JP2954934B1 - ポリイソシアネート化合物及びその製造方法 - Google Patents
ポリイソシアネート化合物及びその製造方法Info
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Abstract
材料の原料として有用な文献未載の新規なポリイソシア
ネート化合物、および、このものを効率よく製造する方
法を提供する。 【解決手段】 一般式(I) 【化1】 (Zは直接結合、−CH2−、−CH2CH2−、−SC
H2−または−CH2SCH2−)で表されるポリイソシ
アネート化合物、およびジハロゲノ脂肪族カルボン酸低
級アルキルエステルとチオグリコール酸低級アルキルエ
ステルを用い、トリカルボン酸エステル体、トリカルボ
ニルヒドラジド体を経て、目的のポリイソシアネート化
合物を製造する方法である。
Description
ト化合物およびその製造方法に関する。さらに詳しく
は、本発明は、高屈折率、低分散で、光学特性に優れる
光学材料の原料として有用な新規なポリイソシアネート
化合物、および、このものを効率よく製造する方法に関
するものである。
で割れにくく、染色が容易であるため、近年、各種レン
ズ等の光学用途に使用されている。光学用プラスチック
材料としては、ポリエチレングリコールビスアリルカー
ボネート(CR−39)やポリメチルメタクリレート
(PMMA)が一般に用いられている。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が1.5以下である
ため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなる
ほどレンズの肉厚を厚くしなければならず、軽量である
というプラスチックの優位性が損なわれてしまうばかり
か、審美性の点でも好ましくなかった。また特に凹レン
ズにおいては、レンズの周囲の厚さ(コバ厚)が厚くな
り、複屈折や色収差が生じやすいなどの問題があった。
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば(1)キシリレ
ンジイソシアネート化合物とポリチオール化合物とから
なる重合体(特開昭63−46213号公報)、(2)
脂肪族直鎖状含硫二官能イソシアネート化合物とポリチ
オール化合物とからなる樹脂(特開平2−153302
号公報)、(3)脂肪族分岐状含硫二官能イソシアネー
ト化合物とポリチオール化合物とからなる重合体(特開
平10−45707号公報)などが開示されている。
(2)の樹脂は、重合相手となるポリチオール化合物と
の組合わせを限定することにより、屈折率は高くなるも
のの、(1)においては、アッベ数が低くなり、色収差
が大きくなるという問題が生じるし、(2)において
は、耐熱性が悪くなるという問題が生じる。
色収差や耐熱性の点で改善もみられるが、耐熱性につい
ては、まだ十分に満足しうるものではなく、耐溶剤性に
も劣る。
ト化合物から得られた未架橋の重合体であるため、耐熱
性や耐溶剤性などを向上させるには、別途特殊な架橋剤
を必要とし、重合相手となるポリチオール化合物の種類
が制限されるのを免れないという問題がある。
事情のもとで、高屈折率でかつ低分散である上、耐熱性
および耐溶剤性に優れる光学材料を与えることができる
新規なポリイソシアネート化合物、およびこのものを効
率よく製造する方法を提供することを目的とするもので
ある。
的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、高屈折率お
よび低分散に寄与する硫黄原子を主骨格に有し、かつ重
合官能基であるイソシアネートを3つ有するポリイソシ
アネート化合物が新規な化合物であり、その目的に適合
しうること、そして、このものは、特定の方法により、
効率よく得られることを見出し、この知見に基づいて本
発明を完成するに至った。
されることを特徴とするポリイソシアネート化合物を提
供するものである。
下記の本発明の方法(製造方法1および製造方法2)に
より、製造することができる。
I) X2−Y−COOR1 …(II) (式中、Xはハロゲン原子、Yは=CH−または=CH
CH2−、R1は低級アルキル基を示す。)で表されるジ
ハロゲノ脂肪族カルボン酸低級アルキルエステルとチオ
グリコール酸低級アルキルエステルとを反応させて、一
般式(III)
記と同じである。)で表されるトリカルボン酸エステル
体を得たのち、一般式(IV)
