JP2000249821A - パターン形成体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パターン形成体の製造に際して、高精度にパ
ターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が
不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含
有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の
心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを
主目的とするものである。 【解決手段】 本発明は、少なくとも光触媒含有層を有
する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有
層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を
有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層お
よび前記特性変化層が接触するように配置した後、露光
することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変
化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことによ
り、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパ
ターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の
製造方法を提供することにより上記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷をはじめとし
て各種の用途に使用可能な新規なパターン形成体の製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、基材上に図案、画像、文字、
回路等の各種パターンを形成するパターン形成体の製造
方法としては、各種のものが製造されている。

【０００３】例えば、印刷を例に挙げて説明すると、印
刷方法の一種である平版印刷に使用する平版印刷版は、
インクを受容する親油性部位と、印刷インクを受容しな
い部位とからなるパターンを有する平版を製造し、この
平版を用いて親油性部位に印刷すべきインクの画像を形
成し、形成した画像を紙等に転写して印刷している。こ
うした印刷では、このように印刷版原版に、文字、図形
等のパターンを形成してパターン形成体である印刷版を
製造し、印刷機に装着して使用している。代表的な平版
印刷版であるオフセット印刷用の印刷版原版には、数多
くのものが提案されている。

【０００４】オフセット印刷用の印刷版は、印刷版原版
にパターンを描いたマスクを介して露光して現像する方
法、あるいは電子写真方式によって直接に露光して印刷
版原版上に直接に製版する方法等によって作製すること
ができる。電子写真式のオフセット印刷版原版は、導電
性基材上に酸化亜鉛等の光導電性粒子および結着樹脂を
主成分とした光導電層を設け、これを感光体として電子
写真方式によって露光し、感光体表面に親油性の高い画
像を形成させ、続いて不感脂化液で処理し非画像部分を
親水化することによってオフセット原版、すなわちパタ
ーン形成体を得る方法によって作製されている。親水性
部分は水等によって浸漬して疎油性とされ、親油性の画
像部分に印刷インクが受容されて紙等に転写される。し
かしながら、パターン形成に当たっては不感脂化液での
処理等の種々の露光後の処理が必要となる。

【０００５】また、レーザーの照射によって、インクに
対して受容性の高い部位と撥インク性の部位からなるパ
ターンを形成することが可能なヒートモード記録材料を
用いた平版印刷原版を作製する方法も提案されている。
ヒートモード記録材料は、現像等の工程が不要で、単に
レーザー光によって画像を形成するのみで印刷版を製造
することができるという特徴を有しているが、レーザー
の強度の調整、レーザーにより変質した固体状物質など
残留物等の処理の問題、耐刷性などに課題があった。

【０００６】また、高精細なパターンを形成する方法と
して、基材上に塗布したフォトレジスト層にパターン露
光を行い、露光後、フォトレジストを現像し、さらにエ
ッチングを行ったり、フォトレジストに機能性を有する
物質を用いて、フォトレジストの露光によって目的とす
るパターンを直接形成する等のフォトリソグラフィーに
よるパターン形成体の製造方法が知られている。

【０００７】フォトリソグラフィーによる高精細パター
ンの形成は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィル
タの着色パターンの形成、マイクロレンズの形成、精細
な電気回路基板の製造、パターンの露光に使用するクロ
ムマスクの製造等に用いられているが、これらの方法に
よっては、フォトレジストを用いると共に、露光後に液
体現像液によって現像を行ったり、エッチングを行う必
要があるので、廃液を処理する必要が生じる等の問題点
があり、またフォトレジストとして機能性の物質を用い
た場合には、現像の際に使用されるアルカリ液等によっ
て劣化する等の問題点もあった。

【０００８】カラーフィルタ等の高精細なパターンを印
刷等によって形成することも行われているが、印刷で形
成されるパターンには、位置精度等の問題があり、高精
度なパターンの形成は困難であった。

