１６】また、これらの洗浄および乾燥装置７の側
方には、ウエハチャックによって複数例えば50枚の半導
体ウエハを把持し、これらの半導体ウエハを垂直および
水平方向に搬送する搬送機構８が設けられている。本実
施例では、この搬送機構８は3 台（８ａ〜８ｃ）設けら
れており、その搬送範囲を制限することによって、例え
ば、半導体ウエハの薬液用洗浄装置７ｂの薬液が、半導
体ウエハの薬液用洗浄装置７ｅ内に混入しないように配
慮されている。
方には、ウエハチャックによって複数例えば50枚の半導
体ウエハを把持し、これらの半導体ウエハを垂直および
水平方向に搬送する搬送機構８が設けられている。本実
施例では、この搬送機構８は3 台（８ａ〜８ｃ）設けら
れており、その搬送範囲を制限することによって、例え
ば、半導体ウエハの薬液用洗浄装置７ｂの薬液が、半導
体ウエハの薬液用洗浄装置７ｅ内に混入しないように配
慮されている。
【００１７】また、ローダー５の上部から、各搬送機構
８ａ〜８ｃの上部を通って、アンローダ６の上部に至る
ように、空のウエハキャリア９を搬送するためのキャリ
ア搬送機構１０が設けられており、ローダー５およびア
ンローダ６には、空のウエハキャリア９を上昇および下
降させるためのキャリアリフター１１（アンローダ６側
は図示せず）が設けられている。
８ａ〜８ｃの上部を通って、アンローダ６の上部に至る
ように、空のウエハキャリア９を搬送するためのキャリ
ア搬送機構１０が設けられており、ローダー５およびア
ンローダ６には、空のウエハキャリア９を上昇および下
降させるためのキャリアリフター１１（アンローダ６側
は図示せず）が設けられている。
【００１８】インプットバッファ機構３およびアウトプ
ットバッファ機構４は、洗浄工程の前工程および後工程
に対するバッファ機構であり、これらのインプットバッ
ファ機構３およびアウトプットバッファ機構４には、そ
れぞれウエハキャリア９を搬送するためのキャリア搬送
アーム１２と、ウエハキャリア９を一時収容するための
キャリア収容機構１３と、装置外部とのウエハキャリア
９の受け渡しを行うためのキャリア載置部１４とが設け
られている。
ットバッファ機構４は、洗浄工程の前工程および後工程
に対するバッファ機構であり、これらのインプットバッ
ファ機構３およびアウトプットバッファ機構４には、そ
れぞれウエハキャリア９を搬送するためのキャリア搬送
アーム１２と、ウエハキャリア９を一時収容するための
キャリア収容機構１３と、装置外部とのウエハキャリア
９の受け渡しを行うためのキャリア載置部１４とが設け
られている。
【００１９】図１および図３は、上記半導体ウエハの蒸
気乾燥装置７ｉの構成を示すものである。装置の外側を
囲むように設けられた筐体２０内には、材質例えば石英
から構成された有機溶媒槽２１が設けられている。この
有機溶媒槽２１の下部には、有機溶媒槽２１の底部に収
容されたＩＰＡを加熱して蒸気を発生させるためのヒー
タ２２が設けられており、有機溶媒槽２１内の上部に
は、内部に冷却水等を循環させて冷却するための冷却蛇
管２３が設けられている。
気乾燥装置７ｉの構成を示すものである。装置の外側を
囲むように設けられた筐体２０内には、材質例えば石英
から構成された有機溶媒槽２１が設けられている。この
有機溶媒槽２１の下部には、有機溶媒槽２１の底部に収
容されたＩＰＡを加熱して蒸気を発生させるためのヒー
タ２２が設けられており、有機溶媒槽２１内の上部に
は、内部に冷却水等を循環させて冷却するための冷却蛇
管２３が設けられている。
【００２０】有機溶媒槽２１の前方には、搬送機構８ｃ
が配置されており、ウエハチャックによって、５０枚の
半導体ウエハを把持し、有機溶媒槽２１の上部から半導
体ウエハを有機溶媒槽２１内に配置して、乾燥処理を行
うよう構成されている。本実施例では、このように搬送
機構８ｃにより半導体ウエハを把持したまま乾燥処理を
行うので、例えば、有機溶媒槽２１内に乾燥処理用の別
のウエハ支持機構を有する場合に較べて、半導体ウエハ
の受け渡し動作によるダストの発生を抑制することがで
きるとともに、ウエハチャックの洗浄乾燥用の機構を設
ける必要がなく、省資源化（装置コストの低減、装置の
小形化等）を図ることができる。つまり、ウエハチャッ
クから半導体ウエハを有機溶媒槽２１内のウエハ支持機
