JPH0550372U - 恒温槽、恒温槽温度管理システムおよび熱伝達用プレート - Google Patents

恒温槽、恒温槽温度管理システムおよび熱伝達用プレート

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JPH0550372U
JPH0550372U JP10045691U JP10045691U JPH0550372U JP H0550372 U JPH0550372 U JP H0550372U JP 10045691 U JP10045691 U JP 10045691U JP 10045691 U JP10045691 U JP 10045691U JP H0550372 U JPH0550372 U JP H0550372U
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JP
Japan
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temperature
constant temperature
catalyst
heat transfer
transfer plate
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Pending
Application number
JP10045691U
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English (en)
Inventor
徳男 唐沢
和信 井浦
範人 小谷
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Advantest Corp
Original Assignee
Advantest Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 恒温槽内の温度を所望の温度に正確に制御す
る。 【構成】 恒温槽1内にはデバイス7が上面に搭載され
て、デバイス7に熱を伝達し、デバイス7の温度を制御
する熱伝達用プレート2が設けられている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、半導体部品用ハンドラに関し、特に内部でデバイスの試験が行なわ れる恒温槽の温度制御方式および熱伝達用プレートに関する。
【0002】
【従来の技術】
図6は、半導体部品用ハンドラにおいて用いられる恒温槽内を示す図である。 デバイス投入機構24とデバイス仕切り機構25によりデバイス27がドラム 22上に順次配置されていく。このときドラム22は一定角度回転し、停止する 動作を繰り返す。デバイス27のドラム22上への配置が完了すると、測定部2 3によりデバイス27の各種測定が行なわれる。測定が終了すると、デバイス2 7はデバイス搬出機構26により恒温槽外に搬出される。ここで、デバイス27 の温度制御のために、矢印28で示すように、恒温槽21内に風が流される。
【0003】 図7はヒートプレス方式の熱伝達用プレートの従来例を示す図である。
【0004】 この熱伝達用プレートは下側プレート31と上側プレート32からなり、下側 プレート31はベース33と加熱/冷却体34からなり、上側プレート32も同 様にベース35と加熱/冷却体36からなり、下側プレート31の加熱/冷却体 34の上にデバイス37を載せ上側プレート32をその上に載せてデバイス37 を加熱/冷却するものである。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
上述した従来の恒温槽は、恒温槽内に風を流してデバイスの温度を制御するよ うになっているため、デバイス投入機構、デバイス仕切り機構、デバイス搬送機 構等に風が当って、風の流れに乱れが生じ、デバイスを所望の温度に正確に制御 することが困難であるという欠点があった。
【0006】 また、上述した従来の熱伝達用プレートは、加熱/冷却体に温度分布があるた め、全デバイス間で温度差が生じるという欠点があった。
【0007】 本考案の第1の目的は、恒温槽内の温度を所望の温度に正確に制御することで ある。
【0008】 本考案の第2の目的は、熱伝達用プレートの加熱/冷却体の温度分布を無くす ことである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記第1の目的を達成するために、本考案の恒温槽は、上面にデバイスが搭載 され、該デバイスに熱を伝達する熱伝達用プレートが内部に設けられている。
【0010】 上記の目的を達成するために、本考案の恒温槽温度管理システムは、恒温槽内 の温度を制御する触媒が入れられている触媒タンクと、触媒タンク内の触媒の温 度を設定温度に保つ温度コントローラとからなる。
【0011】 また、上記第2の目的をより達成するために、本考案の熱伝達用プレートは、 デバイス搭載面と加熱/冷却体の間にヒートパイプが設けられている。
【0012】
【作用】
熱伝達用プレートと触媒を用いることで、恒温槽内のデバイスの温度を所望の 温度にほぼ正確に制御できる。また、デバイス搭載面と加熱/冷却体の間にヒー トパイプを設けることで熱伝達用プレートの温度分布を無くすことができる。
【0013】
【実施例】
次に、本考案の実施例について図面を参照して説明する。
【0014】 図1は本考案の第1の実施例を示す図である。
【0015】 恒温槽1内には、ディスク状の熱伝達用プレート2と、この熱伝達用プレート 2に対向する測定部3と、デバイス投入機構4と、デバイス仕切り機構5と、デ バイス搬出機構6が設けられている。ここで、熱伝達用プレート2の温度は恒温 槽1外にある熱源(不図示)により適宜温度が変えられるようになっている。
【0016】 次に、本実施例の動作を説明する。