【０００９】一方、このような問題点を解決するため
に、光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を用いて
パターンを形成するパターン形成体の製造方法等が本発
明者等において検討されてきた。しかしながら、これま
での光触媒の作用によるパターン形成体の製造方法は、
製造されるパターン形成体自体に光触媒が含まれる構成
となることから、パターン形成体の種類によっては、こ
の光触媒によって劣化が起こる可能性があるという問題
点を有する場合もあった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、パターン形成体の製造に際し
て、高精度にパターンを形成することが可能であり、露
光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体
内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成
体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を
提供することを主目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は請求項１において、少なくとも光触媒含有
層を有する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触
媒含有層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変
化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含
有層および前記特性変化層が接触するように配置した
後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の
特性を変化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外す
ことにより、特性変化層上に特性の変化したパターンを
有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン
形成体の製造方法を提供する。

【００１２】このように、本発明においては、光触媒含
有層および前記特性変化層が接触するように配置した
後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の
特性を変化させてパターンを形成するものであるので、
特に露光後の後処理も必要無く、高精細なパターンを有
するパターン形成体を製造することができる。また、露
光後、パターン形成体から光触媒含有層側基板を取り外
すので、パターン形成体自体には光触媒含有層が含まれ
ることがなく、したがってパターン形成体の光触媒の作
用による経時的な劣化に対する心配がない。

【００１３】本発明においては、請求項２に記載するよ
うに、光触媒含有層側基板が少なくとも透明基板と光触
媒含有層とからなり、パターン形成体用基板とは別に形
成されていてもよく、また請求項３に記載するように、
光触媒含有層側基板がパターン形成体用基板の特性変化
層上に光触媒含有層をコーティングすることにより形成
されたものであってもよい。

【００１４】光触媒含有層側基板が、パターン形成体用
基板とは別体に形成されており、かつ少なくとも光触媒
含有層と透明基板とからなるものである場合は、パター
ン形成体用基板の特性変化層にこの光触媒含有層側基板
を接触させて露光し、特性変化層上に光触媒の作用によ
りパターンを形成した後、この光触媒含有層側基板を取
り外すことにより、再度この光触媒含有層側基板を用い
ることができる。すなわち、光触媒含有層側基板をこの
ように構成することにより、原則的には何度でもこの光
触媒含有層側基板を用いてパターン形成体を製造するこ
とが可能となる。したがって、多数のパターン形成体を
一度に製造する場合に利点を有するものである。

【００１５】一方、光触媒含有層側基板がパターン形成
体用基板の特性変化層上に光触媒含有層をコーティング
することにより形成された場合は、単に特性変化層上に
コーティングするだけで、容易に光触媒含有層側基板を
形成することが可能となり、パターン形成体の製造数が
少ない場合に利点を有する。なお、このように特性変化
層上に光触媒含有層をコーティングすることにより光触
媒含有層側基板を形成した場合、露光後の光触媒含有層
の取り外しは、粘着テープ等を用いて引き剥がす方法等
により行われる。

【００１６】本発明のパターン形成体の製造方法におい
ては、請求項４に記載するように、光触媒含有層に含有
される光触媒が、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化亜鉛
（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、チタン酸ストロン
チウム（ＳｒＴｉＯ₃）、酸化タングステン（ＷＯ₃）、
酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）
から選択される１種または２種以上の物質であることが
好ましい。中でも請求項５に記載するように二酸化チタ
ン（ＴｉＯ₂）であることが好ましい。これは、二酸化
チタンのバンドギャップエネルギーが高いため光触媒と
して有効であり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入
手も容易だからである。

【００１７】本発明においては、請求項６に記載するよ
うに、パターン形成体用基板が、少なくとも基板とこの
基板上に設けられた前記特性変化層とから形成されてい
ることが好ましい。これは、通常特性変化層は種々の特
性を有するものであることから、強度面、コスト面およ
び機能面から基板上に薄膜として形成されることが好ま
しいからである。

【００１８】さらに、請求項７に記載するように、本発
明における特性変化層が、光触媒含有層中の光触媒の作
用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層であるこ
とが好ましい。この特性変化層の特性は種々のものがあ
るが、その中でも重要なものとして濡れ性の変化を挙げ
ることができる。このように特性変化層を濡れ性変化層
とすることにより、光触媒の作用により濡れ性の変化し
たパターンをパターン形成体に形成することが可能とな
り、この濡れ性の変化した部位にインク等の機能性部用
組成物を付着させることにより、後述するように種々の
機能性素子、例えばカラーフィルタやマイクロレンズ等
を形成することができるからである。

