JPS61237429A - 蒸気乾燥洗浄装置 - Google Patents
蒸気乾燥洗浄装置Info
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- JPS61237429A JPS61237429A JP7839785A JP7839785A JPS61237429A JP S61237429 A JPS61237429 A JP S61237429A JP 7839785 A JP7839785 A JP 7839785A JP 7839785 A JP7839785 A JP 7839785A JP S61237429 A JPS61237429 A JP S61237429A
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- container
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D12/00—Displacing liquid, e.g. from wet solids or from dispersions of liquids or from solids in liquids, by means of another liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/14—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects using gases or vapours other than air or steam, e.g. inert gases
- F26B21/145—Condensing the vapour onto the surface of the materials to be dried
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は，蒸気乾燥洗浄装置に関するものであＣ）％特
に、センサの異常時またはセンサが停止状態となる停電
時に、該装置の火災および爆発の危険性を回避すること
ができる蒸気乾燥洗浄装置に関するものである。
に、センサの異常時またはセンサが停止状態となる停電
時に、該装置の火災および爆発の危険性を回避すること
ができる蒸気乾燥洗浄装置に関するものである。
（従来の技術）
従来から、例えばシリコン等の半導体ウェーハの製造工
程では、核ウェーハを化学処理した後の洗浄工程が必ず
必要であった。そして、この洗浄工程では、ウェーハは
、キャリアに保持されて該キャリアを移動する可動ハン
ガにより、キャリアと共に、まず、イオンを除去した水
（以下ＤＩウォータという）の中に浸漬され、洗浄され
る。その後、ウェーハは、蒸気乾燥洗浄装置の中へ前記
可動ハンガによってキャリアと共に運ばれる。
程では、核ウェーハを化学処理した後の洗浄工程が必ず
必要であった。そして、この洗浄工程では、ウェーハは
、キャリアに保持されて該キャリアを移動する可動ハン
ガにより、キャリアと共に、まず、イオンを除去した水
（以下ＤＩウォータという）の中に浸漬され、洗浄され
る。その後、ウェーハは、蒸気乾燥洗浄装置の中へ前記
可動ハンガによってキャリアと共に運ばれる。
蒸気乾燥洗浄装置では、石英容器の中へ予定量入れられ
た例えばイングロビルアルコール（以下ＩＰＡという）
が、下からのヒータの熱によって温められて、該容器中
で気化している。なお、このＩＰＡは、発火点が３１０
℃、沸点が ８λ７℃引火点が２１℃の液体である。
た例えばイングロビルアルコール（以下ＩＰＡという）
が、下からのヒータの熱によって温められて、該容器中
で気化している。なお、このＩＰＡは、発火点が３１０
℃、沸点が ８λ７℃引火点が２１℃の液体である。
このＩＰＡの蒸気中に、前記ウェーハが運ばれてくると
、前記ＤＩウォータの洗浄により、ウェーハの表面に付
着した水分は、前記ＩＰＡの蒸気の作用によって結露す
る。その後、該結露した水滴は、ウェーハ表面から剥離
して落下する。この為に、前記ＤＩウォータの洗浄’ｒ
Ｊニー）で付着した微小な異物等はきれいに洗い流され
ると共に、ウェーハ表面は、乾燥状態となる。
、前記ＤＩウォータの洗浄により、ウェーハの表面に付
着した水分は、前記ＩＰＡの蒸気の作用によって結露す
る。その後、該結露した水滴は、ウェーハ表面から剥離
して落下する。この為に、前記ＤＩウォータの洗浄’ｒ
Ｊニー）で付着した微小な異物等はきれいに洗い流され
ると共に、ウェーハ表面は、乾燥状態となる。
前記ＩＰＡを加熱する為のヒータは、例えばアルミボッ
クスによって完全に密閉状態とされている。これは、該
ヒータが露出することによって発生する危険がある、Ｉ
