JP3494765B2 - 洗浄処理装置およびその制御方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハなど
の被処理体を洗浄処理するための洗浄処理装置およびそ
の制御方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえばＬＳＩ等の半導体デバイスの製
造工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来
から半導体ウエハ表面のパーティクル、有機汚染物、金
属不純物等のコンタミネーションを除去するために、半
導体ウエハの洗浄処理装置が使用されており、その中で
もとりわけ、ウェット型の洗浄処理装置は、パーティク
ルを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能なため、
広く普及している。

【０００３】この種の洗浄処理装置においては、所定枚
数、たとえば２５枚の半導体ウエハを収納した、キャリ
アと称される収納体が、搬送ロボットにより、処理装置
のローダ部に搬入され、オリフラ合わせを行った後、ウ
ェハ保持部において、収納された半導体ウェハが保持具
により前記キャリアから取り出され、搬送待機状態に置
かれる。そして、搬送待機状態にある半導体ウエハは、
ウエハチャックと称される把持装置を有する搬送装置に
よって、各種の洗浄処理が行われる洗浄処理部へと搬送
され、この洗浄処理部内にて所定の洗浄処理に付され
る。

【０００４】洗浄処理部は、ＳＣ１洗浄、ＳＣ２洗浄、
ＨＦ洗浄、ＳＰＭ洗浄などの各種薬液洗浄を行うための
１または２以上の洗浄ユニットが順次配列されて成り、
それぞれの洗浄ユニットは、薬液洗浄を行う薬液槽と純
水洗浄を行う水洗槽とから構成されている。前記搬送装
置により、ある洗浄ユニットに移送された被処理体は、
まず薬液槽において薬液洗浄された後、その薬液槽の下
流に配された水洗槽に移送される。そして、その水洗槽
において、半導体ウェハの表面に付着した薬液を純水に
より洗い流してから、別種の薬液による洗浄ユニットに
搬送される。このようにして、一連の洗浄処理が終了し
た半導体ウェハは、さらに純水により最終洗浄され、乾
燥処理され、アンローダ部を介して処理装置外に搬出さ
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のような洗浄処理
装置の薬液槽においては、一般に高温でかつ反応性の高
い薬液、たとえばＡＰＭ（アンモニア水と過酸化水素水
混合液）、ＨＰＭ（塩酸と過酸化水素水混合液）、ＨＦ
液、あるいはＳＰＭ（硫酸）などを使用するため、処理
薬液自体の異常、たとえば温度異常や薬液量の異常が生
じた場合、あるいは薬液槽自体に故障が生じた場合、た
とえば薬液循環系の異常や、排気系の異常や、蓋部の開
閉異常などが生じた場合には、処理を行っているロット
が損傷を受ける他、洗浄装置自体が危険な状態になるこ
とがある。したがって、薬液槽におけるトラブルに対し
ては、フェールセーフの思想に則って、洗浄装置自体が
自動的に最悪の事態を回避するように制御されることが
重要であり、そのための装置および制御系の開発が強く
望まれている。

【０００６】ところで、薬液槽では、洗浄処理時にさま
ざなトラブルが発生し得る。たとえば、薬液の温度が低
すぎれば十分な洗浄を行うことができず、薬液の温度が
高すぎれば異物以外の正常部分に損傷を与える可能性が
ある。また薬液槽に十分な薬液が供給されねば十分な洗
浄ができないばかりか、外気に触れたウェハ部分に損傷
を与えるおそれがあり、薬液槽の薬液量が多すぎる場合
には薬液槽自体の構成部品に損傷汚染が生じる可能性が
ある。さらに、洗浄処理装置には蒸発気化した薬液を排
気するための排気手段が設けられているが、かかる排気
系にトラブルが発生した場合には、蒸発気化した薬液の
排気を十分に行うことができず薬液槽の構成部品に損傷
汚染を与える可能性がある。あるいは、薬液循環系に異
常が生じた場合にも、十分な洗浄を行うことができな
い。さらにまた、薬液槽には蓋が設けられており、ウェ
ハの搬入搬出時には開放し、それ以外には閉止すること
により、薬液槽からの薬液の拡散を防止するとともに、
外部から薬液槽への異物の混入を防止している。しかし
ながら、この蓋の開閉機構にトラブルが生じた場合に
は、薬液槽内のウェハを搬出することができなくなり、
薬液槽内のウェハに損傷をきたすおそれがある。以上の
ように、洗浄処理装置の薬液槽においては、さまざまな
トラブルが発生し得るが、従来、これらのトラブルに対
して最適な異常時処理を行うことができる洗浄処理装置
およびその制御方法はなかった。

【０００７】本発明は、従来の洗浄処理装置が立脚する
上記のような技術的課題に鑑みてなされたものであり、
その目的は、薬液槽において生じたトラブルに柔軟に対
応することが可能であり、トラブルが生じた薬液槽にお
いて処理が行われているロットに対する損傷を最小限に
抑えるとともに、その薬液槽にとどまらず洗浄装置全体
にトラブルが及ぶような最悪の事態を自動的に回避する
ことが可能な新規かつ改良された洗浄処理装置およびそ
の制御方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、被処理体が装置内に搬入されるロ
ーダ部と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部
とを備え、被処理体を同種の薬液により洗浄する１また
は２以上の薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処
理体を純水により洗浄する１または２以上の水洗槽とか
ら成る１または２以上の洗浄ユニットが、前記ローダ部
と前記アンローダ部との間に順次配列されるとともに、
前記ローダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前
記各洗浄ユニット間、または前記洗浄ユニットと前記ア
ンローダ部間において前記被処理体を搬送する１または
２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置において、前記
洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出センサ
からの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場
合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異常範
囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二次異
常信号とから成り、前記各搬送装置が、前記二次異常信
号に応じて、処理中の被処理体をその下流の水洗槽に搬
送することが可能な如く構成されていることを特徴とす
る、洗浄処理装置が提供される。また、本発明によれ
ば、被処理体が装置内に搬入されるローダ部を備え、被
処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の薬
液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水に
より洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１また
は２以上の洗浄ユニットが順次配列されるとともに、前
記ローダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前記
各洗浄ユニット間において前記被処理体を搬送する１ま
たは２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置において、
前記洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出セ
ンサからの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にあ
る場合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異
常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二
次異常信号とから成り、前記各搬送装置が、前記二次異
常信号に応じて、処理中の被処理体をその下流の水洗槽
に搬送することが可能な如く構成されていることを特徴
とする、洗浄処理装置が提供される。また、被処理体が
装置外に搬出されるアンローダ部を備え、被処理体を同
種の薬液により洗浄する１または２以上の薬液槽と、そ
の薬液槽の下流に配置され被処理体を純水により洗浄す
る１または２以上の水洗槽とから成る１または２以上の
洗浄ユニットが順次配列されるとともに、前記アンロー
ダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前記各洗浄
ユニット間において前記被処理体を搬送する１または２
以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置において、前記洗
浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出センサか
らの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場合
に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異常範囲
を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二次異常
信号とから成り、前記各搬送装置が、前記二次異常信号
に応じて、処理中の被処理体をその下流の水洗槽に搬送
することが可能な如く構成されていることを特徴とす
る、洗浄処理装置が開示される。