【００１９】本発明においては、請求項８に記載するよ
うに、上記濡れ性変化層が、露光により水の接触角が低
下するように濡れ性が変化する濡れ性変化層であること
が好ましい。このように、露光により水の接触角が低下
するように濡れ性の変化する濡れ性変化層が形成されれ
ば、露光等を行うことにより容易にこの層の濡れ性を変
化させ、水の接触角の小さい親インク性領域を形成とす
ることができ、例えば機能性部用組成物を付着させる部
分のみ容易に親インク性領域とすることが可能となる。
したがって、効率的にカラーフィルタやマイクロレンズ
等が製造でき、コスト的に有利となるからである。

【００２０】本発明においては、濡れ性変化層上の水と
の接触角が、露光していない部分において９０度以上で
あり、露光した部分において３０度以下であることが好
ましい（請求項９）。露光していない部分は、撥インク
性が要求される部分であることから、水の接触角が９０
度より小さい場合は、撥インク性が十分でなく、インク
等の機能性部用組成物が残存する可能性が生じるため好
ましくない。また、露光した部分の水の接触角を３０度
以下としたのは、３０度を越える場合は、この部分での
インク等の機能性部用組成物の広がりが劣る可能性があ
り、例えば機能性部がカラーフィルタの画素部である場
合、色抜けが生じる等の不都合が生じる可能性があるか
らである。

【００２１】また、請求項１０に記載するように、この
濡れ性変化層がオルガノポリシロキサンを含有する層で
あることが好ましい。本発明において、濡れ性変化層に
要求される特性としては、光が照射されていない場合は
撥インク性であり、光が照射された場合は接触する光触
媒含有層中の光触媒の作用により親インク性となるとい
った特性である。このような特性を濡れ性変化層に付与
する材料としては、まず第１にオルガノポリシロキサン
が挙げられるからである。

【００２２】このようなオルガノポリシロキサンの中で
も、請求項１１に記載するように、Ｙ_nＳｉＸ_(4-n)（こ
こで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル
基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘ
はアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３ま
での整数である。）で示される珪素化合物の１種または
２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物で
あるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。こ
のようなオルガノポリシロキサンが上記特性を良く満た
すものであるからである。

【００２３】本発明においては、請求項１２に記載する
ように、上記特性変化層が、光触媒含有層中の光触媒の
作用により分解除去される分解除去層であってもよい。
このように、特性変化層を光触媒含有層中の光触媒の作
用により分解除去される分解除去層とすることにより、
露光された部分は光触媒の作用により分解され除去され
ることになる。このように光の当たった部分は、特に後
処理の必要性もなく完全に分解除去することが可能であ
るので、例えば分解除去層をフォトレジストとし、ここ
に光触媒含有層側基板を接触させて露光することによ
り、従来行われてきた現像工程を行う必要無しにフォト
レジストにパターンを形成することができる等の種々の
用途があるからである。

【００２４】この場合、請求項１３に記載するように、
分解除去層とこの分解除去層が分解除去された際に露出
する露出部材との水の接触角が異なることが好ましい。

【００２５】このように、分解除去層とこの分解除去層
が分解除去された際に露出する露出部材との水の接触角
が異なることにより、露光された部分は光触媒の作用に
より分解除去層が分解され除去されて露出部材が表面に
露出することになる。一方、露光されていない部分は分
解除去層が残存することになる。ここで、分解除去層と
露出した露出部材とで水の接触角が異なるものである場
合、例えば分解除去層を撥インク性の材料で形成し、露
出部材を親インク性の材料で形成した場合等において
は、予め機能性部を形成する部分に光を照射して光触媒
を作用させることによりその部分の分解除去層を除去す
ることができ、露光した部分は凹部でかつ親インク性領
域となり、露光しない部分は凸部でかつ撥インク性領域
となる。これにより、この機能性部を設ける凹部でかつ
親インク性領域の部分に機能性部用組成物を精確かつ容
易に付着させることができる。よって、上述した特性変
化層が濡れ性変化層である場合よりさらに精確に機能性
部が形成でき、かつ現像工程もしくは洗浄工程等の露光
後の後処理を行う必要がない。このため、容易に工程を
簡略化することが可能であり、安価かつ精確な機能性部
を有する機能性素子を得ることができる。

【００２６】また、分解除去層上の水の接触角が６０度
以上であり、この分解除去層が分解除去された際に露出
する露出部材表面の水の接触角が３０度以下であること
が好ましい（請求項１４）。

【００２７】本発明において、露光されない部分は分解
除去層が残存することになる。ここで、露光されない部
分は、通常撥インク性が要求される部分であることか
ら、分解除去層上の水の接触角が６０度より小さい場合
は、撥インク性が十分でなく、機能性部用組成物が残存
する可能性が生じるため好ましくない。

【００２８】一方、露光された部分は分解除去層が接触
する光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除去され
る。したがって、露光された部分は分解除去層の下に形
成されている露出部材が表面に露出することになる。こ
の部分は通常親インク性が要求される部分であることか
ら、露出部材上の水の接触角が３０度を越える場合は、
この部分での機能性部用組成物の広がりが劣る可能性が
あり、機能性部での機能性部用組成物の抜け等が生じる
可能性があるからである。

【００２９】このように、分解除去層は接触する光触媒
含有層中の光触媒により分解除去され、かつ撥インク性
を有することが好ましいので、請求項１５に記載するよ
うに、分解除去層は、炭化水素系、フッ素系またはシリ
コーン系の非イオン界面活性剤であることが好ましい。

【００３０】本発明におけるパターン露光の方法は、請
求項１６に記載するようにフォトマスクを用いた方法で
あっても、また請求項１７に記載するように光描画照射
によるものであってもよく、得られるパターン形成体の
性質、用途等に応じて、適宜選択される。また、露光に
際しては請求項１８に記載するように光触媒含有層を加
熱しながら行うことが好ましい。このように光触媒含有
層を加熱しながら露光することにより、特性変化層に対
する光触媒含有層中の光触媒が感度良く作用するためで
ある。

【００３１】本発明は、さらに上記課題を解決するため
に、請求項１９に記載するように、少なくとも透明基板
と光触媒含有層とからなる光触媒含有層側基板であっ
て、表面に光触媒の作用により特性が変化する特性変化
層を有するパターン形成用基板の特性変化層と前記光触
媒含有層とを接触させて露光することによりパターン形
成体を形成することを特徴とするパターン形成体製造用
光触媒含有層側基板を提供する。

【００３２】このように、本発明のパターン形成体製造
用光触媒含有層側基板は、その光触媒含有層をパターン
形成体用基板の特性変化層に接触させて、露光すること
により、パターン形成体上にパターンを形成することが
できる。したがって、露光後特性変化層から取り外すこ
とにより、原則的には何度でも繰り返して使用すること
ができるという利点を有するものである。この場合請求
項２０に記載するように、光触媒含有層に含まれる光触
媒が二酸化チタンであることが好ましい。これは、二酸
化チタンのバンドギャップエネルギーが高いため光触媒
として有効であり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、
入手も容易だからである。

【００３３】また、本発明は、上記課題を解決するため
に、請求項２１に記載するように、基板と、この基板上
に形成され、光触媒の作用により特性が変化したパター
ンを有する特性変化層とを少なくとも有し、光触媒含有
層を有さないことを特徴とするパターン形成体を提供す
る。

【００３４】本発明のパターン形成体は、このように基
板と、光触媒の作用により特性が変化したパターンを有
する特性変化層とを少なくとも有するものである。した
がって、例えばこの特性の変化が濡れ性の変化であった
場合は、このパターン形成体をインクとの受容性の相違
を利用した各種印刷原版として利用することができるの
で、製造に際して現像・洗浄工程等を行う必要のない低
コストの各種印刷原版とすることができる。また、この
パターン形成体は、光触媒含有層を有するものでないの
で、パターン形成体が光触媒の作用により経時的に劣化
していくおそれがないという利点を有するものである。

