JP3174763B2 - 光学製品 - Google Patents
光学製品Info
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- JP3174763B2 JP3174763B2 JP21437898A JP21437898A JP3174763B2 JP 3174763 B2 JP3174763 B2 JP 3174763B2 JP 21437898 A JP21437898 A JP 21437898A JP 21437898 A JP21437898 A JP 21437898A JP 3174763 B2 JP3174763 B2 JP 3174763B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学製品に関し、
さらに詳しくは、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、
かつ光学歪がないなど、光学特性に優れる上、耐溶剤
性、耐候性も良好なレンズ、プリズム、光ファイバー、
記録媒体用基板、フィルター、さらにはグラス、花ビン
などの光学製品に関するものである。
さらに詳しくは、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、
かつ光学歪がないなど、光学特性に優れる上、耐溶剤
性、耐候性も良好なレンズ、プリズム、光ファイバー、
記録媒体用基板、フィルター、さらにはグラス、花ビン
などの光学製品に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックはガラスに比べると、軽量
で割れにくく、染色が容易であるため、近年、各種レン
ズ等の光学用途に使用されている。光学用プラスチック
材料としては、ポリエチレングリコールビスアリルカー
ボネート（ＣＲ−３９）やポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）が一般に用いられている。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が１．５以下である
ため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなる
ほどレンズの肉厚を厚くしなければならず、軽量である
というプラスチックの優位性が損なわれてしまうばかり
か、審美性の点でも好ましくなかった。また特に凹レン
ズにおいては、レンズの周囲の厚さ（コバ厚）が厚くな
り、複屈折や色収差が生じやすいなどの問題があった。
で割れにくく、染色が容易であるため、近年、各種レン
ズ等の光学用途に使用されている。光学用プラスチック
材料としては、ポリエチレングリコールビスアリルカー
ボネート（ＣＲ−３９）やポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）が一般に用いられている。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が１．５以下である
ため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなる
ほどレンズの肉厚を厚くしなければならず、軽量である
というプラスチックの優位性が損なわれてしまうばかり
か、審美性の点でも好ましくなかった。また特に凹レン
ズにおいては、レンズの周囲の厚さ（コバ厚）が厚くな
り、複屈折や色収差が生じやすいなどの問題があった。
【０００３】そこで、比重の小さいプラスチックの特徴
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば（１）キシリレ
ンジイソシアネート化合物とポリチオール化合物とから
なる重合体（特開昭６３−４６２１３号公報）、（２）
脂肪族直鎖状含硫二官能イソシアネート化合物とポリチ
オール化合物とからなる樹脂（特開平２−１５３３０２
号公報）、（３）脂肪族分岐状含硫二官能イソシアネー
ト化合物とポリチオール化合物とからなる重合体（特開
平１０−４５７０７号公報）などが開示されている。
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば（１）キシリレ
ンジイソシアネート化合物とポリチオール化合物とから
なる重合体（特開昭６３−４６２１３号公報）、（２）
脂肪族直鎖状含硫二官能イソシアネート化合物とポリチ
オール化合物とからなる樹脂（特開平２−１５３３０２
号公報）、（３）脂肪族分岐状含硫二官能イソシアネー
ト化合物とポリチオール化合物とからなる重合体（特開
平１０−４５７０７号公報）などが開示されている。
【０００４】しかしながら、上記（１）の重合体は、重
合相手となるポリチオール化合物との組合わせを限定す
ることにより、屈折率は高くなるものの、アッベ数が低
くなり、色収差が大きくなるという問題が生じる。一
方、（２）の樹脂及び（３）の重合体は、屈折率が高
く、色収差の点での改善もみられるが、耐溶剤性に劣る
という欠点を有している。さらに、これらは、二官能性
イソシアネート化合物から得られた未架橋の重合体であ
るため、耐溶剤性を向上させるには、別途特殊な架橋剤
を必要とし、重合相手となるポリチオール化合物の種類
が制限されるのを免れないという問題がある。
合相手となるポリチオール化合物との組合わせを限定す
ることにより、屈折率は高くなるものの、アッベ数が低
くなり、色収差が大きくなるという問題が生じる。一
方、（２）の樹脂及び（３）の重合体は、屈折率が高
く、色収差の点での改善もみられるが、耐溶剤性に劣る
という欠点を有している。さらに、これらは、二官能性
イソシアネート化合物から得られた未架橋の重合体であ
るため、耐溶剤性を向上させるには、別途特殊な架橋剤
を必要とし、重合相手となるポリチオール化合物の種類
が制限されるのを免れないという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、か
つ光学歪がないなど、光学特性に優れる上、耐溶剤性、
耐候性も良好な光学製品を提供することを目的とするも
のである。
事情のもとで、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、か
つ光学歪がないなど、光学特性に優れる上、耐溶剤性、
耐候性も良好な光学製品を提供することを目的とするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有する光学製品を開発すべく鋭意研究を重
ねた結果、特定のポリイソシアネート化合物を含む成分
と、一分子内にヒドロキシル基またはメルカプト基ある
いはその両方を２つ以上有する化合物を含む成分とを重
付加反応させて得られたポリ（チオ）ウレタンからなる
光学製品が、その目的に適合しうることを見出し、この
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
ましい性質を有する光学製品を開発すべく鋭意研究を重
ねた結果、特定のポリイソシアネート化合物を含む成分
と、一分子内にヒドロキシル基またはメルカプト基ある
いはその両方を２つ以上有する化合物を含む成分とを重
付加反応させて得られたポリ（チオ）ウレタンからなる
光学製品が、その目的に適合しうることを見出し、この
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）
【化３】 （式中、Ｚは炭素数１〜６の鎖状アルキレン基または１
つ以上の硫黄原子を含む炭素と硫黄との合計数３〜６の
鎖状チアアルキレン基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に
０〜３の整数を示す。）で表されるポリイソシアネート
化合物を少なくとも含む成分と、（Ｂ）(イ)一分子内に
２つ以上のメルカプト基を有する化合物、(ロ)一分子内
に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物および(ハ)
一分子内に１つ以上のヒドロキシル基と１つ以上のメル
カプト基を有する化合物の中から選ばれる少なくとも１
種を含む成分とを含有する単量体混合物を重付加反応さ
せることにより得られるポリ（チオ）ウレタンからなる
光学製品を提供するものである。
つ以上の硫黄原子を含む炭素と硫黄との合計数３〜６の
鎖状チアアルキレン基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に
０〜３の整数を示す。）で表されるポリイソシアネート
