JP2000355590A - ポリオール化合物およびその製造方法 - Google Patents
ポリオール化合物およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高屈折率、低分散で、透明性に優れ、かつ耐
溶剤性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性も良好な光学材料を
与えることができる新規なポリオール化合物及び製造法
を提供すること。 【解決手段】 一般式（I） （式中、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１〜３の整数を示
す。）で表されることを特徴とするポリオール化合物及
び一般式（ＩＩ） （式中、ｍは１〜３の整数を示す。）で表される２，５
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンに、
一般式（ＩＩＩ） （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｎは１〜３の
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を反応させることを特徴とする、請求項１または２に記
載の、一般式（Ｉ）で表されるポリオール化合物の製造
方法。
溶剤性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性も良好な光学材料を
与えることができる新規なポリオール化合物及び製造法
を提供すること。 【解決手段】 一般式（I） （式中、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１〜３の整数を示
す。）で表されることを特徴とするポリオール化合物及
び一般式（ＩＩ） （式中、ｍは１〜３の整数を示す。）で表される２，５
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンに、
一般式（ＩＩＩ） （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｎは１〜３の
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を反応させることを特徴とする、請求項１または２に記
載の、一般式（Ｉ）で表されるポリオール化合物の製造
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリオール化合物
およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明
は、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、かつ耐溶剤
性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性にも良好な光学材料の原
料として有用なポリオール化合物、およびこのものを効
率よく製造する方法に関するものである。
およびその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明
は、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、かつ耐溶剤
性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性にも良好な光学材料の原
料として有用なポリオール化合物、およびこのものを効
率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックはガラスに比べると、軽量
で割れにくく染色が容易なため、近年各種レンズ等の光
学部品に使用されるようになった。実用化されている光
学用プラスチック材料としては、ポリジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）やポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）がある。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が１．５０以下であ
るため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くな
る程レンズが厚くなり、軽量であるというプラスチック
の優位性が損なわれてしまうばかりか、審美性の点でも
好ましくなかった。また特に凹レンズにおいては、レン
ズの周囲の厚さ（コバ厚）が厚くなり、複屈折や色収差
が生じやすいなどの問題があった。
で割れにくく染色が容易なため、近年各種レンズ等の光
学部品に使用されるようになった。実用化されている光
学用プラスチック材料としては、ポリジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）やポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）がある。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が１．５０以下であ
るため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くな
る程レンズが厚くなり、軽量であるというプラスチック
の優位性が損なわれてしまうばかりか、審美性の点でも
好ましくなかった。また特に凹レンズにおいては、レン
ズの周囲の厚さ（コバ厚）が厚くなり、複屈折や色収差
が生じやすいなどの問題があった。
【０００３】そこで、比重の小さいプラスチックの特徴
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば（１）分子内に
アルコール性水酸基とハロゲンで置換された芳香環を有
する（メタ）アクリレート、これと共重合可能なラジカ
ル重合性化合物、およびイソシアネート化合物の重合体
