JP4091227B2 - 有機ゲルマニウム化合物およびその製造方法 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な有機ゲルマニウム化合物及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、屈折率およびアッベ数の高い光学材料の原料として有用な有機ゲルマニウム化合物、及びそれを効率よく製造する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プラスチックはガラスに比較し軽量で割れにくく染色が容易であるため、近年、レンズ等の各種光学用途に使用されている。そして、光学用プラスチック材料としては、ポリ(ジエチレングリコールビスアリルカーボネート)(CR−39)やポリ(メチルメタクリレート)が、一般に用いられている。しかしながら、これらのプラスチックは1.50以下の屈折率を有するため、それらを例えばレンズ材料に用いた場合、度数が強くなるほどレンズが厚くなり軽量を長所とするプラスチックの優位性が損なわれてしまう。特に強度の凹レンズは、レンズ周辺が肉厚となり、複屈折や色収差が生じることから好ましくない。さらに眼鏡用途において肉厚のレンズは、審美性を悪くする傾向にある。肉薄のレンズを得るためには、材料の屈折率を高めることが効果的であるが、一般的にガラスやプラスチックは、屈折率の増加に伴いアッベ数が減少し、その結果、それらの色収差は増加する。したがって、高い屈折率とアッベ数を兼ね備えたプラスチック材料が望まれている。
【0003】
このような性能を有するプラスチック材料としては、例えば(1)分子内に臭素を有するポリオールとポリイソシアネートとの重付加により得られるポリウレタン(特開昭58−164615号公報)、(2)ポリチオールとポリイソシアネートとの重付加により得られるポリチオウレタン(特公平4−58489号公報、特公平5−148340号公報など)が提案されている。そして、特に(2)のポリチオウレタンの原料となるポリチオールについて、イオウ原子の含有率を高めた分岐鎖ポリチオール(特開平2−270859号公報、特開平5−148340号公報)や、イオウ原子の含有率を高めるためジチアン構造を導入したポリチオール(特公平6−5323号公報、特開平7−118390号公報)が提案されている。さらに、(3)エピスルフィドを重合官能基としたアルキルスルフィドの重合体が提案されている(特開平9−72580号公報、特開平9−110979号公報)。
【0004】
しかしながら、上記(1)のポリウレタンは、屈折率はわずかに改良されているものの、アッベ数が低く、かつ耐光性に劣る上、比重が高く、軽量性が損なわれるなどの欠点を有している。また(2)のポリチオウレタンのうち、原料のポリチオールとして高硫黄含有率のポリチオールを用いて得られたポリチオウレタンは、屈折率が例えば1.60〜1.68程度に高められているが、同等の屈折率を有する光学用無機ガラスに比べてアッベ数が低く、アッベ数をさらに高めなければならないという課題を有している。一方、(3)のアルキルスルフィド重合体は、一例としてアッベ数が36において、屈折率が1.70に高められており、この重合体を用いて得られたレンズは、著しく薄肉、軽量化されているが、屈折率とアッベ数を同時に、さらに高めたプラスチックレンズ材料が望まれていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような事情のもとで、屈折率とアッベ数が共に高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性などに優れる光学材料を与えることのできる新規な化合物およびこのものを効率よく製造する方法を提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ゲルマニウム原子に少なくとも1つのビニルチオ基が結合し、さらに場合により、イソシアネート基が結合してなる有機ゲルマニウム化合物が新規な化合物であり、前記の目的に適合しうること、そして、このものは、特定の方法により、効率よく得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、
(1)一般式(I)
Ge(SCH=CH2)x(NCO)4-x …(I)
(式中、xは1〜4の整数を示す。)
で表される有機ゲルマニウム化合物、
(2)ビニルマグネシウムハライドにイオウ単体を反応させて、ビニルチオマグネシウムハライドを得たのち、これにテトラハロゲノゲルマニウムを反応させることを特徴とする、式(I−a)
Ge(SCH=CH2)4 …(I−a)
で表されるテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムの製造方法、および
(3)テトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムとテトライソシアナトゲルマニウムとを反応させることを特徴とする、一般式(I−b)
Ge(SCH=CH2)y(NCO)4-y …(I−b)
(式中、yは1〜3の整数を示す。)
で表される有機ゲルマニウム化合物の製造方法、
を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明の有機ゲルマニウム化合物は、一般式(I)
Ge(SCH=CH2)x(NCO)4-x …(I)
(式中、xは1〜4の整数を示す。)
で表される新規化合物であり、上記一般式(I)から明らかなように、ゲルマニウム原子に、1〜4個のビニルチオ基と、0〜3個のイソシアネート基とが結合していることを特徴とするものである。