化合物を少なくとも含む成分と、（Ｂ）(イ)一分子内に
２つ以上のメルカプト基を有する化合物、(ロ)一分子内
に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物および(ハ)
一分子内に１つ以上のヒドロキシル基と１つ以上のメル
カプト基を有する化合物の中から選ばれる少なくとも１
種を含む成分とを含有する単量体混合物を重付加反応さ
せることにより得られるポリ（チオ）ウレタンからなる
光学製品を提供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の光学製品はポリ（チオ）
ウレタンからなるものであって、該ポリ（チオ）ウレタ
ンの原料の１つである（Ａ）成分としては、一般式
（Ｉ）
ウレタンからなるものであって、該ポリ（チオ）ウレタ
ンの原料の１つである（Ａ）成分としては、一般式
（Ｉ）
【化４】 で表されるポリイソシアネート化合物が用いられる。こ
の化合物は、硫黄原子を含む脂肪族構造を基本骨格と
し、さらに４つのイソシアネート基を有するものであ
る。
の化合物は、硫黄原子を含む脂肪族構造を基本骨格と
し、さらに４つのイソシアネート基を有するものであ
る。
【０００９】前記一般式（Ｉ）においては、Ｚは炭素数
１〜６の鎖状アルキレン基または１つ以上の硫黄原子を
含む炭素と硫黄との合計数３〜６の鎖状チアアルキレン
基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜３の整数を示
す。上記のＺのうちの鎖状チアアルキレン基としては、
例えば−ＣＨ2ＳＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2−
および−ＣＨ2ＳＣＨ2ＳＣＨ2−を好ましく挙げること
ができる。
１〜６の鎖状アルキレン基または１つ以上の硫黄原子を
含む炭素と硫黄との合計数３〜６の鎖状チアアルキレン
基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜３の整数を示
す。上記のＺのうちの鎖状チアアルキレン基としては、
例えば−ＣＨ2ＳＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2−
および−ＣＨ2ＳＣＨ2ＳＣＨ2−を好ましく挙げること
ができる。
【００１０】このように一般式（Ｉ）で表されるポリイ
ソシアネート化合物は、硫黄原子を基本骨格に含むこと
により、ポリイソシアネート化合物自体の屈折率および
アッベ数が高められるので、このポリイソシアネート化
合物を用いて光学製品を製造した場合に、その光学製品
の屈折率およびアッベ数をも高める。また、このポリイ
ソシアネート化合物は、４つのイソシアネート基を有す
ることから、それ自体架橋剤となるため、このポリイソ
シアネート化合物を用いて光学製品を製造した場合、副
成分として他の架橋剤を加えなくても、その光学製品に
高耐溶剤性だけでなく、高耐熱性や優れた機械的物性を
与えることができる。
ソシアネート化合物は、硫黄原子を基本骨格に含むこと
により、ポリイソシアネート化合物自体の屈折率および
アッベ数が高められるので、このポリイソシアネート化
合物を用いて光学製品を製造した場合に、その光学製品
の屈折率およびアッベ数をも高める。また、このポリイ
ソシアネート化合物は、４つのイソシアネート基を有す
ることから、それ自体架橋剤となるため、このポリイソ
シアネート化合物を用いて光学製品を製造した場合、副
成分として他の架橋剤を加えなくても、その光学製品に
高耐溶剤性だけでなく、高耐熱性や優れた機械的物性を
与えることができる。
【００１１】このように、一般式（Ｉ）で表されるポリ
イソシアネート化合物を用いることにより、架橋剤を使
用しなくてもよいが、必要に応じ、架橋剤を併用するこ
とができる。前記一般式（Ｉ）で表されるポリイソシア
ネート化合物としては、具体的には、下記の構造のもの
が挙げられる。
イソシアネート化合物を用いることにより、架橋剤を使
用しなくてもよいが、必要に応じ、架橋剤を併用するこ
とができる。前記一般式（Ｉ）で表されるポリイソシア
ネート化合物としては、具体的には、下記の構造のもの
が挙げられる。
【００１２】
【化５】
【化６】
【化７】 この一般式（Ｉ）で表されるポリイソシアネート化合物
の製造方法としては、所望の構造を有するポリイソシア
ネート化合物が得られる方法であればよく、特に制限は
ないが、以下に示す方法に従えば、極めて効率よく製造
することができる。
の製造方法としては、所望の構造を有するポリイソシア
ネート化合物が得られる方法であればよく、特に制限は
ないが、以下に示す方法に従えば、極めて効率よく製造
することができる。
【００１３】まず一般式（III） ＨＳ−Ｚ−ＳＨ …（III） （式中、Ｚは炭素数１〜６の鎖状アルキレン基または１
つ以上の硫黄原子を含む炭素と硫黄との合計数３〜６の
鎖状チアアルキレン基を示す。）で表されるジチオール
化合物を用い、これから、一般式（IV）
つ以上の硫黄原子を含む炭素と硫黄との合計数３〜６の
鎖状チアアルキレン基を示す。）で表されるジチオール
化合物を用い、これから、一般式（IV）
【化８】 （式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に低級アルキル
基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜３の整数を示
し、Ｚは前記と同じである。）で表されるテトラカルボ
ン酸エステル体を得る。
基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に０〜３の整数を示
し、Ｚは前記と同じである。）で表されるテトラカルボ
ン酸エステル体を得る。
【００１４】この一般式（IV）で表されるテトラカルボ
ン酸エステル体を得るには、例えば一般式（III）で表
されるジチオール化合物に、一般式（Ｖ） Ｒ3ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）p−ＣＯＯＲ3 …（Ｖ） （式中、Ｒ3はＲ1またはＲ2であって、低級アルキル基
を示し、ｐはｍまたはｎであって、０〜３の整数を示
す。）で表される脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキ
ルエステルを反応させる方法、あるいは一般式（VI）
ン酸エステル体を得るには、例えば一般式（III）で表
されるジチオール化合物に、一般式（Ｖ） Ｒ3ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ2）p−ＣＯＯＲ3 …（Ｖ） （式中、Ｒ3はＲ1またはＲ2であって、低級アルキル基
を示し、ｐはｍまたはｎであって、０〜３の整数を示
す。）で表される脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキ
ルエステルを反応させる方法、あるいは一般式（VI）
【化９】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ4はＲ1またはＲ2
であって、低級アルキル基を示し、ｑはｍまたはｎであ
って、０〜３の整数を示す。）で表されるハロゲノ脂肪
族ジカルボン酸低級アルキルエステルを反応させる方法
などを用いればよい。
であって、低級アルキル基を示し、ｑはｍまたはｎであ
って、０〜３の整数を示す。）で表されるハロゲノ脂肪
族ジカルボン酸低級アルキルエステルを反応させる方法
などを用いればよい。
【００１５】また一般式（IV）において、ｍおよびｎが
同じである場合には、一般式（III）で表されるジチオ
ール化合物１モルに対して、前記一般式（Ｖ）で表され
る脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまた
は一般式（VI）で表されるハロゲノ脂肪族ジカルボン酸
低級アルキルエステルを、実質上２モルの割合で反応さ
せればよい。
同じである場合には、一般式（III）で表されるジチオ
ール化合物１モルに対して、前記一般式（Ｖ）で表され
る脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまた
は一般式（VI）で表されるハロゲノ脂肪族ジカルボン酸
低級アルキルエステルを、実質上２モルの割合で反応さ
せればよい。
【００１６】一方、一般式（IV）において、ｍおよびｎ
が異なる場合には、一般式（III）で表されるジチオー
ル化合物１モルに対して、前記一般式（Ｖ）で表される
脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまたは
一般式（VI）で表されるハロゲノ脂肪族ジカルボン酸低
級アルキルエステルを、実質上１モルの割合で反応させ
たのち、一般式（Ｖ）で表され、かつｐが異なる別の脂
肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまたは一
般式（VI）で表され、かつｑが異なる別のハロゲノ脂肪
族ジカルボン酸低級アルキルエステルを、実質上１モル
の割合で反応させる２段階の方法を用いればよい。
が異なる場合には、一般式（III）で表されるジチオー
ル化合物１モルに対して、前記一般式（Ｖ）で表される
脂肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまたは
一般式（VI）で表されるハロゲノ脂肪族ジカルボン酸低
級アルキルエステルを、実質上１モルの割合で反応させ
たのち、一般式（Ｖ）で表され、かつｐが異なる別の脂
肪族不飽和ジカルボン酸低級アルキルエステルまたは一
般式（VI）で表され、かつｑが異なる別のハロゲノ脂肪
族ジカルボン酸低級アルキルエステルを、実質上１モル
の割合で反応させる２段階の方法を用いればよい。
【００１７】なお、一般式（Ｖ）で表される脂肪族不飽
和ジカルボン酸低級アルキルエステルを使用する場合に
は、ラジカル系やアニオン系触媒の存在下に反応させる
のが好ましく、一方、一般式（VI）で表されるハロゲノ
脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエステルを使用する場
合には、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させるの
が有利である。また、このような反応においては、必要
に応じて溶媒を使用することができる。
和ジカルボン酸低級アルキルエステルを使用する場合に
は、ラジカル系やアニオン系触媒の存在下に反応させる
のが好ましく、一方、一般式（VI）で表されるハロゲノ
脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエステルを使用する場
合には、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させるの
が有利である。また、このような反応においては、必要
に応じて溶媒を使用することができる。
【００１８】次に、このようにして得られた一般式（I
V）で表されるテトラカルボン酸エステル体に、ヒドラ
ジン一水和物などを反応させて、一般式（VII）
V）で表されるテトラカルボン酸エステル体に、ヒドラ
ジン一水和物などを反応させて、一般式（VII）
【化１０】 （式中、Ｚ、ｍ、およびｎは前記と同じである。）で表
されるテトラカルボニルヒドラジド体に導く。この際、
必要に応じ、低級アルコールなどの溶媒を用いることが
できる。
されるテトラカルボニルヒドラジド体に導く。この際、
必要に応じ、低級アルコールなどの溶媒を用いることが
できる。
【００１９】最後に、このようにして得られた一般式
（VII）で表されるテトラカルボニルヒドラジド体を、
例えば塩酸水溶中で亜硝酸と反応させたのち、熱転移さ
せて、カルボニルヒドラジド基をイソシアネート基に変
換することにより、目的の一般式（Ｉ）
（VII）で表されるテトラカルボニルヒドラジド体を、
例えば塩酸水溶中で亜硝酸と反応させたのち、熱転移さ
せて、カルボニルヒドラジド基をイソシアネート基に変
換することにより、目的の一般式（Ｉ）
【化１１】 （式中、Ｚ、ｍ、およびｎは前記と同じである。）で表
されるポリイソシアネート化合物が得られる。なお、Ｒ
1〜Ｒ4で示される低級アルキル基は、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基などである。ま
た、一般式（Ｉ）で表されるポリイソシアネート化合物
は、前述の方法以外に、ホスゲン法によっても製造する
ことができる。
されるポリイソシアネート化合物が得られる。なお、Ｒ
1〜Ｒ4で示される低級アルキル基は、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基などである。ま
た、一般式（Ｉ）で表されるポリイソシアネート化合物
は、前述の方法以外に、ホスゲン法によっても製造する
ことができる。
【００２０】次に、１例を挙げてホスゲン法を説明す
る。まず、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下、一般式（VI
II） Ｘ1−Ｚ−Ｘ2 …（VIII） （式中、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立にハロゲン原子
を示し、Ｚは前記と同じである。）で表されるジハロゲ
ノ化合物１モルに対し、実質上２モルのメルカプトマロ
ノニトリルを反応させて、一般式（IX）
る。まず、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下、一般式（VI
II） Ｘ1−Ｚ−Ｘ2 …（VIII） （式中、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立にハロゲン原子
を示し、Ｚは前記と同じである。）で表されるジハロゲ
ノ化合物１モルに対し、実質上２モルのメルカプトマロ
ノニトリルを反応させて、一般式（IX）
【化１２】 （式中、Ｚは前記と同じである。）で表されるテトラニ
トリル体を得る。次いで、これを水素添加して、一般式
（Ｘ）
トリル体を得る。次いで、これを水素添加して、一般式
（Ｘ）
【化１３】 （式中、Ｚは前記と同じである。）で表されるテトラア
ミノメチル体を得たのち、これにホスゲンを反応させれ
ば、目的の一般式（Ｉ−ａ）
ミノメチル体を得たのち、これにホスゲンを反応させれ
ば、目的の一般式（Ｉ−ａ）
【化１４】 （式中、Ｚは前記と同じである。）で表されるポリイソ
シアネート化合物が得られる。
シアネート化合物が得られる。
【００２１】該（Ａ）成分には、光学製品の物性などを
適宜改良するために、前記一般式（Ｉ）で表されるポリ
イソシアネート化合物以外に、一分子内に２つ以上のイ
ソシアネート基を有する化合物を１種もしくは２種以上
含んでいてもよい。これらの化合物としては、具体的に
は、ｏ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレン
ジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、
α，α，α′，α′−テトラメチル−ｐ−キシリレンジ
イソシアネート、α，α，α′，α′−テトラメチル−
ｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３，５−トリス
（イソシアナートメチル）ベンゼン、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、１，４−ジイソシアナートブタン、イ
ソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネ
ート、ビス（４，４′−イソシアナートシクロヘキシ
ル）メタン、１，３−ビス（イソシアナートメチル）シ
クロヘキサン、１，３，５−トリス（イソシアナートメ
チル）シクロヘキサン、１，４−ジイソシアナートシク
ロヘキサン、１，３，５−トリイソシアナートシクロヘ
キサン、リジントリイソシアネート、２，５−ビス（イ
ソシアナートメチル）−１，４−ジチアン、１，３−ジ
チオラン−４，５−ジイソシアナート、４，５−ビス
（イソシアナートメチル）−１，３−ジチオラン、イソ
シアナートメチルスルフィド、２−イソシアナートエチ
ルスルフィド、ビス（イソシアナートメチルチオ）メタ
ン、１，２−ビス（イソシアナートメチルチオ）エタ
ン、ビス（２−イソシアナートエチルチオ）メタン、
１，２−ビス（２−イソシアナートエチルチオ）エタ
ン、１，７−ジイソシアナート−２，４，６−トリチア
ヘプタン、１，５−ジイソシアナート−２−イソシアナ
ートメチル−３−チアペンタン、１，４−ジイソシアナ
ート−２−イソシアナートメチル−３−チアブタンなど
が挙げられる。（Ａ）成分中の一般式（Ｉ）で表される
ポリイソシアネート化合物の含有量は、０．１モル％以
上が好ましく、特に５モル％以上が好ましい。
適宜改良するために、前記一般式（Ｉ）で表されるポリ
イソシアネート化合物以外に、一分子内に２つ以上のイ
ソシアネート基を有する化合物を１種もしくは２種以上