からなるプラスチックレンズ（特開平６−２１１９６０
号公報）、（２）カルド構造を有するジオール化合物と
ラジカル重合可能なイソシアネート化合物からなる組成
物の硬化物（特開平１０−４５８５５号公報）、（３）
分子内にビスフェノールＡ骨格とカーボネート構造を有
するアクリル系単量体からなる光学材料（特開平９−２
０８５２９号公報）などが開示されている。
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば（１）分子内に
アルコール性水酸基とハロゲンで置換された芳香環を有
する（メタ）アクリレート、これと共重合可能なラジカ
ル重合性化合物、およびイソシアネート化合物の重合体
からなるプラスチックレンズ（特開平６−２１１９６０
号公報）、（２）カルド構造を有するジオール化合物と
ラジカル重合可能なイソシアネート化合物からなる組成
物の硬化物（特開平１０−４５８５５号公報）、（３）
分子内にビスフェノールＡ骨格とカーボネート構造を有
するアクリル系単量体からなる光学材料（特開平９−２
０８５２９号公報）などが開示されている。
【０００４】しかしながら、前記（１）のプラスチック
レンズ、（２）の硬化物および（３）の光学材料におい
ては、屈折率は高められているものの、屈折率を高める
ために導入した芳香環の影響により、アッベ数や耐候性
に劣るなどの欠点を有している。さらに（１）のプラス
チックレンズ及び（２）の硬化物においては、ハロゲン
で置換された芳香環や芳香環によるカルド構造のため着
色が見られると同時に、製造の際のハンドリング性が悪
いという欠点がある。
レンズ、（２）の硬化物および（３）の光学材料におい
ては、屈折率は高められているものの、屈折率を高める
ために導入した芳香環の影響により、アッベ数や耐候性
に劣るなどの欠点を有している。さらに（１）のプラス
チックレンズ及び（２）の硬化物においては、ハロゲン
で置換された芳香環や芳香環によるカルド構造のため着
色が見られると同時に、製造の際のハンドリング性が悪
いという欠点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、か
つ耐溶剤性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性も良好な光学材
料を与えることができる新規なポリオール化合物、およ
びこのものを効率よく製造する方法を提供することを目
的とするものである。
事情のもとで、高屈折率、低分散で、透明性に優れ、か
つ耐溶剤性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性も良好な光学材
料を与えることができる新規なポリオール化合物、およ
びこのものを効率よく製造する方法を提供することを目
的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の目
的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、高屈折率、
低分散及び高耐熱性に寄与する１，４−ジチアン環を主
骨格に持ち、かつ側鎖に硫黄原子を介して水酸基を有す
る特定構造のポリオール化合物が文献未載の新規な化合
物であり、その目的に適合しうることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、高屈折率、
低分散及び高耐熱性に寄与する１，４−ジチアン環を主
骨格に持ち、かつ側鎖に硫黄原子を介して水酸基を有す
る特定構造のポリオール化合物が文献未載の新規な化合
物であり、その目的に適合しうることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、一般式（I）
【化６】 （式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜３の整数を
示す。）で表されることを特徴とするポリオール化合物
を提供するものである。
示す。）で表されることを特徴とするポリオール化合物
を提供するものである。
【０００８】また、このポリオール化合物は、下記の本
発明の方法（製造方法１および製造方法２）により、製
造することができる。
発明の方法（製造方法１および製造方法２）により、製
造することができる。
【０００９】まず、本発明の製造方法１は、一般式（I
I）
I）
【化７】 （式中、ｍは１〜３の整数を示す。）で表される２，５
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンに、
一般式（III）
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンに、
一般式（III）
【化８】 （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｎは1〜３の
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を反応させることを特徴とする、前記一般式（I）で表
されるポリオール化合物の製造方法である。
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を反応させることを特徴とする、前記一般式（I）で表
されるポリオール化合物の製造方法である。
【００１０】次に、本発明の製造方法２は、一般式（I
V）
V）
【化９】 （式中、ＹはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｍは1〜３の
整数を示す。）で表される２，５−ビス（ハロゲノアル
キル）−１，４−ジチアンに、一般式（V）
整数を示す。）で表される２，５−ビス（ハロゲノアル
キル）−１，４−ジチアンに、一般式（V）
【化１０】 （式中、ｎは１〜３の整数を示す。）で表されるメルカ
プトアルキルアルコールを反応させることを特徴とす
る、前記一般式（I）で表されるポリオール化合物の製
造方法である。
プトアルキルアルコールを反応させることを特徴とす
る、前記一般式（I）で表されるポリオール化合物の製
