JP2000351846A - 含硫（チオ）エーテル（共）重合体およびその用途 - Google Patents
含硫（チオ）エーテル（共）重合体およびその用途Info
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- JP2000351846A JP2000351846A JP11253025A JP25302599A JP2000351846A JP 2000351846 A JP2000351846 A JP 2000351846A JP 11253025 A JP11253025 A JP 11253025A JP 25302599 A JP25302599 A JP 25302599A JP 2000351846 A JP2000351846 A JP 2000351846A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一般式（１）および（２）で表される繰り返
し構造単位を有することを特徴とする含硫（チオ）エー
テル（共）重合体、およびそれを用いた光学部品。 【化１】 【化２】 〔式中、Ａ、Ｂは２価の有機基、Ｒ1 、Ｒ2 は水素原子
またはアルキル基、Ｘ1〜Ｘ4 は酸素原子または硫黄原
子、Ｙ1 、Ｙ2 はハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ 3 基
（Ｒ3 はＳＨ基以外の置換基を有してもよい含硫のアル
キル基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基）また
は−ＳＲ4 基（Ｒ4 はアルキル基、アリール基、ヘテロ
環基またはアシル基）を表す。但し、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和
の１０〜１００％は、−ＯＲ3 基および／または−ＳＲ
4 基である。〕 【解決手段】 光学特性、機械的特性、熱的特性に優
れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂を提
供する。該含硫（チオ）エーテル（共）重合体は種々の
光学部品として有用である。
し構造単位を有することを特徴とする含硫（チオ）エー
テル（共）重合体、およびそれを用いた光学部品。 【化１】 【化２】 〔式中、Ａ、Ｂは２価の有機基、Ｒ1 、Ｒ2 は水素原子
またはアルキル基、Ｘ1〜Ｘ4 は酸素原子または硫黄原
子、Ｙ1 、Ｙ2 はハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ 3 基
（Ｒ3 はＳＨ基以外の置換基を有してもよい含硫のアル
キル基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基）また
は−ＳＲ4 基（Ｒ4 はアルキル基、アリール基、ヘテロ
環基またはアシル基）を表す。但し、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和
の１０〜１００％は、−ＯＲ3 基および／または−ＳＲ
4 基である。〕 【解決手段】 光学特性、機械的特性、熱的特性に優
れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂を提
供する。該含硫（チオ）エーテル（共）重合体は種々の
光学部品として有用である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体に関し、また、それを用いた
光学部品に関する。本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、光学特性、機械的特性、熱的特性に優
れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂であ
り、光ディスク基板、液晶プラスチック基板、眼鏡レン
ズなどの各種光学レンズ、ＬＥＤ封止材などを代表とす
る光学部品に有用である。
オ）エーテル（共）重合体に関し、また、それを用いた
光学部品に関する。本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、光学特性、機械的特性、熱的特性に優
れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂であ
り、光ディスク基板、液晶プラスチック基板、眼鏡レン
ズなどの各種光学レンズ、ＬＥＤ封止材などを代表とす
る光学部品に有用である。
【０００２】
【従来の技術】光学材料として基本的に重要な特性は透
明性である。現在までに、透明性の良い工業的な樹脂と
して、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ビスフ
ェノールＡ−ポリカーボネート（Ｂｉｓ−Ａ−ＰＣ）、
ポリスチレン（ＰＳ）、メチルメタクリレート−スチレ
ン共重合ポリマー（ＭＳ）、スチレン−アクリロニトリ
ル共重合ポリマー（ＳＡＮ）、ポリ（４−メチルペンテ
ン−１）（ＴＰＸ）、ポリシクロオレフィン（ＣＯ
Ｐ）、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト（ＥＧＡＣ）、ポリチオウレタン（ＰＴＵ）等が知ら
れている。
明性である。現在までに、透明性の良い工業的な樹脂と
して、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ビスフ
ェノールＡ−ポリカーボネート（Ｂｉｓ−Ａ−ＰＣ）、
ポリスチレン（ＰＳ）、メチルメタクリレート−スチレ
ン共重合ポリマー（ＭＳ）、スチレン−アクリロニトリ
ル共重合ポリマー（ＳＡＮ）、ポリ（４−メチルペンテ
ン−１）（ＴＰＸ）、ポリシクロオレフィン（ＣＯ
Ｐ）、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト（ＥＧＡＣ）、ポリチオウレタン（ＰＴＵ）等が知ら
れている。
【０００３】ＰＭＭＡは透明性、耐候性に優れ、かつ成
形性も良好である。しかしながら、屈折率（ｎd ）が
1.49 と小さく、吸水性が大きいという欠点がある。Ｂ
ｉｓ−Ａ−ＰＣは透明性、耐熱性、耐衝撃性および高屈
折性に優れるものの、色収差が大きく利用分野が限定さ
れる。ＰＳおよびＭＳは成形性、透明性、低吸水性およ
び高屈折性に優れるものの、耐衝撃性、耐候性および耐
熱性に劣り光学樹脂としてはほとんど実用化されていな
い。
形性も良好である。しかしながら、屈折率（ｎd ）が
1.49 と小さく、吸水性が大きいという欠点がある。Ｂ
ｉｓ−Ａ−ＰＣは透明性、耐熱性、耐衝撃性および高屈
折性に優れるものの、色収差が大きく利用分野が限定さ
れる。ＰＳおよびＭＳは成形性、透明性、低吸水性およ
び高屈折性に優れるものの、耐衝撃性、耐候性および耐
熱性に劣り光学樹脂としてはほとんど実用化されていな
い。
【０００４】ＳＡＮは比較的屈折率が高く、機械的物性
もバランスがよいとされているが、耐熱性にやや難があ
り（熱変形温度：80〜90℃）、光学樹脂としてはほとん
ど使われていない。
もバランスがよいとされているが、耐熱性にやや難があ
り（熱変形温度：80〜90℃）、光学樹脂としてはほとん
ど使われていない。
【０００５】ＴＰＸおよびＣＯＰは透明性、低吸水性、
耐熱性に優れるものの、低屈折率（ｎd ＝ 1.47 〜1.5
3）で耐衝撃性やガスバリヤー性が悪いという問題があ
る。ＥＧＡＣはジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートをモノマーとする熱硬化性樹脂であり、汎用眼鏡
レンズ用途には最も多く使用されている。透明性、耐熱
性には優れ、色収差は極めて小さいものの、低屈折率
（ｎd ＝1.50）で耐衝撃性に劣るという欠点がある。
耐熱性に優れるものの、低屈折率（ｎd ＝ 1.47 〜1.5
3）で耐衝撃性やガスバリヤー性が悪いという問題があ
る。ＥＧＡＣはジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートをモノマーとする熱硬化性樹脂であり、汎用眼鏡
レンズ用途には最も多く使用されている。透明性、耐熱
性には優れ、色収差は極めて小さいものの、低屈折率
（ｎd ＝1.50）で耐衝撃性に劣るという欠点がある。
【０００６】ＰＴＵはジイソシアネート化合物とポリチ
オール化合物との反応で得られる熱硬化性樹脂であり、
超高屈折率眼鏡レンズ用途には最も多く使用されてい
る。透明性、耐衝撃性、高屈折性に特に優れ、且つ色収
差も小さく、極めて優秀な材料であるが、唯一、熱重合
成形時間が長い（１日〜３日）という欠点があり、生産
性の点で問題を残している。
オール化合物との反応で得られる熱硬化性樹脂であり、
超高屈折率眼鏡レンズ用途には最も多く使用されてい
る。透明性、耐衝撃性、高屈折性に特に優れ、且つ色収
差も小さく、極めて優秀な材料であるが、唯一、熱重合
成形時間が長い（１日〜３日）という欠点があり、生産
性の点で問題を残している。
【０００７】以上のように、従来の光学樹脂は優れた特
徴を有しているものの、それぞれに克服すべき欠点を有
しているのが現状である。このような状況下にあって、
光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が
良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂の開発が切望されてい
る。
徴を有しているものの、それぞれに克服すべき欠点を有
しているのが現状である。このような状況下にあって、
光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が
良い高屈折性の熱可塑性光学樹脂の開発が切望されてい
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学特性、
機械的特性、熱的特性等に優れ、かつ生産性が良い高屈
折性の熱可塑性光学樹脂を提供しようとするものであ
る。
機械的特性、熱的特性等に優れ、かつ生産性が良い高屈
折性の熱可塑性光学樹脂を提供しようとするものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題を
解決するために鋭意検討した結果、光学特性、機械的特
性、熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可
塑性光学樹脂を見いだすに至った。即ち、本発明は、
(1) 下記一般式（１）（化５）および一般式（２）（化
６）で表される繰り返し構造単位を有することを特徴と
する含硫（チオ）エーテル（共）重合体に関するもので
ある。
解決するために鋭意検討した結果、光学特性、機械的特
性、熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可
塑性光学樹脂を見いだすに至った。即ち、本発明は、
(1) 下記一般式（１）（化５）および一般式（２）（化
６）で表される繰り返し構造単位を有することを特徴と
する含硫（チオ）エーテル（共）重合体に関するもので
ある。
【００１０】
【化５】
【００１１】
【化６】 〔上式中、ＡおよびＢは２価の有機基を表し、同一で
も、異なっていてもよく、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水
素原子またはアルキル基を表し、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞれ
独立に酸素原子または硫黄原子を表し、同一でも、異な
っていてもよく、Ｙ 1 およびＹ2 はそれぞれ独立にハロ
ゲン原子、水酸基、−ＯＲ3 基（Ｒ3 はＳＨ基以外の置
換基を有していてもよい含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基を表す。但し、Ｘ1 〜Ｘ
4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合は、Ｒ3 は硫黄原
子を有していなくてもよい）または−ＳＲ4 基（Ｒ4 は
置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基またはアシル基を表す）を表し、同一でも、異
なっていてもよい。但し、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１
００％は、−ＯＲ3 基および／または−ＳＲ4 基であ
る。〕また、本発明は、(2) Ａおよび／またはＢが置換
基を有していてもよい２価の芳香族基であることを特徴
とする前記(1) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体、(3) ＡおよびＢがそれぞれ下記式（３）（化７）お
よび（４）（化８）で表される２価の芳香族基である前
記(2) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体、に関
するものである。
も、異なっていてもよく、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水
素原子またはアルキル基を表し、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞれ
独立に酸素原子または硫黄原子を表し、同一でも、異な
っていてもよく、Ｙ 1 およびＹ2 はそれぞれ独立にハロ
ゲン原子、水酸基、−ＯＲ3 基（Ｒ3 はＳＨ基以外の置
換基を有していてもよい含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基を表す。但し、Ｘ1 〜Ｘ
4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合は、Ｒ3 は硫黄原
子を有していなくてもよい）または−ＳＲ4 基（Ｒ4 は
置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基またはアシル基を表す）を表し、同一でも、異
なっていてもよい。但し、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１
００％は、−ＯＲ3 基および／または−ＳＲ4 基であ
る。〕また、本発明は、(2) Ａおよび／またはＢが置換
基を有していてもよい２価の芳香族基であることを特徴
とする前記(1) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体、(3) ＡおよびＢがそれぞれ下記式（３）（化７）お
よび（４）（化８）で表される２価の芳香族基である前
記(2) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体、に関
するものである。
【００１２】
【化７】
【００１３】
【化８】 〔上式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を表し、同一でも、異なっていてもよく、Ｚ1 および
Ｚ2 は２個の芳香環を連結させる単結合、−Ｃ（ＣＨ3)
2 −基、−Ｓ−基または−ＳＯ2 −基を表し、同一で
も、異なっていてもよい。〕 さらにまた、本発明は、(4) Ｒ3 が２個以上の硫黄原子
（但し、Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合
は、１個以上の硫黄原子）を含有する含硫のアルキル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基であり、Ｒ
4 が１個以上の硫黄原子を有するアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基である前記(3) 記載の含
硫（チオ）エーテル（共）重合体、(5) Ｚ1 が−Ｃ（Ｃ
Ｈ3)2 −基である前記(3) または(4) 記載の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体、(6) Ｘ1 およびＸ2 が酸素
原子である前記(5) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）
重合体、(7) Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、Ｚ2 が単結
合または−Ｃ（ＣＨ 3)2 −基である前記(5) 記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体。
基を表し、同一でも、異なっていてもよく、Ｚ1 および
Ｚ2 は２個の芳香環を連結させる単結合、−Ｃ（ＣＨ3)
2 −基、−Ｓ−基または−ＳＯ2 −基を表し、同一で
も、異なっていてもよい。〕 さらにまた、本発明は、(4) Ｒ3 が２個以上の硫黄原子
（但し、Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合
は、１個以上の硫黄原子）を含有する含硫のアルキル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基であり、Ｒ
4 が１個以上の硫黄原子を有するアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基である前記(3) 記載の含
硫（チオ）エーテル（共）重合体、(5) Ｚ1 が−Ｃ（Ｃ
Ｈ3)2 −基である前記(3) または(4) 記載の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体、(6) Ｘ1 およびＸ2 が酸素
原子である前記(5) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）
重合体、(7) Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、Ｚ2 が単結
合または−Ｃ（ＣＨ 3)2 −基である前記(5) 記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体。
【００１４】(8) Ｘ1 〜Ｘ4 の全てが酸素原子である前
記(7) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体、(9)
Ｚ1 が−Ｓ−基である前記(3) または(4) 記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体、(10)Ｘ1 およびＸ2 が
硫黄原子である前記(9) 記載の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体、(11)前記(1) 〜(3) のいずれかに記載の
含硫（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られる光
学部品、および、(12)前記(1) 〜(3) のいずれかに記載
の含硫（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られる
プラスチックレンズ、に関するものである。
記(7) 記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体、(9)
Ｚ1 が−Ｓ−基である前記(3) または(4) 記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体、(10)Ｘ1 およびＸ2 が
硫黄原子である前記(9) 記載の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体、(11)前記(1) 〜(3) のいずれかに記載の
含硫（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られる光
学部品、および、(12)前記(1) 〜(3) のいずれかに記載
の含硫（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られる
プラスチックレンズ、に関するものである。
【００１５】本明細書で記載されている含硫（チオ）エ
ーテル（共）重合体とは、主鎖骨格がエーテル結合およ
び／またはチオエーテル結合を有する重合体または共重
合体であり、該（共）重合体中に必ず硫黄原子を含むも
のである。したがって、主鎖骨格がエーテル結合である
場合は、主鎖骨格のエーテル結合部分以外の部分、例え
ばペンダント基に硫黄原子を含む必要があり、また逆に
主鎖骨格がチオエーテル結合である場合は、主鎖骨格の
チオエーテル以外の部分には、必ずしも硫黄原子を含む
必要はない。
ーテル（共）重合体とは、主鎖骨格がエーテル結合およ
び／またはチオエーテル結合を有する重合体または共重
合体であり、該（共）重合体中に必ず硫黄原子を含むも
のである。したがって、主鎖骨格がエーテル結合である
場合は、主鎖骨格のエーテル結合部分以外の部分、例え
ばペンダント基に硫黄原子を含む必要があり、また逆に
主鎖骨格がチオエーテル結合である場合は、主鎖骨格の
チオエーテル以外の部分には、必ずしも硫黄原子を含む
必要はない。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、前記一般式（１）および一般式（２）
で表される繰り返し構造単位を有することを特徴とする
新規な（共）重合体であり、該（共）重合体は光学特
性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高
屈折性の熱可塑性光学樹脂であり、光ディスク基板、液
晶プラスチック基板、眼鏡レンズなどの各種光学レン
ズ、ＬＥＤ封止材などを代表とする光学部品に有用であ
る。
（共）重合体は、前記一般式（１）および一般式（２）
で表される繰り返し構造単位を有することを特徴とする
新規な（共）重合体であり、該（共）重合体は光学特
性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高
屈折性の熱可塑性光学樹脂であり、光ディスク基板、液
晶プラスチック基板、眼鏡レンズなどの各種光学レン
ズ、ＬＥＤ封止材などを代表とする光学部品に有用であ
る。
【００１７】前記一般式（１）および一般式（２）にお
いて、ＡおよびＢは２価の有機基を表し、同一でも、異
なっていてもよい。２価の有機基とは、２価の脂肪族基
または芳香族基、あるいは、これらの組み合わせからな
る基である。これらの有機基は、置換基を有していても
よく、また、該有機基を構成する原子としてヘテロ原子
（例えば、窒素原子、硫黄原子など）を含有していても
よい。特に、屈折率を高めるために、硫黄原子を含有す
ることは好ましいことである。
いて、ＡおよびＢは２価の有機基を表し、同一でも、異
なっていてもよい。２価の有機基とは、２価の脂肪族基
または芳香族基、あるいは、これらの組み合わせからな
る基である。これらの有機基は、置換基を有していても
よく、また、該有機基を構成する原子としてヘテロ原子
（例えば、窒素原子、硫黄原子など）を含有していても
よい。特に、屈折率を高めるために、硫黄原子を含有す
ることは好ましいことである。
【００１８】２価の有機基は、好ましくは、ヘテロ原子
を含有していてもよい鎖状または環状の脂肪族基、ある
いは芳香族基であり、より好ましくは、ヘテロ原子を含
有していてもよい芳香族基である。該有機基として、更
に好ましくは、フェニレン基、ナフチレン基、あるい
は、これらの基の２個以上が２価、３価または４価の連
結基で結合している芳香族基である。
を含有していてもよい鎖状または環状の脂肪族基、ある
いは芳香族基であり、より好ましくは、ヘテロ原子を含
有していてもよい芳香族基である。該有機基として、更
に好ましくは、フェニレン基、ナフチレン基、あるい
は、これらの基の２個以上が２価、３価または４価の連
結基で結合している芳香族基である。
【００１９】これらの有機基は置換基を有していてもよ
く、２価の有機基の置換基としては、アルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基またはハロゲン原子が挙げら
れる。好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基
または臭素原子であり、より好ましくは、メチル基、メ
トキシ基、メチルチオ基または臭素原子である。
く、２価の有機基の置換基としては、アルキル基、アル
コキシ基、アルキルチオ基またはハロゲン原子が挙げら
れる。好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキルチオ基
または臭素原子であり、より好ましくは、メチル基、メ
トキシ基、メチルチオ基または臭素原子である。
【００２０】ＡおよびＢの２価の有機基の具体例として
は、下に示すような構造の基（化９、化１０、化１１）
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
は、下に示すような構造の基（化９、化１０、化１１）