【０００９】

【００１０】また異常時の処理にあたっては、前記異常
検出センサから送られる異常信号が所定時間以上継続し
た場合に、前記搬送装置により、処理中の被処理体をそ
の下流の水洗槽に搬送するように動作することが好まし
い。

【００１１】 また、本発明によれば、被処理体が装置
内に搬入されるローダ部と、被処理体が装置外に搬出さ
れるアンローダ部とを備え、被処理体を同種の薬液によ
り洗浄する１または２以上の薬液槽と、その薬液槽の下
流に配置され被処理体を純水により洗浄する１または２
以上の水洗槽とから成る１または２以上の洗浄ユニット
が、前記ローダ部と前記アンローダ部との間に順次配列
されてなる洗浄処理装置において、前記洗浄装置に異常
検出センサを設け、前記異常検出センサからの信号が、
定常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場合に発生される
一次異常信号と、さらに前記一次異常範囲を逸脱し二次
異常範囲にある場合に発生される二次異常信号とから成
り、前記二次異常信号に応じて、前記薬液槽内の薬液を
廃液し、純水を前記薬液槽内に導入する如く構成されて
いることを特徴とする洗浄処理装置が提供される。ま
た、本発明によれば、被処理体が装置内に搬入されるロ
ーダ部を備え、被処理体を同種の薬液により洗浄する１
または２以上の薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され
被処理体を純水により洗浄する１または２以上の水洗槽
とから成る１または２以上の洗浄ユニットが順次配列さ
れてなる洗浄処理装置において、前記洗浄装置に異常検
出センサを設け、前記異常検出センサからの信号が、定
常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場合に発生される一
次異常信号と、さらに前記一次異常範囲を逸脱し二次異
常範囲にある場合に発生される二次異常信号とから成
り、前記二次異常信号に応じて、前記薬液槽内の薬液を
廃液し、純水を前記薬液槽内に導入する如く構成されて
いることを特徴とする洗浄処理装置が提供される。ま
た、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部を備
え、被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以
上の薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を
純水により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る
１または２以上の洗浄ユニットが順次配列されてなる洗
浄処理装置において、前記洗浄装置に異常検出センサを
設け、前記異常検出センサからの信号が、定常範囲を逸
脱し一次異常範囲にある場合に発生される一次異常信号
と、さらに前記一次異常範囲を逸脱し二次異常範囲にあ
る場合に発生される二次異常信号とから成り、前記二次
異常信号に応じて、前記薬液槽内の薬液を廃液し、純水
を前記薬液槽内に導入する如く構成されていることを特
徴とする洗浄処理装置が開示される。

【００１２】

【００１３】さらにまた、異常時処理にあたっては、前
記異常検出センサから送られる異常信号が所定時間以上
継続した場合に、前記薬液槽内の薬液を廃液し、純水を
前記薬液槽内に導入する如く構成されていることが好ま
しい。

【００１４】なお前記異常検出センサとしては、各薬液
槽における異常を検出するセンサ、例えば温度センサ、
液面センサ、排気系センサ、薬液循環系の異常を検出す
るセンサ、あるいは前記薬液槽の蓋部の開閉異常を検出
するセンサを使用することが可能であり、それらのセン
サにより検出された異常信号を、異常時処理のトリガと
して使用することが好ましい。

【００１５】さらにまた、本発明によれば、前出の洗浄
処理装置において、薬液槽の異常時にその薬液槽内のロ
ットを自動的に払い出すように動作する異常時制御フロ
ー、または薬液槽の異常時にその薬液槽内の薬液を廃液
し、その槽内に自動的に純水を導入するように動作する
異常時制御フローに関する制御方法が提供される。

【００１６】以上のように、本発明によれば、異常検出
センサにより異常が検出された場合に、搬送装置により
異常が発生した薬液槽から被処理体を自動的に取り出
し、その薬液槽の下流にある水洗槽に移動させることが
可能である。このように、異常が発生した薬液槽より被
処理体を安全な水洗槽に自動的に待避させることによ
り、処理中のウェハに対するダメージを最小限に抑える
ことが可能である。そして、さらに必要な場合には、各
洗浄ユニットの水洗槽を順次介して最下流の最終洗浄槽
にまでウェハを自動搬送し、必要に応じて乾燥処理槽に
おいてウェハを乾燥処理後、アンローダ部より装置外に
搬出することが可能である。

【００１７】また、本発明によれば、異常検出センサに
より異常が検出された場合に、異常が発生した薬液槽よ
り薬液を自動的に廃液し、さらに廃液後の薬液槽内に純
水を導入し、循環させることにより、被処理体を安全な
状態に置き、処理中のウェハに対するダメージを最小限
に抑えた上で、その後の対応を行うことが可能である。
そして、この処理は、特に薬液の循環系に異常が生じた
場合、排気系に異常が生じた場合、あるいは薬液槽の蓋
の開閉機構に異常が発生して被処理体を薬液槽外に搬出
不可能になった場合に有効である。

【００１８】そして、本発明によれば、異常検出センサ
により発生される異常信号を、定常範囲を逸脱し一次異
常範囲にある場合に発生される一次異常信号と、さらに
前記一次異常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発
生される二次異常信号とから構成し、たとえば一次異常
信号の場合には警告のみを発し、二次異常信号の場合に
のみ自動的に異常時処理を行うことが可能であり、ある
いはまたその異常信号の継続時間を基準として、異常が
所定時間以上継続した場合にのみ異常時処理を行う構成
とすることも可能であり、これらの構成により、異常の
程度に応じて最適な処理を行うことが可能なシステムを
構築することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら本
発明に基づいて構成された洗浄処理装置およびその制御
方法について詳細に説明する。