【0017】 デバイス投入機構4とデバイス仕切り機構5によりデバイス7が熱伝達用プレ ート2上に順次配置されていく。このとき熱伝達用プレート2は一定角度回転し 、停止する動作を繰り返す。デバイス7の熱伝達用プレート2上への配置が完了 すると、直ちに熱伝達用プレート2によりデバイス7の温度制御が行なわれる。 そして熱伝達用プレート2が一定角度毎の回転/停止を繰り返しながら、測定部 3によりデバイス7の各種測定が行なわれる。全てのデバイス7について測定が 完了すると、熱伝達用プレート2の温度を変えてデバイス7の測定が再び行なわ れる。全てのデバイス7について測定が完了すると、デバイス搬出機構6により デバイス7が順次、恒温槽1外に搬送される。
【0018】 このように、本実施例では、熱伝達用プレート2によりデバイス7の温度制御 を直接行なうので、デバイス7の温度制御が従来より正確になる。
【0019】 図2は本考案の第2の実施例を示す図である。
【0020】 本実施例では、熱伝達用プレートが複数の領域に分割され、領域毎に温度を管 理するようになっている。
【0021】 図3は本考案の第3の実施例を示す構成図である。
【0022】 本実施例では恒温槽8に対して恒温槽8内の温度を制御する触媒が入れられて いる触媒タンク9と、触媒タンク9内の触媒を設定温度に保つ温度コントローラ 10とからなる恒温槽温度管理システム11が設けられている。ここで、触媒と してはエタノール等の液体や、各種ガスを用いることができる。
【0023】 このように、触媒を用いることにより、恒温槽8内の温度、つまりデバイスの 温度制御を従来よりも正確に行なうことができる。
【0024】 図4は本考案の第4の実施例を示す図である。
【0025】 本実施例では、恒温槽8に対して、触媒タンク91 と温度コントローラ101 からなる恒温槽温度管理システム111 と、触媒タンク92 と温度コントローラ 102 からなる恒温槽温度管理システム112 と、恒温槽8に投入される触媒を 切換える触媒切換器12が設けられている。
【0026】 次に、本実施例の動作を説明する。まず、触媒切換器12を触媒タンク91 側 に切換え、恒温槽温度管理システム111 の触媒で恒温槽8内の温度制御を行な う。次に、恒温槽8内でデバイスの測定を行なう。この間、恒温槽温度管理シス テム112 の温度コントローラ102 は恒温槽8内を次の温度に設定するために 、触媒タンク92 内の触媒の温度を設定する。測定が終了すると、触媒切換器1 2を触媒タンク92 側に切換え、恒温槽温度管理システム112 の触媒で恒温槽 8内の温度制御を行なう。次に、恒温槽内8でデバイスの測定を行なう。この間 、恒温槽温度管理システム111 の温度コントローラ101 は恒温槽8内を次の 温度に設定するために、触媒タンク91 内の触媒の温度を設定する。以下、同様 の動作が必要なだけ繰り返される。
【0027】 このように、本実施例は、複数の恒温槽温度管理システムを有することにより 、使用温度範囲等の性質の異なる触媒を取り扱うことが可能で、1つの触媒を用 いた場合よりも広範囲な温度設定が可能であり、また、非動作の温度管理システ ムの温度設定を、デバイスの測定中に行なうことで、恒温槽8内の恒温槽温度の 変更時のロスタイムを減らすことができる。
【0028】 図5は本考案の第5の実施例を示す図である。
【0029】 本実施例の熱伝達用プレートでは、ベース13の上に設けられた加熱/冷却部 14と、デバイス16が搭載されたプレート表面の間にヒートパイプ15が設け られている。
【0030】 次に、本実施例の動作を説明する。まず、加熱/冷却体14で熱伝達用プレー トの温度を制御する。ここで、加熱/冷却体14の表面(A部)(ヒートパイプ 15下側)に温度のムラがあるとする。A部の熱は、ヒートパイプ15により直 ちに分散され、プレート表面は常に均一の温度に保たれる。逆に、A部が低温と なった場合、ヒートパイプ15により、周囲の熱が集まり、やはり、プレート表 面は均一の温度に保たれる。なお、ヒートパイプ15はここでは円柱のものを並 べて使用しているが、角度や一体型のヒートパイプの使用も考えられる。また、 本実施例の熱伝達用プレートを第1の実施例の熱伝達用プレート2の代りに恒温 槽1内に設けることもできる。
【0031】
【考案の効果】
以上説明したように本考案は、以下に示すような効果がある。 (1)請求項1と2と6の考案は、熱伝達用プレートを用いることで、デバイス のより正確な温度制御が可能となる。 (2)請求項2の考案は、領域毎に温度管理された熱伝達用プレートを用いるこ とで、デバイスに応じたより正確で、より木目の細かな温度制御が可能となる。 (3)請求項3と4の考案は、触媒を用いることで、恒温槽内のより正確な温度 制御が可能となる。 (4)請求項4の考案は、触媒を複数を用いることで、恒温槽内の温度をより広 範囲に設定でき、かつ恒温槽内の温度を切換える際のロスタイムを減少させるこ とができる。 (5)請求項5の考案は、熱伝達用プレートにヒートパイプを設けることで、プ レート表面の温度をより均一にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1の実施例を示す図である。
【図2】本考案の第2の実施例を示す図である。
【図3】本考案の第3の実施例を示す図である。
【図4】本考案の第4の実施例を示す図である。
【図5】本考案の第5の実施例を示す図である。
【図6】従来の恒温槽の内部を示す図である。
【図7】従来の熱伝達用プレートを示す図である。
【符号の説明】
1 恒温槽 2 熱伝達用プレート 3 測定部 4 デバイス投入機構 5 デバイス仕切り機構 6 デバイス搬送機構 7 デバイス 8 恒温槽 9,91 ,92 触媒タンク 10,101 ,102 温度コントローラ 11,111 ,112 恒温槽温度管理システム 12 触媒切換器 13 ベース 14 加熱/冷却体 15 ヒートパイプ 16 デバイス

