JP2011159834A - ガス置換装置を備えた基板搬送装置、基板搬送システム、置換方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を載置するフォーク11と、前記フォーク11を支持して移動させる動作部12と、前記動作部12を支持する胴体部19と、を備えた基板搬送装置10において、 前記基板搬送装置10が、基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズル13を備えた。
【選択図】図1
Description
特許文献1では、ウエハ搬送室の開口面、つまり、FOUPの開口面と接続される場所の上方に所定のガスを噴射できるノズルを装備した構成としている。FOUPのフタが開口した状態で、任意のタイミングでノズルから所定のガスを噴射することでFOUP内の気体を置換する方法を開示している。
特許文献2では、FOUP内の雰囲気を置換するガスを流入させるノズルを、FOUPのフタを開閉するためのロードポートドアの上部に具備している。ロードポートはFOUPのフタを開けた後、フタを把持したロードポートドアをドア移動手段によって下方に移動させることでフタの開放を完了する。ロードポートドアを下方に移動させる際に、ロードポートドア上に具備したノズルからガスを噴射することで、FOUP内の雰囲気をパージするロードポートを開示している。
特許文献3では、FOUPを載置するための載置台と、FOUPのフタを開閉するためのフタ開閉機構と、フタ開閉機構とは別の位置にFOUP内の雰囲気を置換するガスを流入させるノズルとを備え、FOUP内の雰囲気を所定のガスへ置換するロードポートを開示している。
特許文献2の方式では、パージするための装置をロードポートのドア上部に設置しているため、SEMI規格で定められた上記作業領域100mm内に収まらないことが考えられる。さらに、FOUPのフタを開けた状態で噴射するため、噴射するノズルとFOUP内部空間までの距離が大きくなり、ガスの置換効率が悪くなる。また、ガスを噴射するノズルの移動速度はロードポートのドア移動速度に依存してしまい、最適な速度での移動ができないという問題がある。
特許文献3の方式では(特許文献1、2もそうであるが)、一般的にロードポートはウエハ処理装置に対して複数台が搭載されるにもかかわらず、ロードポートの台数分パージする装置を搭載する必要がある。つまり、コスト高となり、装置重量も大きくなる可能性がある。また、パージする装置は複数の駆動機構を具備しているため、制御方法が複雑となり、ガス配管等も含めた状態で既存のウエハ搬送室に適用するには困難であることが予想される。そもそも、FOUPの置換作業は、FOUPのフタを閉めるときに必要なことが多い作業であるにも関わらず、パージするための装置をロードポートごとに設けることは効率的ではない。
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、FOUP内の気体の置換と、ウエハ上の汚染物質の除去を短時間で行うことができ、既存のウエハ搬送室への適用も可能な基板搬送装置または搬送システムを提供することを目的とするものである。
本発明は、基板を載置するフォークと、前記フォークを支持して移動させる動作部と、前記動作部を支持する胴体部と、を備えた基板搬送装置において、前記基板搬送装置が、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えたことを特徴とする基板搬送装置とするものである。
また、前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備えるとよい。
また、前記ガス噴射用ノズルが、前記フォークに設けられるようにするとよい。
また、前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備え、前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記フォークに設けられるようにするとよい。
また、前記フォークの先端が二股に分かれるように形成され、前記ガス噴射ノズルが前記二股のうち一方に設けられ、前記ガス吸引用ノズルが前記二股のうち他方に設けられるようにするとよい。
また、前記ガス噴射用ノズルが、前記動作部に設けられるようにしてもよい。
また、前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備え、前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記動作部に設けられるようにしてもよい。
また、前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、をさらに備え、前記容器の開口部を前記遮蔽プレートで覆いながら、前記ガス噴出用ノズルによって前記置換をおこなうようにしてもよい。
また、前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、をさらに備え、前記遮蔽プレートに、前記ガス噴射用ノズルが設けられるようにしてもよい。
また、前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルと、をさらに備え、前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記遮蔽プレートに設けられるようにしてもよい。
また、前記遮蔽プレートに、少なくとも前記容器内の前記所定のガスの濃度を検出できる濃度センサを備え、前記濃度センサからの情報に応じて、前記ガス噴射用ノズルのガス噴射の噴射時間が決定されるようにしてもよい。
また、前記容器内の前記基板の位置を検出可能なマッピング機構をさらに備え、前記マッピング機構が検出した検出結果に応じて、前記ガス噴射ノズルのガス噴射のタイミングが決定されるようにしてもよい。