【００２０】図１に示すように、洗浄処理装置１全体
は、洗浄処理前の被処理体、たとえば半導体ウェハをキ
ャリア単位で収容するローダ部１００と、ウェハの洗浄
処理が行われる洗浄処理部２００と、洗浄処理後のウェ
ハをキャリア単位で装置外に搬出するためのアンローダ
部３００との、３つのゾーンから構成されている。

【００２１】上記ローダ部１００は、未洗浄のウェハが
所定枚数、たとえば２５枚収容されたキャリアＣを搬
入、載置させる載置部１１０と、載置されたキャリアＣ
を、図２に拡大して示す保持部１３３、１３５に移送す
る移送装置１２０と、キャリアＣからウェハを取り出し
てウェハ搬送装置１４０に受け渡しを行う中継部１３０
とから主に構成されている。この載置部１１０は、図２
に示すように、中空の載置台１１１を備え、その上面に
は、上記キャリアＣの下部が挿通可能な開口を有する複
数のステーション１１２ａ、１１２ｂ、…、１１２ｎが
２列に整列されて設けられている。なお、各ステーショ
ン１１２の各角隅部近傍には、前記キャリアＣの上縁角
部を係止可能な係止部１１３がそれぞれ設けられてい
る。

【００２２】また上記ローダ部１００は、移動機構１１
５を備えており、この移動機構１１５は図示しない駆動
機構により、上下水平方向に自在に駆動可能であり、ク
ランプ部材１１６により把持された上記キャリアＣを所
望のステーション１１２ａ、１１２ｂ、…、１１２ｎに
まで移動させることが可能である。またこの移動機構１
１５は、上記キャリアＣに収納されたウェハＷのオリフ
ラを整列するための整列装置１１７を備えており、キャ
リアＣの移動時に収納されたウェハＷのオリフラ合わせ
を行うことができる。

【００２３】さらに、図２に示すが如く、上記ローダ部
１００の後方には上記移送装置１２０が設けられてい
る。この移送装置１２０は、接近離隔自在に構成された
一対のアーム１２１ａ、１２１ｂと、これらのアーム１
２１ａ、１２１ｂを水平に指示するリフタ１２２と、上
記リフタを上下方向（Ｚ方向）に移動させるためのＺベ
ース１２３と、上記Ｚベース１２３自体を上記洗浄処理
装置の長手方向（Ｘ方向）に移動させるためのＸベース
１２４とから構成されており、上記アーム１２１ａ、１
２１ｂ上に上記キャリアＣの上部両側縁部を載置させた
まま、このキャリアＣの外側面を上記アーム１２１ａ、
１２１ｂで挟持して、これを図１に示す前記中継部１３
０まで移送させることが可能なように構成されている。

【００２４】上記中継部１３０は、図２に示すように、
支柱１３１を介して天板１３２上に固定された保持部１
３３、および天板１３２に対してそのＹ方向に移動自在
な移動柱１３４によって支持された保持部１３５を、そ
れぞれＹ方向に連ねて有している。これら各保持部１３
３、１３５は、上記キャリアＣの底面開口部を通過自在
な形態を有し、さらに各保持部１３３、１３５の上面に
は、それぞれウエハＷの周縁の一部が挿入されて略垂直
に立設されるように円弧形状の保持溝１３６がそれぞれ
所定数、たとえば、上記キャリアＣのウェハ収納枚数に
対応する２５本ずつ形成されている。そして上記支持柱
１３１、および移動柱１３４の各基部の近傍における上
記天板１３２上には、上記キャリアＣの下端部各角部が
係止される係止部材１３７が各々４カ所に設けられてい
る。

【００２５】そして、これら保持部１３３、１３５に保
持されるウエハＷを一括して把持し、これを上記洗浄処
理部２００へと搬送するためのウエハ搬送装置１４０
は、図３に示したように構成されている。すなわち、こ
のウエハ搬送装置１４０は、たとえば５０枚のウエハを
一括して把持する左右一対の把持部材１４１ａ、１４１
ｂによって構成されたウエハチャック１４２と、このウ
エハチャック１４２を支持する支持体１４３と、この支
持体１４３を上下方向（Ｚ方向）に昇降させると共に、
前後方向（Ｙ方向）にも移動させる駆動機構１４４と、
この駆動機構１４４を洗浄処理部２００の長手方向（Ｘ
方向）に沿って移動させるための搬送ベース１４５（図
２参照）とによって構成されている。

【００２６】上記ウエハチャック１４２おける各把持部
材１４１ａ、１４１ｂは左右対称形であり、それぞれ、
その回動軸１４６ａ、１４６ｂが上記支持体１４３に回
動自在に支持され、開脚、閉脚自在に構成されている。
さらに、上記回動軸１４６ａ、１４６ｂにはアルミ製の
把持部材１４１ａ、１４１ｂの各上端部が固着され、ま
たこれら各把持部材１４１ａ、１４１ｂの下端部間に
は、上下２段に石英製の把持棒１４７ａ、１４７ｂ、１
４８ａ、１４８ｂが平行に渡されている。上記各把持棒
１４７ａ、１４７ｂ、１４８ａ、１４８ｂの表面には、
ウエハＷの周縁部が挿入される把持溝１４９がたとえば
５０本形成されている。そして、各把持部材１４１ａ、
１４１ｂは、回転軸１４６ａ、１４６ｂを回転させるこ
とにより、その把持棒１４７ａ、１４７ｂ、１４８ａ、
１４８ｂにてウェハＷを把持し、上下方向（Ｚ方向）お
よび長手方向（Ｘ方向）の所望の位置に移載することが
可能なように構成されている。

【００２７】そして、これらの搬送装置１４０は、後述
する各洗浄ユニット２０１ａ、２０１ｂ、…、２０１ｎ
間でウェハの搬送を行うために設置されており、搬送ベ
ース１４５を移動させることにより、所定枚数のウェハ
から成るロットを、たとえばウェハ搬送装置１４０ａに
よりローダ部１００と上記洗浄処理部２００の一次洗浄
ユニット２０１ａ間、および一次洗浄ユニット２０１ａ
と二次洗浄ユニット２０１ｂ間、あるいはウェハ搬送装
置１０４ｂにより一次洗浄ユニットと二次洗浄ユニット
間、あるいはウェハ搬送装置１４０ｎにより、（ｎ−
１）次洗浄ユニット２０１ｎとｎ次洗浄槽１４０ｎ間、
およびｎ次洗浄ユニット２０１ｎとアンローダ部３００
間においてウェハをロット単位で移送することが可能で
ある。そして、後述する二次水洗槽（インタフェース
槽）２０４を介して、隣接する洗浄ユニット１４０間に
おいてウェハの受け渡しをするとともに、所定の薬液槽
２０２または水洗槽２０４、２０５に設けられている後
述のウェハ保持具２１２（図４参照）にウェハを移載す
ることが可能なように構成されている。