含んでいてもよい。これらの化合物としては、具体的に
は、ｏ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレン
ジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、
α，α，α′，α′−テトラメチル−ｐ−キシリレンジ
イソシアネート、α，α，α′，α′−テトラメチル−
ｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３，５−トリス
（イソシアナートメチル）ベンゼン、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、１，４−ジイソシアナートブタン、イ
ソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネ
ート、ビス（４，４′−イソシアナートシクロヘキシ
ル）メタン、１，３−ビス（イソシアナートメチル）シ
クロヘキサン、１，３，５−トリス（イソシアナートメ
チル）シクロヘキサン、１，４−ジイソシアナートシク
ロヘキサン、１，３，５−トリイソシアナートシクロヘ
キサン、リジントリイソシアネート、２，５−ビス（イ
ソシアナートメチル）−１，４−ジチアン、１，３−ジ
チオラン−４，５−ジイソシアナート、４，５−ビス
（イソシアナートメチル）−１，３−ジチオラン、イソ
シアナートメチルスルフィド、２−イソシアナートエチ
ルスルフィド、ビス（イソシアナートメチルチオ）メタ
ン、１，２−ビス（イソシアナートメチルチオ）エタ
ン、ビス（２−イソシアナートエチルチオ）メタン、
１，２−ビス（２−イソシアナートエチルチオ）エタ
ン、１，７−ジイソシアナート−２，４，６−トリチア
ヘプタン、１，５−ジイソシアナート−２−イソシアナ
ートメチル−３−チアペンタン、１，４−ジイソシアナ
ート−２−イソシアナートメチル−３−チアブタンなど
が挙げられる。（Ａ）成分中の一般式（Ｉ）で表される
ポリイソシアネート化合物の含有量は、０．１モル％以
上が好ましく、特に５モル％以上が好ましい。
【００２２】ポリ（チオ）ウレタンのもう１つの原料で
ある（Ｂ）成分としては、(イ)一分子内に２つ以上のメ
ルカプト基を有する化合物、(ロ)一分子内に２つ以上の
ヒドロキシル基を有する化合物および(ハ)一分子内に１
つ以上のヒドロキシル基と１つ以上のメルカプト基を有
する化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含むもの
が用いられる。
ある（Ｂ）成分としては、(イ)一分子内に２つ以上のメ
ルカプト基を有する化合物、(ロ)一分子内に２つ以上の
ヒドロキシル基を有する化合物および(ハ)一分子内に１
つ以上のヒドロキシル基と１つ以上のメルカプト基を有
する化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含むもの
が用いられる。
【００２３】ここで、(イ)成分である一分子内に２つ以
上のメルカプト基を有する化合物の例としては、２，５
−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，
５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン二量
体および多量体（三量体以上）、１，２，３−トリメル
カプトプロパン、テトラキス（７−メルカプト−２，５
−ジチアヘプチル）メタン、１，２−エタンジチオー
ル、１，３−プロパンジチオール、テトラキスメルカプ
トメチルメタン、２−メルカプトエチルスルフィド、ペ
ンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテ
ート、１，２−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼン
ジチオール、１，４−ベンゼンジチオール、１，３，５
−ベンゼントリチオール、１，２−ジメルカプトメチル
ベンゼン、１，３−ジメルカプトメチルベンゼン、１，
４−ジメルカプトメチルベンゼン、１，３，５−トリメ
ルカプトメチルベンゼン、トルエン−３，４−ジチオー
ル、トリス（３−メルカプトプロピル）イソシアヌレー
ト、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサ
ン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロへキサ
ン、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プロ
パンジチオール、１，２−ビス（２−メルカプトエチル
チオ）−３−メルカプトプロパン、４，８−ビス（メル
カプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウ
ンデカンジチオールなどが挙げられる。
上のメルカプト基を有する化合物の例としては、２，５
−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，
５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン二量
体および多量体（三量体以上）、１，２，３−トリメル
カプトプロパン、テトラキス（７−メルカプト−２，５
−ジチアヘプチル）メタン、１，２−エタンジチオー
ル、１，３−プロパンジチオール、テトラキスメルカプ
トメチルメタン、２−メルカプトエチルスルフィド、ペ
ンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネー
ト、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテ
ート、１，２−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼン
ジチオール、１，４−ベンゼンジチオール、１，３，５
−ベンゼントリチオール、１，２−ジメルカプトメチル
ベンゼン、１，３−ジメルカプトメチルベンゼン、１，
４−ジメルカプトメチルベンゼン、１，３，５−トリメ
ルカプトメチルベンゼン、トルエン−３，４−ジチオー
ル、トリス（３−メルカプトプロピル）イソシアヌレー
ト、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサ
ン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロへキサ
ン、２，２−ビス（メルカプトメチル）−１，３−プロ
パンジチオール、１，２−ビス（２−メルカプトエチル
チオ）−３−メルカプトプロパン、４，８−ビス（メル
カプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウ
ンデカンジチオールなどが挙げられる。
【００２４】また、(ロ)成分である一分子内に２つ以上
のヒドロキシル基を有する化合物の例としては、エチレ
ングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、
ジヒドロキシベンゼン、カテコール、４，４′−ジヒド
ロキシフェニルスルフィド、２−ヒドロキシエチルスル
フィド、ビスフェノールＡ・プロピレンオキサイド５モ
ル付加体、グリセリン・プロピレンオキサイド３モル付
加体などが挙げられる。
のヒドロキシル基を有する化合物の例としては、エチレ
ングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、
ジヒドロキシベンゼン、カテコール、４，４′−ジヒド
ロキシフェニルスルフィド、２−ヒドロキシエチルスル
フィド、ビスフェノールＡ・プロピレンオキサイド５モ
ル付加体、グリセリン・プロピレンオキサイド３モル付
加体などが挙げられる。
【００２５】さらに(ハ)成分である一分子内に１つ以上
のヒドロキシル基と１つ以上のメルカプト基を有する化
合物の例としては、２−メルカプトエタノール、２，３
−ジメルカプトプロパノール、１，２−ジヒドロキシ−
３−メルカプトプロパン、４−メルカプトフェノールな
どが挙げられる。
のヒドロキシル基と１つ以上のメルカプト基を有する化
合物の例としては、２−メルカプトエタノール、２，３
−ジメルカプトプロパノール、１，２−ジヒドロキシ−
３−メルカプトプロパン、４−メルカプトフェノールな
どが挙げられる。
【００２６】この（Ｂ）成分としては、(イ）成分のメ
ルカプト基含有化合物が好ましく、特に一般式（II）