また、前記胴体部を走行させる走行機構をさらに備え、前記ガス噴射用ノズルが、前記胴体部とともに前記走行機構によって走行するようにしてもよい。
また、前記胴体部を走行させる走行機構をさらに備え、前記ガス噴射用ノズルが、前記胴体部とともに前記走行機構によって走行するようにしてもよい。
また、区画内を清浄な雰囲気に保つ筐体と、前記筐体の側面に設置され、基板を収容する容器を搭載して前記容器のフタを開放させ、前記区画内に向かって前記容器の開口部を露出させるロードポートと、前記容器内の前記基板を搬送する基板搬送装置と、を備えた基板搬送システムにおいて、前記基板搬送装置が、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えたことを特徴とする基板搬送システムとしてもよい。
また、基板を収容する容器を搭載して前記容器のフタを開閉させるロードポートと、 前記容器内の前記基板を搬送可能であるとともに、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えた基板搬送装置と、を備えた基板搬送システムにおける前記容器内の気体を前記所定のガスに置換する置換方法であって、前記ロードポートによって前記容器の前記フタを開放させ、前記基板搬送装置が前記ガス噴射用ノズルを前記容器の開放面の前まで動作させ、前記ガス噴射用ノズルから前記所定のガスを前記容器内に向かって噴射させ、前記ロードポートによって前記容器の前記フタを閉鎖させる、ガス置換方法としてもよい。
また、前記ガス噴射用ノズルから前記所定のガスを前記容器内に向かって噴射させるとき、前記ロードポートによって前記容器の前記フタを閉鎖させながら前記噴射をさせるようにしてもよい。
次に、基板搬送装置10のフォーク11上にウエハ61が無い状態で、フォーク11の先端に取り付けられたノズル13が、動作部12の動作によって、FOUP60内の最下段に収納されたウエハ61の近傍に移動する。ノズル13の移動が完了したら、図示しないガス供給装置よりガスが配管14aを経由して送られ、ガス噴射用ノズル13aから所望のガスをウエハ61に対して略平行に噴射する。同時にノズル13bでは、FOUP60内のガスの吸引を行う。ノズル13aから噴射、ノズル13bから吸引する状態を保つことでFOUP60内の気体が循環する。基板搬送装置10は、ノズル13からガスを噴射および吸引している状態を保ちながら、FOUP60内の最下段のウエハから最上段のウエハまで、上昇動作を続ける。あるいは、ロードポートドア21がFOUPのフタを閉塞させるときの上昇動作に同期して、FOUP60内の最下段のウエハから最上段のウエハまで、つまり図1(a)における上方向に移動し、全段のウエハ全面に所望のガスが行き渡る動作を行う。それと同時に、FOUP60内のガスもすべて所望のガスに置換される。
また、ウエハを保持するためのフォーク11とは別に、第2のフォーク11aを動作部12に設けてこれにノズル13を取り付けても良い。例えば図1(d)のように、フォーク11の動作部12に対して旋回する軸と同軸に第2のフォーク11aを設け、フォーク11と11aとが互いに同軸上で自由に旋回できるように構成する。置換動作をおこなうときは、第2のフォーク11aのみをFOUP開口面に向けることができる。第2のフォーク11aはこの場合、ガス置換を目的とした専用のフォークとすることができる。あるいは、上述したマッピング動作を行うためのマッピングセンサとともにノズル13を設け、ウエハ保持用であるフォーク11と機能的に分けても良い。第2のフォークの構成であれば、これにウエハを載置させる必要が無いので、ノズル13の寸法を大きくすることができ、かつ、取り付ける位置を任意にできるという利点がある。
以上のように、動作部12の一部や第2のフォーク11aに、つまりフォーク11以外の箇所にノズル13を設ければ、フォーク11がFOUP60以外の位置に搬送もしくは待機している位置にあっても、ノズル13をFOUP60内に向けることが可能になるので、より効率的に本目的であるガス置換を行うことが可能となる。
また、基板搬送装置60にマッピング機構を搭載していた場合、この検出結果に基づいて、ガス噴射のタイミングを決定するとよい。さらに、FOUP内のガス濃度を検出できる濃度センサを基板搬送基板搬送装置に備えて、この信号を基板搬送装置にフィードバックしてガス濃度の検出結果に応じてガス噴射の噴射時間を決定しても良い。さらに、ウエハ搬送室50の筐体内に酸素濃度計を設置して筐体内の酸素濃度に応じて、あるいは、FOUP60内の空間とウエハ搬送室50との差圧を計測できる圧力計を設置し、その差圧に応じて、ガス噴射の制御を行なうとより効率的にかつ安全にFOUP内の気体の置換作業ができる。
また、図示しないガス供給装置にイオンガスを封入し、任意のタイミングでノズル13からウエハに対してイオンガスを噴射しウエハ61を除電する目的として使用しても良い。
またこのように走行機構を備える場合、基板搬送装置10の胴体部19、動作部12、フォーク11とは独立して遮蔽プレート16を走行させるようにすれば、フォーク11や動作部12によるウエハ搬送動作とは離れた位置で独立してガス置換装置を作動させることができ、更なるスループット向上の効果も期待できる。
なお、以上で説明した各実施形態の組み合わせによっても、本発明による効果が得られることは言うまでもない。
11 フォーク
12 動作部
13 ノズル
13a フォーク上に搭載したガス噴射用ノズル
13b フォーク上に搭載したガス吸引用ノズル
13c 遮蔽パネル上に搭載したガス噴射用ノズル
14 配管
14a フォーク上に搭載したガス噴射用配管
14b フォーク上に搭載したガス吸引用配管
14c 遮蔽パネル上に搭載したガス噴射用配管
14d 遮蔽パネル上に搭載したガス吸引用配管
15a ガス噴射の状態