【００２８】次に洗浄処理部２００について説明する
と、洗浄処理部２００は、図１に示されるように、一次
洗浄ユニットからｎ次洗浄ユニットまで複数の洗浄ユニ
ット２０１ａ、２０１ｂ、…、２０１ｎが順次配列され
て構成されている。各洗浄ユニット２０１は、たとえば
薬液槽２０２、一次水洗槽２０３、二次水洗槽２０４か
ら構成され、薬液槽２０２において薬液洗浄後、一次水
洗槽２０３および二次水洗槽２０４において純水により
ウェハＷに付着した薬液を洗浄した後、前出のウェハ搬
送装置１４０によりさらに下流の洗浄ユニットに移載す
ることが可能なように構成されている。さらに、前記洗
浄処理部２００の最下流には、純水による最終洗浄を行
う最終水洗槽２０５および洗浄処理が終了したウェハ
を、たとえばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で上
記乾燥させるための乾燥処理槽２０６が順次配列され
て、一連の洗浄処理を行うことができるように構成され
ている。

【００２９】各洗浄ユニットでは、ウェハ表面に付着し
た汚染の種類、たとえば有機物不純物、金属不純物など
に応じて、所定の薬液が導入され、薬液洗浄処理が施さ
れる。たとえば、有機物汚染に対しては、アンモニア水
と過酸化水素水の混合液により、いわゆるＳＣ１洗浄を
行うことが可能である。またＨＦ液により、いわゆるＨ
Ｆ洗浄により自然酸化膜および金属不純物を除去するこ
とが可能である。さらに塩酸と過酸化水素水の混合液に
より、いわゆるＳＣ２洗浄を行うことにより、ベアなシ
リコンに付着した金属不純物を除去しながら、クリーン
な自然酸化膜を成長させることが可能である。そして、
過酸化水素をベースにした典型的な洗浄法、いわゆるＲ
ＣＡ洗浄法に関して言えば、ＳＣ１洗浄→ＨＦ洗浄→Ｓ
Ｃ２洗浄を順次対応する洗浄ユニットにより行うことに
より、ウェハの洗浄を行うことが可能である。

【００３０】次に、図４および図５を参照しながら、本
発明に基づいて構成された洗浄処理装置に採用可能な典
型的な処理槽の構造について、ＳＣ１洗浄槽２１０を例
に挙げて説明する。なお、他の種類の薬液槽および水洗
槽の基本的構造は、ここで説明するＳＣ１洗浄槽のもの
と変わらないため詳細な説明は省略する。

【００３１】図示のように、処理槽２１０は、高温に加
熱されたアンモニア水と過酸化水素水の混合液から成る
ＳＣ１洗浄用薬液を収容する箱形の処理槽２１１と、こ
の処理槽２１１内に配設されてウェハＷをたとえば５０
枚垂直に保持するウェハ保持具２１２とを備えている。
さらに、処理槽２１１の底部２１３には洗浄用薬液の供
給口２１４が開口しており、この供給口２１４より槽内
に導入された洗浄液は、上記保持具２１２と上記底部２
１３との間に介装された整流手段２２０を介して、乱流
を生じることなく均等にウェハＷの周囲に供給される。

【００３２】すなわち、この整流手段２２０は、処理槽
２１１を上下に区画するように水平に配設される整流板
２２１と、供給口２１４の上方に配置される拡散板２２
２とから構成されている。この整流板２２１には多数の
小孔２２３が穿設されており、供給口２１４より導入さ
れた薬液は、まず拡散板２２２の裏面に衝突し、その拡
散板２２２の周縁部より整流板２２１の裏面全体に拡散
され、その後整流板２２１の小孔２２３を通過して、上
記ウェハ保持具２１２により保持されたウェハＷの周囲
に供給されるので、乱流を生じることなく均等な流速で
ウェハＷを包み込み、ウェハＷ全体をむら無く均等に洗
浄することが可能なように構成されている。

【００３３】また、上記処理槽２１０は、ウェハ保持具
２１２が収納されてウェハＷを処理液中に浸漬すること
が可能な内槽２１５と、この内槽２１５の上端からオー
バーフローする処理液を受けとめる外槽２１６とから構
成されており、上記内槽２１５の底部２１３に設けられ
た供給口２１４と外槽２１６の底部に設けられた排出口
２１７との間には、薬液循環経路２１８が接続される。
そして、この薬液循環経路２１８に、循環ポンプＰとフ
ィルタＦとが介装されて、上記外槽２１６よりオーバー
フローした薬液を清浄化して再び上記内槽２１５に循環
供給することができるように構成されている。

【００３４】そして、上記処理槽２１０の上記内槽２１
５の上方には、図５および図６に示すように、排気口２
３０が設けられており、上記処理槽２１０内において蒸
発気化した薬液を真空ポンプなどの排気手段２３１など
により適宜排気することが可能なように構成されてい
る。

【００３５】さらにまた、上記処理槽２１０の上方開口
部には開閉式の蓋２４０が挿着されており、この蓋２４
０を閉鎖することにより、処理中に処理液の気化拡散を
防止するとともに、外部から上記処理槽２１０内に汚染
物質やごみが混入することを防止することが可能であ
る。この蓋２４０は、図５および図６に示すように、処
理槽２１０の側壁に枢着される２本の回転軸２４１に対
して突設される開閉アーム２４２に固定される固定され
る一対の蓋体２４３とから構成されており、図示しない
エアシリンダにより上記回転軸２４１を所定の時間遅れ
を持って回転させることにより、一対の蓋体２４３を開
閉動作させることができる。