ＰＡおよびその蒸気への引火を防止する為である。
クスによって完全に密閉状態とされている。これは、該
ヒータが露出することによって発生する危険がある、Ｉ
ＰＡおよびその蒸気への引火を防止する為である。
また、前記石英容器の上方には、前記ウェーハを保持し
たキャリアが人出可能な空間を残して蛇管が配設されて
いる。これは、気化したＩＰＡが、蛇管内を流れる冷却
水１こよって冷され、液化して、再び石英容器の中へ還
元されるようにする為である。
たキャリアが人出可能な空間を残して蛇管が配設されて
いる。これは、気化したＩＰＡが、蛇管内を流れる冷却
水１こよって冷され、液化して、再び石英容器の中へ還
元されるようにする為である。
なお、ヒータを内蔵した前記アルミボックス。
およびＩＰＡが入れられ、蛇管が配設された石英容器の
全体は、ステンレスの容器の中に収納されている。
全体は、ステンレスの容器の中に収納されている。
以上のような蒸気乾燥洗浄装置は、前記したように、蛇
管内を流れる冷却水によって、通常は、気化されたＩＰ
Ａが石英容器の中へ還元される。
管内を流れる冷却水によって、通常は、気化されたＩＰ
Ａが石英容器の中へ還元される。
この為に、石英容器外部におけるＩＰＡの蒸気は予定の
＃度以上となることはない。すなわち、ＩＰＡの蒸気の
濃（は、爆発下限界（以下、 ＬＥＬという〕よりもさ
らに低く１例えばＬ Ｅ ’Ｌの５０チ以下に抑えられ
ている。この為に、蒸気乾燥洗浄装置が火災を起こした
り、あるいは爆発するという危険性はないといえる。
＃度以上となることはない。すなわち、ＩＰＡの蒸気の
濃（は、爆発下限界（以下、 ＬＥＬという〕よりもさ
らに低く１例えばＬ Ｅ ’Ｌの５０チ以下に抑えられ
ている。この為に、蒸気乾燥洗浄装置が火災を起こした
り、あるいは爆発するという危険性はないといえる。
しかしながら、火災あるいは爆発の危険性あるＩＰＡ等
を用いろ蒸気乾燥洗浄装置では、何らかの原因によって
、ＩＰＡの蒸気のａｌが前記ＬｇＬの５０％以上となり
、危険な状態１ｃなることも考えられる。
を用いろ蒸気乾燥洗浄装置では、何らかの原因によって
、ＩＰＡの蒸気のａｌが前記ＬｇＬの５０％以上となり
、危険な状態１ｃなることも考えられる。
そこで、従来から、このような場合には、該危険な状態
をセンサで検知し、これに応じて開状態し一一丁円ｍ１
ＪＪ −Ｉ Ｊ＋ｒ−ａ−ヱ俵９１４ア 藁繍鎗晶鵡浄
装置内に炭酸ガスを拡散することによって・発火および
爆発の危険を防止するよう（こしていた。
をセンサで検知し、これに応じて開状態し一一丁円ｍ１
ＪＪ −Ｉ Ｊ＋ｒ−ａ−ヱ俵９１４ア 藁繍鎗晶鵡浄
装置内に炭酸ガスを拡散することによって・発火および
爆発の危険を防止するよう（こしていた。
（発明が解決しようとする問題点）
前記蒸気乾燥洗浄装置では、センサの異常時または落雷
等による停電発生時には、前記センサが正常に働かない
為に、炭酸ガスの拡散は行なわれない。
等による停電発生時には、前記センサが正常に働かない
為に、炭酸ガスの拡散は行なわれない。
特に停電時には、蛇管内を流れる冷却水は止まる。なお
、この時には、ヒータへの通電も止まる。
、この時には、ヒータへの通電も止まる。
しかしながら、ヒータへの通電が停止されても、該ヒー
タの熱容量が大きい場合には、アルミボックスの余熱は
依然高く保持されている為に、ＩＰＡは加熱され続け、
したがってＩＰＡは依然として蒸発し続ける。なお、こ
の停電時艮は、前記したように・蛇管内の冷却水は止ま
っているので、該冷却水はＩＰＡの蒸気により温められ
る為にＩＰＡの還元は徐々になされなくなる。
タの熱容量が大きい場合には、アルミボックスの余熱は
依然高く保持されている為に、ＩＰＡは加熱され続け、
したがってＩＰＡは依然として蒸発し続ける。なお、こ
の停電時艮は、前記したように・蛇管内の冷却水は止ま
っているので、該冷却水はＩＰＡの蒸気により温められ
る為にＩＰＡの還元は徐々になされなくなる。
本発明者の実験結果によれば、停電から約１４０秒後に
ＩＰＡの蒸気は石英容器の外部に異常に流出する状態と
なった。
ＩＰＡの蒸気は石英容器の外部に異常に流出する状態と
なった。
すなわち、従来の蒸気乾燥洗浄装置では、センサの異常
時、または落雷等による停電時に、ＩＰＡの蒸気が該装
置内に異常に充満する為に１発火・爆発の危険性があっ
ても、これに対する十分な安全装置が設けられていない
という欠点があった。
時、または落雷等による停電時に、ＩＰＡの蒸気が該装
置内に異常に充満する為に１発火・爆発の危険性があっ
ても、これに対する十分な安全装置が設けられていない
という欠点があった。
（問題点を解決するための手段および作用）前記の問題
点を解決する為に１本発明は、センサの異常時または落
雷などにより停電状態となった時に、ヒータを内蔵する