15b ガス吸引の状態
16a 遮蔽プレート
16b ガス置換装置を搭載した遮蔽プレート
17 遮蔽プレートの支持部材
18 遮蔽プレート駆動手段
19 胴体部
20 ロードポート
21 ロードポートドア
30 ファン
40 ウエハ処理室
50 ウエハ搬送室
60 FOUP
61 ウエハ
70 ウエハ処理装置
Claims (17)
- 基板を載置するフォークと、前記フォークを支持して移動させる動作部と、前記動作部を支持する胴体部と、を備えた基板搬送装置において、
前記基板搬送装置が、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記ガス噴射用ノズルが、前記フォークに設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備え、
前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記フォークに設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記フォークの先端が二股に分かれるように形成され、前記ガス噴射ノズルが前記二股のうち一方に設けられ、前記ガス吸引用ノズルが前記二股のうち他方に設けられたことを特徴とする請求項4記載の基板搬送装置。
- 前記ガス噴射用ノズルが、前記動作部に設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルをさらに備え、
前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記動作部に設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、をさらに備え、
前記容器の開口部を前記遮蔽プレートで覆いながら、前記ガス噴出用ノズルによって前記置換をおこなうことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、をさらに備え、
前記遮蔽プレートに、前記ガス噴射用ノズルが設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記基板を収納する容器の開口部を覆うことが可能な遮蔽プレートと、
前記遮蔽プレートを駆動する遮蔽プレート駆動手段と、
前記容器内の気体を吸引するガス吸引用ノズルと、をさらに備え、
前記ガス噴射用ノズルと前記ガス吸引用ノズルとが、前記遮蔽プレートに設けられたことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記遮蔽プレートに、少なくとも前記容器内の前記所定のガスの濃度を検出できる濃度センサを備え、前記濃度センサからの情報に応じて、前記ガス噴射用ノズルのガス噴射の噴射時間が決定されることを特徴とする請求項9または10記載の基板搬送装置。
- 前記容器内の前記基板の位置を検出可能なマッピング機構をさらに備え、
前記マッピング機構が検出した検出結果に応じて、前記ガス噴射ノズルのガス噴射のタイミングが決定されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記胴体部を走行させる走行機構をさらに備え、
前記ガス噴射用ノズルが、前記胴体部とともに前記走行機構によって走行することを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 前記所定のガスが、前記基板の除電を目的としたイオンガスであることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 区画内を清浄な雰囲気に保つ筐体と、
前記筐体の側面に設置され、基板を収容する容器を搭載して前記容器のフタを開放させ、前記区画内に向かって前記容器の開口部を露出させるロードポートと、
前記容器内の前記基板を搬送する基板搬送装置と、を備えた基板搬送システムにおいて、
前記基板搬送装置が、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えたことを特徴とする基板搬送システム。 - 基板を収容する容器を搭載して前記容器のフタを開閉させるロードポートと、
前記容器内の前記基板を搬送可能であるとともに、前記基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズルを備えた基板搬送装置と、を備えた基板搬送システムにおける前記容器内の気体を前記所定のガスに置換する置換方法であって、
前記ロードポートによって前記容器の前記フタを開放させ、
前記基板搬送装置が前記ガス噴射用ノズルを前記容器の開放面の前まで動作させ、
前記ガス噴射用ノズルから前記所定のガスを前記容器内に向かって噴射させ、
前記ロードポートによって前記容器の前記フタを閉鎖させる、
ことを特徴とする基板搬送システムにおけるガス置換方法。 - 前記ガス噴射用ノズルから前記所定のガスを前記容器内に向かって噴射させるとき、前記ロードポートによって前記容器の前記フタを閉鎖させながら前記噴射をさせること、を特徴とする請求項16記載の基板搬送システムにおけるガス置換方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Family Applications (1)
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JP (1) | JP2011159834A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014080851A1 (ja) * | 2012-11-22 | 2014-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法 |