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２１】
【化９】
【００２２】
【化１０】
【００２３】
【化１１】 前記有機基の中でも、好ましくは、ＡおよびＢは２価の
芳香族基である。より好ましくは、ＡおよびＢがそれぞ
れ下記式（３）（化１２）および下記式（４）（化１
３）で表される２価の芳香族基である。
芳香族基である。より好ましくは、ＡおよびＢがそれぞ
れ下記式（３）（化１２）および下記式（４）（化１
３）で表される２価の芳香族基である。
【００２４】
【化１２】
【００２５】
【化１３】 〔上式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を表し、同一でも、異なっていてもよく、Ｚ1 および
Ｚ2 は２個の芳香環を連結させる単結合、−Ｃ（ＣＨ3)
2 −基、−Ｓ−基または−ＳＯ2 −基を表し、同一で
も、異なっていてもよい。〕 前記一般式（１）および一般式（２）において、置換基
Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原子またはアルキル基を
表す。該置換基Ｒ1 およびＲ2 は好ましくは、水素原
子、炭素数１〜６のアルキル基である。具体例として
は、水素原子；メチル基、エチル基、イソプロピル基、
シクロヘキシル基などのアルキル基が挙げられる。特に
好ましくは、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原子または
メチル基である。
基を表し、同一でも、異なっていてもよく、Ｚ1 および
Ｚ2 は２個の芳香環を連結させる単結合、−Ｃ（ＣＨ3)
2 −基、−Ｓ−基または−ＳＯ2 −基を表し、同一で
も、異なっていてもよい。〕 前記一般式（１）および一般式（２）において、置換基
Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原子またはアルキル基を
表す。該置換基Ｒ1 およびＲ2 は好ましくは、水素原
子、炭素数１〜６のアルキル基である。具体例として
は、水素原子；メチル基、エチル基、イソプロピル基、
シクロヘキシル基などのアルキル基が挙げられる。特に
好ましくは、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原子または
メチル基である。
【００２６】一般式（１）および一般式（２）におい
て、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞれ酸素原子または硫黄原子を表
し、同一でも、異なっていてもよい。一般式（１）およ
び一般式（２）において、Ｙ1 およびＹ2 はそれぞれ独
立に、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ3 基または−ＳＲ
4 基を表し、同一でも、異なっていてもよい。但し、Ｙ
1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％は−ＯＲ3 基および／
または−ＳＲ4 基である。ここで、Ｒ3 はＳＨ基以外の
置換基を有していてもよい含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基（但し、Ｘ1 〜Ｘ 4 の少
なくとも１つが硫黄原子の場合は、Ｒ3 は硫黄原子を有
していなくてもよい）であり、Ｒ4 は置換基を有してい
てもよいアルキル基、アリール基、ヘテロ環基またはア
シル基である。なお、硫黄原子を有していなくてもよい
Ｒ3 は、Ｒ 4 と同じ意味を表す。
て、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞれ酸素原子または硫黄原子を表
し、同一でも、異なっていてもよい。一般式（１）およ
び一般式（２）において、Ｙ1 およびＹ2 はそれぞれ独
立に、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ3 基または−ＳＲ
4 基を表し、同一でも、異なっていてもよい。但し、Ｙ
1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％は−ＯＲ3 基および／
または−ＳＲ4 基である。ここで、Ｒ3 はＳＨ基以外の
置換基を有していてもよい含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基（但し、Ｘ1 〜Ｘ 4 の少
なくとも１つが硫黄原子の場合は、Ｒ3 は硫黄原子を有
していなくてもよい）であり、Ｒ4 は置換基を有してい
てもよいアルキル基、アリール基、ヘテロ環基またはア
シル基である。なお、硫黄原子を有していなくてもよい
Ｒ3 は、Ｒ 4 と同じ意味を表す。
【００２７】置換基Ｒ3 （含硫の場合）の具体例として
は、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチル
チオエチル基、メチルチオメチルチオメチル基、メチル
チオエチルチオエチル基、メチルチオプロピル基、メチ
ルチオブチル基、メチルチオブチルチオメチル基、シク
ロヘキシルチオエチル基、シクロヘキシルチオエチルチ
オメチル基、１−アダマンチルチオメチル基、１−アダ
マンチルチオメチルチオメチル基、ベンジルチオメチル
基、ベンジルチオメチルチオメチル基、3-メチルチオベ
ンジル基、3,4-ジメチルチオベンジル基、フェネチルチ
オメチル基、フェネチルチオメチルチオメチル基などの
置換基を有していてもよい含硫アルキル基；２−メチル
チオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２，３−
ジメチルチオフェニル基、２，４−ジメチルチオフェニ
ル基、２，３，４，５，６−ペンタメチルチオフェニル
基、２−メチルチオ−ｐ−トルイル基、２，３−ジメチ
ルチオ−ｏ−トルイル基、３−メチルチオ−４−メトキ
シフェニル基、３−クロロ−４−メチルチオフェニル
基、２−ブロム−４−メチルチオフェニル基、５−メチ
ルチオ−１−ナフチル基、６−メチルチオ−２−ナフチ
ル基などの含硫アリール基；１，４−ジチアン−２−イ
ル基、１，３−ジチアン−２−イル基、１，３，５−ト
リチアン−２−イル基、１，４−ジチアスピロ（４，
５）デカン−８−イル基、１，５−ジチアシクロオクタ
ン−３−イル基、チオフェン−３−イル基、３，４−ジ
シアノチオフェン−２−イル基、テトラヒドロチオフェ
ン−２−イル基、テトラメチレンスルフォン−３−イル
基、ペンタメチレンスルフィド−４−イル基、チアゾー
ル−２−イル基などの含硫のヘテロ環基；メチルチオア
セチル基、エチルチオアセチル基、イソプロピルチオア
セチル基、ｔ−ブチルチオアセチル基、フェニルチオア
セチル基、シクロヘキシルチオアセチル基、メチルチオ
エチルカルボニル基、メチルチオプロピルカルボニル
基、メチルチオエチルチオアセチル基、メチルチオプロ
ピルチオアセチル基、１，４−ジチアン−２−カルボニ
ル基、１，３−ジチアン−２−カルボニル基、１，３，
５−トリチアン−２−カルボニル基、１，４−ジチアス
ピロ（４，５）デカン−８−カルボニル基、１，５−ジ
チアシクロオクタン−３−カルボニル基、チオフェン−
３−カルボニル基、ペンタメチレンスルフィド−４−カ
ルボニル基などの含硫アシル基；等が挙げられが、これ
らの基に限定されるものではない。
は、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチル
チオエチル基、メチルチオメチルチオメチル基、メチル
チオエチルチオエチル基、メチルチオプロピル基、メチ
ルチオブチル基、メチルチオブチルチオメチル基、シク
ロヘキシルチオエチル基、シクロヘキシルチオエチルチ
オメチル基、１−アダマンチルチオメチル基、１−アダ
マンチルチオメチルチオメチル基、ベンジルチオメチル
基、ベンジルチオメチルチオメチル基、3-メチルチオベ
ンジル基、3,4-ジメチルチオベンジル基、フェネチルチ
オメチル基、フェネチルチオメチルチオメチル基などの
置換基を有していてもよい含硫アルキル基；２−メチル
チオフェニル基、４−メチルチオフェニル基、２，３−
ジメチルチオフェニル基、２，４−ジメチルチオフェニ
ル基、２，３，４，５，６−ペンタメチルチオフェニル
基、２−メチルチオ−ｐ−トルイル基、２，３−ジメチ
ルチオ−ｏ−トルイル基、３−メチルチオ−４−メトキ
シフェニル基、３−クロロ−４−メチルチオフェニル
基、２−ブロム−４−メチルチオフェニル基、５−メチ
ルチオ−１−ナフチル基、６−メチルチオ−２−ナフチ
ル基などの含硫アリール基；１，４−ジチアン−２−イ
ル基、１，３−ジチアン−２−イル基、１，３，５−ト
リチアン−２−イル基、１，４−ジチアスピロ（４，
５）デカン−８−イル基、１，５−ジチアシクロオクタ
ン−３−イル基、チオフェン−３−イル基、３，４−ジ
シアノチオフェン−２−イル基、テトラヒドロチオフェ
ン−２−イル基、テトラメチレンスルフォン−３−イル
基、ペンタメチレンスルフィド−４−イル基、チアゾー
ル−２−イル基などの含硫のヘテロ環基；メチルチオア
セチル基、エチルチオアセチル基、イソプロピルチオア
セチル基、ｔ−ブチルチオアセチル基、フェニルチオア
セチル基、シクロヘキシルチオアセチル基、メチルチオ
エチルカルボニル基、メチルチオプロピルカルボニル
基、メチルチオエチルチオアセチル基、メチルチオプロ
ピルチオアセチル基、１，４−ジチアン−２−カルボニ
ル基、１，３−ジチアン−２−カルボニル基、１，３，
５−トリチアン−２−カルボニル基、１，４−ジチアス
ピロ（４，５）デカン−８−カルボニル基、１，５−ジ
チアシクロオクタン−３−カルボニル基、チオフェン−
３−カルボニル基、ペンタメチレンスルフィド−４−カ
ルボニル基などの含硫アシル基；等が挙げられが、これ
らの基に限定されるものではない。
【００２８】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体が、効果として屈折率を高めるものである点を考慮す
ると、好ましくは、該置換基Ｒ3 は、２個以上の硫黄原
子（但し、Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも１つが硫黄原子の場
合は、１個以上の硫黄原子）を有するアルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基またはアシル基である。
体が、効果として屈折率を高めるものである点を考慮す
ると、好ましくは、該置換基Ｒ3 は、２個以上の硫黄原
子（但し、Ｘ1 〜Ｘ4 の少なくとも１つが硫黄原子の場
合は、１個以上の硫黄原子）を有するアルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基またはアシル基である。
【００２９】置換基Ｒ4 の具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基、シクロヘキシ
ル基、ノルボルネル基、アダマンチル基、メトキシエチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、メチルチオメチル
基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、メチル
チオメチルチオメチル基、メチルチオエチルチオエチル
基、メチルチオプロピル基、メチルチオブチル基、メチ
ルチオブチルチオメチル基、シクロヘキシルチオエチル
基、シクロヘキシルチオエチルチオメチル基、１−アダ
マンチルチオメチル基、１−アダマンチルチオメチルチ
オメチル基、ベンジルチオメチル基、ベンジルチオメチ
ルチオメチル基、３−メチルチオベンジル基、３，４−
ジメチルチオベンジル基、フェネチルチオメチル基、フ
ェネチルチオメチルチオメチル基などの置換基を有して
いてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基；フェニ
ル基、２−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル
基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル
基、２，４−ジメチルフェニル基、３−ブロムフェニル
基、４−ブロムフェニル基、２−メチルチオフェニル
基、４−メチルチオフェニル基、２，３−ジメチルチオ
フェニル基、２，４−ジメチルチオフェニル基、２，
３，４，５，６−ペンタメチルチオフェニル基、２−メ
チル−ｐ−トルイル基、２，３−ジメチルチオ−ｏ−ト
ルイル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−
クロロ−４−メチルチオフェニル基、２−ブロム−４−
メチルチオフェニル基、５−メチルチオ−１−ナフチル
基、６−メチルチオ−２−ナフチル基などの置換基を有
していても良いアリール基；フラン−２−イル基、テト
ラヒドロフラン−２−イル基、１，４−ジオキサン−２
−イル基、１，３−ジオキサン−２−イル基、１，４−
ジチアン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル
基、１，３，５−トリチアン−２−イル基、１，４−ジ
チアスピロ（４，５）デカン−８−イル基、１，５−ジ
チアシクロオクタン−３−イル基、チオフェン−３−イ
ル基、３，４−チオフェン−２−イル基、テトラヒドロ
チオフェン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、テ
トラメチレンスルフォン−３−イル基、ペンタメチレン
スルフィド−４−イル基などの置換基を有していても良
いヘテロ環基；アセチル基、エチルカルボニル基、イソ
プロピルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基、メチルチオア
セチル基、エチルチオアセチル基、イソプロピルチオア
セチル基、t-ブチルチオアセチル基、フェニルチオアセ
チル基、シクロヘキシルチオアセチル基、メチルチオエ
チルカルボニル基、メチルチオプロピルカルボニル基、
メチルチオエチルチオアセチル基、メチルチオプロピル
チオアセチル基、１，４−ジチアン−２−カルボニル
基、１，３−ジチアン−２−カルボニル基、１，３−ジ
チオラン−２−カルボニル基、１，３，５−トリチアン
−２−カルボニル基、１，４−ジチアスピロ（４，５）
デカン−８−カルボニル基、１，５−ジチアシクロオク
タン−３−カルボニル基、チオフェン−３−カルボニル
基、ペンタメチレンスルフィド−４−カルボニル基など
の置換基を有していてもよいアシル基；が挙げられが、
これらの基に限定されるものではない。
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基、シクロヘキシ
ル基、ノルボルネル基、アダマンチル基、メトキシエチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、メチルチオメチル
基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、メチル
チオメチルチオメチル基、メチルチオエチルチオエチル
基、メチルチオプロピル基、メチルチオブチル基、メチ
ルチオブチルチオメチル基、シクロヘキシルチオエチル
基、シクロヘキシルチオエチルチオメチル基、１−アダ
マンチルチオメチル基、１−アダマンチルチオメチルチ
オメチル基、ベンジルチオメチル基、ベンジルチオメチ
ルチオメチル基、３−メチルチオベンジル基、３，４−
ジメチルチオベンジル基、フェネチルチオメチル基、フ
ェネチルチオメチルチオメチル基などの置換基を有して
いてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル基；フェニ
ル基、２−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル
基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル
基、２，４−ジメチルフェニル基、３−ブロムフェニル
基、４−ブロムフェニル基、２−メチルチオフェニル
基、４−メチルチオフェニル基、２，３−ジメチルチオ
フェニル基、２，４−ジメチルチオフェニル基、２，
３，４，５，６−ペンタメチルチオフェニル基、２−メ
チル−ｐ−トルイル基、２，３−ジメチルチオ−ｏ−ト
ルイル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−
クロロ−４−メチルチオフェニル基、２−ブロム−４−
メチルチオフェニル基、５−メチルチオ−１−ナフチル
基、６−メチルチオ−２−ナフチル基などの置換基を有
していても良いアリール基；フラン−２−イル基、テト
ラヒドロフラン−２−イル基、１，４−ジオキサン−２
−イル基、１，３−ジオキサン−２−イル基、１，４−
ジチアン−２−イル基、１，３−ジチアン−２−イル
基、１，３，５−トリチアン−２−イル基、１，４−ジ
チアスピロ（４，５）デカン−８−イル基、１，５−ジ
チアシクロオクタン−３−イル基、チオフェン−３−イ
ル基、３，４−チオフェン−２−イル基、テトラヒドロ
チオフェン−２−イル基、チアゾール−２−イル基、テ
トラメチレンスルフォン−３−イル基、ペンタメチレン
スルフィド−４−イル基などの置換基を有していても良
いヘテロ環基；アセチル基、エチルカルボニル基、イソ
プロピルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基、メチルチオア
セチル基、エチルチオアセチル基、イソプロピルチオア
セチル基、t-ブチルチオアセチル基、フェニルチオアセ
チル基、シクロヘキシルチオアセチル基、メチルチオエ
チルカルボニル基、メチルチオプロピルカルボニル基、
メチルチオエチルチオアセチル基、メチルチオプロピル
チオアセチル基、１，４−ジチアン−２−カルボニル
基、１，３−ジチアン−２−カルボニル基、１，３−ジ
チオラン−２−カルボニル基、１，３，５−トリチアン
−２−カルボニル基、１，４−ジチアスピロ（４，５）
デカン−８−カルボニル基、１，５−ジチアシクロオク
タン−３−カルボニル基、チオフェン−３−カルボニル
基、ペンタメチレンスルフィド−４−カルボニル基など
の置換基を有していてもよいアシル基；が挙げられが、
これらの基に限定されるものではない。
【００３０】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体が、効果として屈折率を高めるものである点を考慮す
ると、該置換基Ｒ4 は、置換基を有してもよい１個以上
の硫黄原子を有するアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基またはアシル基であり、より好ましくは、置換基を有
してもよい２個以上の硫黄原子を有するもよいアルキル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基である。な
お、Ｒ3 、Ｒ4 の構造の中に、メルカプト基（−ＳＨ
基）が存在すれば、溶融時に酸化により分子間でジスル
フィド結合が生じやすく、架橋する傾向があり、射出成
形ができなくなる場合があるので、好ましくない。
体が、効果として屈折率を高めるものである点を考慮す
ると、該置換基Ｒ4 は、置換基を有してもよい１個以上
の硫黄原子を有するアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基またはアシル基であり、より好ましくは、置換基を有
してもよい２個以上の硫黄原子を有するもよいアルキル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基である。な
お、Ｒ3 、Ｒ4 の構造の中に、メルカプト基（−ＳＨ
基）が存在すれば、溶融時に酸化により分子間でジスル
フィド結合が生じやすく、架橋する傾向があり、射出成
形ができなくなる場合があるので、好ましくない。
【００３１】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体では、一般式（１）および一般式（２）において、Ｙ
1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％は−ＯＲ3 基および／
または−ＳＲ4 基である。好ましくは、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総
和の２０〜９５％が−ＯＲ3基および／または−ＳＲ4
基であり、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の５０〜９０％が−ＯＲ 3
基および／または−ＳＲ4 基であることは、特に好まし
い。Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０％未満が−ＯＲ3 基および
／または−ＳＲ4 基である場合（すなわち、Ｙ1 ＋Ｙ2
の総和の９０％以上が、ハロゲン原子または水酸基であ
る場合）には、溶融粘度が大きすぎるために加工性が不
良であったり、屈折率の向上が小さくなる傾向があり、
好ましくない。
体では、一般式（１）および一般式（２）において、Ｙ
1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％は−ＯＲ3 基および／
または−ＳＲ4 基である。好ましくは、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総
和の２０〜９５％が−ＯＲ3基および／または−ＳＲ4
基であり、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の５０〜９０％が−ＯＲ 3
基および／または−ＳＲ4 基であることは、特に好まし
い。Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０％未満が−ＯＲ3 基および
／または−ＳＲ4 基である場合（すなわち、Ｙ1 ＋Ｙ2
の総和の９０％以上が、ハロゲン原子または水酸基であ
る場合）には、溶融粘度が大きすぎるために加工性が不
良であったり、屈折率の向上が小さくなる傾向があり、
好ましくない。
【００３２】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は、前記一般式（１）および一般式（２）で表される
繰り返し構造単位を有するものであり、好ましくは、Ａ
が前記一般式（３）で、Ｂが一般式（４）で表されるも
のである。より好ましくは、 Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基、または、Ｚ1 が−Ｓ−
基のものである。さらにより好ましくは、Ｚ1 が−Ｃ
（ＣＨ3)2 −基で、Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子であるも
の、Ｚ1 が−Ｓ−基でＸ1 およびＸ2 が硫黄原子であ
るもの、またはＺ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、且つ、
Ｚ2 が単結合または−Ｃ（ＣＨ3)2−基のものである。
特に好ましいのは、Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基、Ｚ2
が単結合または−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、Ｘ1 〜Ｘ4 が全
て酸素原子のものである。
体は、前記一般式（１）および一般式（２）で表される
繰り返し構造単位を有するものであり、好ましくは、Ａ
が前記一般式（３）で、Ｂが一般式（４）で表されるも
のである。より好ましくは、 Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基、または、Ｚ1 が−Ｓ−
基のものである。さらにより好ましくは、Ｚ1 が−Ｃ
（ＣＨ3)2 −基で、Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子であるも
の、Ｚ1 が−Ｓ−基でＸ1 およびＸ2 が硫黄原子であ
るもの、またはＺ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、且つ、
Ｚ2 が単結合または−Ｃ（ＣＨ3)2−基のものである。
特に好ましいのは、Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基、Ｚ2
が単結合または−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、Ｘ1 〜Ｘ4 が全
て酸素原子のものである。
【００３３】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は、一般式（１）および一般式（２）で表される繰り