ボックス、およびＩＰＡ等が入っている容器の中の、少
なくともいずれか一方に・水を注ぐことにより、ＩＰＡ
の温度を急速に低下させ、その結果、ＩＰＡの気化を阻
止できる構成とした点に特徴がある。
点を解決する為に１本発明は、センサの異常時または落
雷などにより停電状態となった時に、ヒータを内蔵する
ボックス、およびＩＰＡ等が入っている容器の中の、少
なくともいずれか一方に・水を注ぐことにより、ＩＰＡ
の温度を急速に低下させ、その結果、ＩＰＡの気化を阻
止できる構成とした点に特徴がある。
（実 施例）
以下に、図面を参照して、本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の構成を示す一部断面図である。
同図に詔いて、アルミボックス１の中には、ヒータが密
閉状態で内蔵されている。該アルミボックス１の上には
ＩＰＡ２を入れた石英容器３が置かれている。なお、こ
の石英容器３の上方には、図面を簡略化する為に図示し
ないが、ＩＰＡ２の蒸気を冷却して還元する為の蛇管が
配設されている。前記アルミボックスｌおよび石英容器
３等は。
閉状態で内蔵されている。該アルミボックス１の上には
ＩＰＡ２を入れた石英容器３が置かれている。なお、こ
の石英容器３の上方には、図面を簡略化する為に図示し
ないが、ＩＰＡ２の蒸気を冷却して還元する為の蛇管が
配設されている。前記アルミボックスｌおよび石英容器
３等は。
ステンレス容器４に収納されている。また・ウェーハ５
はキャリア６によって保持されており、該キャリア６は
自在に移動可能な可動ハンガ７ Ｋよって予定位置に支
持されている。
はキャリア６によって保持されており、該キャリア６は
自在に移動可能な可動ハンガ７ Ｋよって予定位置に支
持されている。
さらに、本実施例では支持台８の上に水を貯留したタン
ク９が置かれている。このタンク９にはコック１１を有
する放水管１０が取付けられている。この結果、コック
１１を手動で操作することによって、本実施例では、ア
ルミボックス１および石英容器３の内部に放水できるよ
うに構成されている。
ク９が置かれている。このタンク９にはコック１１を有
する放水管１０が取付けられている。この結果、コック
１１を手動で操作することによって、本実施例では、ア
ルミボックス１および石英容器３の内部に放水できるよ
うに構成されている。
なお、受は皿２０は噂蒸気乾燥洗浄時にウェーハ５等か
ら落下する凝固した異物を回収するためのものである。
ら落下する凝固した異物を回収するためのものである。
ここで、本実施例の動作について説明する。
アルミボックスｌ内のヒータに通電すると・アルミボッ
クス１が加熱される為にＩＰＡ２は気化状態となる。な
お、この気化によるＩＰＡ２の蒸気は、前記した蛇管の
冷却・還元作用により・石英容器３の外部１こはあまり
流れ出ないようにされている。
クス１が加熱される為にＩＰＡ２は気化状態となる。な
お、この気化によるＩＰＡ２の蒸気は、前記した蛇管の
冷却・還元作用により・石英容器３の外部１こはあまり
流れ出ないようにされている。
このＩ ＰＡ２の蒸気中に、前記したＤＩウォータで予
め洗浄されたウェーハ５か可動ハンガ７によって運ばれ
てくると、該ウェーハ５は乾燥洗浄されることになる− ところで、このような乾燥洗浄時に、例えば落雷等によ
り停電事故が発生すると、前述したように、蛇管を流れ
る冷却水は停止する。一方、ＩＰＡ２は１アルミボツク
スｌからの余熱により温められている状態にある。この
結果、石英容器３の外部、すなわち、蒸気乾燥洗浄装置
の内部はＩＰＡ２の蒸気で充満し、その濃ばが前記ＬＥ
Ｌの５０チ以上に達するおそれがあり、非常に危険な状
態となる。
め洗浄されたウェーハ５か可動ハンガ７によって運ばれ
てくると、該ウェーハ５は乾燥洗浄されることになる− ところで、このような乾燥洗浄時に、例えば落雷等によ
り停電事故が発生すると、前述したように、蛇管を流れ
る冷却水は停止する。一方、ＩＰＡ２は１アルミボツク
スｌからの余熱により温められている状態にある。この
結果、石英容器３の外部、すなわち、蒸気乾燥洗浄装置
の内部はＩＰＡ２の蒸気で充満し、その濃ばが前記ＬＥ
Ｌの５０チ以上に達するおそれがあり、非常に危険な状
態となる。
そこで、本実施例では、このような状態を回避する為に
、前記停電時において、手動でコック１１を開状態とし
、タンク９に予め貯えられている水を、アルミボックス
１の個所に放水して、該アルミボックス１を急速に冷却
すると共に、石英容器３の内部にも放水することによっ
てＩ ＰＡ２を希釈化して、この気化を阻止するように
している。
、前記停電時において、手動でコック１１を開状態とし
、タンク９に予め貯えられている水を、アルミボックス
１の個所に放水して、該アルミボックス１を急速に冷却