【0009】
ある物質の屈折率は、構成元素の屈折率(原子屈折)の増加及び分子容の減少と共に増加する。骨格が炭素(原子屈折=2.42)で構成されているビニルスルフィド化合物やイソシアネート化合物に比べると、ゲルマニウム(原子屈折=4.1)を導入した本発明の有機ゲルマニウム化合物の屈折率は著しく高まり、この化合物を原料として得られた重合体のそれも増加する。
【0010】
本発明のゲルマニウム化合物は4官能性であり、その官能基間はできるだけ少ない元素で構成されているため、それを用いて得られた重合体の屈折率は、架橋密度の増加で引き起こされる分子容の減少から、増加する。したがって、高架橋密度を維持しアッベ数を低下させることなく屈折率を高めるために、ゲルマニウム原子には必ずビニルチオ基やイソシアネート基が直接結合していなければならない。これら置換基の数を前者につき1〜4(一般式(I)において、x=1〜4)、後者につき0〜3(一般式(I)において、(4−x)=0〜3)の範囲で変化させることで、本発明のゲルマニウム含有化合物を用いて得られる重合体の光学特性、熱的特性及び機械特性を調整することができる。
【0011】
前記一般式(I)で表されるゲルマニウム化合物としては、具体的にテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム(x=4)、トリ(ビニルチオ)イソシアナトゲルマニウム(x=3)、ジ(ビニルチオ)ジイソシアナトゲルマニウム(x=2)及びビニルチオトリイソシアナトゲルマニウム(x=1)が挙げられる。
この一般式(I)で表されるゲルマニウム化合物は、以下に示す本発明の方法により、効率よく製造することができる。
【0012】
本発明の方法は、下記の反応式
【0013】
【化1】
【0014】
(式中、X1及びX2は、それぞれハロゲン原子、yは1〜3の整数を示す。)
に従い、まず一般式(II)のビニルマグネシウムハライドにイオウ単体を反応させて、一般式(III)のビニルチオマグネシウムハライドを生成させる。次いで、このビニルチオマグネシウムハライドと式(IV)のテトラハロゲノゲルマニウムとを反応させて、本発明の有機ゲルマニウム化合物の1つである式(I−a)
Ge(SCH=CH2)4 …(I−a)
で表されるテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムを調製する。
【0015】
次に、このテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム(I−a)と式(V)のテトライソシアナトゲルマニウムを反応させることにより、もう1つの本発明の有機ゲルマニウム化合物である一般式(I−b)
Ge(SCH=CH2)y(NCO)4-y …(I−b)
(式中、yは1〜3の整数を示す。)
で表される化合物が得られる。この反応において、テトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムに対するテトライソシアナトゲルマニウムのモル比を、実質上0.3、1.2及び2とすることにより、一般式(I−b)におけるyが、それぞれ1、2及び3であるゲルマニウム化合物が主生成物として得られる。
【0016】
この反応においては、一般式(II)のビニルマグネシウムハライドにおけるX1としては、塩素原子や臭素原子などが挙げられるが、反応性などの面から臭素原子が好ましい。また、式(IV)のテトラハロゲノゲルマニウムにおけるX2としては、塩素原子や臭素原子が好ましい。
【0017】
次に、上記の各反応について、具体的に説明する。
まず、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒などの適当な溶媒中に、一般式(II)のビニルマグネシウムハライドとイオウ粉末とを、実質上等モルの割合で加え、10〜40℃程度の温度で反応させ、一般式(III)のビニルチオマグネシウムハライドを生成させる。次いで、生成物を単離することなく、この反応混合物に、式(IV)のテトラハロゲノゲルマニウムを加え、10〜50℃程度の温度で反応させる。この反応においては、ビニルチオマグネシウムハライド(III)は、テトラハロゲノゲルマニウム(IV)に対し、化学量論的量よりも過剰に使用するのが好ましい。
【0018】
反応終了後、従来公知の方法に従い、適当な溶媒を用いて反応生成物を抽出処理したのち、抽出物から溶媒を留去し、次いで、残留物を減圧蒸留することより、本発明のゲルマニウム化合物の1つである式(I−a)のテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムを得ることができる。
上記の反応は、一貫して、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
【0019】
次に、このようにして得られた式(I−a)のテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムと式(V)のテトライソシアナトゲルマニウムとを、所定の割合で混合し、この混合物を、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気下で、50〜200℃程度の温度で加熱することにより、再結合反応が生じ、一般式(I−b)の有機ゲルマニウム化合物が生成する。反応温度が50℃未満では実質上反応が進行しないし、200℃を超えるとビニルチオ基の重合が生じ、目的物を得ることが困難となる。好ましい反応温度は100〜180℃の範囲である。反応時間は、反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常10分〜24時間、好ましくは30分〜10時間程度である。