ルカプト基含有化合物が好ましく、特に一般式（II）
【化１５】 （式中、ａは１〜２０の整数である。）で表される２，
５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアンおよ
びそのオリゴマーが好適である。
５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアンおよ
びそのオリゴマーが好適である。
【００２７】本発明における（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
使用割合としては、（Ａ）成分中のイソシアネート基と
（Ｂ）成分中のメルカプト基およびヒドロキシル基の合
計量とのモル比ＮＣＯ基／（ＳＨ基＋ＯＨ基）が０．９
５〜１．０５の範囲にあるのが好ましい。
使用割合としては、（Ａ）成分中のイソシアネート基と
（Ｂ）成分中のメルカプト基およびヒドロキシル基の合
計量とのモル比ＮＣＯ基／（ＳＨ基＋ＯＨ基）が０．９
５〜１．０５の範囲にあるのが好ましい。
【００２８】この（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを含む単量
体混合物には、（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外に光学
製品の物性等を適宜改良するために、一分子内に２つ以
上のビニル基を有する化合物が１種もしくは２種以上含
まれていてもよい。その場合、これら化合物の使用割合
は、（イソシアネート基＋ビニル基）／（メルカプト基
＋ヒドロキシ基）のモル比が０．９５〜１．５の範囲内
でありかつ（ビニル基）／（イソシアネート基）のモル
比が０．７以下であることが好ましく、また（Ｂ）成分
に含まれる重合官能基は全てメルカプト基であることが
好ましい。これらの化合物としては、具体的には、２，
５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチア
ン、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、一分子内に少なくとも２つ以上の（メタ）ア
クリロキシ基を含むウレタン変性（メタ）アクリレート
等が挙げられる。なお、上記（メタ）アクリレートは、
アクリレートとメタクリレートの両者を意味し、（メ
タ）アクリロキシ基は、アクリロキシ基とメタクリロキ
シ基の両者を意味する。
体混合物には、（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外に光学
製品の物性等を適宜改良するために、一分子内に２つ以
上のビニル基を有する化合物が１種もしくは２種以上含
まれていてもよい。その場合、これら化合物の使用割合
は、（イソシアネート基＋ビニル基）／（メルカプト基
＋ヒドロキシ基）のモル比が０．９５〜１．５の範囲内
でありかつ（ビニル基）／（イソシアネート基）のモル
比が０．７以下であることが好ましく、また（Ｂ）成分
に含まれる重合官能基は全てメルカプト基であることが
好ましい。これらの化合物としては、具体的には、２，
５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチア
ン、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、一分子内に少なくとも２つ以上の（メタ）ア
クリロキシ基を含むウレタン変性（メタ）アクリレート
等が挙げられる。なお、上記（メタ）アクリレートは、
アクリレートとメタクリレートの両者を意味し、（メ
タ）アクリロキシ基は、アクリロキシ基とメタクリロキ
シ基の両者を意味する。
【００２９】本発明の光学製品には、吸光特性を改良す
るために紫外線吸収剤、色素や顔料等を、耐候性を改良
するために、酸化防止剤、着色防止剤等を、成形加工性
を改良するために、離型剤等を、所望により適宜加える
ことができる。ここで、紫外線吸収剤としては、例えば
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸
系等が、色素や顔料としては、例えばアントラキノン系
やアゾ系等が挙げられる。
るために紫外線吸収剤、色素や顔料等を、耐候性を改良
するために、酸化防止剤、着色防止剤等を、成形加工性
を改良するために、離型剤等を、所望により適宜加える
ことができる。ここで、紫外線吸収剤としては、例えば
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸
系等が、色素や顔料としては、例えばアントラキノン系
やアゾ系等が挙げられる。
【００３０】酸化防止剤や着色防止剤としては、例えば
モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノ
ール系、硫黄系、リン系等が、離型剤としては、例えば
フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、酸性リン
酸エステル、高級脂肪酸等が挙げられる。
モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノ
ール系、硫黄系、リン系等が、離型剤としては、例えば
フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、酸性リン
酸エステル、高級脂肪酸等が挙げられる。
【００３１】また、重合反応性向上のために触媒を適宜
使用してもよく、アミン化合物、有機金属化合物等が効
果的である。具体的には、トリエチレンジアミン、ヘキ
サメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，６−ジア
ミノヘキサン、４，４′−トリメチレンビス（１−メチ
ルピペリジン）、１，８−ジアザビシクロ−（５，４，
０）−７−ウンデセン、ジメチルスズジクロライド、ジ
メチルスズビス（イソオクチルチオグリコレート）、ジ
ブチルスズジクロライド、ジブチルスズジラウレート、
ジブチルスズマレエート、ジブチルスズマレエートポリ
マー、ジブチルスズジリシノレート、ジブチルスズビス
（ドデシルメルカプチド）、ジブチルスズビス（イソオ
クチルチオグリコレート）、ジオクチルスズジクロライ
ド、ジオクチルスズマレエート、ジオクチルスズマレエ
ートポリマー、ジオクチルスズビス（ブチルマレエー
ト）、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジ
リシノレート、ジオクチルスズジオレエート、ジオクチ
ルスズジ（６−ヒドロキシ）カプロエート、ジオクチル
スズビス（イソオクチルチオグリコケート）、ジドデシ
ルスズジリシノレート、オレイン酸銅、アセチルアセト
ン酸銅、アセチルアセトン酸鉄、ナフテン酸鉄、乳酸
鉄、クエン酸鉄、グルコン酸鉄、オクタン酸カリウム、
チタン酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。上記触媒
は、１種のみで使用しても、また２種以上を組み合わせ
て使用しても有効である。さらに、単量体混合物中にビ
ニル化合物が含まれる場合には、上記触媒以外に、有機
過酸化物、アゾ化合物等の使用が効果的である。
使用してもよく、アミン化合物、有機金属化合物等が効
果的である。具体的には、トリエチレンジアミン、ヘキ
サメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルオクチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，６−ジア
ミノヘキサン、４，４′−トリメチレンビス（１−メチ
ルピペリジン）、１，８−ジアザビシクロ−（５，４，
０）−７−ウンデセン、ジメチルスズジクロライド、ジ
メチルスズビス（イソオクチルチオグリコレート）、ジ
ブチルスズジクロライド、ジブチルスズジラウレート、
ジブチルスズマレエート、ジブチルスズマレエートポリ
マー、ジブチルスズジリシノレート、ジブチルスズビス
（ドデシルメルカプチド）、ジブチルスズビス（イソオ
クチルチオグリコレート）、ジオクチルスズジクロライ
ド、ジオクチルスズマレエート、ジオクチルスズマレエ
ートポリマー、ジオクチルスズビス（ブチルマレエー
ト）、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジ
リシノレート、ジオクチルスズジオレエート、ジオクチ
ルスズジ（６−ヒドロキシ）カプロエート、ジオクチル
スズビス（イソオクチルチオグリコケート）、ジドデシ