構に受け渡して乾燥処理を行うと、ウエハチャック自身
は濡れた状態のままであるため、半導体ウエハの乾燥中
に、別途に設けたウエハチャック用の洗浄、乾燥機構に
よってウエハチャックを洗浄、乾燥し、この洗浄、乾燥
したウエハチャックで、乾燥処理の終了した半導体ウエ
ハを、取り出すことになる。
が配置されており、ウエハチャックによって、５０枚の
半導体ウエハを把持し、有機溶媒槽２１の上部から半導
体ウエハを有機溶媒槽２１内に配置して、乾燥処理を行
うよう構成されている。本実施例では、このように搬送
機構８ｃにより半導体ウエハを把持したまま乾燥処理を
行うので、例えば、有機溶媒槽２１内に乾燥処理用の別
のウエハ支持機構を有する場合に較べて、半導体ウエハ
の受け渡し動作によるダストの発生を抑制することがで
きるとともに、ウエハチャックの洗浄乾燥用の機構を設
ける必要がなく、省資源化（装置コストの低減、装置の
小形化等）を図ることができる。つまり、ウエハチャッ
クから半導体ウエハを有機溶媒槽２１内のウエハ支持機
構に受け渡して乾燥処理を行うと、ウエハチャック自身
は濡れた状態のままであるため、半導体ウエハの乾燥中
に、別途に設けたウエハチャック用の洗浄、乾燥機構に
よってウエハチャックを洗浄、乾燥し、この洗浄、乾燥
したウエハチャックで、乾燥処理の終了した半導体ウエ
ハを、取り出すことになる。
【００２１】また、図３に示すように、有機溶媒槽２１
の上方には、両サイドおよび前面を開閉自在に覆うサイ
ドシャッター２４、２５および前面シャッター２６が設
けられている。これらのサイドシャッター２４、２５お
よび前面シャッター２６は、それぞれ別の駆動モータを
備えており、独立に開閉することができるよう構成され
ている。なお、サイドシャッター２４、２５は横方向に
スライドし、前面シャッター２６は上下に昇降するよう
構成されている。これらのサイドシャッター２４、２５
および前面シャッター２６は、有機溶媒槽２１と外部と
を隔離するためのものであり、半導体ウエハの乾燥処理
を実施していない期間は、これらのサイドシャッター２
４、２５および前面シャッター２６を閉じ、ＩＰＡ蒸気
の外部への漏洩を防止するよう構成されている。また、
筐体２０の上部には、筐体２０内に清浄化した空気のダ
ウンフローを形成するためのフィルタ・ファンユニット
２７が設けられている。
の上方には、両サイドおよび前面を開閉自在に覆うサイ
ドシャッター２４、２５および前面シャッター２６が設
けられている。これらのサイドシャッター２４、２５お
よび前面シャッター２６は、それぞれ別の駆動モータを
備えており、独立に開閉することができるよう構成され
ている。なお、サイドシャッター２４、２５は横方向に
スライドし、前面シャッター２６は上下に昇降するよう
構成されている。これらのサイドシャッター２４、２５
および前面シャッター２６は、有機溶媒槽２１と外部と
を隔離するためのものであり、半導体ウエハの乾燥処理
を実施していない期間は、これらのサイドシャッター２
４、２５および前面シャッター２６を閉じ、ＩＰＡ蒸気
の外部への漏洩を防止するよう構成されている。また、
筐体２０の上部には、筐体２０内に清浄化した空気のダ
ウンフローを形成するためのフィルタ・ファンユニット
２７が設けられている。
【００２２】さらに、図４に示すように、有機溶媒槽２
１には、紫外線により炎の発生を検知する炎センサー３
０と、温度センサー３１が設けられており、有機溶媒槽
２１の上部には、有機溶媒槽２１の上面を開閉自在に覆
うオートカバー３２が設けられている。また、オートカ
バー３２の上方には、消火用のＣＯ2 を放出するための
ノズル３３が設けられている。
１には、紫外線により炎の発生を検知する炎センサー３
０と、温度センサー３１が設けられており、有機溶媒槽
２１の上部には、有機溶媒槽２１の上面を開閉自在に覆
うオートカバー３２が設けられている。また、オートカ
バー３２の上方には、消火用のＣＯ2 を放出するための
ノズル３３が設けられている。
【００２３】上記炎センサー３０および温度センサー３
１の検知信号は、ＣＰＵ等から構成された制御ユニット
３４に入力されるよう構成されている。また、ノズル３
３は、ＣＯ2 ボンベ３５に接続されている。そして、制