JP2015535660A (ja) * | 2012-11-30 | 2015-12-14 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するためのステーションおよび方法 |
WO2018207599A1 (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | ローツェ株式会社 | 薄板状基板保持フィンガ、及びこのフィンガを備える搬送ロボット |
TWI647780B (zh) * | 2014-05-09 | 2019-01-11 | 美商應用材料股份有限公司 | 基板載體系統及應用其之方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003338532A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Hirata Corp | 基板ハンドリング装置 |
JP2004148447A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 産業用ロボット |
JP2007067303A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置、基板搬送方法及び塗布、現像装置 |
JP2009302351A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載機構及び被処理体の処理システム |
-
2010
- 2010-02-01 JP JP2010020748A patent/JP2011159834A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003338532A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Hirata Corp | 基板ハンドリング装置 |
JP2004148447A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 産業用ロボット |
JP2007067303A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置、基板搬送方法及び塗布、現像装置 |
JP2009302351A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の移載機構及び被処理体の処理システム |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014080851A1 (ja) * | 2012-11-22 | 2014-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器の内部パージ方法 |
JP2014107296A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、蓋開閉機構、遮蔽機構及び容器内パージ方法 |
TWI576945B (zh) * | 2012-11-22 | 2017-04-01 | 東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置、蓋體開閉機構、遮蔽機構及容器內驅淨方法 |
KR101770485B1 (ko) * | 2012-11-22 | 2017-08-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 커버 개폐 기구, 차폐 기구 및 용기의 내부 퍼지 방법 |
US9887115B2 (en) | 2012-11-22 | 2018-02-06 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus, cover opening and closing mechanism,shielding mechanism, and method for purging container |
JP2015535660A (ja) * | 2012-11-30 | 2015-12-14 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するためのステーションおよび方法 |
TWI647780B (zh) * | 2014-05-09 | 2019-01-11 | 美商應用材料股份有限公司 | 基板載體系統及應用其之方法 |
WO2018207599A1 (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | ローツェ株式会社 | 薄板状基板保持フィンガ、及びこのフィンガを備える搬送ロボット |
JPWO2018207599A1 (ja) * | 2017-05-11 | 2020-04-16 | ローツェ株式会社 | 薄板状基板保持フィンガ、及びこのフィンガを備える搬送ロボット |
US11107722B2 (en) | 2017-05-11 | 2021-08-31 | Rorze Corporation | Thin-plate substrate holding finger and transfer robot provided with said finger |
JP7084385B2 (ja) | 2017-05-11 | 2022-06-14 | ローツェ株式会社 | 薄板状基板保持フィンガ、及びこのフィンガを備える搬送ロボット |
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|
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