反応終了後、反応混合物を減圧蒸留することにより、本発明の有機ゲルマニウム化合物である一般式(I−b)で表される化合物が得られる。
【0020】
なお、原料の一つとして用いられる前記のテトライソシアナトゲルマニウムは、公知の方法、例えば「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ(J. Am. Chem. Soc.)」第65巻、第1783ページ(1943年)に記載の方法に従って調製することができる。
【0021】
次に、本発明の有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる光学材料について説明する。この光学材料は、例えば以下に示す重合性組成物を重合させることにより製造することができる。
この重合性組成物としては、前記一般式(I)で表される有機ゲルマニウム化合物(a1)を含む成分(A)と、一分子中に2つ以上のメルカプト基を有する化合物(b1)を含む成分(B)とを含む重合性組成物を挙げることができる。
【0022】
この重合性組成物において、成分(A)における有機ゲルマニウム化合物(a1)は必須成分であり、1種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。化合物(a1)である一般式(I)の有機ゲルマニウム化合物は、式(I−a)の化合物および式(I−b)の化合物を含み、その具体例は上述のとおりである。 また、成分(A)はさらに、得られる重合体の物性などを適宜改良するための任意成分として、一分子中に2つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物(a2)および/または一分子中に2つ以上のビニル基を有する化合物(a3)を含有することができる。
成分(A)中の上記有機ゲルマニウム化合物(a1)の含有量は、1〜100モル%の範囲が好ましい。
【0023】
上記成分(A)において適宜用いられる、一分子中に2つ以上のイソ(チオ)シアネート基を有する化合物(a2)の例としては、キシリレンジイソ(チオ)シアネート、3,3′−ジクロロジフェニル−4,4′−ジイソ(チオ)シアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソ(チオ)シアネート、ヘキサメチレンジイソ(チオ)シアネート、2,2′,5,5′−テトラクロロジフェニル−4,4′−ジイソ(チオ)シアネート、トリレンジイソ(チオ)シアネート、ビス(イソ(チオ)シアナトメチル)シクロヘキサン、ビス(4−イソ(チオ)シアナトシクロヘキシル)メタン、ビス(4−イソ(チオ)シアナトメチルシクロヘキシル)メタン、シクロヘキサンジイソ(チオ)シアネート、イソホロンジイソ(チオ)シアネート、2,5−ビス(イソ(チオ)シアナトメチル)ビシクロ[2,2,2]オクタン、2,5−ビス(イソ(チオ)シアナトメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−3−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−5−イソ(チオ)シアナトメチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−3−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−6−イソ(チオ)シアナトメチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−2−[3−イソ(チオ)シアナトプロピル]−5−イソ(チオ)シアナトメチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−2−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−6−イソ(チオ)シアナトメチル−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−3−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアナトエチル)−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−3−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアナトエチル)−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−2−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−5−(2−イソ(チオ)シアナトエチル)−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2−イソ(チオ)シアナトメチル−2−(3−イソ(チオ)シアナトプロピル)−6−(2−イソ(チオ)シアナトエチル)−ビシクロ[2,2,1]−ヘプタン、2,4ジチア−1,5−ジイソシアナトペンタン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0024】
なお上記「イソ(チオ)シアネート基」はイソシアネート基とイソチオシアネート基の両者を意味し、「イソ(チオ)シアナト」とはイソシアナトとイソチオシアナトの両者を意味する。