御ユニット３４は、炎センサー３０および温度センサー
３１の検知信号に基づいて、所定時間（本実施例では２
０秒）後、炭酸ガス起動容器３６に設けられた炭酸ガス
起動容器用起動装置３７を作動させてＣＯ2 ボンベ３５
に設けられた容器弁開放器３８を解放させ、ノズル３３
からＣＯ2 を放出させるよう構成されている。また、Ｃ
Ｏ2 の放出は、圧力スイッチ３９によって検出される。
なお、図４において、４０はスイッチパネルであり、４
１は電源ユニットである。
１の検知信号は、ＣＰＵ等から構成された制御ユニット
３４に入力されるよう構成されている。また、ノズル３
３は、ＣＯ2 ボンベ３５に接続されている。そして、制
御ユニット３４は、炎センサー３０および温度センサー
３１の検知信号に基づいて、所定時間（本実施例では２
０秒）後、炭酸ガス起動容器３６に設けられた炭酸ガス
起動容器用起動装置３７を作動させてＣＯ2 ボンベ３５
に設けられた容器弁開放器３８を解放させ、ノズル３３
からＣＯ2 を放出させるよう構成されている。また、Ｃ
Ｏ2 の放出は、圧力スイッチ３９によって検出される。
なお、図４において、４０はスイッチパネルであり、４
１は電源ユニットである。
【００２４】次に、図５を参照して火災が発生した場合
の上記制御ユニット３４による制御について説明する。
の上記制御ユニット３４による制御について説明する。
【００２５】炎センサー３０および温度センサー３１に
よって火災が検知されると（１０１）、制御ユニット３
４は、直ちにフィルタ・ファンユニット２７を停止させ
てダウンフローの供給を停止するとともに（１０２）、
通常の制御系（ソフトウェア）を用いて、搬送機構８ｃ
のウエハチャックを有機溶媒槽２１内から退避させ、サ
イドシャッター２４、２５および前面シャッター２６を
閉じ、オートカバー３２を開ける（１０３）。
よって火災が検知されると（１０１）、制御ユニット３
４は、直ちにフィルタ・ファンユニット２７を停止させ
てダウンフローの供給を停止するとともに（１０２）、
通常の制御系（ソフトウェア）を用いて、搬送機構８ｃ
のウエハチャックを有機溶媒槽２１内から退避させ、サ
イドシャッター２４、２５および前面シャッター２６を
閉じ、オートカバー３２を開ける（１０３）。
【００２６】上記ウエハチャックの退避、各シャッター
の開閉は、通常１０秒以内に終了するが、火災検知から
１０秒経過した後、制御ユニット３４は、通常の制御系
とは別系統で、サイドシャッター２４、２５および前面
シャッター２６の駆動モータを強制的に駆動してこれら
を閉じる動作を行わせ、オートカバー３２を開閉するソ
レノイドを強制的に駆動してオートカバー３２を開ける
動作を行わせる（１０４）。これは、ソフトウェアによ
る通常の制御系が不作動であった場合の保護のための動
作である。
の開閉は、通常１０秒以内に終了するが、火災検知から
１０秒経過した後、制御ユニット３４は、通常の制御系
とは別系統で、サイドシャッター２４、２５および前面
シャッター２６の駆動モータを強制的に駆動してこれら
を閉じる動作を行わせ、オートカバー３２を開閉するソ
レノイドを強制的に駆動してオートカバー３２を開ける
動作を行わせる（１０４）。これは、ソフトウェアによ
る通常の制御系が不作動であった場合の保護のための動
作である。
【００２７】この後、制御ユニット３４は、火災検知か
ら１８秒経過後に電源を切り（１０５）、火災検知から
２０秒経過後にノズル３３からのＣＯ2 の放出を開始す
る（１０６）。
ら１８秒経過後に電源を切り（１０５）、火災検知から
２０秒経過後にノズル３３からのＣＯ2 の放出を開始す
る（１０６）。
【００２８】このように、本実施例では、火災が発生し
た場合に、サイドシャッター２４、２５および前面シャ
ッター２６を閉じ、有機溶媒槽２１と外部とを隔離した
状態で、オートカバー３２を開け、ＣＯ2 を供給するの
で、消火を効率良く行うことができるとともに、消化用
のＣＯ2 ガス等の外部への流出を抑制して、安全性の向
上を図ることができる。また、サイドシャッター２４、
２５および前面シャッター２６の閉動作と、オートカバ
ー３２の開動作は、まずソフトウェアによる通常の制御
系を用いて実行した後、再度、モータおよびソレノイド
を強制駆動することにより、ハードウェア的に実行する