返し構造単位において、Ｙ1 、Ｙ2 が−ＯＨ基および／
またはハロゲン原子である原料の（チオ）エーテル
（共）重合体に、直接に、または、トシル化した後に、
各種のＲ3 および／またはＲ4 付与剤〔以下、ペンダン
ト化剤という〕を反応させ、該−ＯＨ基および／または
ハロゲン原子の１０〜１００％を−ＯＲ3 および／また
は−ＳＲ4 のように置換して、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基をペンダント基として付
加すること〔以下、ペンダント化という〕により得られ
るものである。なお、上記のＹ1 、Ｙ2 がハロゲン原子
またはトシル化物であるものは、公知の官能基変換法に
よって、−ＯＨ基のものから製造される。
体は、一般式（１）および一般式（２）で表される繰り
返し構造単位において、Ｙ1 、Ｙ2 が−ＯＨ基および／
またはハロゲン原子である原料の（チオ）エーテル
（共）重合体に、直接に、または、トシル化した後に、
各種のＲ3 および／またはＲ4 付与剤〔以下、ペンダン
ト化剤という〕を反応させ、該−ＯＨ基および／または
ハロゲン原子の１０〜１００％を−ＯＲ3 および／また
は−ＳＲ4 のように置換して、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基をペンダント基として付
加すること〔以下、ペンダント化という〕により得られ
るものである。なお、上記のＹ1 、Ｙ2 がハロゲン原子
またはトシル化物であるものは、公知の官能基変換法に
よって、−ＯＨ基のものから製造される。
【００３４】原料となるエーテル（共）重合体は、例え
ば、エポキシ重合触媒（例えば、トリフェニルホスフィ
ンなどリン化合物、イミダゾールなどの含窒素有機化合
物など）の存在下に、(i) 下記一般式（５）で表される
化合物と、下記一般式（６）で表される化合物のジグリ
シジルエーテル誘導体またはビス（２−アルキルグリシ
ジル）誘導体、あるいは、(ii)下記一般式（５）（化１
４）で表される化合物のジグリシジルエーテル誘導体ま
たはビス（２−アルキルグリシジル）誘導体、と、下記
一般式（６）（化１５）で表される化合物、を反応、重
合させることにより製造される。
ば、エポキシ重合触媒（例えば、トリフェニルホスフィ
ンなどリン化合物、イミダゾールなどの含窒素有機化合
物など）の存在下に、(i) 下記一般式（５）で表される
化合物と、下記一般式（６）で表される化合物のジグリ
シジルエーテル誘導体またはビス（２−アルキルグリシ
ジル）誘導体、あるいは、(ii)下記一般式（５）（化１
４）で表される化合物のジグリシジルエーテル誘導体ま
たはビス（２−アルキルグリシジル）誘導体、と、下記
一般式（６）（化１５）で表される化合物、を反応、重
合させることにより製造される。
【００３５】
【化１４】ＨＸ1 −Ａ−Ｘ2 Ｈ 一般式（５）
【００３６】
【化１５】ＨＸ3 −Ｂ−Ｘ4 Ｈ 一般式（６） （上式中、Ａ、Ｂ、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 およびＸ4 は前記
に同じ） 例えば、Ａ、Ｂがそれぞれ一般式（３）、（４）で表さ
れる基〔但し、Ｒが全て水素原子で、Ｚ1 、Ｚ2がいず
れも−Ｃ（ＣＨ3)2 −基〕で、かつ、Ｘ1 〜Ｘ4 が全て
酸素原子であるヒドロキシエーテル重合体は、例えば、
N. H. Reinkingら、J.Appl.Poly.Sci., ７，2135〜2144
（1963）、J.Appl.Poly.Sci., ７，2145〜2152（196
3）、J.Appl.Poly.Sci., ７，2153〜2160（1963）、ま
たは H. C. Silvis ら、J.Appl.Poly.Sci., 44，1751〜
1757（1992）などに記載の公知の方法に従って製造され
る。すなわち、ほぼ当モルのビスフェノールＡ−ジグリ
シジルエーテルとビスフェノールＡを、ジメチルアセト
アミド（ＤＭＡｃ）溶媒中、トリフェニルフォスフィン
（ＴＰＰ）触媒の存在下、１６０〜１７０℃にて、窒素
雰囲気下、５時間反応させることにより、ビスフェノー
ルＡ−ポリヒドロキシエーテルが製造される。
に同じ） 例えば、Ａ、Ｂがそれぞれ一般式（３）、（４）で表さ
れる基〔但し、Ｒが全て水素原子で、Ｚ1 、Ｚ2がいず
れも−Ｃ（ＣＨ3)2 −基〕で、かつ、Ｘ1 〜Ｘ4 が全て
酸素原子であるヒドロキシエーテル重合体は、例えば、
N. H. Reinkingら、J.Appl.Poly.Sci., ７，2135〜2144
（1963）、J.Appl.Poly.Sci., ７，2145〜2152（196
3）、J.Appl.Poly.Sci., ７，2153〜2160（1963）、ま
たは H. C. Silvis ら、J.Appl.Poly.Sci., 44，1751〜
1757（1992）などに記載の公知の方法に従って製造され
る。すなわち、ほぼ当モルのビスフェノールＡ−ジグリ
シジルエーテルとビスフェノールＡを、ジメチルアセト
アミド（ＤＭＡｃ）溶媒中、トリフェニルフォスフィン
（ＴＰＰ）触媒の存在下、１６０〜１７０℃にて、窒素
雰囲気下、５時間反応させることにより、ビスフェノー
ルＡ−ポリヒドロキシエーテルが製造される。
【００３７】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は、このようにして得られた原料である（チオ）エー
テル（共）重合体に、含硫または未含硫の各種のペンダ
ント化剤を反応させることにより、好適に製造される。
例えば、ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを
原料とする場合は、該ビスフェノールＡ−ポリヒドロキ
シエーテルに、メチルチオエチルチオエタノールトシル
エステルを、炭酸カリウムの存在下、１２０〜１３０℃
にて８時間反応させることによって、メチルチオエチル
チオエチル化ビスフェノールＡ−ポリエーテル重合体を
製造することができる。
体は、このようにして得られた原料である（チオ）エー
テル（共）重合体に、含硫または未含硫の各種のペンダ
ント化剤を反応させることにより、好適に製造される。
例えば、ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを
原料とする場合は、該ビスフェノールＡ−ポリヒドロキ
シエーテルに、メチルチオエチルチオエタノールトシル
エステルを、炭酸カリウムの存在下、１２０〜１３０℃
にて８時間反応させることによって、メチルチオエチル
チオエチル化ビスフェノールＡ−ポリエーテル重合体を
製造することができる。
【００３８】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体では、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％が−ＯＲ3
基および／または−ＳＲ4 基であるが、その量は、原料
のポリエーテル重合体の−ＯＨ基および／またはハロゲ
ン原子の当量と、ペンダント化剤の当量との比を制御す
ることにより、任意に制御することが可能である。
体では、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１００％が−ＯＲ3
基および／または−ＳＲ4 基であるが、その量は、原料
のポリエーテル重合体の−ＯＨ基および／またはハロゲ
ン原子の当量と、ペンダント化剤の当量との比を制御す
ることにより、任意に制御することが可能である。
【００３９】ポリヒドロキシエーテルの水酸基を、アル
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルキルカ
ルボニル基などでペンダント化したエーテル化またはア
シル化ポリエーテル重合体は、公知の化合物である。例
えば、J.Appl.Poly.Sci., ７、2135〜2144（1963）、特
開昭６３−１５６８２５号公報等に記載があるが、それ
らはいずれもペンダント基中に硫黄原子を含有しないも
のである。
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルキルカ
ルボニル基などでペンダント化したエーテル化またはア
シル化ポリエーテル重合体は、公知の化合物である。例
えば、J.Appl.Poly.Sci., ７、2135〜2144（1963）、特
開昭６３−１５６８２５号公報等に記載があるが、それ
らはいずれもペンダント基中に硫黄原子を含有しないも
のである。
【００４０】また、J.Appl.Poly.Sci., ７、2135〜2144
（1963）には、メルカプトメチルカルボニル基でペンダ
ント化されたポリエーテル重合体も記載されている。し
かし、本発明者らの検討では、該メルカプトメチルカル
ボニル化ポリエーテル重合体は、射出成形しようとした
場合、分子構造中のメルカプト基が空気酸化によってジ
スルフィド結合を生成して架橋し、溶融流動性が著しく
低下して、実質的に射出成形不可能であることが明らか
になった。
（1963）には、メルカプトメチルカルボニル基でペンダ
ント化されたポリエーテル重合体も記載されている。し
かし、本発明者らの検討では、該メルカプトメチルカル
ボニル化ポリエーテル重合体は、射出成形しようとした
場合、分子構造中のメルカプト基が空気酸化によってジ
スルフィド結合を生成して架橋し、溶融流動性が著しく
低下して、実質的に射出成形不可能であることが明らか
になった。
【００４１】メルカプト基以外の硫黄原子を含有する基
でペンダント化された本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、従来、全く知られていないものであ
り、その上、本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体が、高屈折率、高アッベ数等の優れた光学的特性を示
すことについても、これまでに全く知られていない。
でペンダント化された本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、従来、全く知られていないものであ
り、その上、本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体が、高屈折率、高アッベ数等の優れた光学的特性を示
すことについても、これまでに全く知られていない。
【００４２】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体の重量平均分子量は、特に限定するものではないが、
通常、５０００〜５０００００であり、好ましくは、１
００００〜４０００００であり、より好ましくは、５０
０００〜３０００００である。
体の重量平均分子量は、特に限定するものではないが、
通常、５０００〜５０００００であり、好ましくは、１
００００〜４０００００であり、より好ましくは、５０
０００〜３０００００である。
【００４３】本発明の光学部品は、本発明の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体を用いて得られるものであ
り、プラスチックレンズはもちろん、各種光学レンズ、
光ディスク基板、液晶プラスチック基板、ＬＥＤ封止材
などを代表とする光学部品が挙げられる。
オ）エーテル（共）重合体を用いて得られるものであ
り、プラスチックレンズはもちろん、各種光学レンズ、
光ディスク基板、液晶プラスチック基板、ＬＥＤ封止材
などを代表とする光学部品が挙げられる。
【００４４】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は、単独で、光学部品やプラスチックレンズとして使
用することは勿論、所望の効果を損なわない範囲で、他
の透明樹脂を配合つまりアロイ化して使用することも可
能である。かかるアロイ化樹脂中の本発明の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体の含有量は、通常、５０重量
％以上であり、好ましくは、７０重量％以上であり、よ
り好ましくは、８０重量％以上である。
体は、単独で、光学部品やプラスチックレンズとして使
用することは勿論、所望の効果を損なわない範囲で、他
の透明樹脂を配合つまりアロイ化して使用することも可
能である。かかるアロイ化樹脂中の本発明の含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体の含有量は、通常、５０重量
％以上であり、好ましくは、７０重量％以上であり、よ
り好ましくは、８０重量％以上である。
【００４５】使用し得る他の透明樹脂の例としては、ポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ビスフェノール
Ａ−ポリカーボネート（Ｂｉｓ−Ａ−ＰＣ）、ポリスチ
レン（ＰＳ）、メチルメタクリレート−スチレン共重合
ポリマー（ＭＳ）、スチレン−アクリロニトリル共重合
ポリマー（ＳＡＮ）、ポリ（４−メチルペンテン−１）
（ＴＰＸ）、ポリシクロオレフィン（ＣＯＰ）、含フッ
素ポリイミド（Ｆ−ＰＩ）、含フッ素ポリアミド（Ｆ−
ＰＡ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンオキシ
ド（ＰＰＯ）等が挙げられる。
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ビスフェノール
Ａ−ポリカーボネート（Ｂｉｓ−Ａ−ＰＣ）、ポリスチ
レン（ＰＳ）、メチルメタクリレート−スチレン共重合
ポリマー（ＭＳ）、スチレン−アクリロニトリル共重合
ポリマー（ＳＡＮ）、ポリ（４−メチルペンテン−１）
（ＴＰＸ）、ポリシクロオレフィン（ＣＯＰ）、含フッ
素ポリイミド（Ｆ−ＰＩ）、含フッ素ポリアミド（Ｆ−
ＰＡ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンオキシ
ド（ＰＰＯ）等が挙げられる。
【００４６】また、本発明の含硫（チオ）エーテル
（共）重合体は、単独で、もしくは、他の透明樹脂を配
合つまりアロイ化して光学部品等の成形材として使用す
る目的のために、本含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の製造時または製造後に公知の方法で、顔料、染料、熱
安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、難燃剤、
アルカリ金属スルフォン酸塩、ガラス繊維、ガラスビー
ズ、炭素繊維、硫酸バリウム、チタンオキサイド等の添
加剤を添加してもよい。
（共）重合体は、単独で、もしくは、他の透明樹脂を配
合つまりアロイ化して光学部品等の成形材として使用す
る目的のために、本含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の製造時または製造後に公知の方法で、顔料、染料、熱
安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、難燃剤、
アルカリ金属スルフォン酸塩、ガラス繊維、ガラスビー
ズ、炭素繊維、硫酸バリウム、チタンオキサイド等の添
加剤を添加してもよい。
【００４７】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は、単独で、他の透明樹脂を配合つまりアロイ化体
で、もしくは所望により上記の添加剤を加えた混合物の
状態で、成形材料として、前記の各種光学部品の他、電
気機器などのシャーシやハウジング材、電子部品、自動
車部品、ガラス代替の建材等に有用に使用することがで
きる。
体は、単独で、他の透明樹脂を配合つまりアロイ化体
で、もしくは所望により上記の添加剤を加えた混合物の
状態で、成形材料として、前記の各種光学部品の他、電
気機器などのシャーシやハウジング材、電子部品、自動
車部品、ガラス代替の建材等に有用に使用することがで
きる。
【００４８】本発明の含硫（チオ）エーテル（共）重合
体は熱可塑性であり、溶融状態で射出成形、押し出し成
形、ブロー成形、フィラー等への含浸等が可能であり、
さらには、圧縮成形、溶液キャスティングなど、各種公
知の成形方法により成形可能である。したがって、成形
時間も短く、生産性も極めて高い。このようにして得ら
れる本発明の光学部品は、、光学特性、機械的特性、熱
的特性に優れ、特に、高屈折性に優れており、実用的に
極めて有用である。
体は熱可塑性であり、溶融状態で射出成形、押し出し成
形、ブロー成形、フィラー等への含浸等が可能であり、
さらには、圧縮成形、溶液キャスティングなど、各種公
知の成形方法により成形可能である。したがって、成形
時間も短く、生産性も極めて高い。このようにして得ら
れる本発明の光学部品は、、光学特性、機械的特性、熱
的特性に優れ、特に、高屈折性に優れており、実用的に
極めて有用である。
【００４９】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に詳しく
述べるが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。なお、実施例中や表中に記載の物性の
測定法等は下記の通りである。
述べるが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。なお、実施例中や表中に記載の物性の
測定法等は下記の通りである。
【００５０】・ペンダント化率〔Ｐ化率（％）〕：水酸
基価測定あるいは核磁気共鳴分析13Ｃ−ＮＭＲスペクト
ル解析により決定する。この値は、原料の（チオ）エー
テル（共）重合体の（Ｙ1 ＋Ｙ2 ）のうち、アル キル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基等で置換さ
れた割合を示す。
基価測定あるいは核磁気共鳴分析13Ｃ−ＮＭＲスペクト
ル解析により決定する。この値は、原料の（チオ）エー
テル（共）重合体の（Ｙ1 ＋Ｙ2 ）のうち、アル キル
基、アリール基、ヘテロ環基またはアシル基等で置換さ
れた割合を示す。
【００５１】・重量平均分子量〔ＭＷ（ＰＳ換算）〕：
含硫（チオ）エーテル（共）重合体の０．２重量％−ジ
メチルホルムアミド溶液を、Ｇ ＰＣ（ゲル・パーミェ
ーションクロマトグラフィー）〔昭和電工製、System−
１１〕により測定し、重量平均分子量（ＭＷ）を求め
た。なお、測定値は、標 準ポリスチレン換算の値であ
る。 ・着色、透明性：肉眼で判定する。 ・屈折率（ｎd ）、アッベ数：プルフリッヒ屈折計を用
いて、２０℃で測定した。 ・熱変形温度：ＡＳＴＭ Ｄ６４８に準じ、１／２イン
チの厚みの試験片を用いて、荷重６６psi で測定した。
含硫（チオ）エーテル（共）重合体の０．２重量％−ジ
メチルホルムアミド溶液を、Ｇ ＰＣ（ゲル・パーミェ
ーションクロマトグラフィー）〔昭和電工製、System−
１１〕により測定し、重量平均分子量（ＭＷ）を求め
た。なお、測定値は、標 準ポリスチレン換算の値であ
る。 ・着色、透明性：肉眼で判定する。 ・屈折率（ｎd ）、アッベ数：プルフリッヒ屈折計を用
いて、２０℃で測定した。 ・熱変形温度：ＡＳＴＭ Ｄ６４８に準じ、１／２イン
チの厚みの試験片を用いて、荷重６６psi で測定した。
【００５２】実施例１ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド７０
０ｇ中に、ビスフェノールＡ２２８ｇ（１モル）、ビス
フェノールＡ−ジグリシジルエーテル３４０ｇ（エポキ
シ当量：１７０ｅｑ／ｇ）およびトリフェニルフォスフ
ィン１ｇを加え、窒素気流下、１６０〜１７０℃にて５
時間反応した。その後、８０〜９０℃にしてピリジン２
００ｇを加え、1,3,5-トリチアン-2- カルボン酸クロラ
イド４２１ｇ（２．１モル）を３時間かけて滴下した。
同温度でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得
られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合
物を、テトラヒドロフラン５００ｇに溶解し、３Ｌのメ
タノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴
下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタ
ノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾
燥し、重合体６５２ｇを得た。なお、水酸基のエステル
化率（ペンダント化率と同じ）は９８％であった。得ら
れた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子
量（ポリスチレン換算）は、１５６０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率（ｎd ）は１．６１６、アッベ数
は３５．１であった。また、本重合体の熱変形温度は、
１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド７０
０ｇ中に、ビスフェノールＡ２２８ｇ（１モル）、ビス
フェノールＡ−ジグリシジルエーテル３４０ｇ（エポキ
シ当量：１７０ｅｑ／ｇ）およびトリフェニルフォスフ
ィン１ｇを加え、窒素気流下、１６０〜１７０℃にて５
時間反応した。その後、８０〜９０℃にしてピリジン２
００ｇを加え、1,3,5-トリチアン-2- カルボン酸クロラ
イド４２１ｇ（２．１モル）を３時間かけて滴下した。
同温度でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得
られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合
物を、テトラヒドロフラン５００ｇに溶解し、３Ｌのメ
タノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴
下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタ
ノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾
燥し、重合体６５２ｇを得た。なお、水酸基のエステル
化率（ペンダント化率と同じ）は９８％であった。得ら
れた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子
量（ポリスチレン換算）は、１５６０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率（ｎd ）は１．６１６、アッベ数
は３５．１であった。また、本重合体の熱変形温度は、
１２０℃以上で良好であった。
【００５３】実施例２〜７ 実施例１と同様にして、表１に示す芳香族ジオール化合
物とそのジグリシジルエーテル化合物を反応してポリヒ
ドロキシエーテル化合物を得、含硫試剤（ペンダント化
剤と同じ意味を表す）により、アルキル化、アリール
化、ヘテロ環化またはアシル化して含硫（チオ）エーテ
ル（共）重合体を得た。なお、反応性が悪い場合はポリ
ヒドロキシエーテル化合物の水酸基をナトリウム塩とし
た後に、含硫試剤と反応した。得られた含硫（チオ）エ
ーテル（共）重合体は、いずれも、実施例１同様、優れ
た光学特性および耐熱性を有していた。結果を合わせて
表２に示す。なお、表２中の「ＭＷ（ＰＳ換算）」と
は、重量平均分子量を表し、ポリスチレン換算の値を示
す。「Ｐ化率」とは、反応中間体ポリヒドロキシエーテ
ル化合物の水酸基の含硫試剤によるペンダント化率を示
す（以下、同様）。このペンダント化率は、ポリヒドロ
キシエーテル重合体の水酸基の当量と、ペンダント化剤
の当量との比を制御することによって、制御した。
物とそのジグリシジルエーテル化合物を反応してポリヒ
ドロキシエーテル化合物を得、含硫試剤（ペンダント化
剤と同じ意味を表す）により、アルキル化、アリール
化、ヘテロ環化またはアシル化して含硫（チオ）エーテ
ル（共）重合体を得た。なお、反応性が悪い場合はポリ
ヒドロキシエーテル化合物の水酸基をナトリウム塩とし
た後に、含硫試剤と反応した。得られた含硫（チオ）エ
ーテル（共）重合体は、いずれも、実施例１同様、優れ
た光学特性および耐熱性を有していた。結果を合わせて
表２に示す。なお、表２中の「ＭＷ（ＰＳ換算）」と
は、重量平均分子量を表し、ポリスチレン換算の値を示
す。「Ｐ化率」とは、反応中間体ポリヒドロキシエーテ
ル化合物の水酸基の含硫試剤によるペンダント化率を示
す（以下、同様）。このペンダント化率は、ポリヒドロ
キシエーテル重合体の水酸基の当量と、ペンダント化剤
の当量との比を制御することによって、制御した。
【００５４】
【表１】
【００５５】
【表２】 実施例８ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３５０ｇ中に、ヒドロキ
ノン１１０ｇ（１モル）、ビスフェノールＳ−ジ−２−
メチルグリシジルエーテル３７４ｇ（エポキシ当量：１
