JPS61237430A - 半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器 - Google Patents
半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器Info
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- JPS61237430A JPS61237430A JP7839985A JP7839985A JPS61237430A JP S61237430 A JPS61237430 A JP S61237430A JP 7839985 A JP7839985 A JP 7839985A JP 7839985 A JP7839985 A JP 7839985A JP S61237430 A JPS61237430 A JP S61237430A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D12/00—Displacing liquid, e.g. from wet solids or from dispersions of liquids or from solids in liquids, by means of another liquid
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- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
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- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/14—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects using gases or vapours other than air or steam, e.g. inert gases
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は，半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器に関するもの
であり、特に、半導体ウェーハを蒸気乾燥洗浄する為の
液体を貯留する石英容器を、高純度不透明石英で有底円
筒状に形成した半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器に関する
ものである。
であり、特に、半導体ウェーハを蒸気乾燥洗浄する為の
液体を貯留する石英容器を、高純度不透明石英で有底円
筒状に形成した半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器に関する
ものである。
（従来の技術）
従来から１例えばシリコン等の半導体ウェーハの製造工
程では、該ウェーハを化学処理した後の洗浄工程が必ず
必要であった。そして、この洗浄工程では、ウェーハは
、キャリアに保持されて腋キャリアを移動する可動ハン
ガにより、キャリアと共に、まず、イオンを除去した水
（以下ＤＩウォータという）の中に浸漬され、洗浄され
る。その後、ウェーハは、蒸気乾燥洗浄装置の中へ前記
可動ハンガによりてキャリアと共に運ばれる。
程では、該ウェーハを化学処理した後の洗浄工程が必ず
必要であった。そして、この洗浄工程では、ウェーハは
、キャリアに保持されて腋キャリアを移動する可動ハン
ガにより、キャリアと共に、まず、イオンを除去した水
（以下ＤＩウォータという）の中に浸漬され、洗浄され
る。その後、ウェーハは、蒸気乾燥洗浄装置の中へ前記
可動ハンガによりてキャリアと共に運ばれる。
蒸気乾燥洗浄装置では、石英容器の中へ予定量入れられ
た、例えばイソプロピルアルコール（以下ＩＰＡ とい
う）が、下からのヒータの熱によって温められて、該容
器中で気化している０なお、このＩＰＡは１発火点が３
１０℃、沸点が８２．７℃、引火点が２１Ｃの液体であ
る。
た、例えばイソプロピルアルコール（以下ＩＰＡ とい
う）が、下からのヒータの熱によって温められて、該容
器中で気化している０なお、このＩＰＡは１発火点が３
１０℃、沸点が８２．７℃、引火点が２１Ｃの液体であ
る。
このＩＰＡの蒸気中に、前記ウェーハが運ばれてくると
、前記ＤＩウォータの洗浄により、ウェーハの表面に付
着した水分は、前記ＩＰＡの蒸気の作用によって結露す
る０その後、該結露した水滴は、ウェーハ表面から剥離
して落下する０この為に、前記ＤＩウォータの洗浄によ
って付着した微小な異物等はきれいに洗いｆｌＬされる
と共に、ウェーハ表面は、乾燥状態となる・ 前記ＩＰＡを加熱する為のヒータは、例えばアルミボッ
クスによって完全に密閉状態とされている。これは、該
ヒータが露出することによりて発生する危険がある。Ｉ
ＰＡおよびその蒸気への引火を防止する為である。
、前記ＤＩウォータの洗浄により、ウェーハの表面に付
着した水分は、前記ＩＰＡの蒸気の作用によって結露す
る０その後、該結露した水滴は、ウェーハ表面から剥離
して落下する０この為に、前記ＤＩウォータの洗浄によ
って付着した微小な異物等はきれいに洗いｆｌＬされる
と共に、ウェーハ表面は、乾燥状態となる・ 前記ＩＰＡを加熱する為のヒータは、例えばアルミボッ
クスによって完全に密閉状態とされている。これは、該
ヒータが露出することによりて発生する危険がある。Ｉ
ＰＡおよびその蒸気への引火を防止する為である。
また、前記石英容器の上方には、前記ウェーハを保持し
たキャリアが入出可能な空間を残して蛇管が配設されて
いる０これは、気化したＩＰＡが。
たキャリアが入出可能な空間を残して蛇管が配設されて
いる０これは、気化したＩＰＡが。
蛇管内を流れる冷却水によって冷され、液化して。
再び石英容器の中へ還元されるようにする為であるＯ
なお、ヒータを内置した前記アルミボックス、および
ＩＰＡが入れられ、蛇管が配設された石英容器の全体は
、ステンレスの容器の中に収納されている〇 以上のような蒸気乾燥洗浄装置は、前記したように、蛇
管内を流れる冷却水によって、通常は、気化されたＩＰ
Ａが石英容器の中へ還元される。
ＩＰＡが入れられ、蛇管が配設された石英容器の全体は
、ステンレスの容器の中に収納されている〇 以上のような蒸気乾燥洗浄装置は、前記したように、蛇
管内を流れる冷却水によって、通常は、気化されたＩＰ
Ａが石英容器の中へ還元される。
この為に１石英容器外部に２けるＩＰＡの蒸気は予定の
濃度以上となることはない＠すなわち、ＩＰＡの蒸気の
濃度は、爆発下限界（以下、 ＬＢＬという）よりもさ
らに低く、例えばＬＥＬの５０％以下に抑えられている
。この為に、蒸気乾燥洗浄装置が火災を起こしたり、あ
るいは爆発するという危険性はないといえる。
濃度以上となることはない＠すなわち、ＩＰＡの蒸気の
濃度は、爆発下限界（以下、 ＬＢＬという）よりもさ
らに低く、例えばＬＥＬの５０％以下に抑えられている
。この為に、蒸気乾燥洗浄装置が火災を起こしたり、あ
るいは爆発するという危険性はないといえる。
しかしながら、火災あるいは爆発の危険性あるＩＰＡ等
を用いる蒸気乾燥洗浄装置では、何らかの原因によって
１石英容器外部に２ける ＩＰＡ等の蒸気の濃度が前記
ＬＥＬの５０％以上となり、危険な状態になることも考
えられる。
を用いる蒸気乾燥洗浄装置では、何らかの原因によって
１石英容器外部に２ける ＩＰＡ等の蒸気の濃度が前記
ＬＥＬの５０％以上となり、危険な状態になることも考
えられる。
そこで、従来から、このような場合（ζは、該危険な状
態をセンサで検知し、これに応じて開状態となる炭酸ガ
スボンベを予め設けて、蒸気乾燥洗浄装置内に炭酸ガス
を拡散することによって、発火および爆発の危険を防止
するようにしていた。
態をセンサで検知し、これに応じて開状態となる炭酸ガ
スボンベを予め設けて、蒸気乾燥洗浄装置内に炭酸ガス
を拡散することによって、発火および爆発の危険を防止
するようにしていた。
（発明が解決しようとする問題点）
上記した従来の技術は、次のような問題点を有していた
０ （１） 従来の蒸気乾燥洗浄装置で用いられている石
英容器は、透明石英の板を５枚浴着して六面体の上面を
除いた形状とした角形容器である０この為に、隅部での
熱放散が、他の部分に比べて大きくなるので、該容器内
におけるＩＰＡ等の蒸気の濃度分布が不均一となり、ひ
いては、該隅部における乾燥洗浄が十分に行なわれない
場合が生じた。すなわち、従来の角形容器ではウェーハ
の乾燥洗浄が不均一になるという欠点がありた〇 （２）前記隅部での乾燥洗浄効果を十分に高めて前記（
１）の欠点を回避する為には、ヒータによる加熱温度を
高くする必要がある０しかし、加熱温度を上げることは
、 ＩＦＡ等の蒸気が石英容器の中へ還元されず、外部
に洩出する事態となりた場合にＩＦＡ等の蒸気の濃度が
前記ＬＢＬの５０％以上に急速に遅することを意味し、
火災あるいは爆発の危険性の増大につながる。
０ （１） 従来の蒸気乾燥洗浄装置で用いられている石
英容器は、透明石英の板を５枚浴着して六面体の上面を
除いた形状とした角形容器である０この為に、隅部での
熱放散が、他の部分に比べて大きくなるので、該容器内
におけるＩＰＡ等の蒸気の濃度分布が不均一となり、ひ
いては、該隅部における乾燥洗浄が十分に行なわれない
場合が生じた。すなわち、従来の角形容器ではウェーハ
の乾燥洗浄が不均一になるという欠点がありた〇 （２）前記隅部での乾燥洗浄効果を十分に高めて前記（
１）の欠点を回避する為には、ヒータによる加熱温度を
高くする必要がある０しかし、加熱温度を上げることは
、 ＩＦＡ等の蒸気が石英容器の中へ還元されず、外部
に洩出する事態となりた場合にＩＦＡ等の蒸気の濃度が
前記ＬＢＬの５０％以上に急速に遅することを意味し、
火災あるいは爆発の危険性の増大につながる。
なお、 ＩＦＡ等の蒸気が石英容器の外部に洩出して危
険な状態となる一部としては、停電事故がある・すなわ
ち、この場合には、ＩＦＡ等の蒸気を石英容器の中へ還
元させる為の蛇管内の冷却水が止まり、また、危険な状
態を検知するセンサの動作も停止するからである＠ （３）角形容器は、前記したように、透明石英の板を５
枚浴着して作成する為に、機械的強度が弱く、特に隅部
等が他の装置、機器等にぶつかりたりすると損傷する危
険性が大きい０ また、機械的強度を強める為に、肉厚にすると、熱応力
による割れが生じ易い。
険な状態となる一部としては、停電事故がある・すなわ
ち、この場合には、ＩＦＡ等の蒸気を石英容器の中へ還
元させる為の蛇管内の冷却水が止まり、また、危険な状
態を検知するセンサの動作も停止するからである＠ （３）角形容器は、前記したように、透明石英の板を５
枚浴着して作成する為に、機械的強度が弱く、特に隅部
等が他の装置、機器等にぶつかりたりすると損傷する危
険性が大きい０ また、機械的強度を強める為に、肉厚にすると、熱応力
による割れが生じ易い。
（４） 角形容器は、前記したように１石英板を峠着
して作成する為に、作成に時間がかかり多量生産が大変
であると共に、コスト的にも高くなるという欠点があっ
た０ （問題点を解決するための手段および作用）前記の問題
点を解決するために、本発明は、半導体蒸気乾燥洗浄用
石英容器を、高純度不透明石英で有底円筒状に形成する
ようにした点に特徴がある〇 （実施的） 以下に１図面を参照して１本発明の詳細な説明する０ 第１図は、本発明の一実施飼が適用された蒸気乾燥洗浄
装置の概略構成を示す一部断面図であるＯ同図において
、アルミボックスｌの中には％咳ボックス１の上面に形
成された回転２次曲面（球面１回転放物面など）凹陥部
１ｍに沿うようにヒータが、密閉状態で内置されている
０該アルミボツクス１の上にはＩＦＡ２を入れた有底円
筒状の石英容器３が置かれている。
して作成する為に、作成に時間がかかり多量生産が大変
であると共に、コスト的にも高くなるという欠点があっ
た０ （問題点を解決するための手段および作用）前記の問題
点を解決するために、本発明は、半導体蒸気乾燥洗浄用
石英容器を、高純度不透明石英で有底円筒状に形成する
ようにした点に特徴がある〇 （実施的） 以下に１図面を参照して１本発明の詳細な説明する０ 第１図は、本発明の一実施飼が適用された蒸気乾燥洗浄
装置の概略構成を示す一部断面図であるＯ同図において
、アルミボックスｌの中には％咳ボックス１の上面に形
成された回転２次曲面（球面１回転放物面など）凹陥部
１ｍに沿うようにヒータが、密閉状態で内置されている
０該アルミボツクス１の上にはＩＦＡ２を入れた有底円
筒状の石英容器３が置かれている。
なお、この石英容器３は、高純度不透明石英で形成され
ており、かつ該底部は、前記凹陥部１ａに嵌合する回転
２次曲面となっている０また、この石英容器３の上方に
は、図面を簡略化する為に図示しないが、ＩＦＡ２の蒸
気を冷却して還元する為の蛇管が配設されている０前記
アルミボツクス１および石英容器３等は、ステンレス容
器４に収納されている０また。ウェーハ５はキャリア６
によって保持されており、該キャリア６は、自在に移動
可能な可動ハンガ７によって予定位置に支持されている
。受は皿２０は、蒸気乾燥洗浄時にウェーハ５等から落
下する凝固した異物を回収するためのものである０ここ
で、本実施例の動作について説明するＯアルミボックス
１内のヒータに通電すると、アルミボックスｌが加熱さ
れる為にＩＦＡ２は気化状態となる０なお、この気化に
よるＩＦＡ２の蒸気は、前記した蛇管の冷却・還元作用
により、石英容器３の外部にはあまり流れ出ないように
されている０このＩＦＡ２の蒸気中に、前記したＤＩウ
ォータで予め洗浄されたウェーハ５が可動ハンガ７によ
って運ばれてくると、咳ウェーハ５は乾燥洗浄されるこ
とになる〇 ところで、本実施例のように石英容器３を、高純度不透
明石英で有底円筒状に形成した場合には、従来例のよう
にウェーハ５の乾燥洗浄が不均一になるということはな
い＠これは、有底円部状の石英容器３では、従来例の角
形容器と異なり、隅部が存在せず、隅部での熱放散によ
りＩＦＡ２の蒸気の濃度分布が不均一になることがない
為である〇また、前述したところから明らかなように。
ており、かつ該底部は、前記凹陥部１ａに嵌合する回転
２次曲面となっている０また、この石英容器３の上方に
は、図面を簡略化する為に図示しないが、ＩＦＡ２の蒸
気を冷却して還元する為の蛇管が配設されている０前記
アルミボツクス１および石英容器３等は、ステンレス容
器４に収納されている０また。ウェーハ５はキャリア６
によって保持されており、該キャリア６は、自在に移動
可能な可動ハンガ７によって予定位置に支持されている
。受は皿２０は、蒸気乾燥洗浄時にウェーハ５等から落
下する凝固した異物を回収するためのものである０ここ
で、本実施例の動作について説明するＯアルミボックス
１内のヒータに通電すると、アルミボックスｌが加熱さ
れる為にＩＦＡ２は気化状態となる０なお、この気化に
よるＩＦＡ２の蒸気は、前記した蛇管の冷却・還元作用
により、石英容器３の外部にはあまり流れ出ないように
されている０このＩＦＡ２の蒸気中に、前記したＤＩウ
ォータで予め洗浄されたウェーハ５が可動ハンガ７によ
って運ばれてくると、咳ウェーハ５は乾燥洗浄されるこ
とになる〇 ところで、本実施例のように石英容器３を、高純度不透
明石英で有底円筒状に形成した場合には、従来例のよう
にウェーハ５の乾燥洗浄が不均一になるということはな
い＠これは、有底円部状の石英容器３では、従来例の角
形容器と異なり、隅部が存在せず、隅部での熱放散によ
りＩＦＡ２の蒸気の濃度分布が不均一になることがない
為である〇また、前述したところから明らかなように。
ＩＰＡ２への熱伝導が均一となる故に、ヒータによる加
熱温度は、従来の角形容器の場合に比べて低く押える（
沸点の８２．７℃により一層近づける）ことができる。
熱温度は、従来の角形容器の場合に比べて低く押える（
沸点の８２．７℃により一層近づける）ことができる。
この結果、前述した停電時のように、ＩＰＰ２Ｏ蒸気が
石英容ａ３の中へ還元されず、外部に洩出する事態とな
った場合に、ＩＰＰ２Ｏ蒸気の濃度が前記ＬＥＩＬの５
０％以上に急速になる状態を緩和することができる。
石英容ａ３の中へ還元されず、外部に洩出する事態とな
った場合に、ＩＰＰ２Ｏ蒸気の濃度が前記ＬＥＩＬの５
０％以上に急速になる状態を緩和することができる。
すなわち、本実施例によれば、従来の角形容器に比べて
、ヒータの温度を速く押えることができるので、より一
層蒸気乾燥洗浄装置の安全性を高めることができる〇 第２図は、本発明の他の実施例が適用された蒸気乾燥洗
浄装置の概略構成を示す一部断面図である。
、ヒータの温度を速く押えることができるので、より一
層蒸気乾燥洗浄装置の安全性を高めることができる〇 第２図は、本発明の他の実施例が適用された蒸気乾燥洗
浄装置の概略構成を示す一部断面図である。
図において、第１図と同一の符号は、同一または同等部
分をあられしている。
分をあられしている。
本実施例が第１図の実施例と異なるのは、蛇管を取り除
き、これに代えて肉厚内部に水が流れる石英容器３の蓋
１０を設けた点である。なお、該豊ｌＯは１石英容器３
と同様に、高純度不透明石英で形成されている。
き、これに代えて肉厚内部に水が流れる石英容器３の蓋
１０を設けた点である。なお、該豊ｌＯは１石英容器３
と同様に、高純度不透明石英で形成されている。
第３図は第２図の蓋ｌＯの平面図である０本実施例につ
いて、さらに詳細に説明する。
いて、さらに詳細に説明する。
石英容器３の上方の縁は、テーパ状となっている０そし
て、このテーパ状縁部３ａの内周面には、凹面鏡あるい
はおわんを伏せたような形状の蓋１０の縁が当接してい
る。なお、このように当接する双方の面が円周面である
場合には、蓋ｌＯの密閉性がよいことは一般によく知ら
れている０すなわち１本実施例の石英容ｉ！ｓ３は、そ
の上方開口部が蓋１０によって榎われた状態となりてい
る。
て、このテーパ状縁部３ａの内周面には、凹面鏡あるい
はおわんを伏せたような形状の蓋１０の縁が当接してい
る。なお、このように当接する双方の面が円周面である
場合には、蓋ｌＯの密閉性がよいことは一般によく知ら
れている０すなわち１本実施例の石英容ｉ！ｓ３は、そ
の上方開口部が蓋１０によって榎われた状態となりてい
る。
また、蓋１０は、ウェーハ５を保持したキャリア６が石
英容器３の内部に入出可能なように、その中央に透孔部
１０ｍが設けられている０咳蓋１０には給水管１１と連
結された給水口１０ｂと、放水管１２と連結された放水
口１０ａとが設けられている。この結果、給水管１１か
ら供給される水は、矢印入で示す通り、蓋ｌＯの肉厚内
部を流れて、放水管１２から流出する〇 この結果、本実施例によれば、気化したＩＰ人は、蓋１
０の肉厚内部を流れる冷却水によって冷され、液化して
、再び石英容器３の中へ還元されるようになる。
英容器３の内部に入出可能なように、その中央に透孔部
１０ｍが設けられている０咳蓋１０には給水管１１と連
結された給水口１０ｂと、放水管１２と連結された放水
口１０ａとが設けられている。この結果、給水管１１か
ら供給される水は、矢印入で示す通り、蓋ｌＯの肉厚内
部を流れて、放水管１２から流出する〇 この結果、本実施例によれば、気化したＩＰ人は、蓋１
０の肉厚内部を流れる冷却水によって冷され、液化して
、再び石英容器３の中へ還元されるようになる。
しかも１本実施例では、ウェーハ５を保持したキャリア
６が入出可能な空間だけを残して５石英容器３の上方開
口部を完全に覆うようにできるので、従来の蛇管を用い
たものに比べて、冷却・還元作用をより一層効果的に行
なうことができる。
６が入出可能な空間だけを残して５石英容器３の上方開
口部を完全に覆うようにできるので、従来の蛇管を用い
たものに比べて、冷却・還元作用をより一層効果的に行
なうことができる。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、つぎ
のような効果が達成される。
のような効果が達成される。
（１）石英容器を、高純度不透明石英で有底円筒状に形
成してＩＰ人等の蒸気の濃度分布が均一になるようにし
たので、ウェーハの乾燥洗浄がばらつきなく均一に行な
える。
成してＩＰ人等の蒸気の濃度分布が均一になるようにし
たので、ウェーハの乾燥洗浄がばらつきなく均一に行な
える。
（２） ＩＰ人等への熱伝導が均一となる故に、ヒー
タによる加熱温度は、従来の角形容器の場合に比べて低
く押えることができる口したがって、蒸気乾燥洗浄装置
の安全性をより一層高めることが可能となる。
タによる加熱温度は、従来の角形容器の場合に比べて低
く押えることができる口したがって、蒸気乾燥洗浄装置
の安全性をより一層高めることが可能となる。
（３）高純度不透明石英で有底円筒状に形成した石英容
器は、棒状の単結晶半導体を製造する為に用いられる高
純度不透明ルツボの製作と同様にして一体成形されるこ
とができる０この結果、従来の角形容器の製作方法と異
なり、溶着の必要がない為に製作時間が大幅に短縮でき
ると共に、コスト的にも安価になる０ また、一体成形である為に、機械的強度が強いという利
点がある。
器は、棒状の単結晶半導体を製造する為に用いられる高
純度不透明ルツボの製作と同様にして一体成形されるこ
とができる０この結果、従来の角形容器の製作方法と異
なり、溶着の必要がない為に製作時間が大幅に短縮でき
ると共に、コスト的にも安価になる０ また、一体成形である為に、機械的強度が強いという利
点がある。
（４）高純度不透明石英は、内部に気泡が多数含まれて
いる為に、温度差があっても熱応力の発生が少なく、シ
たがりて熱応力による割れも生じにくい。
いる為に、温度差があっても熱応力の発生が少なく、シ
たがりて熱応力による割れも生じにくい。
（５） 石英容器に、ウェーハを保持したキャリアが
入出可能な空間だけを残して％的記石英容器と同材質の
蓋をし、該蓋の肉厚内部に冷却水を流すようにすれば、
従来の蛇管に比べて冷却・還元作用をより一層効果的に
行なうことができる〇また、ごみ等が石英容器の内部へ
混入しにくくもなる０
入出可能な空間だけを残して％的記石英容器と同材質の
蓋をし、該蓋の肉厚内部に冷却水を流すようにすれば、
従来の蛇管に比べて冷却・還元作用をより一層効果的に
行なうことができる〇また、ごみ等が石英容器の内部へ
混入しにくくもなる０
第１図は、本発明の一実施例が適用された蒸気乾燥洗浄
装置の概略構成を示す一部断面図である。 第２図は、本発明の他の実施例が適用された蒸気乾燥洗
浄装置の概略構成を示す一部断面図である。 第３図は第２図の蓋の平面図である。 ３・・・石英容器％ ５・・・ウェーハ、６・・・キャ
リア、１０・・・蓋、１０ｍ・・・透孔部、１０ｂ・・
・給水口、１０ｅ・・・放水口 代理人 弁理士 平 木 道 人外１名 １１１図 第２図 第３図
装置の概略構成を示す一部断面図である。 第２図は、本発明の他の実施例が適用された蒸気乾燥洗
浄装置の概略構成を示す一部断面図である。 第３図は第２図の蓋の平面図である。 ３・・・石英容器％ ５・・・ウェーハ、６・・・キャ
リア、１０・・・蓋、１０ｍ・・・透孔部、１０ｂ・・
・給水口、１０ｅ・・・放水口 代理人 弁理士 平 木 道 人外１名 １１１図 第２図 第３図
Claims (4)
- （１）半導体ウェーハを蒸気乾燥洗浄する為の液体を貯
留する半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器であって、前記石
英容器が、高純度不透明石英からなり、かつ有底円筒形
状であることを特徴とする半導体蒸気乾燥洗浄用石英容
器。 - （２）前記半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器が一体成形さ
れていることを特徴とする前記特許請求の範囲第１項記
載の半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器。 - （３）前記半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器の底部が、回
転２次曲面であることを特徴とする前記特許請求の範囲
第１項または第２項記載の半導体蒸気乾燥洗浄用石英容
器。 - （４）前記半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器の開口部が、
中央にウェーハを保持したキャリアが入出可能な透孔部
を有し、かつ周辺部の一端に給水口を、他端に放水口を
有して内部に冷却水が流れるように構成された蓋で覆わ
れていることを特徴とする前記特許請求の範囲第１項、
第２項または第３項記載の半導体蒸気乾燥洗浄用石英容
器。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7839985A JPS61237430A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器 |
| US06/821,545 US4736758A (en) | 1985-04-15 | 1986-01-21 | Vapor drying apparatus |
| EP86101834A EP0198169B1 (en) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Vapor drying apparatus |
| AT86101834T ATE75784T1 (de) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Einrichtung zum dampftrocknen. |
| DE8686101834T DE3685148D1 (de) | 1985-04-15 | 1986-02-13 | Einrichtung zum dampftrocknen. |
| US07/108,555 US4777970A (en) | 1985-04-15 | 1987-10-14 | Vapor drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7839985A JPS61237430A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61237430A true JPS61237430A (ja) | 1986-10-22 |
| JPH0515060B2 JPH0515060B2 (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=13660943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7839985A Granted JPS61237430A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 半導体蒸気乾燥洗浄用石英容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61237430A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63105329U (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-08 | ||
| US5431179A (en) * | 1993-02-16 | 1995-07-11 | Tokyo Electron Limited | Wafer drying apparatus and fire-extinguishing method therefor |
| US5443540A (en) * | 1992-12-25 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for drying substrates |
| JPH07312358A (ja) * | 1995-01-31 | 1995-11-28 | Sony Corp | 洗浄装置 |
| JP2012154599A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸気発生装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5420014A (en) * | 1977-07-18 | 1979-02-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Method of making molten silicate base container |
| JPS5617996A (en) * | 1979-07-12 | 1981-02-20 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Crucible for semiconductor art and manufacture thereof |
| JPS5910046U (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | トヨタ自動車株式会社 | シヤシダイナモメ−タ用車輪固定治具 |
| JPS59189581A (ja) * | 1983-04-11 | 1984-10-27 | 株式会社渡辺商行 | 可燃性液体加熱装置 |
-
1985
- 1985-04-15 JP JP7839985A patent/JPS61237430A/ja active Granted
Patent Citations (4)
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| JP2012154599A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸気発生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0515060B2 (ja) | 1993-02-26 |
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