ので、確実にこれらの開閉を行うことができる。
た場合に、サイドシャッター２４、２５および前面シャ
ッター２６を閉じ、有機溶媒槽２１と外部とを隔離した
状態で、オートカバー３２を開け、ＣＯ2 を供給するの
で、消火を効率良く行うことができるとともに、消化用
のＣＯ2 ガス等の外部への流出を抑制して、安全性の向
上を図ることができる。また、サイドシャッター２４、
２５および前面シャッター２６の閉動作と、オートカバ
ー３２の開動作は、まずソフトウェアによる通常の制御
系を用いて実行した後、再度、モータおよびソレノイド
を強制駆動することにより、ハードウェア的に実行する
ので、確実にこれらの開閉を行うことができる。
【００２９】なお、この実施例では、ノズル３３をオー
トカバー３２の上方に設けたので、オートカバー３２を
開けてからＣＯ2 を供給するよう構成されているが、ノ
ズル３３をオートカバー３２の下方等、有機溶媒槽２１
内に直接ＣＯ2 を供給できる位置に設ければ、オートカ
バー３２を閉めた状態でＣＯ2 を供給することができ
る。
トカバー３２の上方に設けたので、オートカバー３２を
開けてからＣＯ2 を供給するよう構成されているが、ノ
ズル３３をオートカバー３２の下方等、有機溶媒槽２１
内に直接ＣＯ2 を供給できる位置に設ければ、オートカ
バー３２を閉めた状態でＣＯ2 を供給することができ
る。
【００３０】次に、洗浄システム１の全体の動作につい
て説明する。
て説明する。
【００３１】通常ウエハキャリア９は、２５枚の半導体
ウエハを収容可能に構成されているが、本実施例の洗浄
装置１では、各搬送機構８が一度に５０枚（ウエハキャ
リア２個分）の半導体ウエハを搬送し、次のようにして
洗浄処理を実施する。
ウエハを収容可能に構成されているが、本実施例の洗浄
装置１では、各搬送機構８が一度に５０枚（ウエハキャ
リア２個分）の半導体ウエハを搬送し、次のようにして
洗浄処理を実施する。
【００３２】すなわち、洗浄処理を行う半導体ウエハを
収容した１または２個のウエハキャリア９を、インプッ
トバッファ機構３のキャリア載置部１４に載置すると、
インプットバッファ機構３では、これらのウエハキャリ
ア９内の半導体ウエハを、直ぐに洗浄処理する場合はロ
ーダー５に、他の半導体ウエハの洗浄処理等のために直
ぐに洗浄処理できない場合は一旦キャリア収容機構１３
に、ウエハキャリア９を搬送する。
収容した１または２個のウエハキャリア９を、インプッ
トバッファ機構３のキャリア載置部１４に載置すると、
インプットバッファ機構３では、これらのウエハキャリ
ア９内の半導体ウエハを、直ぐに洗浄処理する場合はロ
ーダー５に、他の半導体ウエハの洗浄処理等のために直
ぐに洗浄処理できない場合は一旦キャリア収容機構１３
に、ウエハキャリア９を搬送する。
【００３３】次に、一旦ウエハキャリア９をキャリア収
容機構１３内に収容した場合は、キャリア搬送アーム１
２によって、ここからウエハキャリア９をローダー５に
搬送する。
容機構１３内に収容した場合は、キャリア搬送アーム１
２によって、ここからウエハキャリア９をローダー５に
搬送する。
【００３４】そして、ローダー５では、載置されたウエ
ハキャリア９内の半導体ウエハを整列させ、この後、こ
れらの半導体ウエハを下方から突き上げて、搬送機構８
ａに受け渡す。
ハキャリア９内の半導体ウエハを整列させ、この後、こ
れらの半導体ウエハを下方から突き上げて、搬送機構８
ａに受け渡す。
【００３５】この後、３台の搬送機構８ａ〜８ｃによっ
て、これらの半導体ウエハを順次各洗浄および乾燥装置
７に搬送し、例えば、薬液処理−水洗処理−水洗処理−
薬液処理−水洗処理−水洗処理−水洗処理−乾燥処理の
手順で洗浄処理を実施する。この間に、ローダー５に残
されたウエハキャリア９は、キャリアリフター１１によ
って持ち上げられ、キャリア搬送機構１０によって搬送
される。そして、アンローダー６において、ウエハキャ
リア９内に、洗浄処理の終了した半導体ウエハが収容さ
れる。
て、これらの半導体ウエハを順次各洗浄および乾燥装置
７に搬送し、例えば、薬液処理−水洗処理−水洗処理−
薬液処理−水洗処理−水洗処理−水洗処理−乾燥処理の
手順で洗浄処理を実施する。この間に、ローダー５に残
されたウエハキャリア９は、キャリアリフター１１によ