【0025】
また、成分(A)において適宜用いられる、一分子中に2つ以上のビニル基を有する化合物(a3)の例としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,5−ビス(ビニルチオメチル)―1,4―ジチアン、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、一分子中に少なくとも2つ以上の(メタ)アクリロキシ基を含むウレタン変性(メタ)アクリレート、エポキシ変性(メタ)アクリレート、ポリエステル変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、上記「(メタ)アクリレート」はアクリレートとメタクリレートの両者を意味し、「(メタ)アクリロキシ基」は、アクリロキシ基とメタクリロキシ基の両者を意味する。
【0026】
一方、成分(B)の必須成分である一分子中に2つ以上のメルカプト基を有する化合物(b1)の例としては、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、テトラキスメルカプトメチルメタン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセテート、2,3−ジメルカプトプロパノール、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、2,5−ビス(メルカプトメチル)―1,4−ジチアン、1,4−ベンゼンジチオール、1,3,5−ベンゼントリチオール、1,2−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3−ジメルカプトメチルベンゼン、1,4−ジメルカプトメチルベンゼン、1,3,5−トリメルカプトメチルベンゼン、トルエン−3,4−ジチオール、1,2,3−トリメルカプトプロパン、1,2,3,4−テトラメルカプトブタン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
成分(B)は得られる重合体の物性などを適宜改良するための任意成分を含むことができる。
【0027】
この重合性組成物における成分(A)と成分(B)の含有割合は、イソ(チオ)シアネート基とビニル基との総数およびメルカプト基の総数が、化学量論的比率の±10%の範囲内になるように選定するのが好ましい。ただし、得られる光学材料を適宜改質するために、ビニル基のみが過剰になってもよい。
【0028】
重合性組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、耐候性改良のため、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、蛍光染料などの添加剤を適宜加えてもよい。また、重合反応性向上のための触媒を適宜使用してもよく、例えばメルカプト基とビニル基との反応性向上のためには有機過酸化物、アゾ化合物や塩基性触媒が効果的であり、メルカプト基とイソ(チオ)シアネート基との反応性向上のためには有機スズ化合物、アミン化合物などが効果的である。
【0029】
本発明の有機ゲルマニウム化合物を用いて光学材料は、例えば以下に示す方法に従って製造することができる。
まず、前記の成分(A)、成分(B)および必要に応じて用いられる各種添加成分を含む重合性組成物を調製する。次いで、この重合性組成物を公知の注型重合法を用いて、ガラス製または金属製のモールドと樹脂製のガスケットを組み合わせた型の中に注入し、加熱して硬化させる。この際、成形後の樹脂の取り出しを容易にするためにあらかじめモールドを離型処理したり、重合性組成物中に離型剤を混合してもよい。重合温度は、使用する化合物により異なるが、一般には−20〜+150℃で、重合時間は0.5〜72時間程度である。重合後離型された重合体は通常の分散染料を用い、水もしくは有機溶媒中で容易に染色することができる。この際さらに染色を容易にするために、染料分散液にキャリアーを加えてもよく、また加熱してもよい。このようにして得られた光学材料は、これに限定されるものではないが、プラスチックレンズ等の光学製品として特に好ましく用いられる。
【0030】
【実施例】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
【0031】
なお、実施例で得られた有機ゲルマニウム化合物の物性、及び実施例、比較例で得られた重合体の物性は、以下に示す方法に従って測定した。
〈ゲルマニウム化合物の物性〉
屈折率(nd)、アッベ数(νd):アタゴ社製アッベ屈折率計3Tを用い、25℃にて測定した。
【0032】
〈重合体の物性〉
(1)屈折率(nd)、アッベ数(νd):上記と同様にして測定した。
(2)外観:肉眼により観察した。
(3)耐候性:サンシャインカーボンアークランプを装備したウエザーメーターにプラスチックレンズをセットし200時間経過したところでプラスチックレンズを取り出し、試験前のプラスチックレンズと色相を比較した。評価基準は変化なし(○)、わずかに黄変(△)、黄変(×)とした。
(4)耐熱性:リガク社製TMA装置により0.5mmφのピンを用いて98mN(10gf)の荷重でTMA測定を行ない、10℃/minの昇温で得られたチャートのピーク温度により評価した。
(5)光学歪:シュリーレン法による目視観察を行なった。歪の無いものを○、歪のあるものを×と評価した。
【0033】
実施例1
テトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム(G−1)の製造
ビニルマグネシウムブロミドを1.0モル/リットル濃度で含有するテトラヒドロフラン溶液136ミリリットルに、乾燥したイオウ粉末4.36gを、アルゴン気流下で室温にて15分間で加えた。この反応混合物に四塩化ゲルマニウム7.29gを30〜40℃にて1時間滴下し、さらに室温にて1時間撹拌した。
【0034】
この反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を10℃を超えないように加えたのち、n−ヘキサンで抽出し、このn−ヘキサン抽出物を水洗後、乾燥した。次いで、この抽出物からn−ヘキサンを留去したのち、残留物を減圧蒸留することにより、2.4Paにて沸点が87℃のテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム(G−1)3.96gを得た。
【0035】
この化合物の屈折率は1.651、アッベ数は22.5であった。以下にこの化合物の構造決定のための分析結果を示す。
1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ5.65(dd,2H)、δ6.45(dd,1H)
13C−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ124.2、δ124.3
IR;3088、3004、1586、1273、954cm-1
【0036】
実施例2
トリ(ビニルチオ)イソシアナトゲルマニウム(G−2)の製造
密閉容器にて、実施例1で得られたテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム3.09gをテトライソシアナトゲルマニウム0.72gと混合し、次いでアルゴンで置換したのち、150℃にて1時間撹拌した。次に、この反応混合物を減圧蒸留することにより、5.3Paにて沸点が69℃のトリ(ビニルチオ)イソシアナトゲルマニウム(G−2)2.44gを得た。
【0037】
この化合物の屈折率は1.648、アッベ数は33.9であった。以下にこの化合物の構造決定のための分析結果を示す。
1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ5.83(m,2H)、δ6.31(m,1H)
13C−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ122.3、δ124.7、δ126.4
IR;3088、3004、2230、1586、1273、954cm-1
【0038】
実施例3
ジ(ビニルチオ)ジイソシアナトゲルマニウム(G−3)の製造
密閉容器にて、実施例1で得られたテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム24.66gをテトライソシアナトゲルマニウム19.20gと混合し、次いでアルゴンで置換した後、150℃にて1.5時間撹拌した。次に、この反応混合物を減圧蒸留することにより4.7Paにて沸点が42℃のジ(ビニルチオ)ジイソシアナトゲルマニウム(G−3)18.86gを得た。
【0039】
この化合物の屈折率は1.633、アッベ数は35.5であった。以下にこの化合物の構造決定のための分析結果を示す。
1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ5.83(m,2H)、δ6.31(m,1H)
13C−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ122.3、δ124.7、δ126.4
IR;3088、3004、2230、1586、1273、954cm-1
【0040】
実施例4
ビニルチオトリイソシアナトゲルマニウム(G−4)の製造
密閉容器にて、実施例1で得られたテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム9.25gをテトライソシアナトゲルマニウム21.6gと混合し、次いでアルゴンで置換した後、120℃にて2時間撹拌した。次に、この反応混合物を減圧蒸留することにより253Paにて沸点が62℃のビニルチオトリイソシアナトゲルマニウム(G−4)11.72gを得た。
【0041】
この化合物の屈折率は1.617、アッベ数は38.2であった。以下にこの化合物の構造決定のための分析結果を示す。
1H−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ5.83(m,2H)、δ6.31(m,1H)
13C−NMR(溶媒:CDCl3、内部標準物質:TMS);δ122.3、δ124.7、δ126.4
【0042】
応用例1
本発明の有機ゲルマニウム化合物からの重合体の製造
表1に示すように、実施例1で得られたテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム(G−1)0.1モル、2,4−ジチア−1,5−ジイソシアナトペンタン(I−1)0.015モル、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン(T−1)0.215モル及び重合触媒であるジブチルスズジクロリド(C−1)3×10-6モルとアゾビスジメチルバレロニトリル(C−2)8×10-4モルの混合物を混合したのち、均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性を表2に示す。表2に示すように、本応用例で得られた重合体は、無色透明であり、屈折率(nd)は1.733と非常に高く、アッベ数(νd)も32.8と高い(低分散)ものであり、耐候性、耐熱性 (116℃)に優れ、光学歪のないものであった。従ってこの重合体は光学材料として好適に用いられる。
【0043】
応用例2〜6
本発明の有機ゲルマニウム化合物からの重合体の製造
本発明の有機ゲルマニウム化合物(a1)を含む成分(A)とポリチオール化合物(b1)を含む成分(B)を表1に示すように使用して、重合条件を適宜変更した以外は、応用例1と同様の操作を行ない、レンズ形状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を応用例1の重合体の諸物性と共に表2に示す。表2から、本応用例2〜6で得られた重合体も無色透明であり、屈折率(nd)は1.729〜1.754と非常に高く、アッベ数(νd)も29.8〜33.6と高い(低分散)ものであり、耐候性、耐熱性(109〜141℃)にも優れ、光学歪のないものであった。従ってこれらの重合体は光学材料として好適に用いられる。
【0044】
応用比較例1
表1に示すようにペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート(T−6)0.1モル、m−キシリレンジイソシアネート(I−4)0.2モルおよびジブチルスズジクロリド(C−1)1.0×10-4モルの混合物を均一に撹拌し、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入し、50℃で10時間、その後60℃で5時間、さらに120℃で3時間加熱重合させてレンズ形状の重合体を得た。得られた重合体の諸物性を表2に示す。表2から、この応用比較例1で得られた重合体は無色透明で光学歪も観察されなかったが、nd/νdが1.59/36と屈折率が低く、耐熱性も86℃と劣っていた。
【0045】
応用比較例2、3
表1に示した原料組成物を使用した以外は、比較例1と同様な操作を行い、レンズ形状の重合体を得た。これらの重合体の諸物性を表2に示す。表2から、応用比較例2の重合体はnd/νdが1.67/28といずれも低く、耐熱性(94℃)は比較的良好であるが、耐候性に劣り、光学歪が観察された。また、応用比較例3の重合体は、νdが36と比較的高く、耐候性に優れており、無色透明で光学歪は観察されなかったが、耐熱性(90℃)が劣り、ndが1.70とそれほど高くなく、また重合体は脆弱であった。
【0046】
【表1】
【0047】
(注)
G−1:テトラ(ビニルチオ)ゲルマニウム
G−2:トリ(ビニルチオ)イソシアナトゲルマニウム
G−3:ジ(ビニルチオ)ジイソシアナトゲルマニウム
G−4:ビニルチオトリイソシアナトゲルマニウム
I−1:2,4−ジチア−1,5−ジイソシアナトペンタン
I−2:1,3−ビス(イソチオシアナトメチル)ベンゼン
I−3:2,5−ビス(イソシアナトメチル)−1,4−ジチアン
I−4:m−キシリレンジイソシアネート
T−1:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン
T−2:2,3−ジメルカプトプロパノール
T−3:1,2,3−トリメルカプトプロパン
T−4:2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンのオリゴマー
(平均重合度3.2)
T−5:1,2,3,4−テトラメルカプトブタン
T−6:ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプトプロピオネート)
T−7:1,3,5−トリメルカプトベンゼン
T−8:2,3−エピチオプロピルスルフィド
V−1:2,5−ビス(ビニルチオメチル)−1,4−ジチアン
C−1:ジブチルスズジクロリド
C−2:アゾビスジメチルバレロニトリル
C−3:トリフェニルホスフィン
【0048】
【表2】
【0049】
【発明の効果】
本発明の有機ゲルマニウム化合物は、ゲルマニウム原子に1〜4個のビニルチオ基と0〜3個のイソシアネート基が直接結合している新規化合物であって、光学材料の原料として好適に用いられる。また、本発明の有機ゲルマニウム化合物を用いて得られる重合体からなる光学材料は、屈折率およびアッベ数が高く、耐熱性、耐候性、透明性に優れているので、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレンズ、プリズム、光ファイバー、光ディスク、磁気ディスク等に用いられる記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等の光学製品を作製する材料として好適である。
Claims (3)
- 一般式(I)
Ge(SCH=CH2)x(NCO)4-x …(I)
(式中、xは1〜4の整数を示す。)
で表される有機ゲルマニウム化合物。 - ビニルマグネシウムハライドにイオウ単体を反応させて、ビニルチオマグネシウムハライドを得たのち、これにテトラハロゲノゲルマニウムを反応させることを特徴とする、式(I−a)
Ge(SCH=CH2)4 …(I−a)
で表されるテトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムの製造方法。 - テトラ(ビニルチオ)ゲルマニウムとテトライソシアナトゲルマニウムとを反応させることを特徴とする、一般式(I−b)
Ge(SCH=CH2)y(NCO)4-y …(I−b)
(式中、yは1〜3の整数を示す。)
で表される有機ゲルマニウム化合物の製造方法。
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