【００３６】そして、上記処理槽２１０内には各種の異
常検出センサ、たとえば薬液の温度の変化を監視する温
度センサ２５１、薬液の液面の変化を監視する液面セン
サ２５２、薬液槽２１０の蓋体２４３の開閉動作を監視
する蓋部センサ２５３、薬液の循環系の異常を監視する
循環系センサ２５４、さらに排気系の異常を監視するマ
ノメータなどの排気センサ２５５などが設けられてお
り、それらのセンサによる検出信号を電気的に制御器２
６０に適宜送ることにより、後述する異常時処理モード
で洗浄処理装置を駆動することが可能である。なお、こ
れらのセンサについては市販のまたは公知の各種センサ
を使用することが可能であるが、本発明はセンサ自体を
対象とするものではないので、その詳細説明は省略す
る。また、図示の例では、薬液槽に排気系を示した構成
を示したが、本発明はかかる実施例に限定されず、薬液
槽の槽外において洗浄処理装置全体の排気を行う排気系
を設ける構成に対しても適用することが可能であること
は言うまでもない。

【００３７】以上のように図１に示す洗浄処理部２００
は構成されており、さらにこの洗浄処理部２００の下流
には、洗浄処理が終了しキャリアＣに戻されたウェハＷ
が装置外に搬出されるアンローダ部３００が設けられて
いるが、このアンローダ部３００の基本的構成はローダ
部１００と同様であり、ローダ部１００において行われ
た工程を逆にフローさせることにより、処理済ウェハＷ
を装置外に搬出される。したがって、ここでは詳細な説
明は省略する。

【００３８】本実施例が適用された洗浄処理装置１は、
上記のように構成されており、次にその通常動作につい
て説明する。 （１）通常処理運転 未処理のウェハＷを２５枚ずつ収納したキャリアＣ１、
Ｃ２を搬送ロボットに（図示せず）によって、図１に示
すローダ部１００の載置部１１０の図２に示すステーシ
ョン１１２のロード用位置に載置する。

【００３９】そして移動機構１１５によりキャリアＣ
１、Ｃ２を順次クランプし、オリフラ合わせしながら、
ステーション１１２の移載用位置にまで順次移動させ
る。そして、その移載用位置において前記移送装置１２
０のアーム１２１ａ、１２１ｂによりキャリアＣ１、Ｃ
２を同時に挟持した状態でＺベース１２３をＸ方向に中
継部１３０まで移動させ、中継部１３０の保持部１３
３、１３５をＺ方向上方に移動させ、キャリアＣ１、Ｃ
２内のウェハＷを保持部１３３、１３５上に移載する。
その後、移載されたウェハＷを整列装置１１６を備えた
オリフラ合わせ部で整列し、所定枚数、例えば５０枚の
ウェハＷ列を１ロットとして、後続の洗浄処理を待機す
る。

【００４０】続いて、図１に示す一次ウェハ搬送装置１
４０ａが、上記中継部１３０に移動して、図３に示すウ
ェハチャック１４２により整列されたウェハＷをロット
単位で把持して、これらを一次洗浄ユニット２０１ａの
ＳＣ１洗浄槽２０２ａに搬送し、図４に示す処理槽２１
０内の処理液中に予め設けられた保持部２１２にロット
単位で移載する。その後、処理槽２１０内に所定の薬液
を導入し、ウェハＷに対して所定のＳＣ１洗浄を行った
後、再びウェハＷを上記ウェハチャック１４２により取
り出して、一次水洗槽２０３ａに搬送し、そこで、この
洗浄槽２０３内に設けられている保持部２１２に移載
し、純水による一次洗浄を行う。その後、同様の方法に
より、純水洗浄後のウェハＷを二次水洗槽２０４ａ（図
１）に送り、純水による二次洗浄を行い、ウェハＷに付
着した薬液をより完全に洗浄する。なお、この二次水洗
槽２０４ａは、インタフェース槽とも称されるものであ
り、別種の薬液による洗浄が行われる隣接する洗浄ユニ
ットの間にあって、両薬液の混合を防止するためのバッ
ファとしての機能を有するものであり、図示の実施例に
即して言えば、薬液槽２０１ａにおいてＳＣ１洗浄が行
われたウェハＷは、一次水洗後、インタフェース槽とし
て設けた二次水洗槽２０４ａにおいて、必要に応じて後
続工程の二次洗浄ユニット２０１ｂにおけるＨＦ洗浄を
待機する。

【００４１】そして、二次洗浄ユニット２０１ｂ部を受
け持つ二次ウェハ搬送装置１４０ｂにより、一次洗浄ユ
ニット２０１ａの二次水洗槽２０４ａからウェハＷを取
り出して、ＨＦ洗浄用の二次洗浄ユニット２０１ｂのＨ
Ｆ薬液槽２０２ｂに搬送する。所定の薬液処理後に、一
次水洗槽２０３ｂにおいて一次洗浄を行い、さらに第２
のインタフェース槽として設けた二次水洗槽２０４ｂに
おいて、後続工程の洗浄処理の空きを待機する。以下、
同様の工程を反復して、ＳＣ２洗浄その他の必要な洗浄
処理を行う。次に、ウェハＷは、ｎ次ウェハ搬送装置１
４０ｎにより最終水洗槽２０５に送られ、そこで純水に
よる最終水洗処理を行った後、乾燥処理槽２０６に送ら
れ、例えば、ＩＰＡによる蒸気乾燥処理を行う。乾燥後
のウェハは、アンローダ部３００を介して装置外に搬出
される。

【００４２】以上が本発明を適用可能な洗浄処理装置１
の通常処理運転モードでの一連の処理フローであるが、
本発明によれば、上記洗浄処理装置の薬液槽に異常が生
じた場合には、自動的に以下のような異常時処理モード
で装置が運転される。

【００４３】（２）異常検出動作 ２−１ 温度異常時 上記温度センサ２５１において異常値が検出された場合
には、図７に示すような、処理フローが実行される。な
お本発明によれば、異常値を２段階設定とし、最適な異
常時処理を行うことができる。たとえば、ＳＣ１洗浄を
行っている場合には、定常温度範囲を６０℃以上と設定
した場合、一次異常温度範囲を定常温度範囲を±３℃逸
脱した範囲、すなわち５７℃以上または６３℃以下と設
定し、さらに二次異常温度範囲をその一次異常温度範囲
を±５℃逸脱した範囲、すなわち５５℃以下または６５
℃以上として設定することが可能である。同様により高
温での処理が行われるＳＰＭ洗浄の場合には、定常温度
範囲を１２０℃と設定した場合、一次異常温度範囲を定
常温度範囲を±１０℃逸脱した範囲と設定し、さらに二
次異常温度範囲をその一次異常温度範囲を±１５℃逸脱
した範囲として設定することが可能である。なお、これ
らの定常温度範囲、一次異常温度範囲、二次異常温度範
囲については、薬液の種類に応じて最適に設定すること
が可能である。