ルスズジリシノレート、オレイン酸銅、アセチルアセト
ン酸銅、アセチルアセトン酸鉄、ナフテン酸鉄、乳酸
鉄、クエン酸鉄、グルコン酸鉄、オクタン酸カリウム、
チタン酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。上記触媒
は、１種のみで使用しても、また２種以上を組み合わせ
て使用しても有効である。さらに、単量体混合物中にビ
ニル化合物が含まれる場合には、上記触媒以外に、有機
過酸化物、アゾ化合物等の使用が効果的である。
【００３２】１例として本発明のポリイソシアネート化
合物を用いた本発明の光学製品の製造について述べると
以下の通りである。上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および
添加剤や触媒の均一混合物を公知の注型重合法、すなわ
ちガラス製または金属製のモールドと樹脂製のガスケッ
トを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化させ
る。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするため
に、あらかじめモールドを離型処理したり、（Ａ）成分
及び（Ｂ）成分等の混合物中に離型剤を混合してもよ
い。重合温度は、使用する化合物により異なるが、一般
には−２０〜＋１５０℃で、重合時間は０．５〜７２時
間である。本発明の光学製品は通常の分散染料を用い、
水もしくは有機溶媒中で容易に染色が可能であり、この
際さらに染色を容易にするために、キャリアーを加えた
り加熱してもよい。このようにして得られた光学製品の
代表例はプラスチックレンズであるが、これに限定され
るものではない。
合物を用いた本発明の光学製品の製造について述べると
以下の通りである。上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および
添加剤や触媒の均一混合物を公知の注型重合法、すなわ
ちガラス製または金属製のモールドと樹脂製のガスケッ
トを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化させ
る。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするため
に、あらかじめモールドを離型処理したり、（Ａ）成分
及び（Ｂ）成分等の混合物中に離型剤を混合してもよ
い。重合温度は、使用する化合物により異なるが、一般
には−２０〜＋１５０℃で、重合時間は０．５〜７２時
間である。本発明の光学製品は通常の分散染料を用い、
水もしくは有機溶媒中で容易に染色が可能であり、この
際さらに染色を容易にするために、キャリアーを加えた
り加熱してもよい。このようにして得られた光学製品の
代表例はプラスチックレンズであるが、これに限定され
るものではない。
【００３３】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。得られたポリイソシアネート化合
物および重合体の物性は、以下に示す方法に従って評価
した。
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。得られたポリイソシアネート化合
物および重合体の物性は、以下に示す方法に従って評価
した。
【００３４】(１)1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（プロトン核
磁気共鳴スペクトル） 日本電子製ＦＴ−ＮＭＲ装置ＥＸ２７０型を用いて測定
した。 (２)ＩＲスペクトル（赤外線吸収スペクトル） ニコレー製ＭＡＧＮＡ−ＩＲ分光光度計５６０型を用い
て測定した。 (３)屈折率（ｎD）とアッベ数（νD） カルニュー社製精密屈折率計ＫＰＲ−２００型を用いて
２０℃にて測定した。 (４)外観 肉眼により観察した。
磁気共鳴スペクトル） 日本電子製ＦＴ−ＮＭＲ装置ＥＸ２７０型を用いて測定
した。 (２)ＩＲスペクトル（赤外線吸収スペクトル） ニコレー製ＭＡＧＮＡ−ＩＲ分光光度計５６０型を用い
て測定した。 (３)屈折率（ｎD）とアッベ数（νD） カルニュー社製精密屈折率計ＫＰＲ−２００型を用いて
２０℃にて測定した。 (４)外観 肉眼により観察した。
【００３５】(５)耐候性 サンシャインカーボンアークランプを装備したウエザー
メーターにレンズ（光学材料を用いた光学製品）をセッ
トし２００時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較し、下記の基準で耐候性を評
価した。 ○：変化なし △：わずかに黄変 ×：黄変 (６)耐溶剤性 アセトンを用いた拭き取りテストを行い、下記の基準で
耐溶剤性を評価した。 ○：変化がない ×：表面にあれや膨潤がみられる (７)光学歪 シュリーレン法による目視観察を行い、下記の基準で光
学歪を評価した。 ○：歪が認められない ×：歪が認められる
メーターにレンズ（光学材料を用いた光学製品）をセッ
トし２００時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較し、下記の基準で耐候性を評
価した。 ○：変化なし △：わずかに黄変 ×：黄変 (６)耐溶剤性 アセトンを用いた拭き取りテストを行い、下記の基準で
耐溶剤性を評価した。 ○：変化がない ×：表面にあれや膨潤がみられる (７)光学歪 シュリーレン法による目視観察を行い、下記の基準で光
学歪を評価した。 ○：歪が認められない ×：歪が認められる
【００３６】製造例１ １，１，６，６−テトラキス（イソシアナートメチル）
−２，５−ジチアヘキサンの製造 １，２−エタンジチオール１８．６ｇ（０．２０ｍｏ
ｌ）とグルタコン酸ジエチル７２．４ｇ（０．４０ｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン１６０ｍｌに溶解し、氷浴
下、触媒としてテトラブチルアンモニウムフルオライド
１．０４ｇ（０．００４ｍｏｌ）を加え２時間還流撹拌
した。放冷後、テトラヒドロフランを除去し、ベンゼン
３００ｍｌを加えたものを希水酸化ナトリウム水溶液、
水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥してか
ら、ベンゼンを十分除去することにより、無色透明な
１，１，６，６−テトラキス（エチルオキシカルボニル
メチル）−２，５−ジチアヘキサン８３．９ｇ（０．１
８ｍｏｌ）を得た。
−２，５−ジチアヘキサンの製造 １，２−エタンジチオール１８．６ｇ（０．２０ｍｏ
ｌ）とグルタコン酸ジエチル７２．４ｇ（０．４０ｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン１６０ｍｌに溶解し、氷浴
下、触媒としてテトラブチルアンモニウムフルオライド
１．０４ｇ（０．００４ｍｏｌ）を加え２時間還流撹拌
した。放冷後、テトラヒドロフランを除去し、ベンゼン
３００ｍｌを加えたものを希水酸化ナトリウム水溶液、
水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥してか
ら、ベンゼンを十分除去することにより、無色透明な
１，１，６，６−テトラキス（エチルオキシカルボニル
メチル）−２，５−ジチアヘキサン８３．９ｇ（０．１
８ｍｏｌ）を得た。
【００３７】このエステル化合物をメタノール７２ｍｌ
に溶解し、ヒドラジン一水和物１０８．０ｇ（２．１６
ｍｏｌ）とメタノール１１０ｍｌの混合溶液に室温で滴
下し、滴下終了後６０℃で３時間攪拌した。放冷後、析
出した白色結晶を濾取し、メタノール−水より再結晶す
ることにより、１，１，６，６−テトラキス（ヒドラジ
ノカルボニルメチル）−２，５−ジチアヘキサン４９．
６ｇ（０．１２ｍｏｌ）を得た。
に溶解し、ヒドラジン一水和物１０８．０ｇ（２．１６
ｍｏｌ）とメタノール１１０ｍｌの混合溶液に室温で滴
下し、滴下終了後６０℃で３時間攪拌した。放冷後、析
出した白色結晶を濾取し、メタノール−水より再結晶す
ることにより、１，１，６，６−テトラキス（ヒドラジ
ノカルボニルメチル）−２，５−ジチアヘキサン４９．
６ｇ（０．１２ｍｏｌ）を得た。
【００３８】このヒドラジド化合物を７．２重量％塩酸
水溶液３５０ｇに溶解し、クロロホルム２４０ｍｌとの
懸濁液に、亜硝酸ナトリウム３３．１ｇ（０．４８ｍｏ
ｌ）を添加し、終了後、１時間攪拌を続けた。懸濁液か
ら有機相を取り出し、水洗、乾燥（硫酸マグネシウム）
した後、加熱することにより転移反応を完結させた。反
応溶液から溶媒であるクロロホルムを十分除去すること