すると共に、石英容器３の内部にも放水することによっ
てＩ ＰＡ２を希釈化して、この気化を阻止するように
している。
なお、Ｉ ＰＡ２の気化を防ぐためには、ＩＰＡ２の温
度を沸点８２．７℃よりも低く抑えるようにすればよい
のであるから、本実施例のように、必ずしもアルミボッ
クス１に放水すると共に、石英容器３の中にも放水する
必要はない。すなわら、どちらか一方のみの放水によっ
てもＩＰＡ２の温間を下げ気化を抑えることは可能であ
る。ただし、双方へ放水するようにすれば、速やかにＩ
ＰＡ２の温ＩＷを十分Ｉｃ下げることができるので、
望ましいことは勿論である。
度を沸点８２．７℃よりも低く抑えるようにすればよい
のであるから、本実施例のように、必ずしもアルミボッ
クス１に放水すると共に、石英容器３の中にも放水する
必要はない。すなわら、どちらか一方のみの放水によっ
てもＩＰＡ２の温間を下げ気化を抑えることは可能であ
る。ただし、双方へ放水するようにすれば、速やかにＩ
ＰＡ２の温ＩＷを十分Ｉｃ下げることができるので、
望ましいことは勿論である。
また１本実施例は、ＩＰＡ２の蒸気が石英容器３の外部
に異常に流出して予定の鹸麿以上となっても、これをセ
ンサの異常１ｃより検出することができず、この為に炭
酸ガスが蒸気乾燥洗浄装置内に拡散せず、火災あるいは
爆発の危険性がある時にも適用できることは明らかであ
ろう。
に異常に流出して予定の鹸麿以上となっても、これをセ
ンサの異常１ｃより検出することができず、この為に炭
酸ガスが蒸気乾燥洗浄装置内に拡散せず、火災あるいは
爆発の危険性がある時にも適用できることは明らかであ
ろう。
すなわち、上記のような異常状態は、ＩＰＡ２の蒸気が
蒸気乾燥洗浄装置内に充満していても炭酸ガスの拡散が
ない場合であるから、この時には。
蒸気乾燥洗浄装置内に充満していても炭酸ガスの拡散が
ない場合であるから、この時には。
前記状態を目視で確認して、前記停電時と同様に、手動
でコック１１を開状態にすればよいことになる。
でコック１１を開状態にすればよいことになる。
次に、前記停電時における放水用の水を、前記した洗浄
用のＤＩウォータと共用する場合について説明する。
用のＤＩウォータと共用する場合について説明する。
第２図は、本発明の他の実施例の構成を示す一部断面図
である。
である。
図において、第１図と同一の符号は、同一または同等部
分をあられしている。なお、同図においても第１図と同
様に、図面を簡略化するために。
分をあられしている。なお、同図においても第１図と同
様に、図面を簡略化するために。
蛇管の図示は省略しである。
第２図において、容器１２は、ＤＩウォータ１３を貯留
している。ポンプ１４は、前記ＤＩウォータ１３を予定
量汲み上げ濾過器１５を介して再びタンク９に戻してい
る。三方コック１７は、タンク９からのＤＩウォータを
蒸気乾燥洗浄装置側へ流すか、または容器１２の側へ流
すかの切換えを行なうものである。なお、この切換えは
、本実施例では、手動で行なうようにしている。
している。ポンプ１４は、前記ＤＩウォータ１３を予定
量汲み上げ濾過器１５を介して再びタンク９に戻してい
る。三方コック１７は、タンク９からのＤＩウォータを
蒸気乾燥洗浄装置側へ流すか、または容器１２の側へ流
すかの切換えを行なうものである。なお、この切換えは
、本実施例では、手動で行なうようにしている。
ここで、本実施例の動作について説明する。
通常時においては、タンク９に貯留されているＤＩウォ
ータが放水管１０を介して容器１２の中へ流れ込むよう
に三方コック１７が切換えられている。また、ポンプ１
４は、容器１２に流入されるのとほぼ同量のＤＩウォ６
−夕を濾過器１５を介して再びタンク９へ戻すようにし
ている。この結果、容器１２には、ウェーハ５の洗浄用
のＤＩウォータ１３が、循環しながら常にほぼ一定量満
たされた状態にある。
ータが放水管１０を介して容器１２の中へ流れ込むよう
に三方コック１７が切換えられている。また、ポンプ１
４は、容器１２に流入されるのとほぼ同量のＤＩウォ６
−夕を濾過器１５を介して再びタンク９へ戻すようにし
ている。この結果、容器１２には、ウェーハ５の洗浄用
のＤＩウォータ１３が、循環しながら常にほぼ一定量満
たされた状態にある。
このようなりＩウォータ１３で予め洗浄されたウェーハ
５は、第１図で説明した通り、可動ハンガ７によってＩ
ＰＡ２の蒸気の中へ運ばれて（る。
５は、第１図で説明した通り、可動ハンガ７によってＩ
ＰＡ２の蒸気の中へ運ばれて（る。
この結果、ウェーハ５は乾燥洗浄されることになる。
本実施例屹おいて、落雷等によって停電事故が発生した
場合には、前記第１図に関して述べたと同様に、非常に
危険な状態となる。
場合には、前記第１図に関して述べたと同様に、非常に
危険な状態となる。