８７ｅｑ／ｇ）およびトリフェニルフォスフィン１ｇを
加え、窒素気流下、１６０〜１７０℃にて５時間反応し
た。その後、１３０〜１４０℃にして炭酸カリウム１０
０ｇを加え、メチルチオエチルトシレート３００ｇを３
時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌した後
室温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇ
に溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体５３６ｇを得た。な
お、水酸基のペンダント化率は９９％であった。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量
は、１８２０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は
１．６０８、アッベ数は３７．２であった。また、本重
合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
ノン１１０ｇ（１モル）、ビスフェノールＳ−ジ−２−
メチルグリシジルエーテル３７４ｇ（エポキシ当量：１
８７ｅｑ／ｇ）およびトリフェニルフォスフィン１ｇを
加え、窒素気流下、１６０〜１７０℃にて５時間反応し
た。その後、１３０〜１４０℃にして炭酸カリウム１０
０ｇを加え、メチルチオエチルトシレート３００ｇを３
時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌した後
室温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇ
に溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体５３６ｇを得た。な
お、水酸基のペンダント化率は９９％であった。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量
は、１８２０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は
１．６０８、アッベ数は３７．２であった。また、本重
合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【００５６】実施例９〜１８ 実施例８と同様にして、表３に示す芳香族ジオール化合
物とそれと異なる芳香族ジオール化合物のジグリシジル
エーテル化合物を反応してポリヒドロキシエーテル化合
物を得、含硫試剤によりペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。なお、反応性が悪い場合
はポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基をナトリウム
塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られた含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実施例８同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表４に示す。
物とそれと異なる芳香族ジオール化合物のジグリシジル
エーテル化合物を反応してポリヒドロキシエーテル化合
物を得、含硫試剤によりペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。なお、反応性が悪い場合
はポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基をナトリウム
塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られた含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実施例８同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表４に示す。
【００５７】
【表３】
【００５８】
【表４】
【００５９】
【表５】 実施例１９ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１７０ｇ／ｅｑ）３５．７ｇ、ビス
フェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）、およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１７０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．５８ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で７時間攪拌して反応を終了した。その
後、５０〜６０℃にして炭酸カリウム２７ｇを加え、エ
チルチオエチルトシレート５２ｇ（０．２モル）を３時
間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌した後室
温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタノ
ール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇ
に溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体６９ｇを得た。なお、
水酸基のペンダント化率は７９％であった。得られた含
硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、
２０１５００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．
５９６、アッベ数は３２．８であった。また、本重合体
の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１７０ｇ／ｅｑ）３５．７ｇ、ビス
フェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）、およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１７０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．５８ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で７時間攪拌して反応を終了した。その
後、５０〜６０℃にして炭酸カリウム２７ｇを加え、エ
チルチオエチルトシレート５２ｇ（０．２モル）を３時
間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌した後室
温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタノ
ール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇ
に溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体６９ｇを得た。なお、
水酸基のペンダント化率は７９％であった。得られた含
硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、
２０１５００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．
５９６、アッベ数は３２．８であった。また、本重合体
の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【００６０】実施例２０〜２９ 実施例１９と同じポリヒドロキシエーテル化合物を使用
して、表５に示す含硫試剤によりペンダント化して含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応性が悪
い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基を
ナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実
施例１９同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。結果を合わせて表５に示した。
して、表５に示す含硫試剤によりペンダント化して含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応性が悪
い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基を
ナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実
施例１９同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。結果を合わせて表５に示した。
【００６１】
【表６】 実施例３０ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９．９ｇ、ビス
フェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）およびＮ，Ｎ’
−ジメチルアセトアミド１５０ｍｌを装入する。窒素雰
囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニル
フォスフィン０．６２ｇを添加する。温度を徐々に上げ
て１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その後、
４０〜５０℃にして、トリエチルアミン４０．４ｇを加
え、１，３−ジチオラン-2- カルボン酸クロライド４
６．２ｇ（０．２５モル）を３時間かけて滴下した。同
温度でさらに８時間撹拌した後、室温まで冷却した。得
られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合
物を、テトラヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメ
タノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴
下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタ
ノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾
燥し、重合体７８ｇを得た。なお、水酸基のペンダント
化率は９９％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１２６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６２２、アッベ数は
３１．０であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９．９ｇ、ビス
フェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）およびＮ，Ｎ’
−ジメチルアセトアミド１５０ｍｌを装入する。窒素雰
囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニル
フォスフィン０．６２ｇを添加する。温度を徐々に上げ
て１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その後、
４０〜５０℃にして、トリエチルアミン４０．４ｇを加
え、１，３−ジチオラン-2- カルボン酸クロライド４
６．２ｇ（０．２５モル）を３時間かけて滴下した。同
温度でさらに８時間撹拌した後、室温まで冷却した。得
られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合
物を、テトラヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメ
タノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴
下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタ
ノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾
燥し、重合体７８ｇを得た。なお、水酸基のペンダント
化率は９９％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１２６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６２２、アッベ数は
３１．０であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
【００６２】実施例３１〜４０ 実施例３０と同じポリヒドロキシエーテル化合物を使用
して、表６に示す含硫試剤によりペンダント化して含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応性が悪
い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基を
ナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実
施例３０同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。結果を合わせて表６に示した。
して、表６に示す含硫試剤によりペンダント化して含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応性が悪
い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水酸基を
ナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。得られ
た含硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実
施例３０同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。結果を合わせて表６に示した。
【００６３】
【表７】 実施例４１ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、実施例１と同様の出発原料を加え、窒
素気流下、１６０〜１７０℃にて５時間反応した後、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加え、室温
まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌している水
１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、ポリマー
を晶析した後、濾過、水洗、乾燥して、ビスフェノール
Ａ−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたビスフェ
ノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを５ｋｇのピリジン
に溶解し、この溶液に塩化トシル３４３ｇ（１．８モ
ル）を室温にて１時間かけて添加し、５時間撹拌した
後、６０〜７０℃にてさらに５時間撹拌し、室温まで冷
却した。この反応溶液を、水−メタノール(3:1) 混合溶
液４０ｋｇ中に３時間かけて滴下して、ポリマーを晶析
した後、濾過、水洗、乾燥した。得られたトシル化ビス
フェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルをＮ，Ｎ−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１ｋｇに溶解
し、８０〜９０℃にてソジュウムメチルメルカプタン１
２６ｇ（１．８モル）を３時間かけて添加した。同温度
でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた
反応混合物を、６Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留
水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌに撹
拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。これを濾過
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得ら
れた重合体は５５２ｇであった。なお、水酸基のペンダ
ント化率は８１％であった。得られた含硫（チオ）エー
テル（共）重合体の重量平均分子量は、２３１０００
で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６０６、アッ
ベ数は３０．１であった。また、本重合体の熱変形温度
は、１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、実施例１と同様の出発原料を加え、窒
素気流下、１６０〜１７０℃にて５時間反応した後、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加え、室温
まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌している水
１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、ポリマー
を晶析した後、濾過、水洗、乾燥して、ビスフェノール
Ａ−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたビスフェ
ノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを５ｋｇのピリジン
に溶解し、この溶液に塩化トシル３４３ｇ（１．８モ
ル）を室温にて１時間かけて添加し、５時間撹拌した
後、６０〜７０℃にてさらに５時間撹拌し、室温まで冷
却した。この反応溶液を、水−メタノール(3:1) 混合溶
液４０ｋｇ中に３時間かけて滴下して、ポリマーを晶析
した後、濾過、水洗、乾燥した。得られたトシル化ビス
フェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルをＮ，Ｎ−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１ｋｇに溶解
し、８０〜９０℃にてソジュウムメチルメルカプタン１
２６ｇ（１．８モル）を３時間かけて添加した。同温度
でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた
反応混合物を、６Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留
水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌに撹
拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。これを濾過
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得ら
れた重合体は５５２ｇであった。なお、水酸基のペンダ
ント化率は８１％であった。得られた含硫（チオ）エー
テル（共）重合体の重量平均分子量は、２３１０００
で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６０６、アッ
ベ数は３０．１であった。また、本重合体の熱変形温度
は、１２０℃以上で良好であった。
【００６４】実施例４２〜５０ 実施例４１と同様にして、表７に示す芳香族ジオール化
合物とそのジグリシジルエーテル化合物を出発原料とし
て、トシル化ポリヒドロキシエーテル化合物を得、これ
に、表７に示した含−ＳＮａペンダント化剤と反応して
含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。得られた含
硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実施例
４１同様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。
結果を合わせて表８に示す。
合物とそのジグリシジルエーテル化合物を出発原料とし
て、トシル化ポリヒドロキシエーテル化合物を得、これ
に、表７に示した含−ＳＮａペンダント化剤と反応して
含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。得られた含
硫（チオ）エーテル（共）重合体は、いずれも、実施例
４１同様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。
結果を合わせて表８に示す。
【００６５】
【表８】
【００６６】
【表９】 実施例５１ 芳香族ジオールとしてヒドロキノン１１０ｇ、芳香族ジ
オールのジグリシジルエーテルとしてビスフェノールＳ
−ジ−２−メチルグリシジルエーテル３７４ｇおよび含
−ＳＮａペンダント化剤としてイソプロピルチオエチル
メルカプタンのナトリウム塩６４ｇを用いた以外は実施
例４１と全く同様にして、重合体４９５ｇを得た。な
お、ペンダント化率１５％であった。得られた含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１７７
０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６０
２、アッベ数は３２．３であった。また、本重合体の熱
変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
オールのジグリシジルエーテルとしてビスフェノールＳ
−ジ−２−メチルグリシジルエーテル３７４ｇおよび含
−ＳＮａペンダント化剤としてイソプロピルチオエチル
メルカプタンのナトリウム塩６４ｇを用いた以外は実施
例４１と全く同様にして、重合体４９５ｇを得た。な
お、ペンダント化率１５％であった。得られた含硫（チ
オ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１７７
０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６０
２、アッベ数は３２．３であった。また、本重合体の熱
変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【００６７】実施例５２〜５９ 実施例５１と同様にして、表９に示す芳香族ジオール化
合物とそれと異なる芳香族ジオール化合物のジグリシジ
ルエーテル化合物を出発原料として、トシル化ポリヒド
ロキシエーテル化合物を得、表９に示した含−ＳＮａペ
ンダント化剤と反応して含硫（チオ）エーテル（共）重
合体を得た。いずれも、実施例５１同様、優れた光学特
性および耐熱性を有していた。結果を合わせて表１０に
示す。
合物とそれと異なる芳香族ジオール化合物のジグリシジ
ルエーテル化合物を出発原料として、トシル化ポリヒド
ロキシエーテル化合物を得、表９に示した含−ＳＮａペ
ンダント化剤と反応して含硫（チオ）エーテル（共）重
合体を得た。いずれも、実施例５１同様、優れた光学特
性および耐熱性を有していた。結果を合わせて表１０に
示す。
【００６８】
【表１０】
【００６９】
【表１１】 実施例６０ 実施例１９と同様の出発原料を用いて、同様に反応を終
了した。反応液を室温まで冷却後、トリエチルアミン２
０２ｇを加える。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ
（２．５モル）を室温にて１時間かけて添加し、室温で
さらに１０時間撹拌してトシル化を終了した。この反応
混合物を、水−メタノール（４：１）混合溶液３Ｌ中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌの水で洗浄し後、乾
燥しトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒ
ドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン（ＤＭｉ）２ｋｇに溶解する。次に、室温にて
シクロヘキサンチオールのナトリウム塩３４５ｇ（２．
５モル）を添加し、室温で１２時間攪拌して反応を終了