って持ち上げられ、キャリア搬送機構１０によって搬送
される。そして、アンローダー６において、ウエハキャ
リア９内に、洗浄処理の終了した半導体ウエハが収容さ
れる。
【００３６】この後、アウトプットバッファ機構４で
は、洗浄処理済の半導体ウエハを収容したウエハキャリ
ア９を、キャリア搬送アーム１２によって、キャリア載
置部１４あるいはキャリア収容機構１３に搬送し、順次
後工程に送る。
は、洗浄処理済の半導体ウエハを収容したウエハキャリ
ア９を、キャリア搬送アーム１２によって、キャリア載
置部１４あるいはキャリア収容機構１３に搬送し、順次
後工程に送る。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体ウ
エハの蒸気乾燥装置及びその消火方法及び洗浄システム
によれば、従来に較べてさらに安全性を向上させること
ができる。
エハの蒸気乾燥装置及びその消火方法及び洗浄システム
によれば、従来に較べてさらに安全性を向上させること
ができる。
【図１】本発明の一実施例の半導体ウエハの蒸気乾燥装
置の構成を示す図。
置の構成を示す図。
【図２】半導体ウエハの蒸気乾燥装置が配置された洗浄
システムの構成を示す図。
システムの構成を示す図。
【図３】図１の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の外観構成
を示す図。
を示す図。
【図４】図１の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の要部構成
を示す図。
を示す図。
【図５】図１の半導体ウエハの蒸気乾燥装置の動作を説
明するための図。
明するための図。
８ｃ 搬送機構 ２０ 筐体 ２１ 有機溶媒槽 ２２ ヒータ ２３ 冷却蛇管 ２４，２５ サイドシャッター ２６ 前面シャッター ２７ フィルタ・ファンユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田島 智早 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エ レクトロン佐賀株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304 F26B 25/00
Claims (12)
- 【請求項１】 内部に所定の有機溶媒を収容する有機溶
媒槽と、 前記有機溶媒槽内の有機溶媒を加熱して蒸気を発生させ
るための加熱機構と、 前記有機溶媒槽内に半導体ウエハを搬送して該半導体ウ
エハの乾燥処理を行う搬送機構と、 前記有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシャッター機
構と、 前記有機溶媒槽内で発生した火災を検知するためのセン
サーと、 前記センサーで火災が検知された場合、前記シャッター
機構を閉動作させ、この後前記有機溶媒槽に消火用ガス
を供給する消火機構とを具備したことを特徴とする半導
体ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置において、 前記搬送機構は、半導体ウエハの蒸気乾燥工程の前工程
から前記半導体ウエハを把持して前記有機溶媒槽内に搬
送し、前記半導体ウエハを把持した状態で蒸気乾燥処理
を実行するよう構成されていることを特徴とする半導体
ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置において、 前記センサーで火災が検知された場合、前記搬送機構を
前記有機溶媒槽から退避させ、この後、前記シャッター
機構を閉動作させ、しかる後、前記有機溶媒槽に消火用
ガスを供給するよう構成されたことを特徴とする半導体
ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項４】 請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置において、 前記消火機構が、前記有機溶媒槽の上方に設けられたノ
ズルから消火用ガスを供給するよう構成されたことを特