ボニルヒドラジド体に導き、次いでカルボニルヒドラジ
ド基をイソシアネート基に変換することを特徴とする、
一般式(I−a)
シアネート化合物の製造方法である。
(V)
ロピオール酸低級アルキルエステルとチオグリコール酸
低級アルキルエステルとを反応させて、一般式(VI)
である。)で表されるトリカルボン酸エステル体を得た
のち、式(VII)
−ヒドラジノカルボニルメチル−2,4−ジチアペンタ
ンに導き、次いでカルボニルヒドラジド基をイソシアネ
ート基に変換することを特徴とする、式(I−b)
ートメチル−2,4−ジチアペンタンの製造方法であ
る。
物は、一般式(I)
なように、この新規化合物は、2,4−ジチアペンチレ
ン基の3位から分岐している構造を基本骨格とし、かつ
3つのイソシアネート基を有するものである。
または−CH2−である。
イソシアネート化合物は、硫黄原子を基本骨格に含むこ
とにより、ポリイソシアネート化合物自体の屈折率およ
びアッベ数が高められるので、このポリイソシアネート
化合物を用いて光学材料を製造した場合に、その光学材
料の屈折率およびアッベ数をも高める。また、このポリ
イソシアネート化合物は、3つのイソシアネート基を有
することから、それ自体架橋剤となるため、このポリイ
ソシアネート化合物を用いて光学材料を製造した場合、
副成分として他の架橋剤を加えなくても、その光学材料
に高耐熱性、高耐溶剤性、優れた機械的物性を与えるこ
とができる。
イソシアネート化合物としては、具体的には、下記の構
造のものが挙げられる。
の製造方法としては、所望の構造を有するポリイソシア
ネート化合物が得られる方法であればよく、特に制限は
ないが、以下に示す本発明の方法1、2および3に従え
ば極めて効率よく製造することができる。
たは−CH2−であるポリイソシアネート化合物の製造
方法である。
(II) X2−Y−COOR1 …(II) (式中、Xはハロゲン原子、Yは=CH−または=CH
CH2−、R1は低級アルキル基を示す。)で表されるジ
ハロゲノ脂肪族カルボン酸低級アルキルエステルとチオ
グリコール酸低級アルキルエステルとを反応させて、一
般式(III)
記と同じである。)で表されるトリカルボン酸エステル
体を得る。
剤の存在下、一般式(II)で表されるジハロゲノ脂肪酸
カルボン酸低級アルキルエステル1モルに対し、実質上
2モルのチオグリコール酸低級アルキルエステルを反応
させるのがよい。この場合、必要に応じ、適当な溶媒を
使用することができる。
I)で表されるトリカルボン酸エステル体に、ヒドラジ
ン一水和物などを反応させて、一般式(IV)
ボニルヒドラジド体に導く。この際、必要に応じ、低級
アルコールなどの溶媒を用いることができる。
(IV)で表されるトリカルボニルヒドラジド体を、例え
ば塩酸水溶中で亜硝酸と反応させたのち、熱転移させ
て、カルボニルヒドラジド基をイソシアネート基に変換
することにより、目的の一般式(I−a)
シアネート化合物が得られる。
ある1,5−ジイソシアナート−3−イソシアナートメ
チル−2,4−ジチアペンタンを製造する方法である。
なおこの化合物は、前記製造方法1によっても製造する
ことができる。
(V)
ロピオール酸低級アルキルエステルとチオグリコール酸
低級アルキルエステルとを反応させて、一般式(VI)
である。)で表されるトリカルボン酸エステル体を得
る。
ン系触媒、好ましくはアニオン系の第四級アンモニウム
塩の存在下に、一般式(V)で表されるプロピオール酸
低級アルキルエステル1モルに対し、実質上2モルのチ
オグリコール酸低級アルキルエステルを反応させるのが
よい。この際、必要に応じ、適当な溶媒を使用すること
ができる。
I)で表されるトルカルボン酸エステル体に、製造方法
1と同様に、ヒドラジン一水和物などを反応させて、式
(VII)
−ヒドラジノカルボニルメチル−2,4−ジチアペンタ
ンに導く。
ルボニル)−3−ヒドラジノカルボニルメチル−2,4
−ジチアペンタンのカルボニルヒドラジド基を、製造方
法1と同様にしてイソシアネート基に変換することによ
り、目的の式(I−b)
ートメチル−2,4−ジチアペンタンが得られる。
アネート化合物は、前述の本発明の方法以外に、ホスゲ
ン法によっても製造することができる。
る。まず、一般式(VIII) X2CHCN …(VIII) (式中、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるジハロ
ゲノアセトニトリル1モルに対し、実質上2モルの一般