した。得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水３Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２．５ｋｇ中に攪拌分散し、９０〜１００℃に
て熱処理した。これを濾過し、蒸留水２Ｌで洗浄した
後、乾燥した。得られた重合体は７１１ｇであった。な
お、水酸基のシクロヘキシルチオ置換率〔ペンダント化
率〕は８５％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、２０６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．５９５、アッベ数は
３３．５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
了した。反応液を室温まで冷却後、トリエチルアミン２
０２ｇを加える。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ
（２．５モル）を室温にて１時間かけて添加し、室温で
さらに１０時間撹拌してトシル化を終了した。この反応
混合物を、水−メタノール（４：１）混合溶液３Ｌ中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌの水で洗浄し後、乾
燥しトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒ
ドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン（ＤＭｉ）２ｋｇに溶解する。次に、室温にて
シクロヘキサンチオールのナトリウム塩３４５ｇ（２．
５モル）を添加し、室温で１２時間攪拌して反応を終了
した。得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水３Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２．５ｋｇ中に攪拌分散し、９０〜１００℃に
て熱処理した。これを濾過し、蒸留水２Ｌで洗浄した
後、乾燥した。得られた重合体は７１１ｇであった。な
お、水酸基のシクロヘキシルチオ置換率〔ペンダント化
率〕は８５％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、２０６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．５９５、アッベ数は
３３．５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
【００７０】実施例６１〜７０ 実施例６０と同じトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒド
ロキシエーテルを用いて、表１１に示す含硫試剤によ
り、実施例６０と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例６０同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１１に示した。
ロキシエーテルを用いて、表１１に示す含硫試剤によ
り、実施例６０と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例６０同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１１に示した。
【００７１】
【表１２】 実施例７１ 実施例３０と同様の出発原料を用いて、同様に反応を終
了した。反応液を室温まで冷却後、ピリジン１６ｇを加
える。この溶液に、塩化トシル１１．４ｇ（０．０６モ
ル）を室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０
時間撹拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、
水−メタノール（４：１）混合溶液３Ｌ中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル
化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを得た。
得られたトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエ
ーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）１５０ｇに溶解する。次に、室温にてチオフ
ェノールのナトリウム塩７．９ｇ（０．０６モル）を添
加し、室温で１３時間攪拌して反応を終了した。得られ
た反応混合物を、１Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、２００ｍｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水４００ｍｌで洗浄した後、ウエットケーキを
蒸留水２５０ｍｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて
熱処理した。これを濾過し、蒸留水２００ｍｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６０ｇであった。な
お、水酸基のフェニルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
２５％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１４２０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６００、アッベ数は３０．
５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
了した。反応液を室温まで冷却後、ピリジン１６ｇを加
える。この溶液に、塩化トシル１１．４ｇ（０．０６モ
ル）を室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０
時間撹拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、
水−メタノール（４：１）混合溶液３Ｌ中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル
化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを得た。
得られたトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒドロキシエ
ーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）１５０ｇに溶解する。次に、室温にてチオフ
ェノールのナトリウム塩７．９ｇ（０．０６モル）を添
加し、室温で１３時間攪拌して反応を終了した。得られ
た反応混合物を、１Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、２００ｍｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水４００ｍｌで洗浄した後、ウエットケーキを
蒸留水２５０ｍｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて
熱処理した。これを濾過し、蒸留水２００ｍｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６０ｇであった。な
お、水酸基のフェニルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
２５％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１４２０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６００、アッベ数は３０．
５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
【００７２】実施例７２〜７６ 実施例７１と同じトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒド
ロキシエーテルを用いて、表１２に示す含硫試剤によ
り、実施例７１と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例７１同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１２に示した。
ロキシエーテルを用いて、表１２に示す含硫試剤によ
り、実施例７１と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例７１同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１２に示した。
【００７３】
【表１３】 実施例７７ 塩化トシル３０．５ｇ（０．１６モル）使用した以外
は、実施例６０と同様にしてトシル化ビスフェノールＡ
−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたトシル化ビ
スフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）２５０ｇに
溶解し、次に、室温にてメチルチオエチルメルカプタン
のナトリウム塩２０．８ｇ（０．１６モル）を添加し、
室温で１５時間攪拌して反応を終了した。得られた反応
混合物を、１．５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、２５０ｍｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水４００ｍｌで洗浄した後、ウエットケーキを
蒸留水２５０ｍｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて
熱処理した。これを濾過し、蒸留水２００ｍｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６５ｇであった。な
お、水酸基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント
化率〕は７５％であった。得られた含硫（チオ）エーテ
ル（共）重合体の重量平均分子量は、１８２５００で、
無色透明であり、且つ、屈折率は１．６１８、アッベ数
は３１．２であった。また、本重合体の熱変形温度は、
１２０℃以上で良好であった。
は、実施例６０と同様にしてトシル化ビスフェノールＡ
−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたトシル化ビ
スフェノールＡ−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−
ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）２５０ｇに
溶解し、次に、室温にてメチルチオエチルメルカプタン
のナトリウム塩２０．８ｇ（０．１６モル）を添加し、
室温で１５時間攪拌して反応を終了した。得られた反応
混合物を、１．５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、２５０ｍｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水４００ｍｌで洗浄した後、ウエットケーキを
蒸留水２５０ｍｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて
熱処理した。これを濾過し、蒸留水２００ｍｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６５ｇであった。な
お、水酸基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント
化率〕は７５％であった。得られた含硫（チオ）エーテ
ル（共）重合体の重量平均分子量は、１８２５００で、
無色透明であり、且つ、屈折率は１．６１８、アッベ数
は３１．２であった。また、本重合体の熱変形温度は、
１２０℃以上で良好であった。
【００７４】実施例７８〜８２ 実施例７７と同じトシル化ビスフェノールＡ−ポリヒド
ロキシエーテルを用いて、表１３に示す含硫試剤によ
り、実施例７７と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例７７同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１３に示した。
ロキシエーテルを用いて、表１３に示す含硫試剤によ
り、実施例７７と同様にペンダント化して含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例７７同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。結果を
合わせて表１３に示した。
【００７５】
【表１４】 実施例８３ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３５０ｇ中に、２，２−
ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ
（１．０モル）、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル３４０ｇ（１．０モル）およびトリフェニルフォス
フィン１ｇを加え、窒素気流下、１００℃にて５時間反
応し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加
え、室温まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌し
ている水１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、
ポリマーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られ
たポリヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテル重合体を５
ｋｇのピリジンに溶解し、この溶液に塩化トシル３４３
ｇ（１．８モル）を室温にて１時間かけて添加し、５時
間撹拌した後、６０〜７０℃にてさらに５時間撹拌し、
室温まで冷却した。この反応溶液を、水−メタノール
(3:1) 混合溶液４０ｋｇ中に３時間かけて滴下して、ポ
リマーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られた
トシル化ポリヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテルを
Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１
ｋｇに溶解し、８０〜９０℃にてソジュウムメチルメル
カプタン１２６ｇ（１．８モル）を３時間かけて添加し
た。同温度でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却し
た。得られた反応混合物を、６Ｌのメタノール中に撹拌
を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析
出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、
さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸
留水２Ｌに撹拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理し
た。これを濾過し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、
乾燥した。得られた重合体は５４６ｇであった。なお、
水酸基のメチルチオ置換率〔以後、ペンダント化率とい
う〕は８２％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１８９０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６３７、アッベ数は
３０．０であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ
（１．０モル）、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル３４０ｇ（１．０モル）およびトリフェニルフォス
フィン１ｇを加え、窒素気流下、１００℃にて５時間反
応し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加
え、室温まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌し
ている水１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、
ポリマーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られ
たポリヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテル重合体を５
ｋｇのピリジンに溶解し、この溶液に塩化トシル３４３
ｇ（１．８モル）を室温にて１時間かけて添加し、５時
間撹拌した後、６０〜７０℃にてさらに５時間撹拌し、
室温まで冷却した。この反応溶液を、水−メタノール
(3:1) 混合溶液４０ｋｇ中に３時間かけて滴下して、ポ
リマーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られた
トシル化ポリヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテルを
Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１
ｋｇに溶解し、８０〜９０℃にてソジュウムメチルメル
カプタン１２６ｇ（１．８モル）を３時間かけて添加し
た。同温度でさらに３時間撹拌した後室温まで冷却し
た。得られた反応混合物を、６Ｌのメタノール中に撹拌
を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析
出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、
さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸
留水２Ｌに撹拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理し
た。これを濾過し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、
乾燥した。得られた重合体は５４６ｇであった。なお、
水酸基のメチルチオ置換率〔以後、ペンダント化率とい
う〕は８２％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１８９０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６３７、アッベ数は
３０．０であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
【００７６】実施例８４〜１０３ 実施例８３と同様にして、表１４に示すジチオール化合
物と同じ構造母核を有するジグリシジルエーテル化合物
を出発原料として、トシル化ポリヒドロキシ−チオ、オ
キシ−エーテル化合物を得た。これに、表１４に示した
ペンダント化剤（Ｎａ塩）を、反応させて含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例８３同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。生成重
合体およびその光学特性の測定結果を表１５に示した。
物と同じ構造母核を有するジグリシジルエーテル化合物
を出発原料として、トシル化ポリヒドロキシ−チオ、オ
キシ−エーテル化合物を得た。これに、表１４に示した
ペンダント化剤（Ｎａ塩）を、反応させて含硫（チオ）
エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実施例８３同
様、優れた光学特性および耐熱性を有していた。生成重
合体およびその光学特性の測定結果を表１５に示した。
【００７７】
【表１５】
【００７８】
【表１６】
【００７９】
【表１７】
【００８０】
【表１８】 実施例１０４ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３５０ｇ中に、2,2-ビス
（4-メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ（１．０モ
ル）、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル３４０
ｇ（１．０モル）およびトリフェニルフォスフィン１ｇ
を加え、窒素気流下、１００〜１１０℃にて５時間反応
し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加え、
室温まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌してい
る水１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、ポリ
マーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られたポ
リヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテル化合物を、臭化
チオニル４３０ｇ（２．１モル）およびピリジン２ｇを
含有するクロルベンゼン溶液４ｋｇに激しく撹拌しなが
ら３時間かけて添加し、５時間撹拌した後、４０〜５０
℃にてさらに５時間撹拌し、室温まで冷却した。この反
応溶液を、減圧下、未反応の臭化チオニルを留去した
後、メタノール４０ｋｇ中に３時間かけて滴下した。晶
析したポリマーを濾過、水洗、乾燥した。得られたポリ
ブロム−チオ、オキシ−エーテル化合物をＮ，Ｎ−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１ｋｇに溶解
し、８０〜９０℃にてソジウムエチルメルカプタン１７
０ｇ（２．０モル）を３時間かけて添加した。１３０〜
１４０℃でさらに５時間撹拌した後室温まで冷却した。
得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に撹拌を
激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出
させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さ
らに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留
水２Ｌに撹拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。
これを濾過し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は６１５ｇであった。なお、臭素
基のエチルチオ置換率（ペンダント化率）は９４％であ
った。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重
量平均分子量は、１９３０００で、無色透明であり、且
つ、屈折率は１．６３１、アッベ数は３０．１であっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
（4-メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ（１．０モ
ル）、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル３４０
ｇ（１．０モル）およびトリフェニルフォスフィン１ｇ
を加え、窒素気流下、１００〜１１０℃にて５時間反応
し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを２５００ｇ加え、
室温まで冷却した。その反応溶液を、激しく撹拌してい
る水１０ｋｇ中に５時間かけてゆっくり滴下して、ポリ
マーを晶析した後、濾過、水洗、乾燥した。得られたポ