徴とする半導体ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置において、 前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、前記有機溶媒槽
を開閉自在に覆うカバーを備え、前記センサーで火災が
検知された場合、前記カバーを開放した後、前記ノズル
から消火用ガスを供給するよう構成されたことを特徴と
する半導体ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項６】 請求項１記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置において、 前記センサーで火災が検知された場合、前記シャッター
機構を閉動作させた後、前記消火機構により消火用ガス
を供給する前に、消火機構以外の電源を切るよう構成さ
れたことを特徴とする半導体ウエハの蒸気乾燥装置。 - 【請求項７】 内部に所定の有機溶媒を収容する有機溶
媒槽と、 前記有機溶媒槽内の有機溶媒を加熱して蒸気を発生させ
るための加熱機構と、 前記有機溶媒槽内に半導体ウエハを搬送して該半導体ウ
エハの乾燥処理を行う搬送機構と、 前記有機溶媒槽と外部とを隔離するためのシャッター機
構と、 前記有機溶媒槽内で発生した火災を検知するためのセン
サーと、 前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給する消火機構とを具
備した半導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火方法であっ
て、 前記有機溶媒槽内手発生した火災を前記センサーで検知
し、検知信号を発生する工程と、 前記検知信号の発生の後、前記シャッター機構を閉塞さ
せる工程と、 前記シャッター機構を閉塞させた後、前記消火機構を起
動して前記有機溶媒槽に消火用ガスを供給する工程と を
具備したことを特徴とする半導体ウエハの蒸気乾燥装置
の消火方法。 - 【請求項８】 請求項７記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置の消火方法において、 前記検知信号の発生の後、前記シャッター機構を閉塞さ
せる前に、前記搬送機構を退避させる工程を具備すると
ともに、当該工程の後前記シャッター機構を閉塞させる
第１の制御信号を発生し、かつ、前記検知信号の発生の
後第１の時間経過後、前記シャッター機構を閉塞させる
第２の制御信号を発生し、前記第１の時間より長い第２
の時間経過後に、前記消火機構を起動して前記有機溶媒
槽に消火用ガスを供給することを特徴とする半導体ウエ
ハの蒸気乾燥装置の消火方法。 - 【請求項９】 請求項８記載の半導体ウエハの蒸気乾燥
装置の消火方法において、 前記消火機構が、前記有機溶媒槽の上方に設けられたノ
ズルから消火用ガスを供給することを特徴とする半導体
ウエハの蒸気乾燥装置の消火方法。 - 【請求項１０】 請求項９記載の半導体ウエハの蒸気乾
燥装置の消火方法において、 前記ノズルと前記有機溶媒槽との間に、前記有機溶媒槽
を開閉自在に覆うカバーを備え、 前記検知信号の発生の後、前記カバーを開放させる第１
のカバー開放制御信号を発生し、かつ、前記検知信号の
発生の後第１の時間経過後、前記カバーを開放させる第
２のカバー開放制御信号を発生することを特徴とする半
導体ウエハの蒸気乾燥装置の消火方法。 - 【請求項１１】 請求項８記載の半導体ウエハの蒸気乾
燥装置の消火方法において、 前記検知信号の発生の後、前記第１の時間より長く、前
記第２の時間より短い第３の時間経過後に、前記消火機
構以外の電源を切ることを特徴とする半導体ウエハの蒸
気乾燥装置の消火方法。 - 【請求項１２】 洗浄前の半導体ウエハを複数枚収納す
るウエハキャリアを受け入れる受け入れ部と、 複数の前記半導体ウエハを洗浄する洗浄部と、 請求項１〜６記載の半導体ウエハの蒸気乾燥装置が配設
され、前記洗浄部によって洗浄された前記半導体ウエハ
を乾燥する乾燥部と、 洗浄、乾燥後の前記半導体ウエハが複数枚収納されたウ
エハキャリアを払い出す払い出し部と を具備したことを
特徴とする洗浄システム。
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