式(IX) MSCN …(IX) (式中、Mはアルカリ金属またはアンモニウムを示
す。)で表されるチオシアン酸塩を、ハロゲン化水素捕
捉剤の存在下に反応させて、式(X)
ち、水素添加して、式(XI)
4−ジチアペンタンに導く。次いで、これにホスゲンを
反応させることにより、目的の前記式(I−b)で表さ
れる1,5−ジイソシアナート−3−イソシアナートメ
チル−2,4−ジチアペンタンが得られる。
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。
光学材料(重合体)の物性は、以下に示す方法に従って
評価した。 (1)1H−NMRスペクトル(プロトン核磁気共鳴スペ
クトル) 日本電子製FT−NMR装置EX270型を用いて測定
した。 (2)IRスペクトル(赤外線吸収スペクトル) ニコレー製MAGNA−IR分光光度計560型を用い
て測定した。 (3)屈折率(nD)とアッベ数(νD) カルニュー社製精密屈折率計KPR−200型を用いて
20℃にて測定した。 (4)外観 肉眼により観察した。
100g、周波数10kHzで動的粘弾性の測定を行
い、2℃/分の昇温により得られた弾性率のチャートの
降下点の温度により評価した。 (6)耐候性 サンシャインカーボンアークランプを装備したウエザー
メーターにレンズ(光学材料を用いた光学製品)をセッ
トし200時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較し、下記の基準で耐候性を評
価した。 ○:変化なし △:わずかに黄変 ×:黄変
耐溶剤性を評価した。 ○:変化がない ×:表面にあれや膨潤がみられる (8)光学歪 シュリーレン法による目視観察を行い、下記の基準で光
学歪を評価した。 ○:歪が認められない ×:歪が認められる
−2,4−ジチアペンタンの製造 プロピオール酸エチル14.7g(0.15mol)と
チオグリコール酸メチル31.8g(0.3mol)を
ベンゼン125mlに溶解し、氷浴下、触媒としてテト
ラブチルアンモニウムフルオライド0.78g(0.0
03mol)を添加後、室温で70時間攪拌した。その
後、反応溶液を希水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗
浄、乾燥し、ベンゼンを減圧下で留去した後、残渣を減
圧蒸留することにより、1,5−ビス(メチルオキシカ
ルボニル)−3−エチルオキシカルボニルメチル−2,
4−ジチアペンタン31.1g(0.10mol)を得
た。(沸点:127〜129℃/0.02mmHg)こ
のエステル化合物をメタノール30mlに溶解し、ヒド
ラジン一水和物45.0g(0.90mol)とメタノ
ール170mlの混合溶液に室温で滴下し、滴下終了後
70℃で2時間攪拌した。放冷後、析出した白色結晶を
濾取し、メタノール−水より再結晶することにより、
1,5−ビス(ヒドラジノカルボニル)−3−ヒドラジ
ノカルボニルメチル−2,4−ジチアペンタン22.0
g(0.075mol)を得た。
水溶液160gに溶解し、これとトルエン150mlと
の懸濁液に、亜硝酸ナトリウム16.6g(0.24m
ol)を添加し、終了後、1時間攪拌を続けた。懸濁液
から有機相を取り出し、水洗、乾燥(硫酸マグネシウ
ム)した後、加熱することにより転移反応を完結させ
た。反応溶液から溶媒であるトルエンを十分除去するこ
とにより、無色透明な反応生成物11.1g(0.04
5mol)を得た。この反応生成物は、1H−NMRス
ペクトル及びIRスペクトルにより、目的のポリイソシ
アネート化合物であることが分かった。この新規ポリイ
ソシアネート化合物の1H−NMRスペクトルを図1
に、IRスペクトルを図2に示す。
ソシアナートメチル−2,4−ジチアペンタン(表1中
でDS−1と表示)0.08mol、2,5−ビス(メ
ルカプトメチル)−1,4−ジチアン二量体(表1中で
DBMDと表示)0.12mol及びジブチルスズジラ
ウレート(表1中でDBTDLと表示)1.2×10-4
molの混合物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型
に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、
さらに120℃で3時間加熱重合させプラスチックレン
ズを得た。得られたプラスチックレンズの諸物性を表1
に示す。表1から、実施例1のポリイソシアネート化合
物を用いて得られた重合体は無色透明であり、屈折率