本実施例では、この場合、三方コック１７を手動で切換
えることによって、それまで容器１２へ供給していたＤ
Ｉウォータを蒸気乾燥洗浄装置側へ放水する。なお、こ
の放水状態の具体的な説明は、第１図に関して述べたと
ころと同様であるので省略する。
えることによって、それまで容器１２へ供給していたＤ
Ｉウォータを蒸気乾燥洗浄装置側へ放水する。なお、こ
の放水状態の具体的な説明は、第１図に関して述べたと
ころと同様であるので省略する。
本実施例のように、ＤＩウォータを停電時における放水
用の水として使用した場合は、停電状態が解消して正常
状態に復帰した時には・ＤＩウォータ洗浄および蒸気乾
燥洗浄の工程を最初からやり直す必要がなく、蒸気乾燥
洗浄の工程のみを行なえばよいことＩｃなる。
用の水として使用した場合は、停電状態が解消して正常
状態に復帰した時には・ＤＩウォータ洗浄および蒸気乾
燥洗浄の工程を最初からやり直す必要がなく、蒸気乾燥
洗浄の工程のみを行なえばよいことＩｃなる。
また、本実施例が、センサの異常時に使用できることは
・前記第１図に関する説明から容易に理解できるであろ
う。
・前記第１図に関する説明から容易に理解できるであろ
う。
ところで、以上の２つの実施例では、いずれも人によっ
て、センサの異常状態または停電状態を検知して、手動
でコックを操作し、水またはＤＩウォータを蒸気乾燥洗
浄装置の中へ流入した場合であった。しかし、任意の適
宜の手段により・前記センサの異常状態または停電状態
を検出し、これに応じてコックを開状態または切換える
ことによって、自動的に同様の動作を行なわせてもよい
ことは勿論である。
て、センサの異常状態または停電状態を検知して、手動
でコックを操作し、水またはＤＩウォータを蒸気乾燥洗
浄装置の中へ流入した場合であった。しかし、任意の適
宜の手段により・前記センサの異常状態または停電状態
を検出し、これに応じてコックを開状態または切換える
ことによって、自動的に同様の動作を行なわせてもよい
ことは勿論である。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、つぎ
のような効果が達成される。
のような効果が達成される。
（１） センサの異常時または停電時におけるＩＰＡ
等の蒸気の異常発生を阻止して、蒸気乾燥洗浄装置を火
災および爆発の危険から予防することができる。
等の蒸気の異常発生を阻止して、蒸気乾燥洗浄装置を火
災および爆発の危険から予防することができる。
面図である。第２図は本発明の他の実施例の構成を示す
一部断面図である。
一部断面図である。
Claims (3)
- （１）半導体のウェーハを蒸気乾燥洗浄する為の液体と
、前記液体が予定量貯えられた容器と、前記容器を載置
し、かつ前記液体を加熱して気化する加熱手段とを有す
る蒸気乾燥洗浄装置において、前記容器の位置よりも高
所に配設され、かつ水を貯留したタンクと、前記タンク
の水を前記容器の内部および加熱手段の少なくともいず
れか一方に放水する為の放水管と、前記放水管の中間に
配設され、センサの異常時または停電時に開状態とされ
るコックとを具備したことを特徴とする蒸気乾燥洗浄装
置。 - （２）前記コックの開成がセンサの異常状態または停電
状態に応じて自動的になされることを特徴とする前記特
許請求の範囲第１項記載の蒸気乾燥洗浄装置。 - （３）前記水が、イオンを除去した水であることを特徴
とする前記特許請求の範囲第１項または第２項記載の蒸
気乾燥洗浄装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7839785A JPS61237429A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 蒸気乾燥洗浄装置 |
| US06/821,545 US4736758A (en) | 1985-04-15 | 1986-01-21 | Vapor drying apparatus |
| DE8686101834T DE3685148D1 (de) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Einrichtung zum dampftrocknen. |
| EP86101834A EP0198169B1 (en) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Vapor drying apparatus |
| AT86101834T ATE75784T1 (de) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Einrichtung zum dampftrocknen. |