造方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明のポリオール化合物は、一
般式（I）
般式（I）
【化１１】 で表される新規化合物である。一般式（I）から明らか
なように、この新規化合物は、脂環式スルフィドである
１，４−ジチアン環に、１つの硫黄原子を有するヒドロ
キシアルキル基がジチアン環の２位と５位に結合した構
造を有している。
なように、この新規化合物は、脂環式スルフィドである
１，４−ジチアン環に、１つの硫黄原子を有するヒドロ
キシアルキル基がジチアン環の２位と５位に結合した構
造を有している。
【００１２】前記一般式（I）において、ｍおよびｎ
は、それぞれ独立に１〜３の整数を示すが、ｍは１、か
つｎは２が好ましい。なお、２つのｍは同一でも異なっ
ていてもよいし、２つのｎは同一でも異なっていてもよ
い。
は、それぞれ独立に１〜３の整数を示すが、ｍは１、か
つｎは２が好ましい。なお、２つのｍは同一でも異なっ
ていてもよいし、２つのｎは同一でも異なっていてもよ
い。
【００１３】このように、一般式（I）で表されるポリ
オール化合物は、１、４−ジチアン環だけでなく、１、
４−ジチアン環以外にも硫黄原子を含むことにより、ポ
リオール化合物自体の屈折率およびアッベ数がより高め
られるので、このポリオール化合物を用いて光学材料を
製造した場合、その光学材料の屈折率およびアッベ数も
高められる。またこのポリオール化合物中の１、４−ジ
チアン環は剛直であるため、これを用いて光学材料を製
造した場合、その光学材料に優れた耐熱性や機械特性を
与え得る。
オール化合物は、１、４−ジチアン環だけでなく、１、
４−ジチアン環以外にも硫黄原子を含むことにより、ポ
リオール化合物自体の屈折率およびアッベ数がより高め
られるので、このポリオール化合物を用いて光学材料を
製造した場合、その光学材料の屈折率およびアッベ数も
高められる。またこのポリオール化合物中の１、４−ジ
チアン環は剛直であるため、これを用いて光学材料を製
造した場合、その光学材料に優れた耐熱性や機械特性を
与え得る。
【００１４】この一般式（I）で表されるポリオール化
合物の製造方法としては、所望の構造を有するポリオー
ル化合物が得られる方法であればよく、特に制限はない
が、以下に示す本発明の方法１および２に従えば極めて
効率よく製造することができる。
合物の製造方法としては、所望の構造を有するポリオー
ル化合物が得られる方法であればよく、特に制限はない
が、以下に示す本発明の方法１および２に従えば極めて
効率よく製造することができる。
【００１５】製造方法１ この製造方法１においては、一般式（II）
【化１２】 （式中、ｍは１〜３の整数を示す。）で表される２，５
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンと、
一般式（III）
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンと、
一般式（III）
【化１３】 （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｎは1〜３の
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を原料として用い、これらを、例えば水酸化ナトリウム
のようなハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させるこ
とにより、目的の前記一般式（I）で表されるポリオー
ル化合物が得られる。
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を原料として用い、これらを、例えば水酸化ナトリウム
のようなハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させるこ
とにより、目的の前記一般式（I）で表されるポリオー
ル化合物が得られる。
【００１６】上記反応においては、前記一般式（II）で
表される２，５−ビス（メルカプトアルキル）−１，４
−ジチアン１モルに対して、前記一般式（III）で表さ
れるハロゲノアルキルアルコールを、実質上２モルの割
合で反応させればよい。また、必要に応じ、適当な溶媒
を使用することができる。さらに、反応系が２層になる
場合には、例えば、トリメチルオクチルアンモニウムク
ロライドやメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド
等の相間移動触媒を用いても構わない。
表される２，５−ビス（メルカプトアルキル）−１，４
−ジチアン１モルに対して、前記一般式（III）で表さ
れるハロゲノアルキルアルコールを、実質上２モルの割
合で反応させればよい。また、必要に応じ、適当な溶媒
を使用することができる。さらに、反応系が２層になる
場合には、例えば、トリメチルオクチルアンモニウムク
ロライドやメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド
等の相間移動触媒を用いても構わない。
【００１７】製造方法２ この製造方法２においては、一般式（IV）
【化１４】 （式中、ＹはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｍは1〜３の
整数を示す。）で表される２，５−ビス（ハロゲノアル
キル）−１，４−ジチアンと、一般式（V）
整数を示す。）で表される２，５−ビス（ハロゲノアル
キル）−１，４−ジチアンと、一般式（V）
【化１５】 （式中、ｎは１〜３の整数を示す。）で表されるメルカ
プトアルキルアルコールを原料として用い、これらを、
例えば水酸化ナトリウムのようなハロゲン化水素捕捉剤
の存在下に反応させることにより、目的の前記一般式
（I）で表されるポリオール化合物が得られる。
プトアルキルアルコールを原料として用い、これらを、
例えば水酸化ナトリウムのようなハロゲン化水素捕捉剤
の存在下に反応させることにより、目的の前記一般式