【００４４】以下、図７に沿って、ＳＣ１洗浄時に温度
異常が発生した場合を例に挙げて説明すると、洗浄処理
時（Ｓ７１）には、常時温度センサ２５１により薬液の
温度が定常温度範囲（例えば６０℃以上）にあるかどう
かが監視されており（Ｓ７２）、Ｓ７３において、薬液
の温度が定常温度範囲を逸脱し、一次異常温度範囲（５
７℃以上または６３℃以下）、たとえば６４℃にまで温
度上昇したと判断された場合には、パイロットランプの
点灯などにより警告（Ｓ７４）がオペレータに発せられ
る。薬液の温度がさらに上昇し、Ｓ７５において、二次
異常温度範囲（５５℃以下または６５℃以上）にあると
判断された場合には、図１３および図１４において後述
する異常時処理（Ｓ７６）が実行される。

【００４５】２−２ 液面異常時 また薬液槽２１０には、液面センサ２５２が設けられて
おり、図８に示すように、洗浄処理時（Ｓ８１）に、薬
液槽に供給され、循環する薬液の量が適切であるかどう
かを監視している。そして、Ｓ８２において、液面セン
サにより薬液が定常値を逸脱したと判断された場合に
は、さらにＳ８３において、液面がウェハを浸漬するに
十分な量であるかどうか判断され、一応洗浄に十分な量
が確保されていると判断された場合には、Ｓ８４におい
て警告を発するだけであるが、Ｓ８５において、液面が
洗浄を継続するに不十分なまで下がったと判断された場
合には、図１３および図１４において後述するような異
常時処理（Ｓ８６）が実行される。

【００４６】２−３ 排気系異常時 また薬液槽２１０の排気系にはマノメータなどの排気セ
ンサ２５５が設けられており、排気が正常に行われない
などの排気異常を検出することが可能である。すなわ
ち、図９に示すように、洗浄処理時（Ｓ９１）に、マノ
メータにより排気が十分に行われているかどうかが判断
され（Ｓ９２）、排気異常が検出された場合には、Ｓ９
３において警告を発する。そして、Ｓ９４において排気
異常がどの程度の時間継続したかどうかが判断され、排
気異常が所定時間以上継続した場合には、十分な排気が
行われず、処理槽の構成部品を汚染損傷するおそれがあ
るので、図１３および図１４において後述する異常時処
理（Ｓ９５）が実行される。

【００４７】２−４ 循環系異常時 上述のように薬液槽２１０に供給される薬液は循環ポン
プＰが介装された循環系１８により常時、フィルタＦに
より清浄されながら循環している。しかし、循環ポンプ
Ｐなどの故障により、循環系異常検出センサ２５４によ
り、薬液循環系の異常が検出された場合には、図１０に
示すフローに従った処理が実行される。すなわち、洗浄
処理時（Ｓ１０１）に、循環系が正常に作動しているか
どうかが監視され（Ｓ１０２）、循環ポンプＰの停止な
どによる循環系の異常が検出された場合には、Ｓ１０３
においてアラームを発する。そして、この場合には、十
分な薬液が供給されず、満足の行く洗浄処理が行えない
おそれがあるため、図１３および図１４において後述す
る異常時処理（Ｓ１０４）が実行される。

【００４８】２−５ 蓋開閉機構の異常時 さらに本発明によれば、処理槽の蓋の開閉機構の異常を
検出するためのセンサ２５３が設けられており、その動
作が異常かどうかが、図１１および図１２に示す処理フ
ローに従って判断される。すなわち、図１１に示すよう
に、所定の洗浄処理（Ｓ１１１）が終了したと判断され
た場合には（Ｓ１１２）、通常であれば、蓋が開口さ
れ、Ｓ１１４においてウェハ搬送装置により処理槽内の
ウェハを搬出する動作が行われる。しかしながら、Ｓ１
１３において、薬液槽の蓋の開閉機構の異常が検出され
た場合には、処理済みのロットを搬出することができな
いので、Ｓ１１５において、図１３および図１４におい
て後述する廃液および純水供給処理が異常時処理として
実行され、ウェハの保全が図られる。また、図１２に示
すように、Ｓ１２１においてウェハが処理槽内に搬入さ
れたことが確認された後、Ｓ１２２において処理槽の蓋
が閉口できるかどうかが判断され、閉口できる場合に
は、Ｓ１２３に進み、通常の洗浄処理が行われるが、閉
口できない場合には、Ｓ１２４に進み、図１３および図
１４において後述する異常時処理が実行され、ウェハの
保全が図られる。

【００４９】（３）異常時処理 上記のように、薬液槽に設けられた各種センサにより薬
液槽の異常が検出された場合には、本発明によれば、図
１２に示すような自動払い出し運転、または図１３に示
すような薬液／純水入れ換え運転を実施することが可能
である。

【００５０】３−１ 自動払い出し運転 図１３には、自動払い出し運転の処理フローが概略的に
示されている。図７〜図１２に示すような薬液槽の異常
が検出された場合に、自動払い出し運転を行うように異
常時処理システムが設定されている場合には、自動的
に、Ｓ１３１に進み、ウェハ搬送装置１４０により処理
槽２１０内のウェハＷが搬出されて、トラブルが生じて
いる処理槽２０２から、その下流にある一次水洗槽２０
３または二次水洗槽２０４に移載されて、処理中のロッ
トの救済が図られる。そして、Ｓ１３２において、搬出
されたロットに損傷が生じておらず、異常ロットとして
装置外に払い出す必要がないとオペレータが判断した場
合には、Ｓ１３３に進み、処理が継続される。しかしな
がら、Ｓ１３２において、搬出されたロットを異常ロッ
トとして装置外に払い出した方が良いとオペレータが判
断した場合には、Ｓ１３４において、そのロットは、イ
ンタフェース槽２０４を順次介して、最終水洗槽２０５
にまで搬送され、さらに、乾燥処理を行うかどうかをオ
ペレータが判断し（Ｓ１３５）、乾燥処理が不要の場合
にはそのまま、乾燥処理が必要がある場合には、乾燥処
理を行った後（Ｓ１３６）に、アンローダ部３００から
装置外に搬出される。