| US07/108,555 US4777970A (en) | 1985-04-15 | 1987-10-14 | Vapor drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7839785A JPS61237429A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 蒸気乾燥洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61237429A true JPS61237429A (ja) | 1986-10-22 |
| JPH0457094B2 JPH0457094B2 (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=13660883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7839785A Granted JPS61237429A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 蒸気乾燥洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61237429A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5431179A (en) * | 1993-02-16 | 1995-07-11 | Tokyo Electron Limited | Wafer drying apparatus and fire-extinguishing method therefor |
| JPH07211689A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウェーハホルダー |
| US5443540A (en) * | 1992-12-25 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for drying substrates |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5310274U (ja) * | 1976-07-09 | 1978-01-27 | ||
| JPS5850740A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-25 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51140184A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-02 | Teiriyou Sangyo Kk | Divesting at the end of the cable and terminal fixture compressed fitt ing tool |
-
1985
- 1985-04-15 JP JP7839785A patent/JPS61237429A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5310274U (ja) * | 1976-07-09 | 1978-01-27 | ||
| JPS5850740A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-25 | Hitachi Ltd | 半導体処理装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5443540A (en) * | 1992-12-25 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for drying substrates |
| US5431179A (en) * | 1993-02-16 | 1995-07-11 | Tokyo Electron Limited | Wafer drying apparatus and fire-extinguishing method therefor |
| JPH07211689A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウェーハホルダー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0457094B2 (ja) | 1992-09-10 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |