JP3053177B2 - ポリイソシアネート化合物およびその製造方法 - Google Patents
ポリイソシアネート化合物およびその製造方法Info
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Description
ト化合物およびその製造方法に関する。さらに詳しく
は、本発明は、高屈折率、低分散で、光学特性に優れる
光学材料の原料として有用な新規なポリイソシアネート
化合物、および、このものを効率よく製造する方法に関
するものである。
で割れにくく、染色が容易であるため、近年、各種レン
ズ等の光学用途に使用されている。光学用プラスチック
材料としては、ポリエチレングリコールビスアリルカー
ボネート(CR−39)やポリメチルメタクリレート
(PMMA)が一般に用いられている。しかしながら、
これらのプラスチック材料は屈折率が1.5以下である
ため、例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなる
ほどレンズの肉厚を厚くしなければならず、軽量である
というプラスチックの優位性が損なわれてしまうばかり
か、審美性の点でも好ましくなかった。また特に凹レン
ズにおいては、レンズの周囲の厚さ(コバ厚)が厚くな
り、複屈折や色収差が生じやすいなどの問題があった。
を生かし、レンズの肉厚を薄くできるようにするため、
屈折率の高いプラスチック材料が望まれていた。そのよ
うな性能を有する材料としては、例えば(1)キシリレ
ンジイソシアネート化合物とポリチオール化合物とから
なる重合体(特開昭63−46213号公報)、(2)
脂肪族直鎖状含硫ジイソシアネートとポリチオール化合
物とからなる樹脂(特開平2−153302号公報)、
(3)2つのイソシアネートアルキル基で置換されたジ
チアン誘導体とポリチオールとからなる重合体(特開平
4−159275号公報)などが開示されている。
(2)の樹脂は、重合相手となるポリチオール化合物と
の組合わせを限定することにより、屈折率は高くなるも
のの、(1)においては、アッベ数が低くなり、色収差
が大きくなるという問題が生じるし、(2)において
は、耐熱性が悪くなるという問題が生じる。一方、
(3)の重合体は、高屈折率かつ低分散(高アッベ数)
で、耐熱性にも優れているが、近年、より高屈折率かつ
低分散である材料の開発が望まれるようになってきた。
事情のもとで、高屈折率でかつ低分散である上、耐熱性
に優れる光学材料を与えることができる新規なポリイソ
シアネート化合物、およびこのものを効率よく製造する
方法を提供することを目的とするものである。
的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、高屈折率、
低分散および高耐熱性に寄与する1,4−ジチアン環を
主骨格にもち、かつ側鎖に硫黄原子を介してイソシアネ
ート基を有する特定構造のポリイソシアネート化合物が
文献未載の新規な化合物であり、その目的に適合しうる
こと、そして、このものは、特定の方法により、効率よ
く得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
アルキレン基またはイソシアナートアルキル基(但しア
ルキル基の炭素数は1〜3である)が結合した炭素数1
〜5のアルキレン基を示し、これらのアルキレン基は硫
黄原子を有していてもよく、mおよびnは、それぞれ独
立に1〜3の整数を示す。)で表されることを特徴とす
るポリイソシアネート化合物を提供するものである。ま
た、このポリイソシアネート化合物は、下記の本発明の
方法(製造方法1および製造方法2)により、製造する
ことができる。
I)
示す。)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキ
ル)−1,4−ジチアンに、分子内にハロゲン基または
ビニル基を有する脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエス
テルを反応させて、一般式(III)
基、X1およびY1は、それぞれ独立に炭素数1〜5のア
ルキレン基を示し、このアルキレン基は硫黄原子を有し
ていてもよく、mおよびnは前記と同じである。)で表
されるジカルボン酸エステル体を得たのち、ヒドラジン
一水和物を反応させて、一般式(IV)
で表されるジカルボニルヒドラジド体に導き、次いでジ
カルボニルヒドラジド体を亜硝酸と反応させたのち、熱
転移させてイソシアネート基に変換することを特徴とす
る、一般式(I−a)
で表されるポリイソシアネート化合物の製造方法であ
る。
(II)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキル)
−1,4−ジチアンに、分子内にハロゲン基またはビニ
ル基を有する脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエステル
を反応させるか、または該脂肪族ジカルボン酸低級アル
キルエステルと末端にハロゲン基またはビニル基を有す
る脂肪族モノカルボン酸低級アルキルエステルを反応さ
せて、一般式(V)
の置換アルキレン基を示し、この置換アルキレン基は硫
黄原子を有していてもよく、R3およびR4は、それぞれ
独立に低級アルキル基、B1およびB2は、それぞれ独立
に炭素数1〜3のアルキレン基、kは0または1を示
し、mおよびnは前記と同じである。)で表されるトリ
カルボン酸エステル体またはテトラカルボン酸エステル
体を得たのち、ヒドラジン一水和物を反応させて、一般
式(VI)
同じである。)で表されるトリカルボニルヒドラジド体
またはテトラカルボニルヒドラジド体に導き、次いでカ
ルボニルヒドラジド体を亜硝酸と反応させたのち、熱転
移させてイソシアネート基に変換することを特徴とす
る、一般式(I−b)
同じである。)で表されるポリイソシアネート化合物の
製造方法である。
物は、一般式(I)
なように、この新規化合物は、脂環式スルフィドである
1,4−ジチアン環に、少なくとも1つの硫黄原子を有
するイソシアナートアルキル基がジチアン環の2位と5
位に結合した構造を有している。
は、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキレン基または
イソシアナートアルキル基(但しアルキル基の炭素数は
1〜3である)が結合した炭素数1〜5のアルキレン基
を示し、これらのアルキレン基は硫黄原子を有していて
もよい。該硫黄原子はアルキレン基中の2つの炭素原子
に結合しているのが好ましい。このXおよびYとして
は、メチレン基またはエチレン基、あるいは式
したメチレン基(a)、硫黄原子に結合している炭素原
子にイソシアナートメチル基が結合したエチレン基
(b)またはイソシアネート基に結合している炭素原子
にイソシアナートメチル基が結合したエチレン基(c)
が好ましい。また、mおよびnは、それぞれ独立に1〜
3の整数を示すが、特に1が好ましい。
イソシアネート化合物は、1、4−ジチアン環だけでな
く、1、4−ジチアン環以外にも硫黄原子を含むことに
より、ポリイソシアネート化合物自体の屈折率及びアッ
ベ数がより高められるので、このポリイソシアネート化
合物を用いて光学材料を製造した場合、その光学材料の
屈折率及びアッベ数も高められる。またこのポリイソシ
アネート化合物中の1、4−ジチアン環は剛直であるた
め、これを用いて光学材料を製造した場合、その光学材
料に優れた機械特性を与え得る。さらに、このポリイソ
シアネート化合物において、一般式(I)中のX及びY
で示される、硫黄原子を有していてもよい炭素数1〜5
のアルキレン基に、イソシアナートアルキル基(但し、
アルキル基の炭素数は1〜3である)が結合している場
合、それ自体架橋剤となるため、これを用いて光学材料
を製造した場合、副成分として他の架橋剤を加えなくて
も、その光学材料に高耐熱性、高耐溶剤性を与え得る。
ネート化合物の製造方法としては、所望の構造を有する
ポリイソシアネート化合物が得られる方法であればよ
く、特に制限はないが、以下に示す本発明の方法1およ
び2に従えば極めて効率よく製造することができる。
まず一般式(II)
示す。)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキ
ル)−1,4−ジチアンを原料として用い、これから、
一般式(III)
基、X1およびY1は、それぞれ独立に炭素数1〜5のア
ルキレン基を示し、このアルキレン基は硫黄原子を有し
ていてもよく、mおよびnは前記と同じである。)で表
されるジカルボン酸エステル体を得る。
酸エステル体を得るには、例えば前記一般式(II)で表
される2,5−ビス(メルカプトアルキル)−1,4−
ジチアンに、末端に塩素原子や臭素原子などのハロゲン
基を有する脂肪族カルボン酸低級アルキルエステルを、
ハロゲン化水素捕捉剤の存在下に反応させる方法、ある
いは、末端にビニル基を有する脂肪族カルボン酸低級ア
ルキルエステルを、ラジカル系やアニオン系触媒の存在
下に反応させる方法などを用いればよい。
びY1がそれぞれ、メチレン基である場合には、モノハ
ロゲノ酢酸低級アルキルエステルを反応させればよい
し、X1およびY1がそれぞれエチレン基である場合に
は、アクリル酸低級アルキルエステルを反応させればよ
い。そして、X1およびY1が同じものである場合には、
一般式(II)で表される2,5−ビス(メルカプトアル
キル)−1,4−ジチアン1モルに対して、末端にハロ
ゲン基またはビニル基を有する脂肪族カルボン酸低級ア
ルキルエステルを、実質上2モルの割合で反応させれば
よい。一方、X1およびY1が異なる場合には、一般式
(II)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキル)
−1,4−ジチアン1モルに対して、まず、末端にハロ
ゲン基またはビニル基を有する脂肪族カルボン酸低級ア
ルキルエステルを、実質上1モルの割合で反応させたの
ち、末端にハロゲン基またはビニル基を有する別の脂肪
族カルボン酸低級アルキルエステルを、実質上1モルの
割合で反応させる2段階の方法を用いればよい。上記反
応においては、必要に応じ、適当な溶媒を使用すること
ができる。
I)で表されるジカルボン酸エステル体に、ヒドラジン
一水和物などを反応させて、一般式(IV)
で表されるジカルボニルヒドラジド体に導く。この際、
必要に応じ、低級アルコールなどの溶媒を用いることが
できる。
(IV)で表されるジカルボニルヒドラジド体を、例えば
塩酸水溶中で亜硝酸と反応させたのち、熱転移させて、
カルボニルヒドラジド基をイソシアネート基に変換する
ことにより、目的の一般式(I−a)
で表されるポリイソシアネート化合物が得られる。
まず、前記一般式(II)で表される2,5−ビス(メル
カプトアルキル)−1,4−ジチアンを原料として用
い、これから、一般式(V)
の置換アルキレン基を示し、この置換アルキレン基は硫
黄原子を有していてもよく、R3およびR4は、それぞれ
独立に低級アルキル基、B1およびB2は、それぞれ独立
に炭素数1〜3のアルキレン基、kは0または1を示
し、mおよびnは前記と同じである。)で表されるトリ
カルボン酸エステル体またはテトラカルボン酸エステル
体を得る。
で、テトラカルボン酸エステル体(k=1)を得るに
は、前記一般式(II)で表される2,5−ビス(メルカ
プトアルキル)−1,4−ジチアンに、分子内に塩素原
子や臭素原子などのハロゲン基を有する脂肪族ジカルボ
ン酸低級アルキルエステルを、ハロゲン化水素捕捉剤の
存在下に反応させる方法、あるいは、分子内にビニル基
を有する脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエステルを、
ラジカル系やアニオン系触媒の存在下に反応させる方法
などを用いればよい。
に結合している炭素原子に、B1またはB2が結合した置
換エチレン基であり、かつB1およびB2が、それぞれメ
チレン基である場合には、グルタコン酸ジ低級アルキル
エステル(ROOC−CH2CH=CH−COOR、R
は低級アルキル基)を反応させればよい。そしてA1お
よびA2、B1およびB2が、それぞれ同じものである場
合には、一般式(II)で表される2,5−ビス(メルカ
プトアルキル)−1,4−ジチアン1モルに対して、分
子内にハロゲン基またはビニル基を有する脂肪族ジカル
ボン酸低級アルキルエステルを、実質上2モルの割合で
反応させればよい。また、A1およびA2、あるいはB1
およびB2が、それぞれ異なる場合には、一般式(II)
で表される2,5−ビス(メルカプトアルキル)−1,
4−ジチアン1モルに対して、まず、分子内にハロゲン
基またはビニル基を有する脂肪族ジカルボン酸低級アル
キルエステルを、実質上1モルの割合で反応させたの
ち、分子内にハロゲン基またはビニル基を有する別の脂
肪族ジカルボン酸低級アルキルエステルを、実質上1モ
ルの割合で反応させる2段階の方法を用いればよい。
で、トリカルボン酸エステル体(k=0)を得るには、
前記一般式(II)で表される2,5−ビス(メルカプト
アルキル)−1,4−ジチアン1モルに対し、まず製造
方法1と同様に末端にハロゲン基またはビニル基を有す
る脂肪族カルボン酸低級アルキルエステルを、実質上1
モルの割合で反応させたのち、分子内にハロゲン基また
はビニル基を有する脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエ
ステルを、実質上1モルの割合で反応させる2段階の方
法を用いればよい。もちろん、この逆の反応を行うこと
もできる。このような反応においては、必要に応じて溶
媒を使用することができる。
(V)で表されるトリカルボン酸エステル体またはテト
ラカルボン酸エステル体に、ヒドラジン一水和物などを
反応させて、一般式(VI)
同じである。)で表されるトリカルボニルヒドラジド体
またはテトラカルボニルヒドラジド体に導く。この際、
必要に応じ、低級アルコールなどの溶媒を用いることが
できる。
(VI)で表されるトリカルボニルヒドラジド体またはテ
トラカルボニルヒドラジド体を、例えば塩酸水溶中で亜
硝酸と反応させたのち、熱転移させて、カルボニルヒド
ラジド基をイソシアネート基に変換することにより、目
的の一般式(I−b)
同じである。)で表されるポリイソシアネート化合物が
得られる。また、一般式(I)で表されるポリイソシア
ネート化合物は、前述の本発明の方法以外に、ホスゲン
法によっても製造することができる。
る。まず、前記一般式(II)で表される2,5−ビス
(メルカプトアルキル)−1,4−ジチアン1モルに対
し、塩化水素捕捉剤の存在下にクロロアセトニトリルを
実質上2モルの割合で反応させて、一般式(VII)
ジニトリル体を得たのち、水素添加して、一般式(VII
I)
ジアミノ体に導き、次いでホスゲンを反応させることに
より、目的の一般式(I−c)
ポリイソシアネート化合物が得られる。
シアネート化合物の例としては、以下に示す構造のもの
を挙げることができる。
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。
光学材料(重合体)の物性は、以下に示す方法に従って
評価した。
磁気共鳴スペクトル) 日本電子製FT−NMR装置EX270型を用いて測定
した。 (2)IRスペクトル(赤外線吸収スペクトル) ニコレー製MAGNA−IR分光光度計560型を用い
て測定した◎ (3)屈折率(nD)とアッベ数(νD) アタゴ社製アッベ屈折率計3Tを用いて20℃にて測定
した。 (4)外観 肉眼により観察した。
100g、周波数10kHzで動的粘弾性の測定を行
い、2℃/分の昇温により得られた弾性率のチャートの
降下点の温度により評価した。 (6)耐候性 サンシャインカーボンアークランプを装備したウエザー
メーターにレンズ(光学材料を用いた光学製品)をセッ
トし200時間経過したところでレンズを取り出し、試
験前のレンズと色相を比較した。 (7)光学歪 シュリーレン法による目視観察を行った。 実施例1 2,5−ビス(4−イソシアナート−2−チアブチル)
−1,4−ジチアンの製造 2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン
31.8g(0.15mol)とアクリル酸メチル2
5.8g(0.3mol)をクロロホルム150mlに
溶解し、氷浴下、触媒としてトリトンB(40重量%メ
タノール溶液)0.8gを添加後、3時間還流攪拌し
た。放冷後、反応溶液を希水酸化ナトリウム水溶液、水
の順で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥してから、
クロロホルムを十分除去することにより、無色透明なエ
ステル化合物を46.8g(0.12mol)得た。
lに溶解し、ヒドラジン一水和物36.0g(0.72
mol)とメタノール36mlの混合溶液に室温で滴下
し、滴下終了後70℃で4時間攪拌した。放冷中に白色
結晶が析出したのでそれを濾取し、メタノール−水より
再結晶することにより、ヒドラジド化合物を39.3g
(0.11mol)得た。
水溶液160gに溶解し、クロロホルム100mlとの
懸濁液に、亜硝酸ナトリウム16.7g(0.24mo
l)を添加し、終了後、1時間攪拌を続けた。懸濁液か
ら有機相を取り出し、水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)
した後、加熱することにより転移反応を完結させた。反
応溶液から溶媒であるクロロホルムを十分除去すること
により、無色透明な反応生成物22.1g(0.063
mol)を得た。この反応生成物は、1H−NMRスペ
クトル及びIRスペクトルにより、目的の2,5−ビス
(4−イソシアナート−2−チアブチル)−1,4−ジ
チアンであることが確認された。このポリイソシアネー
ト化合物の1H−NMRスペクトルを図1に、IRスペ
クトルを図2に示す。
アナート−2−チアブチル)−1,4−ジチアンの製造 2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン
26.5g(0.125mol)とジエチルグルタコネ
ート46.6g(0.25mol)をテトラヒドロフラ
ン100mlに溶解し、氷浴下、触媒としてテトラブチ
ルアンモニウムフルオライド0.65g(0.0025
mol)を加え2時間還流撹拌した。放冷後、テトラヒ
ドロフランを除去し、ベンゼン150mlを加えたもの
を希水酸化ナトリウム水溶液、水の順で洗浄し、硫酸マ
グネシウムにより乾燥してから、ベンゼンを十分除去す
ることにより、淡黄色透明なエステル化合物を61.4
g(0.105mol)得た。
に溶解し、ヒドラジン一水和物104.2g(2.08
mol)とメタノール26mlの混合溶液に室温で滴下
し、滴下終了後80℃で4時間攪拌した。放冷後、反応
液をメタノール300mlに添加し、析出した黄色固形
物を濾取後、エタノール−水で加熱洗浄することによ
り、ヒドラジド化合物を21.9g(0.042mo
l)得た。
溶液600gに溶解し、トルエン300mlとの懸濁液
に、亜硝酸ナトリウム12.6g(0.18mol)を
添加し、終了後、1時間攪拌を続けた。懸濁液から有機
相を取り出し、水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)した
後、加熱することにより転移反応を完結させた。反応溶
液から、溶媒であるトルエンを十分除去することによ
り、無色透明な反応生成物6.6g(0.014mo
l)を得た。この反応生成物は、1H−NMRスペクト
ル及びIRスペクトルにより、目的の2,5−ビス(3
−イソシアナートメチル−4−イソシアナート−2−チ
アブチル)−1,4−ジチアンであることが確認され
た。このポリイソシアネート化合物の1H−NMRスペ
クトルを図3に、IRスペクトルを図4に示す。
−2−チアブチル)−1,4−ジチアン(表1中でDT
−1と表示)0.10mol、2,5−ビス(メルカプ
トメチル)−1,4−ジチアン(表1中でDMMDと表
示)0.10mol及びジブチルスズジラウレート(表
1中でDBTDLと表示)1.0×10-4molの混合
物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入
し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに
120℃で3時間加熱重合させプラスチックレンズを得
た。得られたプラスチックレンズの諸物性を表1に示
す。表1から、実施例1のポリイソシアネート化合物を
用いて得られた重合体は無色透明であり、屈折率(n
D)は1.67と非常に高く、アッベ数(νD)も36
と高い(低分散)ものであり、耐候性、耐熱性(114
℃)に優れ、光学歪のないものであった。
メチル−4−イソシアナート−2−チアブチル)−1,
4−ジチアン(表1中でDT−2と表示)0.06mo
l、DMMD0.12mol及びジブチルスズジラウレ
ート(表1中でDBTDLと表示)1.2×10-4mo
lの混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス
型に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時
間、さらに120℃で3時間加熱重合させプラスチック
レンズを得た。得られたプラスチックレンズの諸物性を
表1に示す。表1から、実施例2のポリイソシアネート
化合物を用いて得られた重合体は無色透明であり、屈折
率(nD)は1.67と非常に高く、アッベ数(νD)
も37と高い(低分散)ものであり、耐候性、耐熱性
(127℃)に優れ、光学歪のないものであった。
ソシアネート化合物DT−1、DT−2[それぞれ2,
5−ビス(4−イソシアナート−2−チアブチル)−
1,4−ジチアン、2,5−ビス(3−イソシアナート
メチル−4−イソシアナート−2−チアブチル)−1,
4−ジチアンを示す。]および2,5−ビス(3−イソ
シアナート−2−チアプロピル)−1,4−ジチアン
(表1中でDT−3と表示)のいずれかを含むモノマー
組成物を使用した以外は応用例1と同様の操作を行い、
プラスチックレンズを得た。これらのプラスチックレン
ズの諸物性を表1に示す。表1から、得られたプラスチ
ックレンズは無色透明であり、屈折率(nD)は1.6
5〜1.69と非常に高く、アッベ数(νD)も35〜
38と高い(低分散)ものであり、耐熱性(96〜12
7℃)、耐候性に優れ、光学歪のないものであった。
ート(表1中でPETMPと表示)0.06mol、m
−キシリレンジイソシアネート(表1中でXDIと表
示)0.12mol及びジブチルスズジラウレート(表
1中でDBTDLと表示)1.2×10-4molの混合
物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入
し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに
120℃で3時間加熱重合させプラスチックレンズを得
た。得られたプラスチックレンズの諸物性を表1に示
す。表1から、本応用比較例1のプラスチックレンズは
無色透明で光学歪も観察されなかったが、屈折率が1.
59と劣っていた。
例1と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得た。
これらのプラスチックレンズの諸物性を表1に示した。
表1から、本応用比較例2のプラスチックレンズは屈折
率が1.68と高く、耐熱性(128℃)にも優れてい
るが、黄色に着色しており、アッベ数が低い(25)上
に、耐候性に劣り、光学歪が観察された。また、本応用
比較例3のプラスチックレンズは、無色透明で、屈折率
が1.66と高かったが、光学歪が観察され、耐熱性
(71℃)にも劣っていた。
アブチル)−1,4−ジチアン、 DT−2:2,5−ビス(4−イソシアナートメチル−
4−イソシアナート−2−チアブチル)−1,4−ジチ
アン、 DT−3:2,5−ビス(3−イソシアナート−2−チ
アプロピル)−1,4−ジチアン、 CHTI:1,3,5−トリイソシアナートシクロヘキ
サン、 HMTI:1,3,5−トリス(イソシアナートメチ
ル)シクロヘキサン、 IMTM:ビス(イソシアナートメチルチオ)メタン、 DIITP:1,5−ジイソシアナート−2−イソシア
ナートメチル−3−チアペンタン、 DMMD:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4
−ジチアン、 PETMP:ペンタエリスリトールテトラキス(3−メ
ルカプトプロピオネート)、 KSD:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−
ジチアン−ダイマー、 TMP:1,2,3−トリメルカプトプロパン、 MES:2−メルカプトエチルスルフィド、 DBTDL:ジ−n−ブチルチンジラウレート、 DBTDC:ジ−n−ブチルチンジクロライド、DMTDC:ジメチルチンジクロライド XDI:m−キシリレンジイソシアネート、 TDI:トリレンジイソシアネート、 IES:2−イソシアナートエチルスルフィド、 XDT:m−キシリレンジチオール、 PETMA:ペンタエリスリトールテトラキス(2−メ
ルカプトアセテート)、 TMM:テトラキス(4−メルカプト−2−チアブチ
ル)メタン
物は、1,4−ジチアン環を主骨格に持ちかつ硫黄原子
を側鎖に有しているため、屈折率及びアッベ数が高く、
しかも2〜4つのイソシアネート基を有することから、
一分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物、
一分子内に2つ以上のメルカプト基を有する化合物及び
一分子内に1つ以上のヒドロキシル基と1つ以上のメル
カプト基を有する化合物のうちの少なくとも1種と容易
に重合反応し光学材料を与える。また、このポリイソシ
アネート化合物を用いて得られた光学材料は、耐熱性に
も寄与する1,4−ジチアン環とそれ以外にも硫黄原子
を基本骨格中に有するため、屈折率、アッベ数が高く、
耐熱性、耐候性、透明性に優れ、かつ光学歪が見られな
い。したがって、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレン
ズ、プリズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディス
ク等に用いられる記録媒体用基板、フィルターなどの光
学製品に好ましく用いられる。さらに、高屈折率の特徴
を生かしたグラス、花ビン等の装飾品にも用いられる。
アナート−2−チアブチル)−1,4−ジチアンの1H
−NMRスペクトル図である。
アナート−2−チアブチル)−1,4−ジチアンのIR
スペクトル図である。
アナートメチル−4−イソシアナート−2−チアブチ
ル)−1,4−ジチアンの1H−NMRスペクトル図で
ある。
アナートメチル−4−イソシアナート−2−チアブチ
ル)−1,4−ジチアンのIRスペクトル図である。
Claims (9)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、XおよびYは、それぞれ独立に炭素数1〜5の
アルキレン基またはイソシアナートアルキル基(但しア
ルキル基の炭素数は1〜3である)が結合した炭素数1
〜5のアルキレン基を示し、これらのアルキレン基は硫
黄原子を有していてもよく、mおよびnは、それぞれ独
立に1〜3の整数を示す。)で表されることを特徴とす
るポリイソシアネート化合物。 - 【請求項2】 一般式(I)において、XおよびYが、
それぞれメチレン基またはエチレン基である請求項1に
記載のポリイソシアネート化合物。 - 【請求項3】 一般式(I)において、XおよびYが、
それぞれイソシアナートメチル基が結合したメチレン
基、硫黄原子に結合している炭素原子にイソシアナート
メチル基が結合したエチレン基またはイソシアネート基
に結合している炭素原子にイソシアナートメチル基が結
合したエチレン基である請求項1に記載のポリイソシア
ネート化合物。 - 【請求項4】 一般式(I)において、mおよびnがそ
れぞれ1である請求項1、2または3に記載のポリイソ
シアネート化合物。 - 【請求項5】 一般式(II) 【化1】 (式中、mおよびnは、それぞれ独立に1〜3の整数を
示す。)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキ
ル)−1,4−ジチアンに、末端にハロゲン基またはビ
ニル基を有する脂肪族カルボン酸低級アルキルエステル
を反応させて、一般式(III) 【化2】 (式中、R1およびR2は、それぞれ独立に低級アルキ
ル基、X1およびY1は、それぞれ独立に炭素数1〜5
のアルキレン基を示し、このアルキレン基は硫黄原子を
有していてもよく、mおよびnは前記と同じである。)
で表されるジカルボン酸エステル体を得たのち、ヒドラ
ジン一水和物を反応させて、一般式(IV) 【化3】 (式中、m、n、X1およびY1は前記と同じであ
る。)で表されるジカルボニルヒドラジド体に導き、次
いでジカルボニルヒドラジド体を亜硝酸と反応させたの
ち、熱転移させてイソシアネート基に変換することを特
徴とする、一般式(I−a) 【化4】 (式中、m、n、X1およびY1は前記と同じであ
る。)で表されるポリイソシアネート化合物の製造方
法。 - 【請求項6】 一般式(II) 【化1】 (式中、mおよびnは、それぞれ独立に1〜3の整数を
示す。)で表される2,5−ビス(メルカプトアルキ
ル)−1,4−ジチアンに、分子内にハロゲン基または
ビニル基を有する脂肪族ジカルボン酸低級アルキルエス
テルを反応させるか、または該脂肪族ジカルボン酸低級
アルキルエステルと末端にハロゲン基またはビニル基を
有する脂肪族モノカルボン酸低級アルキルエステルを反
応させて、一般式(V) 【化2】 (式中、A1およびA2は、それぞれ独立に炭素数1〜5
の置換アルキレン基を示し、この置換アルキレン基は硫
黄原子を有していてもよく、R3およびR4は、それぞれ
独立に低級アルキル基、B1およびB2は、それぞれ独立
に炭素数1〜3のアルキレン基、kは0または1を示
し、mおよびnは前記と同じである。)で表されるトリ
カルボン酸エステル体またはテトラカルボン酸エステル
体を得たのち、ヒドラジン一水和物を反応させて、一般
式(VI) 【化3】 (式中、A1、A2、B1、B2、m、nおよびkは前記と
同じである。)で表されるトリカルボニルヒドラジド体
またはテトラカルボニルヒドラジド体に導き、次いでカ
ルボニルヒドラジド体を亜硝酸と反応させたのち、熱転
移させてイソシアネート基に変換することを特徴とす
る、一般式(I−b) 【化4】 (式中、A1、A2、B1、B2、m、nおよびkは前記と
同じである。)で表されるポリイソシアネート化合物の
製造方法。 - 【請求項7】 X1およびY1が、それぞれメチレン基ま
たはエチレン基である請求項5に記載のポリイソシアネ
ート化合物の製造方法。 - 【請求項8】 A1およびA2が、それぞれ置換メチレン
基、硫黄原子に結合している炭素原子にB1若しくはB2
が結合した置換エチレン基または硫黄原子に結合してい
る炭素原子以外の炭素原子にB1若しくはB2が結合した
置換エチレン基であり、かつB1およびB2が、それぞれ
メチレン基である請求項6に記載のポリイソシアネート
化合物の製造方法。 - 【請求項9】 mおよびnがそれぞれ1である請求項5
ないし8のいずれか1項に記載のポリイソシアネート化
合物の製造方法。
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DE69901867T DE69901867T2 (de) | 1998-07-14 | 1999-07-08 | Polyisocynatverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und diese gebrauchende optische Materialien |
US09/353,614 US6313316B1 (en) | 1998-07-14 | 1999-07-14 | Polyisocyanate compounds, process for producing the same, and optical materials using the same |
US09/931,053 US6489430B2 (en) | 1998-07-14 | 2001-08-17 | Polyisocyanate compounds, process for producing the same, and optical materials using the same |
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KR102005073B1 (ko) * | 2017-06-20 | 2019-07-29 | 부경대학교 산학협력단 | 풀림 방지 너트 및 이를 이용한 너트의 풀림 방지 방법 |
KR20210078072A (ko) * | 2019-12-18 | 2021-06-28 | 이근수 | 용해도 특성이 향상된 유기화합물 및 그 제조 방법 |
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- 1998-07-14 JP JP10198798A patent/JP3053177B2/ja not_active Expired - Fee Related
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