JPH03195039A - 低温試験装置 - Google Patents

低温試験装置

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Publication number
JPH03195039A
JPH03195039A JP1335351A JP33535189A JPH03195039A JP H03195039 A JPH03195039 A JP H03195039A JP 1335351 A JP1335351 A JP 1335351A JP 33535189 A JP33535189 A JP 33535189A JP H03195039 A JPH03195039 A JP H03195039A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
low temperature
integrated circuit
opening
vacuum
test
Prior art date
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Pending
Application number
JP1335351A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Akasaki
赤崎 裕二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyushu Fujitsu Electronics Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Priority to JP1335351A priority Critical patent/JPH03195039A/ja
Publication of JPH03195039A publication Critical patent/JPH03195039A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、集積回路の低温特性を試験するための低温試
験装置に関する。
3、発明の詳細な説明 〔概 要〕 集積回路の低温特性を試験するための低温試験〔従来の
技術〕 集積回路は、室温以下の低温9例えば零下40℃で特性
試験が行われる。このための低温試験装置として1例え
ば、所定温度に冷却可能な回転テーブルが設置された低
温槽内に集積回路パッケージを逐次送入し、これら集積
回路を前記回転テーブル上に載置して冷却して順次特性
試験を行ったのち、低温槽外に送出するものが用いられ
ている。
低温槽内に外気が流入すると、槽の内壁や集積回路パッ
ケージ、あるいは、試験用の端子類等に水滴や霜が付着
し、試験の障害になる。このような外気の流入を防止す
るために1低温槽には、集積回路パッケージが送人出さ
れるときだけ開くシャッタが設けられ、かつ、槽内を、
外気より加圧された乾燥窒素ガス等で充填する等の方策
が採られている。通常、この窒素ガスは、上記冷却用の
液体窒素が気化したものが用いられる。
しかし、外部からの送入して前記回転テーブル上に載置
するとき、あるいは、冷却位置から試験用端子位置への
移動の際に、集積回路パッケージが、前記回転テーブル
上の所定位置に配置されず。
試験の続行が不可能となる障害が発生することがある。
このような場合には、低温槽を開放して上記障害を除く
のであるが、この作業時に、低温槽内に外気が流入する
ことが避けられず、未だ冷却状態にある回転テーブルや
試験用端子等に水滴や霜が発生してしまう。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のようにして止むを得ず発生した水滴あるいは霜の
除去は1回転テーブルの冷却を中止し。
槽内を120°C程度に加熱したのち9回転テーブルを
再び低温に冷却する方法が採られていた。上記障害の除
去作業、および、加熱開始から冷却までに約2時間程度
を要するため、低温試験工程のスループットが低下し、
また、この間に消費される液体窒素のような冷媒のコス
ト増が無視できない。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、低温槽内に発生した
水滴や霜を迅速に除去可能とされた低温試験装置を提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、室温以下の所定温度に冷却可能であり、そ
の上に載置された集積回路を該所定温度において試験す
るための試験台と、該試験台を収容し且つ内部を真空排
気可能な容器と、該容器に設けられ且つ前記集積回路の
試験時には開放されており、該試験時以外において該容
器内部を真空排気するときに閉鎖される気密開閉機構と
、該容器内部を真空排気するための排気機構とを備えた
ことを特徴とする本発明に係る低温試験装置によって達
成される。
〔作 用〕
低温槽を、その内部が真空に対する耐圧性および気密性
を有する構造とするか、あるいは、別の真空槽内部に収
納する。集積回路が送人出されるシャッタは、高速で開
閉可能としておくために。
それ自身で耐圧性および気密性を有する構造とすること
が困難なため、該低温槽または真空槽には。
該シャッタと同軸上に、耐圧性および気密性を有する開
閉蓋を設け1通常の試験時には、この開閉蓋を開放状態
にして集積回路パッケージを通過可能としておき、該低
温槽または真空槽の内部を真空排気するときにのみ、こ
の開閉蓋を閉じる。これにより、該低温槽または真空槽
の内部が真空排気可能となり1回転テーブルあるいは試
験用端子等に付着している水滴や霜が短時間で除去され
試験を再開可能となる。上記水滴や霜の除去時間をさら
に短縮するために1例えば、低温槽内に130〜150
°Cの温風を流入させることも有効である。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の低温試験装置の概要構成図であって、
(a)は平面図、う)は(a)におけるX−X断面図。
(C)は(a)におけるY方向側面図である。
従来の低温試験装置と同様に、低温槽1と、低温槽1の
内部に設置された回転テーブル6と9回転テーブル6上
に載置された集積回路パッケージ7を取り上げ、これを
1例えば回転テーブル6の中心に設けられている試験用
端子(図示省略)の位置に移動するとともに装着するた
めのマニピュレータ9とから成る。
回転テーブル6は9例えばタンク8から供給される液体
窒素により零下40℃に冷却されるとともに1図示しな
い回転機構により矢印の方向に回転する。低温槽1の側
壁には、集積回路パッケージ7が送入用されるときにの
み高速で開閉するシャッタ4aおよび4bが設けられて
いる。シャッタ4aは集積回路パッケージ7の送入用、
シャッタ4bは試験が終了した集積回路パッケージ7の
送出用である。シャッタ4aまたは4bの一方のみを設
け、これを送入用に共用する構成としてもよい。
シャッタ4aから送入された集積回路パッケージは回転
テーブル6の7Iの位置に載置される。このようにして
1回転テーブル6上には、その回転とともに複数の集積
回路パッケージ7が順次載置される。回転テーブル6が
一回転する間に、集積回路パッケージ7は所定温度に冷
却される。例えば7、の位置に載置された集積回路パッ
ケージ7が一回転し、再び7.の位置に達すると、マニ
ピュレータ9により把持され1回転テーブル6中心部に
移動され、ここに設けられている試験用端子に装着され
、所定項目の特性試験が行われる。試験が終了した集積
回路パッケージ7は、再びマニピュレータ9により把持
され、固定台2上に移される。
そして、シャッタ4bが開かれ、ここから外部に送出さ
れる。
以上は従来の低温試験装置の構成および動作と同じであ
る。
本発明においては、低温槽1は、内部を真空排気可能な
耐圧性および気密性を有する必要があるために、厚さ1
0IIIImのガラス・エポキシ樹脂から成る。外形寸
法が500(W) x400(D) x300(H) 
(ただし単位mm)の筐体部11で構成される。必要に
応じて。
図示しない骨格部材を低温槽1の内部に設けて耐圧強度
を上げてもよい。筐体部11と合板部12とは。
筐体部1I底面の開口部周辺に設けられている0リング
等の封止手段3とにより気密性が保たれている。
筐体部11の側壁に設けられているシャッタ4aおよび
4bをそれぞれ包囲する気密開閉機構58および5bが
設けられている。気密開閉機構58および5bの各々は
、耐圧性および気密性の開閉蓋51を有する。
通常の低温試験が行われているときには、開閉蓋51は
開放されており、シャッタ4aおよび4bを通じての集
積回路パッケージの送入用が高速で行える。
一方、低温槽l内の水滴や霜を除去するときには。
開閉蓋51が閉じられ、低温槽1内部の気密性が保たれ
る。
さらに1本発明においては9例えば筐体部11の側壁に
、低温槽1内部を1例えばI Torr程度以下の圧力
に排気するための真空ポンプ21が接続されている。ま
た、加熱された空気等を低温槽1内部に流入させるため
に、ヒータ22を有する温風導入機構20が設けられて
いる。
前述のように9回転テーブル6上における集積回路パッ
ケージ7の配置が乱れる等の障害が生じた場合には9例
えば筐体部11と台板12とを分離し。
この障害を除去したのち、再び筐体部11と合板部12
を結合し、真空ポンプ21により、低温槽1内部を真空
排気する。例えば−15°Cにおける水蒸気圧は約I 
Torrであるから1回転テーブル6およびこれに設置
された試験用端子等に付着している水滴や霜は急速に蒸
発ないし昇華して消失する。
低温槽1内部を排気しながら、温風導入機構20から低
温槽l内部に130℃の温風を吹き込むことにより、上
記水滴や霜の除去が促進される。この温風の導入と真空
排気とにより、水滴や霜の除去は単時間に行われるため
、低温槽lや回転テーブル6等の温度が大きく上昇する
ことはないので。
従来のように室温に冷却するために長時間を要する結果
となるおそれはない。
上記実施例のように、筐体部11を耐圧構造とする代わ
りに、第2図に示すように、従来と同様にシャッタ4a
および4bが設けられた低温槽10を、別の真空槽30
で包囲した構造としてもよい。真空槽30には、シャッ
タ4aおよび4bと同軸上に配置された気密開閉機構5
が設けられている。この気密開閉機構5は、前記実施例
と同様に、低温槽10内部に集積回路パッケージが送入
用する際には開放され、真空槽30内部を真空排気する
ときにのみ閉止される。
である。
〔発明の効果] 本発明によれば、集積回路の低温試験装置内に生じた水
滴や霜の除去を短時間で実施でき、このような除去のた
めに低温試験工程のスループットの低下を回避可能とす
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図と第2図は本発明の低温試験装置の実施例説明図
である。 図において。 1と10は低温槽、  2は固定テーブル。 3は封止手段、  4はシャッタ。 5は気密開閉機構、  6は回転テーブル。 7は集積回路パンケージ、  8はタンク。 9はマニピュレータ、11は筐体部。 12は合板部、20は温風導入機構。 21は真空ポンプ、22はヒータ。 30は真空槽、  51は開閉蓋

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 室温以下の所定温度に冷却可能であり、その上に載置さ
    れた集積回路を該所定温度において試験するための試験
    台と、 該試験台を収容し且つ内部を真空排気可能な容器と、 該容器に設けられ且つ前記集積回路の試験時には開放さ
    れており、該試験時以外において該容器内部を真空排気
    するときに閉鎖される気密開閉機構と、 該容器内部を真空排気するための排気機構 とを備えたことを特徴とする低温試験装置。
JP1335351A 1989-12-25 1989-12-25 低温試験装置 Pending JPH03195039A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1335351A JPH03195039A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 低温試験装置

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JP1335351A JPH03195039A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 低温試験装置

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JP1335351A Pending JPH03195039A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 低温試験装置

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JP (1) JPH03195039A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0550372U (ja) * 1991-12-05 1993-07-02 株式会社アドバンテスト 恒温槽、恒温槽温度管理システムおよび熱伝達用プレート
JP2008076224A (ja) * 2006-09-21 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd 温度サイクル試験装置及び温度サイクル試験方法
JP2013506819A (ja) * 2009-10-02 2013-02-28 イーアールエス エレクトロニック ゲーエムベーハー 半導体チップ調整装置及び前記装置を用いた検査方法

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