により、無色透明な反応生成物２８．８ｇ（０．０８ｍ
ｏｌ）を得た。この反応生成物は、1Ｈ−ＮＭＲスペク
トルおよびＩＲスペクトルにより、目的のポリイソシア
ネート化合物であることが分かった。この新規ポリイソ
シアネート化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に、
ＩＲスペクトルを図２に示す。
水溶液３５０ｇに溶解し、クロロホルム２４０ｍｌとの
懸濁液に、亜硝酸ナトリウム３３．１ｇ（０．４８ｍｏ
ｌ）を添加し、終了後、１時間攪拌を続けた。懸濁液か
ら有機相を取り出し、水洗、乾燥（硫酸マグネシウム）
した後、加熱することにより転移反応を完結させた。反
応溶液から溶媒であるクロロホルムを十分除去すること
により、無色透明な反応生成物２８．８ｇ（０．０８ｍ
ｏｌ）を得た。この反応生成物は、1Ｈ−ＮＭＲスペク
トルおよびＩＲスペクトルにより、目的のポリイソシア
ネート化合物であることが分かった。この新規ポリイソ
シアネート化合物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に、
ＩＲスペクトルを図２に示す。
【００３９】実施例１ 製造例１で得られた１，１，６，６−テトラキス（イソ
シアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン（表１中
でＴＥ−１と表示）０．０６ｍｏｌ、２，５−ビス（メ
ルカプトメチル）−１，４−ジチアン（表１中でＢＭＭ
Ｄと表示）０．１２ｍｏｌおよびジブチルスズジラウレ
ート（表１中でＤＢＴＤＬと表示）１．２×１０-4ｍｏ
ｌの混合物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型に注
入し、５０℃で１０時間、その後６０℃で５時間、さら
に１２０℃で３時間加熱重合させプラスチックレンズを
得た。得られたプラスチックレンズの諸物性を表１に示
す。表１から、製造例１のポリイソシアネート化合物を
用いて得られた重合体は無色透明であり、屈折率
（ｎD）は１．６７と非常に高く、アッベ数（νD）も３
６と高い（低分散）ものであり、耐候性及び耐溶剤性に
優れ、光学歪の無いものであった。
シアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン（表１中
でＴＥ−１と表示）０．０６ｍｏｌ、２，５−ビス（メ
ルカプトメチル）−１，４−ジチアン（表１中でＢＭＭ
Ｄと表示）０．１２ｍｏｌおよびジブチルスズジラウレ
ート（表１中でＤＢＴＤＬと表示）１．２×１０-4ｍｏ
ｌの混合物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型に注
入し、５０℃で１０時間、その後６０℃で５時間、さら
に１２０℃で３時間加熱重合させプラスチックレンズを
得た。得られたプラスチックレンズの諸物性を表１に示
す。表１から、製造例１のポリイソシアネート化合物を
用いて得られた重合体は無色透明であり、屈折率
（ｎD）は１．６７と非常に高く、アッベ数（νD）も３
６と高い（低分散）ものであり、耐候性及び耐溶剤性に
優れ、光学歪の無いものであった。
【００４０】実施例２〜６ 表１で示すように、製造例１で得られたポリイソシアネ
ート化合物ＴＥ−１［１，１，６，６−テトラキス（イ
ソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン］、ま
たは１，１，５，５−テトラキス（イソシアナートメチ
ル）−２，４−ジチアペンタン（表１中でＴＥ−２と表
示）を含むモノマー組成物を使用した以外は実施例１と
同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これら
のプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１か
ら、得られたプラスチックレンズは無色透明であり、屈
折率（ｎD）は１．６５〜１．６９と非常に高く、アッ
ベ数（νD）も３５〜３８と高い（低分散）ものであ
り、耐候性及び耐溶剤性に優れ、光学歪の無いものであ
った。
ート化合物ＴＥ−１［１，１，６，６−テトラキス（イ
ソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン］、ま
たは１，１，５，５−テトラキス（イソシアナートメチ
ル）−２，４−ジチアペンタン（表１中でＴＥ−２と表
示）を含むモノマー組成物を使用した以外は実施例１と
同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これら
のプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１か
ら、得られたプラスチックレンズは無色透明であり、屈
折率（ｎD）は１．６５〜１．６９と非常に高く、アッ
ベ数（νD）も３５〜３８と高い（低分散）ものであ
り、耐候性及び耐溶剤性に優れ、光学歪の無いものであ
った。
【００４１】比較例１ ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネ
ート（表１中でＰＥＴＭＰと表示）０．０６ｍｏｌ、ｍ
−キシリレンジイソシアネート（表１中でＸＤＩと表
示）０．１２ｍｏｌ及びジブチルスズジラウレート（表
１中でＤＢＴＤＬと表示）１．２×１０-4ｍｏｌの混合
物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型に注入し、５
０℃で１０時間、その後６０℃で５時間、さらに１２０
℃で３時間加熱重合させプラスチックレンズを得た。得
られたプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１
から、比較例１のプラスチックレンズは無色透明で光学
歪も観察されず、耐溶剤性にも優れていたが、屈折率が
１．５９と低かった。
ート（表１中でＰＥＴＭＰと表示）０．０６ｍｏｌ、ｍ
−キシリレンジイソシアネート（表１中でＸＤＩと表
示）０．１２ｍｏｌ及びジブチルスズジラウレート（表
１中でＤＢＴＤＬと表示）１．２×１０-4ｍｏｌの混合
物を均一に撹拌し、レンズ成形用ガラス型に注入し、５
０℃で１０時間、その後６０℃で５時間、さらに１２０
℃で３時間加熱重合させプラスチックレンズを得た。得
られたプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１
から、比較例１のプラスチックレンズは無色透明で光学
歪も観察されず、耐溶剤性にも優れていたが、屈折率が
１．５９と低かった。
【００４２】比較例２〜３ 表１に示したモノマー組成物を使用した以外は比較例１
と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これ
らのプラスチックレンズの諸物性を表１に示した。表１
から、比較例２のプラスチックレンズは屈折率が１．６
８と高く、耐溶剤性にも優れているが、黄色に着色して
おり、アッベ数が２５と低い上に、耐候性に劣り、光学
歪が観察された。また、比較例３のプラスチックレンズ
は、無色透明で、屈折率が１．６８と高く、光学歪も観
察されなかったが、アッベ数が２９と低い上に、耐溶剤
性にも劣っていた。
と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これ
らのプラスチックレンズの諸物性を表１に示した。表１
から、比較例２のプラスチックレンズは屈折率が１．６
８と高く、耐溶剤性にも優れているが、黄色に着色して
おり、アッベ数が２５と低い上に、耐候性に劣り、光学
歪が観察された。また、比較例３のプラスチックレンズ
は、無色透明で、屈折率が１．６８と高く、光学歪も観
察されなかったが、アッベ数が２９と低い上に、耐溶剤
性にも劣っていた。
【００４３】
【表１】
【００４４】［注１］ ＴＥ−１：１，１，６，６−テトラキス（イソシアナー
トメチル）−２，５−ジチアヘキサン ＴＥ−２：１，１，５，５−テトラキス（イソシアナー
トメチル）−２，４−ジチアペンタン ＨＸＤＩ：１，３−ビス（イソシアナートメチル）シク
ロヘキサン、 ＩＭＴＥ：１，２−ビス（イソシアナートメチルチオ）
エタン、 ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート、 ＤＢＭＤ：２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４
−ジチアン二量体、 ＢＭＭＤ：２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４