【００５１】このように、本発明によれば、自動払い出
しモードに装置を設定することにより、薬液槽において
トラブルが発生した場合に、処理中のロットを自動的に
下流の水洗槽に搬出することができるので、トラブルに
よりウェハが被る被害を最小限に抑えることが可能であ
る。

【００５２】３−２ 自動薬液／純水交換運転 さらに本発明によれば、薬液槽にてトラブル発生時に、
自動薬液／純水交換運転モードに移行するように設定す
ることが可能である。このモードでは、図１４に示すよ
うに、薬液槽で異常が検出された場合に、Ｓ１４１に進
み、自動的に薬液槽内の薬液を廃液した後、Ｓ１４２に
おいて、純水を導入し、処理中のウェハを保護する。そ
して必要な場合には、図１３に示すフローに従って、Ｓ
１４３において、ロットの払い出しが行われる。

【００５３】このように、本発明によれば、たとえば、
処理槽の蓋の開閉機構にトラブルが生じ、処理が終了し
たロットを搬出することができないような場合、あるい
は上記自動払い出し機能では間に合わないような緊急事
態が生じたような場合に、自動薬液／純水交換モードに
移行し、処理中のウェハの救済を図ることが可能であ
る。

【００５４】以上、本発明の好適な実施例について図１
〜図１３を参照しながら説明したが、本発明はかかる実
施例に限定されるものではない。たとえば、上述のトラ
ブルの他にも、薬液槽からの漏水、Ｎ₂異常、薬液濃度
異常など、薬液槽に生じ得るあらゆるトラブルに対して
も本発明は適用可能である。

【００５５】さらに、本明細書においては、異常信号
を、一次異常範囲にある一次異常信号と二次異常範囲に
ある二次異常信号に分類したが、これは異常信号を、異
常時処理が自動実行される信号と、それ以外の信号の２
つに分類する意味であって、決して２種類の信号のみに
よって制御を行うものと限定的に解釈しては成らない。
当業者であれば、本発明の技術的思想の範疇において、
さまざまな形態の信号により制御を行うことに想到し得
るはずであり、それらのさまざな形態の信号による制御
についても本発明の範囲に当然属するものと解される。

【００５６】さらにまた、異常時処理に関しても、上記
実施例では、自動払い出し運転と、自動薬液／純水交換
運転とを個別に説明したが、当然に、自動払い出し機能
と自動薬液／純水交換運転とを選択的、あるいは、自動
払い出し運転を優先し、それが不可能な場合に自動薬液
／純水交換運転に移行するように、あるいは自動薬液／
純水交換運転を優先し、薬液／純水交換後に自動払い出
し運転を行うように構成することも可能である。

【００５７】また上記実施例においては、１台の薬液槽
と２台の水洗槽から成る洗浄ユニットを組み合わせた洗
浄処理装置について説明したが、本発明はかかる例に限
定されず、たとえば同種の薬液による処理を行う複数の
薬液槽を含む洗浄ユニット、あるいは１台の水洗槽のみ
を含む洗浄ユニットなど、各種処理槽を組み合わせた洗
浄装置に対して適用することが可能である。

【００５８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
洗浄処理装置の薬液槽でトラブルが発生した場合、たと
えば温度異常、薬液水面異常、排気系異常、循環系異
常、蓋の開閉機構異常、漏水などが生じた場合に、自動
払い出し運転および／または自動薬液／純水交換運転を
行うことにより、処理中のロットに及ぶ被害を最小限に
抑えることが可能である。

【００５９】まず、本発明の第１の観点によれば、異常
検出センサにより異常が検出された場合に、搬送装置に
より異常が発生した薬液槽より被処理体を自動的に取り
出し、その薬液槽の下流にある水洗槽に移動させること
が可能である。このように、異常が発生した薬液槽より
被処理体を安全な水洗槽に自動的に待避させることによ
り、処理中のウェハに対するダメージを最小限に抑える
ことが可能である。そして、さらに必要な場合には、各
洗浄ユニットの水洗槽を順次介して最下流の最終洗浄槽
にまでウェハを自動搬送し、必要に応じて乾燥処理槽に
おいてウェハを乾燥処理後、アンローダ部より装置外に
搬出することが可能である。

【００６０】さらにまた、本発明の第２の観点によれ
ば、異常検出センサにより異常が検出された場合に、異
常が発生した薬液槽より薬液を自動的に廃液し、さらに
廃液後の薬液槽内に純水を導入し、循環させることによ
り、被処理体を安全な状態に置き、処理中のウェハに対
するダメージを最小限に抑えた上で、その後の対応を行
うことが可能である。そして、この処理は、特に薬液の
循環系に異常が生じた場合、排気系に異常が生じた場
合、あるいは薬液槽の蓋の開閉機構に異常が発生して被
処理体を薬液槽外に搬出不可能になった場合に有効であ
る。

【００６１】そして、本発明によれば、異常検出センサ
により発生される異常信号を、定常範囲を逸脱し一次異
常範囲にある場合に発生される一次異常信号と、さらに
前記一次異常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発
生される二次異常信号とから構成し、たとえば一次異常
信号の場合には警告のみを発し、二次異常信号の場合に
のみ自動的に異常時処理を行うことが可能であり、ある
いはまたその異常信号の継続時間を基準として、異常が
所定時間以上継続した場合にのみ異常時処理を行う構成
とすることも可能であり、これらの構成により、異常の
程度に応じて最適な処理を行うことが可能なシステムを
構築することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に基づいて構成された洗浄処理装置の一
実施例を示す概略的な斜視図である。

【図２】図１に示す洗浄処理装置のローダ部の一例を拡
大して示す斜視図である。

【図３】図１に示す洗浄処理装置のウェハ搬送装置の一
例を拡大して示す斜視図である。

【図４】図１に示す洗浄処理装置の洗浄処理槽の一例を
一部を断裁した状態を概略的に示す斜視図である。

【図５】図４に示す洗浄処理槽の様子を示す概略的な断
面図である。

【図６】図４に示す洗浄処理槽の蓋を閉じた状態を概略
的に示す斜視図である。

【図７】温度異常が発生した場合の処理フローを示す流
れ図である。

【図８】液面異常が発生した場合の処理フローを示す流
れ図である。

【図９】排気系異常が発生した場合の処理フローを示す
流れ図である。

【図１０】循環系異常が発生した場合の処理フローを示
す流れ図である。

【図１１】薬液槽の蓋の開閉機構に異常が発生した場合
の処理フローを示す流れ図である。

【図１２】薬液槽の蓋の開閉機構に異常が発生した場合
の処理フローを示す流れ図である。

【図１３】自動払い出し運転を処理フローを示す流れ図
である。

【図１４】自動薬液／純水交換運転の処理フローを示す
流れ図である。

【符号の説明】

１ 洗浄処理装置 １００ ローダ部 １１０ 載置部 １３０ 中継部 １４０ ウェハ搬送装置 ２００ 洗浄処理部 ２０１ 洗浄ユニット ２０２ 薬液槽 ２０３ 一次水洗槽 ２０４ 二次水洗槽（インタフェース槽） ２３１ 制御器 ２５１ 温度センサ ２５２ 液面センサ ２５３ 蓋部開閉機構の異常検出センサ ２５４ 循環系センサ ２５５ 排気系センサ ３００ アンローダ部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B08B 3/04 H01L 21/304 648

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが、前記ローダ部と前記アン
   ローダ部との間に順次配列されるとともに、 前記ローダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前
   記各洗浄ユニット間、または前記洗浄ユニットと前記ア
   ンローダ部間において前記被処理体を搬送する１または
   ２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置において、 前記洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出セ
   ンサからの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にあ
   る場合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異
   常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二
   次異常信号とから成り、前記各搬送装置が、前記二次異
   常信号に応じて、処理中の被処理体をその下流の水洗槽
   に搬送することが可能な如く構成されていることを特徴
   とする、洗浄処理装置。
2. 【請求項２】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   を備え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが順次配列されるとともに、 前記ローダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前
   記各洗浄ユニット間において前記被処理体を搬送する１
   または２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置におい
   て、 前記洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出セ
   ンサからの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にあ
   る場合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異
   常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二
   次異常信号とから成り、前記各搬送装置が、前記二次異
   常信号に応じて、処理中の被処理体をその下流の水洗槽
   に搬送することが可能な如く構成されていることを特徴
   とする、洗浄処理装置。
3. 【請求項３】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが、前記ローダ部と前記アン
   ローダ部との間に順次配列されてなる洗浄処理装置にお
   いて、 前記洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出セ
   ンサからの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にあ
   る場合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異
   常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二
   次異常信号とから成り、前記二次異常信号に応じて、前
   記薬液槽内の薬液を廃液し、純水を前記薬液槽内に導入
   する如く構成されていることを特徴とする、洗浄処理装
   置。
4. 【請求項４】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   を備え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが順次配列されてなる洗浄処
   理装置において、 前記洗浄装置に異常検出センサを設け、前記異常検出セ
   ンサからの信号が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にあ
   る場合に発生される一次異常信号と、さらに前記一次異
   常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合に発生される二
   次異常信号とから成り、前記二次異常信号に応じて、前
   記薬液槽内の薬液を廃液し、純水を前記薬液槽内に導入
   する如く構成されていることを特徴とする、洗浄処理装
   置。
5. 【請求項５】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以 上の洗浄ユニットが、前記ローダ部と前記アン
   ローダ部との間に順次配列されるとともに、 前記ローダ部と前記洗浄ユニット間、または隣接する前
   記各洗浄ユニット間、または前記洗浄ユニットと前記ア
   ンローダ部間において前記被処理体を搬送する１または
   ２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置の制御方法であ
   って、 前記洗浄装置に設置された異常検出センサからの信号
   が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場合に発生さ
   れる一次異常信号と、さらに前記一次異常範囲を逸脱し
   二次異常範囲にある場合に発生される二次異常信号とか
   ら成り、前記各搬送装置が、前記二次異常信号に応じ
   て、洗浄処理を停止し、処理中の被処理体をその下流の
   水洗槽に搬入することが可能な如く構成されていること
   を特徴とする、洗浄処理装置の制御方法。
6. 【請求項６】 被処理体が装置外に搬出されるアンロー
   ダ部を備え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが順次配列されるとともに、 隣接する前記各洗浄ユニット間、または前記洗浄ユニッ
   トと前記アンローダ部間において前記被処理体を搬送す
   る１または２以上の搬送装置を備えた洗浄処理装置の制
   御方法であって、 前記洗浄装置に設置された異常検出センサからの信号
   が、定常範囲を逸脱し一次異常範囲にある場合に発生さ
   れる一次異常信号と、さらに前記一次異常範囲を逸脱し
   二次異常範囲にある場合に発生される二次異常信号とか
   ら成り、前記各搬送装置が、前記二次異常信号に応じ
   て、洗浄処理を停止し、処理中の被処理体をその下流の
   水洗槽に搬入することが可能な如く構成されていること
   を特徴とする、洗浄処理装置の制御方法。
7. 【請求項７】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備
   え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが、前記ローダ部と前記アン
   ローダ部との間に順次配列されてなる洗浄処理装置の制
   御方法であって、 前記洗浄処理装置に設けられた異常検出センサからの信
   号に応じて、前記薬液槽内の薬液を廃液する工程と、 純水を廃液された前記薬液槽内に導入する工程とから成
   り、 前記異常検出センサからの信号が、定常範囲を逸脱し一
   次異常範囲にある場合に発生される一次異常信号と、さ
   らに前記一次異常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合
   に発生される二次異常信号とから成り、 前記二次異常信号が発せられた場合に、前記薬液槽内の
   薬液を廃液する工程と、純水を廃液された前記薬液槽内
   に導入する工程が実行されることを特徴とする、洗浄処
   理装置の制御方法。
8. 【請求項８】 被処理体が装置内に搬入されるローダ部
   を備え、 被処理体を同種の薬液により洗浄する１または２以上の
   薬液槽と、その薬液槽の下流に配置され被処理体を純水
   により洗浄する１または２以上の水洗槽とから成る１ま
   たは２以上の洗浄ユニットが順次配列されて成る洗浄処
   理装置の制御方法であって、 前記洗浄処理装置に設けられた異常検出センサからの信
   号に応じて、前記薬液槽内の薬液を廃液する工程と、 純水を廃液された前記薬液槽内に導入する工程とから成
   り、 前記異常検出センサからの信号が、定常範囲を逸脱し一
   次異常範囲にある場合に発生される一次異常信号と、さ
   らに前記一次異常範囲を逸脱し二次異常範囲にある場合
   に発生される二次異常信号とから成り、 前記二次異常信号が発せられた場合に、前記薬液槽内の
   薬液を廃液する工程と、純水を廃液された前記薬液槽内
   に導入する工程が実行されることを特徴とする、洗浄処
   理装置の制御方法。