Claims (6)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 デバイスが投入され、該デバイスの試験
    が行なわれる恒温槽において、 上面にデバイスが搭載され、該デバイスに熱を伝達し、
    該デバイスの温度を制御する熱伝達用プレートが内部に
    設けられていることを特徴とする恒温槽。
  2. 【請求項2】 デバイス搭載面が複数の領域に分割さ
    れ、前記熱伝達用プレートの温度が領域毎に管理されて
    いる請求項1記載の恒温槽。
  3. 【請求項3】 デバイスが投入されて、該デバイスの試
    験が行なわれる恒温槽において、該恒温槽内の温度を制
    御する触媒が入れられている触媒タンクと、該触媒タン
    ク内の触媒の温度を設定温度に保つ温度コントローラと
    からなる恒温槽温度管理システム。
  4. 【請求項4】 触媒タンクと温度コントローラが触媒の
    温度が異なる複数組設けられ、恒温槽に投入される触媒
    を切換える触媒切換器を有する、請求項4記載の恒温槽
    温度管理システム。
  5. 【請求項5】 ベースと、該ベース上に設けられた加熱
    /冷却体とからなる2個のプレートの一方のプレートの
    加熱/冷却体上にデバイスが搭載され、他方のプレート
    を加熱/冷却体同志が向き合うように一方のプレートに
    近接させてデバイスの温度制御を行なう熱伝達用プレー
    トにおいて、 デバイス搭載面と加熱/冷却体の間にヒートパイプが設
    けられていることを特徴とする熱伝達用プレート。
  6. 【請求項6】 デバイスが投入され、該デバイスの試験
    が行なわれる恒温槽において、デバイス搭載面と加熱/
    冷却体の間にヒートパイプが設けられている熱伝達用プ
    レートを有することを特徴とする恒温槽。
JP10045691U 1991-12-05 1991-12-05 恒温槽、恒温槽温度管理システムおよび熱伝達用プレート Pending JPH0550372U (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6332380A (ja) * 1986-07-26 1988-02-12 Mitsubishi Electric Corp Icデバイス・テスト・ハンドラ−装置
JPS63269543A (ja) * 1987-04-27 1988-11-07 Furukawa Electric Co Ltd:The ヒ−トパイプ式均熱台
JPH02147974A (ja) * 1988-11-30 1990-06-06 Tokyo Electron Ltd 半導体検査装置
JPH03195039A (ja) * 1989-12-25 1991-08-26 Fujitsu Ltd 低温試験装置

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

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Effective date: 19980728