−ジチアン、 ＢＭＭＣ：２，５−ビス（メルカプトメチル）シクロヘ
キサン、 ＴＭＰ：１，２，３−トリメルカプトプロパン、 ＤＢＴＤＬ：ジ−ｎ−ブチルチンジラウレート、 ＤＢＴＤＣ：ジ−ｎ−ブチルチンジクロライド、ＤＭＴＤＣ：ジメチルチンジクロライド ＸＤＩ：ｍ−キシリレンジイソシアネート、 ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート、 ＴＰＤＩ：２，４−ジチアペンタン−１，３−ジイソシ
アネート ＰＥＴＭＰ：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メ
ルカプトプロピオネート）、 ＸＤＴ：ｍ−キシリレンジチオール、 ＰＥＴＭＡ：ペンタエリスリトールテトラキス（２−メ
ルカプトアセテート）
トメチル）−２，５−ジチアヘキサン ＴＥ−２：１，１，５，５−テトラキス（イソシアナー
トメチル）−２，４−ジチアペンタン ＨＸＤＩ：１，３−ビス（イソシアナートメチル）シク
ロヘキサン、 ＩＭＴＥ：１，２−ビス（イソシアナートメチルチオ）
エタン、 ＩＰＤＩ：イソホロンジイソシアネート、 ＤＢＭＤ：２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４
−ジチアン二量体、 ＢＭＭＤ：２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４
−ジチアン、 ＢＭＭＣ：２，５−ビス（メルカプトメチル）シクロヘ
キサン、 ＴＭＰ：１，２，３−トリメルカプトプロパン、 ＤＢＴＤＬ：ジ−ｎ−ブチルチンジラウレート、 ＤＢＴＤＣ：ジ−ｎ−ブチルチンジクロライド、ＤＭＴＤＣ：ジメチルチンジクロライド ＸＤＩ：ｍ−キシリレンジイソシアネート、 ＴＤＩ：トリレンジイソシアネート、 ＴＰＤＩ：２，４−ジチアペンタン−１，３−ジイソシ
アネート ＰＥＴＭＰ：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メ
ルカプトプロピオネート）、 ＸＤＴ：ｍ−キシリレンジチオール、 ＰＥＴＭＡ：ペンタエリスリトールテトラキス（２−メ
ルカプトアセテート）
【００４５】
【発明の効果】本発明の光学製品は、硫黄原子を主鎖に
含み、さらに架橋されているので、屈折率、アッベ数が
高く、耐候性、耐溶剤性、透明性に優れ、光学歪が見ら
れないなどの特徴を有する。本発明の光学製品の具体例
としては、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレンズ、プリ
ズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディスク等に用
いられる記録媒体用基板、フィルター、グラス、花ビン
等が挙げられる。
含み、さらに架橋されているので、屈折率、アッベ数が
高く、耐候性、耐溶剤性、透明性に優れ、光学歪が見ら
れないなどの特徴を有する。本発明の光学製品の具体例
としては、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレンズ、プリ
ズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディスク等に用
いられる記録媒体用基板、フィルター、グラス、花ビン
等が挙げられる。
【図１】製造例１で得られた１，１，６，６−テトラキ
ス（イソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン
の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル図である。
ス（イソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン
の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル図である。
【図２】製造例１で得られた１，１，６，６−テトラキ
ス（イソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン
のＩＲスペクトル図である。
ス（イソシアナートメチル）−２，５−ジチアヘキサン
のＩＲスペクトル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−118390（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−236386（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−208801（ＪＰ，Ａ) 特許2944646（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08G 18/00 - 18/87 G02B 1/00 - 1/12 G02C 7/02 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (5)
- 【請求項１】 （Ａ）一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｚは炭素数１〜６の鎖状アルキレン基または１
つ以上の硫黄原子を含む炭素と硫黄との合計数３〜６の
鎖状チアアルキレン基、ｍおよびｎは、それぞれ独立に
０〜３の整数を示す。）で表されるポリイソシアネート
化合物を少なくとも含む成分と、（Ｂ）(イ)一分子内に
２つ以上のメルカプト基を有する化合物、(ロ)一分子内
に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物および(ハ)
一分子内に１つ以上のヒドロキシル基と１つ以上のメル
カプト基を有する化合物の中から選ばれる少なくとも１
種を含む成分とを含有する単量体混合物を重付加反応さ
せることにより得られるポリ（チオ）ウレタンからなる
光学製品。 - 【請求項２】 （Ａ）成分の一般式（Ｉ）で表されるポ
リイソシアネート化合物において、Ｚのうちの鎖状チア
アルキレン基が−ＣＨ2ＳＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ
2ＣＨ2−または−ＣＨ2ＳＣＨ2ＳＣＨ2−である請求項
１に記載の光学製品。 - 【請求項３】 （Ｂ）成分のうちの(イ)成分が、一般式
（II） 【化２】 （式中、ａは１〜２０の整数を示す。）で表される化合
物である請求項１または２に記載の光学製品。 - 【請求項４】 光学的に透明である請求項１ないし３の
いずれか１項に記載の光学製品。 - 【請求項５】 眼鏡レンズである請求項１ないし４のい
ずれか１項に記載の光学製品。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP21437898A JP3174763B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 光学製品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21437898A JP3174763B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 光学製品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000047002A JP2000047002A (ja) | 2000-02-18 |
| JP3174763B2 true JP3174763B2 (ja) | 2001-06-11 |
Family
ID=16654803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21437898A Expired - Fee Related JP3174763B2 (ja) | 1998-07-29 | 1998-07-29 | 光学製品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3174763B2 (ja) |
-
1998
- 1998-07-29 JP JP21437898A patent/JP3174763B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2000047002A (ja) | 2000-02-18 |
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