リヒドロキシ−チオ、オキシ−エーテル化合物を、臭化
チオニル４３０ｇ（２．１モル）およびピリジン２ｇを
含有するクロルベンゼン溶液４ｋｇに激しく撹拌しなが
ら３時間かけて添加し、５時間撹拌した後、４０〜５０
℃にてさらに５時間撹拌し、室温まで冷却した。この反
応溶液を、減圧下、未反応の臭化チオニルを留去した
後、メタノール４０ｋｇ中に３時間かけて滴下した。晶
析したポリマーを濾過、水洗、乾燥した。得られたポリ
ブロム−チオ、オキシ−エーテル化合物をＮ，Ｎ−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１ｋｇに溶解
し、８０〜９０℃にてソジウムエチルメルカプタン１７
０ｇ（２．０モル）を３時間かけて添加した。１３０〜
１４０℃でさらに５時間撹拌した後室温まで冷却した。
得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に撹拌を
激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出
させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さ
らに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留
水２Ｌに撹拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。
これを濾過し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は６１５ｇであった。なお、臭素
基のエチルチオ置換率（ペンダント化率）は９４％であ
った。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重
量平均分子量は、１９３０００で、無色透明であり、且
つ、屈折率は１．６３１、アッベ数は３０．１であっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
【００８１】実施例１０５〜１０８ 実施例１０４と同様にして、表１６に示すジチオール化
合物とそれと異なる構造母核のジグリシジルエーテル化
合物を出発原料として、ポリブロム−チオ、オキシ−エ
ーテル化合物を得た。これに、表１６に示したペンダン
ト化剤（Ｎａ塩またはＫ塩）を、反応させて反応して含
硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実
施例６４同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。生成重合体およびその光学特性の測定結果を表１７
に示した。
合物とそれと異なる構造母核のジグリシジルエーテル化
合物を出発原料として、ポリブロム−チオ、オキシ−エ
ーテル化合物を得た。これに、表１６に示したペンダン
ト化剤（Ｎａ塩またはＫ塩）を、反応させて反応して含
硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれも、実
施例６４同様、優れた光学特性および耐熱性を有してい
た。生成重合体およびその光学特性の測定結果を表１７
に示した。
【００８２】
【表１９】
【００８３】
【表２０】 実施例１０９ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシビフェ
ニル３１．３ｇ（エポキシ当量１４９．２ｇ／ｅｑ）、
ビスフェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．５４ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その
後、８０から９０℃にして、トリエチルアミン４０．４
ｇを加え、１，３，５−トリチアン−２−カルボン酸ク
ロライド５０．１ｇ（０．２５モル）を３時間かけて滴
下した。同温度でさらに３時間撹拌した後、室温まで冷
却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得ら
れた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇに溶解し、
３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間
かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１
Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄し
た後、乾燥し、重合体７６ｇを得た。なお、水酸基のペ
ンダント化率は９８％であった。得られた含硫（チオ）
エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１８６００
０で、無色透明であり、且つ、屈折率１．６３５は、ア
ッベ数３０．９はであった。また、本重合体の熱変形温
度は、１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシビフェ
ニル３１．３ｇ（エポキシ当量１４９．２ｇ／ｅｑ）、
ビスフェノールＡ２２．８ｇ（０．１モル）およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１５０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．５４ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その
後、８０から９０℃にして、トリエチルアミン４０．４
ｇを加え、１，３，５−トリチアン−２−カルボン酸ク
ロライド５０．１ｇ（０．２５モル）を３時間かけて滴
下した。同温度でさらに３時間撹拌した後、室温まで冷
却した。得られた反応混合物を、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥した。得ら
れた重合物を、テトラヒドロフラン２００ｇに溶解し、
３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間
かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１
Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄し
た後、乾燥し、重合体７６ｇを得た。なお、水酸基のペ
ンダント化率は９８％であった。得られた含硫（チオ）
エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１８６００
０で、無色透明であり、且つ、屈折率１．６３５は、ア
ッベ数３０．９はであった。また、本重合体の熱変形温
度は、１２０℃以上で良好であった。
【００８４】実施例１１０〜１２１ 実施例１０９と同様のポリヒドロキシエーテル化合物を
使用して、表１８に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１０９同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表１８に示した。
使用して、表１８に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１０９同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表１８に示した。
【００８５】
【表２１】 実施例１２２ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９．９ｇ、４，
４’−ジヒドロキシビフェニル１８．６ｇ（０．１モ
ル）、およびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１７０ｍ
ｌを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃まで上
げた後、トリフェニルフォスフィン０．６０ｇを添加す
る。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、１３０〜１４０℃にして炭酸カリ
ウム２７ｇを加え、メチルチオエチルトシレート５７ｇ
（０．２５モル）を３時間かけて滴下した。同温度でさ
らに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応
混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、テトラ
ヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体
６８ｇを得た。なお、水酸基のペンダント化率は９９％
であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の重量平均分子量は、１５４０００で、無色透明であ
り、且つ、屈折率は１．６１０、アッベ数は３１．９で
あった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上
で良好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９．９ｇ、４，
４’−ジヒドロキシビフェニル１８．６ｇ（０．１モ
ル）、およびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１７０ｍ
ｌを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃まで上
げた後、トリフェニルフォスフィン０．６０ｇを添加す
る。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、１３０〜１４０℃にして炭酸カリ
ウム２７ｇを加え、メチルチオエチルトシレート５７ｇ
（０．２５モル）を３時間かけて滴下した。同温度でさ
らに３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応
混合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、テトラ
ヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体
６８ｇを得た。なお、水酸基のペンダント化率は９９％
であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の重量平均分子量は、１５４０００で、無色透明であ
り、且つ、屈折率は１．６１０、アッベ数は３１．９で
あった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上
で良好であった。
【００８６】実施例１２３〜１２６ 実施例１２２と同様のポリヒドロキシエーテル化合物を
使用して、表１９に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１２２同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表１９に示す。
使用して、表１９に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１２２同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表１９に示す。
【００８７】
【表２２】 実施例１２７ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシ−３，
５，３’，５’−テトラメチル−ビフェニル（エポキシ
当量１７７．２ｇ／ｅｑ）３７．２ｇ、ビスフェノール
Ａ２２．８ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１
７０ｍｌを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃
まで上げた後、トリフェニルフォスフィン０．６０ｇを
添加する。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌し
て反応を終了した。その後、１３０〜１４０℃にして炭
酸カリウム２７ｇを加え、エチルチオエチルトシレート
３５ｇを３時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間
撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応混合物を、
３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間
かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１
Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合物を、テトラヒドロフラ
ン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体６３ｇを
得た。なお、水酸基のペンダント化率は５９％であっ
た。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量
平均分子量は、２０９０００で、無色透明であり、且
つ、屈折率は１．５８５、アッベ数は３２．６であっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシ−３，
５，３’，５’−テトラメチル−ビフェニル（エポキシ
当量１７７．２ｇ／ｅｑ）３７．２ｇ、ビスフェノール
Ａ２２．８ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１
７０ｍｌを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃
まで上げた後、トリフェニルフォスフィン０．６０ｇを
添加する。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌し
て反応を終了した。その後、１３０〜１４０℃にして炭
酸カリウム２７ｇを加え、エチルチオエチルトシレート
３５ｇを３時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間
撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応混合物を、
３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間
かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１
Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合物を、テトラヒドロフラ
ン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激し
く行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させ
た。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さら
に、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体６３ｇを
得た。なお、水酸基のペンダント化率は５９％であっ
た。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体の重量
平均分子量は、２０９０００で、無色透明であり、且
つ、屈折率は１．５８５、アッベ数は３２．６であっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
【００８８】実施例１２８〜１３１ 実施例１２７と同様のポリヒドロキシエーテル化合物を
使用して、表２０に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１２７様、優れた光学特性および耐熱
性を有していた。結果を合わせて表２０に示す。
使用して、表２０に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１２７様、優れた光学特性および耐熱
性を有していた。結果を合わせて表２０に示す。
【００８９】
【表２３】 実施例１３２ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノール−Ａ−２−メチルグリ
シジルエーテル（エポキシ当量１８４．３ｇ／ｅｑ）３
８．７ｇ、４，４’−ジヒドロキシ−３，５，３’，
５’−テトラブロモビフェニル５０．１ｇおよびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド２５０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．９３ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で４時間攪拌後、内温を８０〜９０℃に
してピリジン４７ｇを加え、４−メチルチオフェニルト
シレート７０ｇを３時間かけて添加した。同温度でさら
に３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応混
合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、テトラ
ヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体
９３ｇを得た。なお、水酸基のペンダント化率は３２％
であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の重量平均分子量は、２１００００で、無色透明であ
り、且つ、屈折率１．６３１は、アッベ数３０はであっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノール−Ａ−２−メチルグリ
シジルエーテル（エポキシ当量１８４．３ｇ／ｅｑ）３
８．７ｇ、４，４’−ジヒドロキシ−３，５，３’，
５’−テトラブロモビフェニル５０．１ｇおよびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド２５０ｍｌを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン０．９３ｇを添加する。温度を徐々に
上げて１６０℃で４時間攪拌後、内温を８０〜９０℃に
してピリジン４７ｇを加え、４−メチルチオフェニルト
シレート７０ｇを３時間かけて添加した。同温度でさら
に３時間撹拌した後室温まで冷却した。得られた反応混
合物を、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを
濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２
Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、テトラ
ヒドロフラン２００ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体
９３ｇを得た。なお、水酸基のペンダント化率は３２％
であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体
の重量平均分子量は、２１００００で、無色透明であ
り、且つ、屈折率１．６３１は、アッベ数３０はであっ
た。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃以上で良
好であった。
【００９０】実施例１３３〜１３６ 実施例１３２と同様のポリヒドロキシエーテル化合物を
使用して、表２１に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１３２同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表２１に示す。
使用して、表２１に示す含硫試剤によりペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。尚、反応
性が悪い場合には、ポリヒドロキシエーテル化合物の水
酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反応した。
いずれも、実施例１３２同様、優れた光学特性および耐
熱性を有していた。結果を合わせて表２１に示す。
【００９１】
【表２４】 実施例１３７ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシビフェ
ニル３１３ｇ（エポキシ当量１４９．２ｇ／ｅｑ）、ビ
スフェノールＡ２２８ｇ（１モル）およびＮ，Ｎ’−ジ
メチルアセトアミド１．５ｋｇを装入する。窒素雰囲気
化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニルフォ
スフィン５．４ｇを添加する。温度を徐々に上げて１６
０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その後、反応液
を室温まで冷却後、トリエチルアミン４０４ｇを加え
る。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ（２．５モル）を
室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０時間撹
拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、水−メ
タノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル化
ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解す
る。次に、室温にてチオフェノールのナトリウム塩３３
０ｇ（２．５モル）を添加し、室温で１２時間攪拌して
反応を終了した。得られた反応混合物を、１５Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水３Ｌで洗浄した後、ウエ
ットケーキを蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００
℃にて熱処理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６９０ｇであった。
なお、水酸基のフェニルチオ置換率〔ペンダント化率〕
は９０％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１９６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６４８、アッベ数は
２７．５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシビフェ
ニル３１３ｇ（エポキシ当量１４９．２ｇ／ｅｑ）、ビ
スフェノールＡ２２８ｇ（１モル）およびＮ，Ｎ’−ジ
メチルアセトアミド１．５ｋｇを装入する。窒素雰囲気
化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニルフォ
スフィン５．４ｇを添加する。温度を徐々に上げて１６
０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その後、反応液
を室温まで冷却後、トリエチルアミン４０４ｇを加え
る。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ（２．５モル）を
室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０時間撹
拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、水−メ
タノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル化
ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解す
る。次に、室温にてチオフェノールのナトリウム塩３３
０ｇ（２．５モル）を添加し、室温で１２時間攪拌して
反応を終了した。得られた反応混合物を、１５Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水３Ｌで洗浄した後、ウエ
ットケーキを蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００