(nD)は1.70と非常に高く、アッベ数(νD)も3
5と高い(低分散)ものであり、耐熱性(116℃)、
耐候性及び耐溶剤性に優れ、光学歪の無いものであっ
た。
ート化合物DS−1[1,5−ジイソシアナート−3−
イソシアナートメチル−2,4−ジチアペンタン]、ま
たは1,5−ジイソシアナート−3−イソシアナートエ
チル−2,4−ジチアペンタン(表1中でDS−2と表
示)を含むモノマー組成物を使用した以外は応用例1と
同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これら
のプラスチックレンズの諸物性を表1に示す。表1か
ら、得られたプラスチックレンズは無色透明であり、屈
折率(nD)は1.65〜1.69と非常に高く、アッ
ベ数(νD)も35〜39と高い(低分散)ものであ
り、耐熱性(114〜138℃)、耐候性及び耐溶剤性
に優れ、光学歪の無いものであった。
ート(表1中でPETMPと表示)0.06mol、m
−キシリレンジイソシアネート(表1中でXDIと表
示)0.12mol及びジブチルスズジラウレート(表
1中でDBTDLと表示)1.2×10-4molの混合
物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型に注入し、5
0℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに120
℃で3時間加熱重合させプラスチックレンズを得た。得
られたプラスチックレンズの諸物性を表1に示す。表1
から、応用比較例1のプラスチックレンズは無色透明で
光学歪も観察されず、耐溶剤性にも優れていたが、屈折
率が1.59と低く、耐熱性(86℃)にも劣ってい
た。
例1と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。
これらのプラスチックレンズの諸物性を表1に示した。
表1から、応用比較例2のプラスチックレンズは屈折率
が1.68と高く、耐熱性(128℃)、耐溶剤性にも
優れているが、黄色に着色しており、アッベ数が低い
(25)上に、耐候性に劣り、光学歪が観察された。ま
た、応用比較例3のプラスチックレンズは、無色透明
で、屈折率が1.68と高く、光学歪も観察されなかっ
たが、アッベ数が低い(29)上に、耐熱性(89
℃)、耐溶剤性にも劣っていた。
ートメチル−2,4−ジチアペンタン、 DS−2:1,5−ジイソシアナート−3−イソシアナ
ートエチル−2,4−ジチアペンタン、 IMTM:ビス(イソシアナートメチルチオ)メタン、 CHTI:1,3,5−トリイソシアナートシクロヘキ
サン、 IPDI:イソホロンジイソシアネート、 DBMD:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4
−ジチアン二量体、 BMMD:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4
−ジチアン、 BMMC:2,5−ビス(メルカプトメチル)シクロヘ
キサン、 TMP:1,2,3−トリメルカプトプロパン、 DBTDL:ジ−n−ブチルチンジラウレート、 DBTDC:ジ−n−ブチルチンジクロライド、 XDI:m−キシリレンジイソシアネート、 TDI:トリレンジイソシアネート、 TPDI:2,4−ジチアペンタン−1,3−ジイソシ
アネート PETMP:ペンタエリスリトールテトラキス(3−メ
ルカプトプロピオネート)、 XDT:m−キシリレンジチオール、 PETMA:ペンタエリスリトールテトラキス(2−メ
ルカプトアセテート)
物は、硫黄原子を含む脂肪族鎖を基本骨格としているた
め、屈折率及びアッベ数が高く、3つのイソシアネート
基を有し、一分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有す
る化合物、一分子内に2つ以上のメルカプト基を有する
化合物及び一分子内に1つ以上のヒドロキシル基と1つ
以上のメルカプト基を有する化合物のうちの少なくとも
1種と容易に重合反応し、三次元架橋された光学材料を
与える。また、このポリイソシアネート化合物を用いて
得られた光学材料は、硫黄原子を主鎖に含み、さらに架
橋されているので、屈折率、アッベ数が高く、耐熱性、
耐候性、耐溶剤性、透明性に優れ、光学歪が見られない
ことから、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレンズ、プリ
ズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディスク等に用
いられる記録媒体用基板、フィルターなどの光学製品に
好ましく用いられる。さらに、高屈折率の特徴を生かし
たグラス、花ビン等の装飾品にも用いられる。
−3−イソシアナートメチル−2,4−ジチアペンタン
の1H−NMRスペクトル図である。
−3−イソシアナートメチル−2,4−ジチアペンタン
のIRスペクトル図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、Zは直接結合または−CH2−を示す。)で表
されることを特徴とするポリイソシアネート化合物。 - 【請求項2】 一般式(II) X2−Y−COOR1 …(II) (式中、Xはハロゲン原子、Yは=CH−または=CH
CH2−、R1は低級アルキル基を示す。)で表されるジ
ハロゲノ脂肪族カルボン酸低級アルキルエステルとチオ
グリコール酸低級アルキルエステルとを反応させて、一
般式(III) 【化2】 (式中、R2は低級アルキル基を示し、YおよびR1は前
記と同じである。)で表されるトリカルボン酸エステル
体を得たのち、一般式(IV) 【化3】 (式中、Yは前記と同じである。)で表されるトリカル
ボニルヒドラジド体に導き、次いでカルボニルヒドラジ
ド基をイソシアネート基に変換することを特徴とする、
一般式(I−a) 【化4】 (式中、Yは前記と同じである。)で表されるポリイソ
シアネート化合物の製造方法。 - 【請求項3】 一般式(V) 【化5】 (式中、R3は低級アルキル基を示す。)で表されるプ
ロピオール酸低級アルキルエステルとチオグリコール酸
低級アルキルエステルとを反応させて、一般式(VI) 【化6】 (式中、R2は低級アルキル基を示し、R3は前記と同じ
である。)で表されるトリカルボン酸エステル体を得た
のち、式(VII) 【化7】 で表される1,5−ビス(ヒドラジノカルボニル)−3
−ヒドラジノカルボニルメチル−2,4−ジチアペンタ
ンに導き、次いでカルボニルヒドラジド基をイソシアネ
ート基に変換することを特徴とする、式(I−b) 【化8】 で表される1,5−ジイソシアナート−3−イソシアナ
ートメチル−2,4−ジチアペンタンの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21299198A JP2954934B1 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | ポリイソシアネート化合物及びその製造方法 |
DE69904891T DE69904891T2 (de) | 1998-07-28 | 1999-07-27 | Polyisocyanatverbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende optische Harze |
EP99114231A EP0976727B1 (en) | 1998-07-28 | 1999-07-27 | Polyisocyanate compound, process for producing the same and optical resin materials using the same |
US09/362,094 US6194603B1 (en) | 1998-07-28 | 1999-07-28 | Polyisocyanate compound, process for producing the same and optical materials using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21299198A JP2954934B1 (ja) | 1998-07-28 | 1998-07-28 | ポリイソシアネート化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2954934B1 true JP2954934B1 (ja) | 1999-09-27 |
JP2000044530A JP2000044530A (ja) | 2000-02-15 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2954934B1 (ja) |
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