（I）で表されるポリオール化合物が得られる。
【００１８】上記反応においては、前記一般式（IV）で
表される２，５−ビス（ハロゲノアルキル）−１，４−
ジチアン１モルに対して、前記一般式（V）で表される
メルカプトアルキルアルコールを、実質上２モルの割合
で反応させればよい。また、必要に応じ、適当な溶媒を
使用することができる。さらに、反応系が２層になる場
合には、例えば、トリメチルオクチルアンモニウムクロ
ライドやメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等
の相間移動触媒を用いても構わない。
表される２，５−ビス（ハロゲノアルキル）−１，４−
ジチアン１モルに対して、前記一般式（V）で表される
メルカプトアルキルアルコールを、実質上２モルの割合
で反応させればよい。また、必要に応じ、適当な溶媒を
使用することができる。さらに、反応系が２層になる場
合には、例えば、トリメチルオクチルアンモニウムクロ
ライドやメチルトリフェニルホスホニウムブロマイド等
の相間移動触媒を用いても構わない。
【００１９】本発明の一般式（I）で表されるポリオー
ル化合物の例としては、２，５−ビス（３−ヒドロキシ
−２−チアプロピル）−１，４−ジチアン、２，５−ビ
ス（４−ヒドロキシ−２−チアブチル）−１，４−ジチ
アン、２，５−ビス（５−ヒドロキシ−２−チアペンチ
ル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−チアブチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビ
ス（５−ヒドロキシ−３−チアペンチル）−１，４−ジ
チアン、２，５−ビス（６−ヒドロキシ−３−チアヘキ
シル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（５−ヒドロ
キシ−４−チアペンチル）−１，４−ジチアン、２，５
−ビス（６−ヒドロキシ−４−チアヘキシル）−１，４
−ジチアン、２，５−ビス（７−ヒドロキシ−４−チア
ヘプチル）−１，４−ジチアンなどを挙げることができ
るが、これらの中で特に得られる光学材料の性能および
入手の容易さなどの点から、２，５−ビス（４−ヒドロ
キシ−２−チアブチル）−１，４−ジチアンが好まし
い。
ル化合物の例としては、２，５−ビス（３−ヒドロキシ
−２−チアプロピル）−１，４−ジチアン、２，５−ビ
ス（４−ヒドロキシ−２−チアブチル）−１，４−ジチ
アン、２，５−ビス（５−ヒドロキシ−２−チアペンチ
ル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−チアブチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビ
ス（５−ヒドロキシ−３−チアペンチル）−１，４−ジ
チアン、２，５−ビス（６−ヒドロキシ−３−チアヘキ
シル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（５−ヒドロ
キシ−４−チアペンチル）−１，４−ジチアン、２，５
−ビス（６−ヒドロキシ−４−チアヘキシル）−１，４
−ジチアン、２，５−ビス（７−ヒドロキシ−４−チア
ヘプチル）−１，４−ジチアンなどを挙げることができ
るが、これらの中で特に得られる光学材料の性能および
入手の容易さなどの点から、２，５−ビス（４−ヒドロ
キシ−２−チアブチル）−１，４−ジチアンが好まし
い。
【００２０】本発明のポリオール化合物は、カルバメー
ト結合をもつラジカル重合性化合物の硬化体からなる光
学材料の原料としてだけでなく、一般的なポリオール化
合物がモノマーとなりうる、例えばポリウレタン、ポリ
エステル、ポリカーボネート等からなる光学材料の原料
としても用いることができる。
ト結合をもつラジカル重合性化合物の硬化体からなる光
学材料の原料としてだけでなく、一般的なポリオール化
合物がモノマーとなりうる、例えばポリウレタン、ポリ
エステル、ポリカーボネート等からなる光学材料の原料
としても用いることができる。
【００２１】
【実施例】次に、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら
限定されるものではない。得られたポリオール化合物お
よび光学材料（重合体）の物性は、以下に示す方法に従
って評価した。
説明するが、本発明は、これらの実施例によってなんら
限定されるものではない。得られたポリオール化合物お
よび光学材料（重合体）の物性は、以下に示す方法に従
って評価した。
【００２２】（１）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（プロトン
核磁気共鳴スペクトル） 日本電子製ＦＴ−ＮＭＲ装置ＥＸ２７０型を用いて測定
した。 （２）融点 マックサイエンス社製ＤＳＣ装置３１１０型を用いて、
昇温速度１０℃／分で測定した。 （３）屈折率（ｎＤ）とアッベ数（νＤ） カルニュー社製精密屈折率計ＫＰＲ−２００型を用いて
２０℃にて測定した。 （４）外観 肉眼により観察した。
核磁気共鳴スペクトル） 日本電子製ＦＴ−ＮＭＲ装置ＥＸ２７０型を用いて測定
した。 （２）融点 マックサイエンス社製ＤＳＣ装置３１１０型を用いて、
昇温速度１０℃／分で測定した。 （３）屈折率（ｎＤ）とアッベ数（νＤ） カルニュー社製精密屈折率計ＫＰＲ−２００型を用いて
２０℃にて測定した。 （４）外観 肉眼により観察した。
【００２３】（５）耐候性 サンシャインカーボンアークランプを装備したウエザー
メーターにレンズ（光学材料を用いた光学製品）をセッ
トし２００時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較し、下記の基準で耐候性を評
価した。 ○：変化なし ×：黄変 （６）耐溶剤性 アセトンを用いた拭き取りテストを行い、下記の基準で
耐溶剤性を評価した。 ○：変化がない ×：表面にあれや膨潤がみられる。 （７）光学歪 シュリーレン法による目視観察を行い、下記の基準で光
学歪を評価した。 ○：歪が認められない ×：歪が認められる
メーターにレンズ（光学材料を用いた光学製品）をセッ
トし２００時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較し、下記の基準で耐候性を評
価した。 ○：変化なし ×：黄変 （６）耐溶剤性 アセトンを用いた拭き取りテストを行い、下記の基準で
耐溶剤性を評価した。 ○：変化がない ×：表面にあれや膨潤がみられる。 （７）光学歪 シュリーレン法による目視観察を行い、下記の基準で光
学歪を評価した。 ○：歪が認められない ×：歪が認められる
【００２４】実施例１ ２，５−ビス（４−ヒドロキシ−２−チアブチル）−
１，４−ジチアンの製造１ ２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン
２１．２ｇ（０．１ｍｏｌ）と水４０ｍｌの懸濁液に、
氷浴下、水酸化ナトリウム２０重量％水溶液４０ｇ、２
−ブロモエタノール２５．０ｇ（０．２ｍｏｌ）の順に
滴下した。その後室温で１８時間攪拌し、さらに５０℃
で３時間反応させた。その後、酢酸エチルでの抽出、抽
出液の希アルカリ水溶液、水の順での洗浄を行い、硫酸
マグネシウムを用いて乾燥してから、酢酸エチルを十分
留去することにより、反応生成物を２４．５ｇ（０．０
８ｍｏｌ）得た。この反応生成物は、 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルにより、目的のポリオール化合物であることが確
認された。またこの新規ポリオール化合物の融点は４５
℃であった。この新規ポリオール化合物の 1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトルを図１に示す。
１，４−ジチアンの製造１ ２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン
２１．２ｇ（０．１ｍｏｌ）と水４０ｍｌの懸濁液に、
氷浴下、水酸化ナトリウム２０重量％水溶液４０ｇ、２
−ブロモエタノール２５．０ｇ（０．２ｍｏｌ）の順に
滴下した。その後室温で１８時間攪拌し、さらに５０℃
で３時間反応させた。その後、酢酸エチルでの抽出、抽
出液の希アルカリ水溶液、水の順での洗浄を行い、硫酸
マグネシウムを用いて乾燥してから、酢酸エチルを十分
留去することにより、反応生成物を２４．５ｇ（０．０
８ｍｏｌ）得た。この反応生成物は、 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルにより、目的のポリオール化合物であることが確
認された。またこの新規ポリオール化合物の融点は４５
℃であった。この新規ポリオール化合物の 1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトルを図１に示す。
【００２５】実施例２ ２，５−ビス（４−ヒドロキシ−２−チアブチル）−
１，４−ジチアンの製造２ 水酸化ナトリウム２０重量％水溶液４０ｇに、氷浴下、
２−メルカプトエタノール１５．４ｇ（０．２ｍｏｌ）
を滴下し調製した溶液と、２，５−ビス（クロロメチ
ル）−１，４−ジチアン２１．７ｇ（０．１ｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液とを混合して懸濁液を
得た。この懸濁液に、トリメチルオクチルアンモニウム
クロライド０．５ｇを加えて、１５時間還流攪拌した。
その後、一旦テトラヒドロフランを留去してから、酢酸
エチルでの抽出、抽出液の希アルカリ水溶液、水の順で
の洗浄を行い、硫酸マグネシウムを用いて乾燥してか
ら、酢酸エチルを十分留去することにより、反応生成物
を１８．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）得た。この反応生成物
は、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、目的のポリオール
化合物であることが確認された。またこの新規ポリオー
ル化合物の融点は４５℃であった。この新規ポリオール
化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
１，４−ジチアンの製造２ 水酸化ナトリウム２０重量％水溶液４０ｇに、氷浴下、
２−メルカプトエタノール１５．４ｇ（０．２ｍｏｌ）
を滴下し調製した溶液と、２，５−ビス（クロロメチ
ル）−１，４−ジチアン２１．７ｇ（０．１ｍｏｌ）の
テトラヒドロフラン５０ｍｌ溶液とを混合して懸濁液を
得た。この懸濁液に、トリメチルオクチルアンモニウム
クロライド０．５ｇを加えて、１５時間還流攪拌した。
その後、一旦テトラヒドロフランを留去してから、酢酸
エチルでの抽出、抽出液の希アルカリ水溶液、水の順で
の洗浄を行い、硫酸マグネシウムを用いて乾燥してか
ら、酢酸エチルを十分留去することにより、反応生成物
を１８．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）得た。この反応生成物
は、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、目的のポリオール
化合物であることが確認された。またこの新規ポリオー
ル化合物の融点は４５℃であった。この新規ポリオール
化合物の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
【００２６】応用例１ （１）カルバメート結合をもつラジカル重合性化合物の
製造 実施例１で得られた２，５−ビス（４−ヒドロキシ−２
−チアブチル）−１，４−ジチアン４５．０ｇ（０．１
５ｍｏｌ）と２−イソシアナトエチルメタクリレート４
６．５ｇ（０．３ｍｏｌ）との混合物に、触媒としてジ
ブチルスズジラウレート０．３８ｇを添加後、４０℃で
２時間攪拌した。放冷後、無色透明でわずかに粘稠なカ
ルバメート結合をもつラジカル重合性化合物を９１．５
ｇ得た。
製造 実施例１で得られた２，５−ビス（４−ヒドロキシ−２
−チアブチル）−１，４−ジチアン４５．０ｇ（０．１
５ｍｏｌ）と２−イソシアナトエチルメタクリレート４
６．５ｇ（０．３ｍｏｌ）との混合物に、触媒としてジ
ブチルスズジラウレート０．３８ｇを添加後、４０℃で
２時間攪拌した。放冷後、無色透明でわずかに粘稠なカ
ルバメート結合をもつラジカル重合性化合物を９１．５
ｇ得た。
【００２７】（２）光学製品の製造 上記（１）で得られたカルバメート結合をもつラジカル
重合性化合物（表１中でＨＲＭと表示）１００重量部及
び２，２−ジエトキシアセトフェノン（表１中でＤＥＡ
と表示）０．２重量部の混合物を均一に撹拌し、二枚の
レンズ成形用ガラス型に注入し、８ｍＷ／ｃｍ2の強度
の紫外線を１０分間照射した後、１２０℃で３時間加熱
することによりプラスチックレンズを得た。得られたプ
ラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１から、こ
のプラスチックレンズは無色透明であり、屈折率（ｎ
Ｄ）は１．５８と高く、アッベ数（νＤ）も４７と非常
に高い（低分散）ものであり、耐候性、耐溶剤性に優
れ、光学歪のないものであった。
重合性化合物（表１中でＨＲＭと表示）１００重量部及
び２，２−ジエトキシアセトフェノン（表１中でＤＥＡ
と表示）０．２重量部の混合物を均一に撹拌し、二枚の
レンズ成形用ガラス型に注入し、８ｍＷ／ｃｍ2の強度
の紫外線を１０分間照射した後、１２０℃で３時間加熱
することによりプラスチックレンズを得た。得られたプ
ラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１から、こ
のプラスチックレンズは無色透明であり、屈折率（ｎ
Ｄ）は１．５８と高く、アッベ数（νＤ）も４７と非常
に高い（低分散）ものであり、耐候性、耐溶剤性に優
れ、光学歪のないものであった。
【００２８】応用例２ 応用例１で得られたＨＲＭ ５０重量部、２，５−ビス
（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチアン（表１
中でＴＢＤと表示）５０重量部及びＤＥＡ０．２重量部
の混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型
に注入し、８ｍＷ／ｃｍ2の強度の紫外線を１０分間照
射した後、１２０℃で３時間加熱することによりプラス
チックレンズを得た。得られたプラスチックレンズの諸
物性を表１に示す。表１から、このプラスチックレンズ
は無色透明であり、屈折率（ｎＤ）は１．６３と高く、
アッベ数（νＤ）も４０と非常に高い（低分散）もので
あり、耐候性、耐溶剤性に優れ、光学歪のないものであ
った。
（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチアン（表１
中でＴＢＤと表示）５０重量部及びＤＥＡ０．２重量部
の混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型
に注入し、８ｍＷ／ｃｍ2の強度の紫外線を１０分間照
射した後、１２０℃で３時間加熱することによりプラス
チックレンズを得た。得られたプラスチックレンズの諸
物性を表１に示す。表１から、このプラスチックレンズ
は無色透明であり、屈折率（ｎＤ）は１．６３と高く、
アッベ数（νＤ）も４０と非常に高い（低分散）もので
あり、耐候性、耐溶剤性に優れ、光学歪のないものであ
った。
【００２９】応用例３、４ 表１に示した重合性組成物を使用した以外は応用例１と
同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これら
のプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１か
ら、これらのプラスチックレンズは無色透明であり、屈
折率（ｎＤ）は１．５６〜１．５９と高く、アッベ数
（νＤ）も４６〜４９と非常に高い（低分散）ものであ
り、耐候性、耐溶剤性に優れ、光学歪のないものであっ
た。
同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。これら
のプラスチックレンズの諸物性を表１に示す。表１か
ら、これらのプラスチックレンズは無色透明であり、屈
折率（ｎＤ）は１．５６〜１．５９と高く、アッベ数
（νＤ）も４６〜４９と非常に高い（低分散）ものであ
り、耐候性、耐溶剤性に優れ、光学歪のないものであっ
た。
【００３０】応用比較例１ ２，４，６−トリブロモベンジルチオールと２−イソシ
アナトエチルメタクリレートを等モル反応させたチオウ
レタンメタクリレート（表１中でＢＢＭと表示）１００
重量部及びジイソプロピルパーオキシジカーボネート
（表１中でＩＰＰＣと表示）２重量部の混合物を均一に
撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、３５℃
で６時間、５０℃で４時間、７０℃で３時間、８５℃で
５時間、さらに１００℃で１時間加熱することによりプ
ラスチックレンズを得た。得られたプラスチックレンズ
の諸物性を表１に示す。表１から、このプラスチックレ
ンズは、屈折率が１．６４と高く、光学歪のないもので
あったが、アッベ数が２９と低く、黄色で、耐候性、耐
溶剤性に劣っていた。
アナトエチルメタクリレートを等モル反応させたチオウ
レタンメタクリレート（表１中でＢＢＭと表示）１００
重量部及びジイソプロピルパーオキシジカーボネート
（表１中でＩＰＰＣと表示）２重量部の混合物を均一に
撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、３５℃
で６時間、５０℃で４時間、７０℃で３時間、８５℃で
５時間、さらに１００℃で１時間加熱することによりプ
ラスチックレンズを得た。得られたプラスチックレンズ
の諸物性を表１に示す。表１から、このプラスチックレ
ンズは、屈折率が１．６４と高く、光学歪のないもので
あったが、アッベ数が２９と低く、黄色で、耐候性、耐
溶剤性に劣っていた。
【００３１】応用比較例２ テトラブロモビスフェノールＡとエピクロロヒドリンか
ら得られるエポキシ樹脂にメタクリル酸を反応させて得
られるエポキシメタクリレート（表１中でＴＢＢＥと表
示）３５重量部、ビスフェノールＳビス（２−（２’−
メタクリロイルオキシエトキシ)エチル）エーテル（表
１中でＢＰＳと表示）１２重量部、スチレン（表１中で
Ｓｔと表示）３５重量部、ｍ−キシリレンジイソシアネ
ート（表１中でＸＤＩと表示）８重量部及びｏ−フェニ
ルフェニルグリシジルエーテル（表１中でＰＰＧと表
示）１０重量部に、触媒としてジブチルスズジラウレー
ト（表１中でＤＢＴＤＬと表示）０．０２５重量部及び
アゾビスイソブチロニトリル（表１中でＡＩＢＮと表
示）０．１重量部を加えた混合物を均一に撹拌し、二枚
のレンズ成形用ガラス型に注入し、３５℃から９０℃ま
で１７時間かけて加熱し、さらに９０℃で１時間保持す
ることによりプラスチックレンズを得た。得られたプラ
スチックレンズの諸物性を表１に示す。表１から、この
プラスチックレンズは、屈折率が１．６３と高く、透明
で、耐溶剤性に優れたものであったが、黄色で、アッベ
数が３０と低く、耐候性に劣り、光学歪が見られた。
ら得られるエポキシ樹脂にメタクリル酸を反応させて得
られるエポキシメタクリレート（表１中でＴＢＢＥと表
示）３５重量部、ビスフェノールＳビス（２−（２’−
メタクリロイルオキシエトキシ)エチル）エーテル（表
１中でＢＰＳと表示）１２重量部、スチレン（表１中で
Ｓｔと表示）３５重量部、ｍ−キシリレンジイソシアネ
ート（表１中でＸＤＩと表示）８重量部及びｏ−フェニ
ルフェニルグリシジルエーテル（表１中でＰＰＧと表
示）１０重量部に、触媒としてジブチルスズジラウレー
ト（表１中でＤＢＴＤＬと表示）０．０２５重量部及び
アゾビスイソブチロニトリル（表１中でＡＩＢＮと表
示）０．１重量部を加えた混合物を均一に撹拌し、二枚
のレンズ成形用ガラス型に注入し、３５℃から９０℃ま
で１７時間かけて加熱し、さらに９０℃で１時間保持す
ることによりプラスチックレンズを得た。得られたプラ
スチックレンズの諸物性を表１に示す。表１から、この
プラスチックレンズは、屈折率が１．６３と高く、透明
で、耐溶剤性に優れたものであったが、黄色で、アッベ
数が３０と低く、耐候性に劣り、光学歪が見られた。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【注】ＨＲＭ：応用例１で得られたカルバメート結合を
もラジカル重合性化合物 ＴＢＤ：２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−
１，４−ジチアン ＭＭＡ：メチルメタクリレート ＴＣＤＡ：トリシクロデカニルメタクリレート ＤＥＡ：２，２−ジエトキシアセトフェノン ＢＢＭ：２，４，６−トリブロモベンジルチオールと２
−イソシアナトエチルメタクリレートを等モル反応させ
たチオウレタンメタクリレート ＴＢＢＥ：テトラブロモビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンから得られたエポキシ樹脂にメタクリル酸を反
応させて得られたエポキシメタクリレート ＢＰＳ：ビスフェノールＳビス（２−（２’−メタクリ
ロイルオキシエトキシ）エチル）エーテル Ｓｔ：スチレン ＸＤＩ：ｍ−キシリレンジイソシアネート ＰＰＧ：ｏ−フェニルフェニルグリシジルエーテル ＩＰＰＣ：ジイソプロピルパーオキシジカーボネート ＤＢＴＤＬ：ジブチルスズジラウレート ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
もラジカル重合性化合物 ＴＢＤ：２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−
１，４−ジチアン ＭＭＡ：メチルメタクリレート ＴＣＤＡ：トリシクロデカニルメタクリレート ＤＥＡ：２，２−ジエトキシアセトフェノン ＢＢＭ：２，４，６−トリブロモベンジルチオールと２
−イソシアナトエチルメタクリレートを等モル反応させ
たチオウレタンメタクリレート ＴＢＢＥ：テトラブロモビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンから得られたエポキシ樹脂にメタクリル酸を反
応させて得られたエポキシメタクリレート ＢＰＳ：ビスフェノールＳビス（２−（２’−メタクリ
ロイルオキシエトキシ）エチル）エーテル Ｓｔ：スチレン ＸＤＩ：ｍ−キシリレンジイソシアネート ＰＰＧ：ｏ−フェニルフェニルグリシジルエーテル ＩＰＰＣ：ジイソプロピルパーオキシジカーボネート ＤＢＴＤＬ：ジブチルスズジラウレート ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
【００３４】
【発明の効果】本発明の新規なポリオール化合物は、
１，４−ジチアン環を主骨格に持ちかつ硫黄原子を側鎖
に有しているため、屈折率及びアッベ数が高く、しかも
２つの水酸基を有することから、分子中に少なくとも１
個のイソシアネート基および少なくとも１個の（メタ）
アクリロイル基を有する化合物と反応しカルバメート結
合をもつラジカル重合性化合物となり、このラジカル重
合性化合物が容易に重合反応し光学材料を与える。また
このポリオール化合物を用いて得られた光学材料は、耐
熱性にも寄与する１，４−ジチアン環とそれ以外にも硫
黄原子を基本骨格中に有するため、屈折率、アッベ数が
高く、耐溶剤性、耐熱性、耐候性、透明性に優れ、かつ
光学歪が見られない。したがって、眼鏡レンズ、カメラ
レンズ等のレンズ、プリズム、光ファイバー、光ディス
クおよび磁気ディスク等に用いられる記録媒体用基板、
フィルターなどの光学製品に好ましく用いられる。さら
に、高屈折率の特徴を生かしたグラス、花ビン等の装飾
品にも用いられる。
１，４−ジチアン環を主骨格に持ちかつ硫黄原子を側鎖
に有しているため、屈折率及びアッベ数が高く、しかも
２つの水酸基を有することから、分子中に少なくとも１
個のイソシアネート基および少なくとも１個の（メタ）
アクリロイル基を有する化合物と反応しカルバメート結
合をもつラジカル重合性化合物となり、このラジカル重
合性化合物が容易に重合反応し光学材料を与える。また
このポリオール化合物を用いて得られた光学材料は、耐
熱性にも寄与する１，４−ジチアン環とそれ以外にも硫
黄原子を基本骨格中に有するため、屈折率、アッベ数が
高く、耐溶剤性、耐熱性、耐候性、透明性に優れ、かつ
光学歪が見られない。したがって、眼鏡レンズ、カメラ
レンズ等のレンズ、プリズム、光ファイバー、光ディス
クおよび磁気ディスク等に用いられる記録媒体用基板、
フィルターなどの光学製品に好ましく用いられる。さら
に、高屈折率の特徴を生かしたグラス、花ビン等の装飾
品にも用いられる。
【図１】実施例１で得られたポリオール化合物の 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルを示す図。
ＮＭＲスペクトルを示す図。
【図２】実施例２で得られたポリオール化合物の 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルを示す図。
ＮＭＲスペクトルを示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｇ 63/688 Ｃ０８Ｇ 63/688 64/00 64/00 Ｆターム(参考） 2H050 AA13 AB42Z 4C023 PA07 4J029 AE04 BH02 DB06 DB17 4J034 CA04 CB03 CB07 CC29 CC39 CC45 CC52 CC62 CC65 CD08 RA13 4J100 AL65P BA38P BA51P BC83P CA01 JA33
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（I） 【化１】 （式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に１〜３の整数を
示す。）で表されることを特徴とするポリオール化合
物。 - 【請求項２】 一般式（I）において、ｍが１であり、
かつｎが２である請求項１に記載のポリオール化合物。 - 【請求項３】 一般式（II） 【化２】 （式中、ｍは１〜３の整数を示す。）で表される２，５
−ビス（メルカプトアルキル）−１，４−ジチアンに、
一般式（III） 【化３】 （式中、ＸはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｎは1〜３の
整数を示す。）で表されるハロゲノアルキルアルコール
を反応させることを特徴とする、請求項１または２に記
載の、一般式（I）で表されるポリオール化合物の製造
方法。 - 【請求項４】 一般式（IV） 【化４】 （式中、ＹはＣｌ、ＢｒまたはＩを示し、ｍは1〜３の
整数を示す。）で表される２，５−ビス（ハロゲノアル
キル）−１，４−ジチアンに、一般式（V） 【化５】 （式中、ｎは１〜３の整数を示す。）で表されるメルカ
プトアルキルアルコールを反応させることを特徴とす
る、請求項１または２に記載の、一般式（I）で表され
るポリオール化合物の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（I）において、ｍが１であり、
かつｎが２である請求項３または４に記載のポリオール
化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11165523A JP2000355590A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | ポリオール化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11165523A JP2000355590A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | ポリオール化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000355590A true JP2000355590A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15814018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11165523A Pending JP2000355590A (ja) | 1999-06-11 | 1999-06-11 | ポリオール化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000355590A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004108786A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Hoya Corporation | ポリオール化合物、透明成形体、及び透明成形体の製造方法 |
| JP2010242093A (ja) * | 2010-06-18 | 2010-10-28 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
-
1999
- 1999-06-11 JP JP11165523A patent/JP2000355590A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004108786A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Hoya Corporation | ポリオール化合物、透明成形体、及び透明成形体の製造方法 |
| JP2010242093A (ja) * | 2010-06-18 | 2010-10-28 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用組成物 |
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