℃にて熱処理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄し
た後、乾燥した。得られた重合体は６９０ｇであった。
なお、水酸基のフェニルチオ置換率〔ペンダント化率〕
は９０％であった。得られた含硫（チオ）エーテル
（共）重合体の重量平均分子量は、１９６０００で、無
色透明であり、且つ、屈折率は１．６４８、アッベ数は
２７．５であった。また、本重合体の熱変形温度は、１
２０℃以上で良好であった。
【００９２】実施例１３８〜１４６ 実施例１３７と同じトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２２に示す
含硫試剤により、実施例１３７と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１３８同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２２に示した。
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２２に示す
含硫試剤により、実施例１３７と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１３８同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２２に示した。
【００９３】
【表２５】 実施例１４７ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９９ｇ、４，
４’−ジヒドロキシビフェニル１８６ｇ、およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１．５ｋｇを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン６．０ｇを添加する。温度を徐々に上
げて１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その
後、反応液を室温まで冷却後、ピリジン１５８ｇを加え
る。この溶液に、塩化トシル１１４ｇ（０．６モル）を
室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０時間撹
拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、水−メ
タノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル化
ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解す
る。次に、室温にてエチルチオエチルメルカプタンのナ
トリウム塩８６ｇ（０．６モル）を添加し、室温で１５
時間攪拌して反応を終了した。得られた反応混合物を、
１０Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時
間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、
２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄
した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、
９０〜１００℃にて熱処理した。これを濾過し、蒸留水
４Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合体は５７４
ｇであった。なお、水酸基のエチルチオエチルチオ置換
率〔ペンダント化率〕は２０％であった。得られた含硫
（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１
５２０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６
１８、アッベ数は３０．５であった。また、本重合体の
熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル（エポキシ当量１９０ｇ／ｅｑ）３９９ｇ、４，
４’−ジヒドロキシビフェニル１８６ｇ、およびＮ，
Ｎ’−ジメチルアセトアミド１．５ｋｇを装入する。窒
素雰囲気化下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェ
ニルフォスフィン６．０ｇを添加する。温度を徐々に上
げて１６０℃で５時間攪拌して反応を終了した。その
後、反応液を室温まで冷却後、ピリジン１５８ｇを加え
る。この溶液に、塩化トシル１１４ｇ（０．６モル）を
室温にて１時間かけて添加し、室温でさらに１０時間撹
拌してトシル化を終了した。この反応混合物を、水−メ
タノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し後、乾燥しトシル化
ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエーテ
ルを得た。得られたトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
２−イミダゾリジノン（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解す
る。次に、室温にてエチルチオエチルメルカプタンのナ
トリウム塩８６ｇ（０．６モル）を添加し、室温で１５
時間攪拌して反応を終了した。得られた反応混合物を、
１０Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時
間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、
２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄
した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、
９０〜１００℃にて熱処理した。これを濾過し、蒸留水
４Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた重合体は５７４
ｇであった。なお、水酸基のエチルチオエチルチオ置換
率〔ペンダント化率〕は２０％であった。得られた含硫
（チオ）エーテル（共）重合体の重量平均分子量は、１
５２０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６
１８、アッベ数は３０．５であった。また、本重合体の
熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【００９４】実施例１４８〜１５２ 実施例１４７と同じトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２３に示す
含硫試剤により、実施例１４７と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１４７同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２３に示した。
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２３に示す
含硫試剤により、実施例１４７と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１４７同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２３に示した。
【００９５】
【表２６】 実施例１５３ 塩化トシル３０５ｇ（１．６モル）使用した以外は、実
施例１４８と同様にしてトシル化ビスフェノールＡ−ビ
フェニル−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたト
シル化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシ
エーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解し、次に、室温にてメチル
チオエチルメルカプタンのナトリウム塩２０８ｇ（１．
６モル）を添加し、室温で１５時間攪拌して反応を終了
した。得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処
理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は６６７ｇであった。なお、水酸
基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
７１％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１７５０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６３１、アッベ数は３０．
４であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
施例１４８と同様にしてトシル化ビスフェノールＡ−ビ
フェニル−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたト
シル化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシ
エーテルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）１．５Ｋｇに溶解し、次に、室温にてメチル
チオエチルメルカプタンのナトリウム塩２０８ｇ（１．
６モル）を添加し、室温で１５時間攪拌して反応を終了
した。得られた反応混合物を、１０Ｌのメタノール中に
撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物
を析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処
理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は６６７ｇであった。なお、水酸
基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
７１％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１７５０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６３１、アッベ数は３０．
４であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
【００９６】実施例１５４〜１５８ 実施例１５３と同じトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２４に示す
含硫試剤により、実施例１５３と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１５３同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２４に示した。
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２４に示す
含硫試剤により、実施例１５３と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１５３同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２４に示した。
【００９７】
【表２７】 実施例１５９ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシ−３，
５，３’，５’−テトラメチルビフェニル（エポキシ当
量１７７．２ｇ／ｅｑ）３７２ｇ、ビスフェノールＡ２
２８ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド２．０ｋ
ｇを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃まで上
げた後、トリフェニルフォスフィン６．０ｇを添加す
る。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、反応液を室温まで冷却後、トリエ
チルアミン２０２ｇを加える。この溶液に、塩化トシル
２８１ｇ（２．０モル）を室温にて１時間かけて添加
し、室温でさらに１０時間撹拌してトシル化を終了し
た。この反応混合物を、水−メタノール（４：１）混合
溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて
滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、５Ｌの水
で洗浄し後、乾燥しトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたトシル
化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエー
テルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（Ｄ
Ｍｉ）２．０Ｋｇに溶解する。次に、室温にて２−メル
カプトチアゾリンのナトリウム塩２８２ｇ（２．０モ
ル）を添加し、室温で２５時間攪拌して反応を終了し
た。得られた反応混合物を、１５Ｌのメタノール中に撹
拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を
析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処
理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は７５４ｇであった。なお、水酸
基のチアゾリン−２−チオ置換率〔ペンダント化率〕は
８１％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、２０９５００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６３０、アッベ数は２９．
２であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルオキシ−３，
５，３’，５’−テトラメチルビフェニル（エポキシ当
量１７７．２ｇ／ｅｑ）３７２ｇ、ビスフェノールＡ２
２８ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド２．０ｋ
ｇを装入する。窒素雰囲気化下、温度を１００℃まで上
げた後、トリフェニルフォスフィン６．０ｇを添加す
る。温度を徐々に上げて１６０℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、反応液を室温まで冷却後、トリエ
チルアミン２０２ｇを加える。この溶液に、塩化トシル
２８１ｇ（２．０モル）を室温にて１時間かけて添加
し、室温でさらに１０時間撹拌してトシル化を終了し
た。この反応混合物を、水−メタノール（４：１）混合
溶液３０Ｌ中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて
滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、５Ｌの水
で洗浄し後、乾燥しトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを得た。得られたトシル
化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシエー
テルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（Ｄ
Ｍｉ）２．０Ｋｇに溶解する。次に、室温にて２−メル
カプトチアゾリンのナトリウム塩２８２ｇ（２．０モ
ル）を添加し、室温で２５時間攪拌して反応を終了し
た。得られた反応混合物を、１５Ｌのメタノール中に撹
拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合物を
析出させた。これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄
し、さらに、蒸留水４Ｌで洗浄した後、ウエットケーキ
を蒸留水２Ｌ中に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処
理した。これを濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は７５４ｇであった。なお、水酸
基のチアゾリン−２−チオ置換率〔ペンダント化率〕は
８１％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、２０９５００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６３０、アッベ数は２９．
２であった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
【００９８】実施例１６０〜１６４ 実施例１５９と同じトシル化ビスフェノールＡ−ビフェ
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２５に示す
含硫試剤により、実施例１５９と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１５９同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２５に示した。
ニル−ポリヒドロキシエーテルを用いて、表２５に示す
含硫試剤により、実施例１５９と同様にペンダント化し
て含硫（チオ）エーテル（共）重合体を得た。いずれ
も、実施例１５９同様、優れた光学特性および耐熱性を
有していた。結果を合わせて表２５に示した。
【００９９】
【表２８】 実施例１６５ 窒素導入管、温度計、還流冷却管および攪拌器を備えた
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−２−メチルグリシ
ジルエーテル（エポキシ当量１８４．３ｇ／ｅｑ）３８
７ｇ、４，４’−ジヒドロキシ−３，５，３’，５’−
テトラブロモビフェニル５０１ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメ
チルアセトアミド２．５ｋｇを装入する。窒素雰囲気化
下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニルフォス
フィン９．３ｇを添加する。温度を徐々に上げて１６０
℃で８時間攪拌後、室温まで冷却した。この反応混合物
を、３５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、
３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過
し、２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで
洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、臭化チオニ
ル４３０ｇ（２．１モル）およびピリジン２ｇを含有す
るクロルベンゼン溶液４ｋｇに撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、５時間攪拌した後、４０〜５
０℃にてさらに５時間攪拌し、室温まで冷却した。この
反応液を減圧下、未反応の臭化チオニルを留去した後、
メタノール４０Ｌ中に３時間かけて滴下し、重合物を析
出させた。これを濾過し、３Ｌのメタノールで洗浄し、
さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、ビスフェノ
ールＡ−３，５，３’，５’−テトラブロモビフェニル
−ポリブロムエーテルを得た。得られたポリブロムエー
テル重合体をＮ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）２．５ｋｇに溶解する。次に、６０〜７０℃
にてメチルチオエチルメルカプタンのナトリウム塩２６
０ｇ（２．０モル）を添加し、同温度で８時間攪拌して
反応を終了した。得られた反応混合物を、３０Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、３Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は９９１ｇであった。なお、臭素
基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
８８％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１２１０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６１４、アッベ数３０．９
はであった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
ガラス製容器に、ビスフェノールＡ−２−メチルグリシ
ジルエーテル（エポキシ当量１８４．３ｇ／ｅｑ）３８
７ｇ、４，４’−ジヒドロキシ−３，５，３’，５’−
テトラブロモビフェニル５０１ｇおよびＮ，Ｎ’−ジメ
チルアセトアミド２．５ｋｇを装入する。窒素雰囲気化
下、温度を１００℃まで上げた後、トリフェニルフォス
フィン９．３ｇを添加する。温度を徐々に上げて１６０
℃で８時間攪拌後、室温まで冷却した。この反応混合物
を、３５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行いながら、
３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。これを濾過
し、２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで
洗浄した後、乾燥した。得られた重合物を、臭化チオニ
ル４３０ｇ（２．１モル）およびピリジン２ｇを含有す
るクロルベンゼン溶液４ｋｇに撹拌を激しく行いなが
ら、３時間かけて滴下し、５時間攪拌した後、４０〜５
０℃にてさらに５時間攪拌し、室温まで冷却した。この
反応液を減圧下、未反応の臭化チオニルを留去した後、
メタノール４０Ｌ中に３時間かけて滴下し、重合物を析
出させた。これを濾過し、３Ｌのメタノールで洗浄し、
さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、ビスフェノ
ールＡ−３，５，３’，５’−テトラブロモビフェニル
−ポリブロムエーテルを得た。得られたポリブロムエー
テル重合体をＮ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン
（ＤＭｉ）２．５ｋｇに溶解する。次に、６０〜７０℃
にてメチルチオエチルメルカプタンのナトリウム塩２６
０ｇ（２．０モル）を添加し、同温度で８時間攪拌して
反応を終了した。得られた反応混合物を、３０Ｌのメタ
ノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下
し、重合物を析出させた。これを濾過し、３Ｌのメタノ
ールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、乾燥
した。得られた重合体は９９１ｇであった。なお、臭素
基のメチルチオエチルチオ置換率〔ペンダント化率〕は
８８％であった。得られた含硫（チオ）エーテル（共）
重合体の重量平均分子量は、１２１０００で、無色透明
であり、且つ、屈折率は１．６１４、アッベ数３０．９
はであった。また、本重合体の熱変形温度は、１２０℃
以上で良好であった。
【０１００】実施例１６６〜１７０ 実施例１６５と同じビスフェノールＡ−３，５，３’，
５’−テトラブロモビフェニル−ポリブロムエーテルを
用いて、表２６に示す含硫試剤により、実施例１６５と
同様にペンダント化して含硫（チオ）エーテル（共）重
合体を得た。いずれも、実施例１６５同様、優れた光学
特性および耐熱性を有していた。結果を合わせて表２６
に示した。
５’−テトラブロモビフェニル−ポリブロムエーテルを
用いて、表２６に示す含硫試剤により、実施例１６５と
同様にペンダント化して含硫（チオ）エーテル（共）重
合体を得た。いずれも、実施例１６５同様、優れた光学
特性および耐熱性を有していた。結果を合わせて表２６
に示した。
【０１０１】
【表２９】 実施例１７１ 窒素導入管、温度計、還流冷却管およぶ攪拌器を備えた
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルチオビフェニ
ル３４７ｇ（エポキシ当量１６５．２ｇ／ｅｑ）、２，
２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ
（１モル）およびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１．
５ｋｇおよびトリフェニルフォスフィン１．２ｇを装入
する。窒素雰囲気化下、１００℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、内温を８０から９０℃にして、ト
リエチルアミン４０４ｇを加え、１，３，５−トリチア
ン−２−カルボン酸クロライド４２１ｇ（２．１モル）
を３時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌し
た後室温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌの
メタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて
滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメ
タノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、
乾燥した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン５０
０ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留
水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体８９１ｇを得た。
なお、水酸基のペンダント化率は９５％であった。得ら
れた含硫チオエーテル重合体の重量平均分子量は、１８
７０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６７
０、アッベ数は２９．０であった。また、本重合体の熱
変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
ガラス製容器に、４，４’−ジグリシジルチオビフェニ
ル３４７ｇ（エポキシ当量１６５．２ｇ／ｅｑ）、２，
２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン２６０ｇ
（１モル）およびＮ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド１．
５ｋｇおよびトリフェニルフォスフィン１．２ｇを装入
する。窒素雰囲気化下、１００℃で５時間攪拌して反応
を終了した。その後、内温を８０から９０℃にして、ト
リエチルアミン４０４ｇを加え、１，３，５−トリチア
ン−２−カルボン酸クロライド４２１ｇ（２．１モル）
を３時間かけて滴下した。同温度でさらに３時間撹拌し
た後室温まで冷却した。得られた反応混合物を、３Ｌの
メタノール中に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて
滴下し、重合物を析出させた。これを濾過し、１Ｌのメ
タノールで洗浄し、さらに、蒸留水２Ｌで洗浄した後、
乾燥した。得られた重合物を、テトラヒドロフラン５０
０ｇに溶解し、３Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行い
ながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。こ
れを濾過し、１Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸留
水２Ｌで洗浄した後、乾燥し、重合体８９１ｇを得た。
なお、水酸基のペンダント化率は９５％であった。得ら
れた含硫チオエーテル重合体の重量平均分子量は、１８
７０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．６７
０、アッベ数は２９．０であった。また、本重合体の熱
変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【０１０２】実施例１７２〜１７７ 実施例１７１と同様にして、表２７に示すジチオール化
合物と、ジグリシジルチオエーテル化合物を反応してポ
リヒドロキシチオエーテル化合物を得、含硫試剤により
ペンダント化して含硫チオエーテル重合体を得た。な
お、反応性が悪い場合はポリヒドロキシチオエーテル化
合物の水酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反
応した。いずれも、実施例１７１同様、優れた光学特性
および耐熱性を有していた。結果を合わせて表２８に示
す。
合物と、ジグリシジルチオエーテル化合物を反応してポ
リヒドロキシチオエーテル化合物を得、含硫試剤により
ペンダント化して含硫チオエーテル重合体を得た。な
お、反応性が悪い場合はポリヒドロキシチオエーテル化
合物の水酸基をナトリウム塩とした後に、含硫試剤と反
応した。いずれも、実施例１７１同様、優れた光学特性
および耐熱性を有していた。結果を合わせて表２８に示
す。
【０１０３】
【表３０】
【０１０４】
【表３１】 実施例１７８ 実施例１７１と同様の出発原料を用いて、同様に反応を
行った後、反応液を室温まで冷却後、トリエチルアミン
４０４ｇを加える。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ
（２．５モル）を室温にて１時間かけて添加し、室温で
さらに１０時間撹拌してトシル化を終了した。この反応
混合物を、水−メタノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中
に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合
物を析出させた。これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し
後、乾燥しトシル化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポ
リヒドロキシチオエーテルを得た。得られたトシル化ビ
スフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシチオエー
テルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（Ｄ
Ｍｉ）１．５ｋｇに溶解する。次に、室温にてチオフェ
ノールのナトリウム塩３３０ｇ（２．５モル）を添加
し、室温で１２時間攪拌して反応を終了した。得られた
反応混合物を、１５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸
留水３Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌ中
に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。これを
濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた
重合体は８９８ｇであった。なお、水酸基のフェニルチ
オ置換率〔ペンダント化率という〕は９２％であった。
得られた含硫チオエーテル重合体の重量平均分子量は、
１７８０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．
６６９、アッベ数２８．５はであった。また、本重合体
の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
行った後、反応液を室温まで冷却後、トリエチルアミン
４０４ｇを加える。この溶液に、塩化トシル４７７ｇ
（２．５モル）を室温にて１時間かけて添加し、室温で
さらに１０時間撹拌してトシル化を終了した。この反応
混合物を、水−メタノール（４：１）混合溶液３０Ｌ中
に撹拌を激しく行いながら、３時間かけて滴下し、重合
物を析出させた。これを濾過し、１０Ｌの水で洗浄し
後、乾燥しトシル化ビスフェノールＡ−ビフェニル−ポ
リヒドロキシチオエーテルを得た。得られたトシル化ビ
スフェノールＡ−ビフェニル−ポリヒドロキシチオエー
テルを、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−イミダゾリジノン（Ｄ
Ｍｉ）１．５ｋｇに溶解する。次に、室温にてチオフェ
ノールのナトリウム塩３３０ｇ（２．５モル）を添加
し、室温で１２時間攪拌して反応を終了した。得られた
反応混合物を、１５Ｌのメタノール中に撹拌を激しく行
いながら、３時間かけて滴下し、重合物を析出させた。
これを濾過し、２Ｌのメタノールで洗浄し、さらに、蒸
留水３Ｌで洗浄した後、ウエットケーキを蒸留水２Ｌ中
に攪拌分散し、９０〜１００℃にて熱処理した。これを
濾過し、蒸留水４Ｌで洗浄した後、乾燥した。得られた
重合体は８９８ｇであった。なお、水酸基のフェニルチ
オ置換率〔ペンダント化率という〕は９２％であった。
得られた含硫チオエーテル重合体の重量平均分子量は、
１７８０００で、無色透明であり、且つ、屈折率は１．
６６９、アッベ数２８．５はであった。また、本重合体
の熱変形温度は、１２０℃以上で良好であった。
【０１０５】実施例１７９〜１８４ 実施例１７８と同様にして、表２９に示すジチオオール
化合物と、ジグリシジルチオエーテル化合物を出発原料
として、同様にトシル化ポリヒドロキシチオエーテル化
合物を得、表２９に示した含−ＳＮａペンダント化剤と
反応して含硫チオエーテル重合体を得た。いずれも、実
施例１７８同様、優れた光学特性および耐熱性を有して
いた。結果を合わせて表３０に示す。
化合物と、ジグリシジルチオエーテル化合物を出発原料
として、同様にトシル化ポリヒドロキシチオエーテル化
合物を得、表２９に示した含−ＳＮａペンダント化剤と
反応して含硫チオエーテル重合体を得た。いずれも、実
施例１７８同様、優れた光学特性および耐熱性を有して
いた。結果を合わせて表３０に示す。
【０１０６】
【表３２】
【０１０７】
【表３３】 実施例１８５（光ディスクの作製および評価） 実施例１で得られた含硫（チオ）エーテル（共）重合体
に、酸化防止剤（城北化学工業社製、リン酸エステル系
JPP-613M、0.2%）および離型剤（デュポン社製、リン酸
エステル系Zelec UN、0.1%）を混合添加したものを、ペ
レタイザー付き押出機（シリンダー温度２００℃）にて
ペレット状として、該ペレットを１１０℃にて４時間乾
燥した後、２１０℃にて射出成形を行った。即ち、金型
に鏡面を有するスタンパーを装着して、外径 120mm、厚
み 1.2mmの円盤状のディスクを得た。得られたディスク
の中心部を、内径15mmとなるように打ち抜いてドーナツ
状ディスクとした。次に、基板の片面にアルミニウムの
真空蒸着を行い、厚み６００ の反射層を設けた。得ら
れた光ディスクのビットエラーレートを、波長 780nm、
線速 8m/sec 、0.8mW の半導体レーザー光を用いて測定
したところ、１×１０-6と極めて良好な値を示した。
に、酸化防止剤（城北化学工業社製、リン酸エステル系
JPP-613M、0.2%）および離型剤（デュポン社製、リン酸
エステル系Zelec UN、0.1%）を混合添加したものを、ペ
レタイザー付き押出機（シリンダー温度２００℃）にて
ペレット状として、該ペレットを１１０℃にて４時間乾
燥した後、２１０℃にて射出成形を行った。即ち、金型
に鏡面を有するスタンパーを装着して、外径 120mm、厚
み 1.2mmの円盤状のディスクを得た。得られたディスク
の中心部を、内径15mmとなるように打ち抜いてドーナツ
状ディスクとした。次に、基板の片面にアルミニウムの
真空蒸着を行い、厚み６００ の反射層を設けた。得ら
れた光ディスクのビットエラーレートを、波長 780nm、
線速 8m/sec 、0.8mW の半導体レーザー光を用いて測定
したところ、１×１０-6と極めて良好な値を示した。
【０１０８】実施例１８６（コンデンサーレンズの作製
および評価） 実施例１８５で得られたペレットを用い、樹脂注入口に
注入口封止機構として小球の付いた射出成形機で、樹脂
温度２２０℃、金型温度１５０℃、樹脂圧力１１００Kg
/cm2にて金型キャビティ内に射出充填を行った後、樹脂
注入口を封止した。その後、０．５℃/minで冷却して、
金型内圧力が常圧になったところで、金型より取り外
し、80mm×60mm×15mmのコンデンサーレンズを得た。本
コンデンサーレンズは無色透明で、表面形状精度は設計
曲率との差が０．１％と極めて小さく、また、光学歪み
が全く観測されず、優れたレンズであることが判明し
た。
および評価） 実施例１８５で得られたペレットを用い、樹脂注入口に
注入口封止機構として小球の付いた射出成形機で、樹脂
温度２２０℃、金型温度１５０℃、樹脂圧力１１００Kg
/cm2にて金型キャビティ内に射出充填を行った後、樹脂
注入口を封止した。その後、０．５℃/minで冷却して、
金型内圧力が常圧になったところで、金型より取り外
し、80mm×60mm×15mmのコンデンサーレンズを得た。本
コンデンサーレンズは無色透明で、表面形状精度は設計
曲率との差が０．１％と極めて小さく、また、光学歪み
が全く観測されず、優れたレンズであることが判明し
た。
【０１０９】
【発明の効果】本発明により、光学特性、機械的特性、
熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性
光学樹脂を提供することが可能となった。本発明の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体は、光ディスク基板、液
晶プラスチック基板、眼鏡レンズなどの各種光学レン
ズ、ＬＥＤ封止材などを代表とする光学部品に有用で、
特に高屈折性に優れる。
熱的特性に優れ、かつ生産性が良い高屈折性の熱可塑性
光学樹脂を提供することが可能となった。本発明の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体は、光ディスク基板、液
晶プラスチック基板、眼鏡レンズなどの各種光学レン
ズ、ＬＥＤ封止材などを代表とする光学部品に有用で、
特に高屈折性に優れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平11−53546 (32)優先日 平成11年３月２日(1999．3．2) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−81035 (32)優先日 平成11年３月25日(1999．3．25) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−81036 (32)優先日 平成11年３月25日(1999．3．25) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−98543 (32)優先日 平成11年４月６日(1999．4．6) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 大辻 淳夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 鈴木 理穂子 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 藤井 謙一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 今井 雅夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JB12 LA12 4J005 AA09 AA24 AA25 BB02 BD06 4J030 BA02 BA04 BB13 BF07 BF09 BF19 BG25
Claims (12)
- 【請求項１】 下記一般式（１）（化１）および一般式
（２）（化２）で表される繰り返し構造単位を有するこ
とを特徴とする含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 【化１】 【化２】 〔上式中、ＡおよびＢは２価の有機基を表し、同一で
も、異なっていてもよく、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれ水
素原子またはアルキル基を表し、Ｘ1 〜Ｘ4 はそれぞれ
独立に酸素原子または硫黄原子を表し、同一でも、異な
っていてもよく、Ｙ 1 およびＹ2 はそれぞれ独立にハロ
ゲン原子、水酸基、−ＯＲ3 基（Ｒ3 はＳＨ基以外の置
換基を有していてもよい含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基を表す。但し、Ｘ1 〜Ｘ
4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合は、Ｒ3 は硫黄原
子を有していなくてもよい）または−ＳＲ4 基（Ｒ4 は
置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基またはアシル基を表す）を表し、同一でも、異
なっていてもよい。但し、Ｙ1 ＋Ｙ2 の総和の１０〜１
００％は、−ＯＲ3 基および／または−ＳＲ4 基であ
る。〕 - 【請求項２】 Ａおよび／またはＢが置換基を有してい
てもよい２価の芳香族基であることを特徴とする請求項
１記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項３】 ＡおよびＢがそれぞれ下記一般式（３）
（化３）および（４）（化４）で表される２価の芳香族
基である請求項２記載の含硫（チオ）エーテル（共）重
合体。 【化３】 【化４】 〔上式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を表し、同一でも、異なっていてもよく、Ｚ1 および
Ｚ2 は２個の芳香環を連結させる単結合、−Ｃ（ＣＨ3)
2 −基、−Ｓ−基または−ＳＯ2 −基を表し、同一で
も、異なっていてもよい。〕 - 【請求項４】 Ｒ3 が２個以上の硫黄原子（但し、Ｘ1
〜Ｘ4 の少なくとも１つが硫黄原子の場合は、１個以上
の硫黄原子）を含有する含硫のアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基またはアシル基であり、Ｒ4 が１個以上
の硫黄原子を有するアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基またはアシル基である請求項３記載の含硫（チオ）エ
ーテル（共）重合体。 - 【請求項５】 Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基である請求項
３または請求項４記載の含硫（チオ）エーテル（共）重
合体。 - 【請求項６】 Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子である請求項
５記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項７】 Ｚ1 が−Ｃ（ＣＨ3)2 −基で、Ｚ2 が単
結合または−Ｃ（ＣＨ3)2 −基である請求項５記載の含
硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項８】 Ｘ1 〜Ｘ4 の全てが酸素原子である請求
項７記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項９】 Ｚ1 が−Ｓ−基である請求項３または請
求項４記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項１０】 Ｘ1 およびＸ2 が硫黄原子である請求
項９記載の含硫（チオ）エーテル（共）重合体。 - 【請求項１１】 請求項１〜３のいずれかに記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られる光学部
品。 - 【請求項１２】 請求項１〜３のいずれかに記載の含硫
（チオ）エーテル（共）重合体を用いて得られるプラス
チックレンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25302599A JP4271312B2 (ja) | 1998-09-08 | 1999-09-07 | 含硫（チオ）エーテル（共）重合体およびその用途 |
Applications Claiming Priority (15)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25424098 | 1998-09-08 | ||
| JP10-254240 | 1998-09-08 | ||
| JP10-269467 | 1998-09-24 | ||
| JP26946798 | 1998-09-24 | ||
| JP32062198 | 1998-11-11 | ||
| JP10-320621 | 1998-11-11 | ||
| JP5354699 | 1999-03-02 | ||
| JP8103699 | 1999-03-25 | ||
| JP8103599 | 1999-03-25 | ||
| JP11-81035 | 1999-04-06 | ||
| JP9854399 | 1999-04-06 | ||
| JP11-98543 | 1999-04-06 | ||
| JP11-53546 | 1999-04-06 | ||
| JP11-81036 | 1999-04-06 | ||
| JP25302599A JP4271312B2 (ja) | 1998-09-08 | 1999-09-07 | 含硫（チオ）エーテル（共）重合体およびその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000351846A true JP2000351846A (ja) | 2000-12-19 |
| JP4271312B2 JP4271312B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=27572431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25302599A Expired - Lifetime JP4271312B2 (ja) | 1998-09-08 | 1999-09-07 | 含硫（チオ）エーテル（共）重合体およびその用途 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4271312B2 (ja) |
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| JP2006176658A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Japan Epoxy Resin Kk | ポリエーテルポリオール樹脂、硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
| JP2007131772A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Japan Epoxy Resin Kk | 水素化エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物及び発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物 |
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| WO2019142897A1 (ja) * | 2018-01-22 | 2019-07-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法 |
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| JP2020100728A (ja) * | 2018-12-21 | 2020-07-02 | 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 | フェノキシ樹脂、その樹脂組成物、その硬化物、およびその製造方法。 |
-
1999
- 1999-09-07 JP JP25302599A patent/JP4271312B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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