【００３５】本発明は、請求項２２に記載するように、
中でも特性変化層が、光触媒の作用により露光により水
の接触角が低下するように濡れ性が変化する濡れ性変化
層であることが好ましい。

【００３６】このように特性変化層が露光時の光触媒の
作用により露光により水の接触角が低下するように濡れ
性が変化する濡れ性変化層であることにより、露光を行
うことにより容易に濡れ性を変化させ、水の接触角の小
さい親インク性領域のパターンを有するパターン形成体
とすることができる。よって、このようなパターン形成
体の親インク性領域のパターンに機能性部用組成物を付
着させることにより、効率的にカラーフィルタやマイク
ロレンズ等の機能性素子を製造でき、コスト的に有利と
なるからである。

【００３７】また、本発明は請求項２３に記載するよう
に、特性変化層が光触媒の作用により分解除去される分
解除去層であり、前記分解除去層とこの分解除去層が分
解除去された際に露出する露出部材との水の接触角が異
なるものであることが好ましい。

【００３８】このように、特性変化層を分解除去層と
し、この分解除去層が分解除去された際に露出する露出
部材との水の接触角が異なるものであるパターン形成体
とすることにより、上述したように、予め機能性部を設
ける部分の濡れ性を水の接触角が小さい親インク性領域
とし、他の部分を水の接触角が大きい撥インク性領域と
したパターン形成体を得ることができる。このようなパ
ターン形成体の親インク性領域パターンに機能性部用組
成物を付着させることにより、水の接触角の小さい親イ
ンク性領域にのみ容易に機能性部用組成物を付着させる
ことができる。よって、上述した特性変化層が濡れ性変
化層である場合と同様に、パターン形成体から、現像工
程もしくは洗浄工程等の露光後の後処理を行うことなし
に容易に機能性素子が形成できる。このため、容易に工
程を簡略化することが可能であり、安価に機能性部を有
する機能性素子を得ることができる。

【００３９】本発明においては、請求項２４に記載する
ように、上述したパターン形成体に形成されたパターン
に対応した部位上に機能性部を配置することにより機能
性素子とすることができる。このように、本発明のパタ
ーン形成体を用いることにより、容易に機能性素子を得
ることができる。

【００４０】この場合、請求項２５に記載するように、
パターンが水の接触角が異なる部位により形成されたパ
ターンであり、このパターンにおいて水の接触角が小さ
い部分上に機能性部が形成された機能性素子であること
が好ましい。これは、上述したように、水と接触角が小
さい親インク性領域に機能性部用組成物を付着させるこ
とにより、容易に機能性素子を得られることから、この
ような機能性素子はコスト的に有利であるからである。

【００４１】本発明の機能性素子は、請求項２６に記載
するように、機能性部が画素部であるカラーフィルタと
することができ、また請求項２７に記載するように、機
能性部をレンズとすることによりマイクロレンズとする
ことができる。カラーフィルタもしくはマイクロレンズ
とすることにより本発明の利点を十分に活かすことがで
きるからである。

【００４２】

【発明の実施の形態】以下、本発明のパターン形成体の
製造方法について詳細に説明する。本発明のパターン形
成体の製造方法は、少なくとも光触媒含有層を有する光
触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の
光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を有する
パターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前
記特性変化層が接触するように配置した後、露光するこ
とにより、露光した部分の特性変化層の特性を変化さ
せ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、
特性変化層上に特性の変化したパターンが形成されたパ
ターン形成体を得ることを特徴とするものである。

【００４３】このように、本発明のパターン形成体の製
造方法においては、光触媒含有層および特性変化層が接
触するように配置した後、露光することにより、光触媒
含有層中の光触媒の作用により露光した部分の特性変化
層の特性が変化し、特性変化層上の露光された部分、す
なわち特性の変化した部分によるパターンが形成され
る。したがって、パターン形成に際して露光後の現像・
洗浄等の後処理が不要となるので、従来より少ない工程
で、かつ安価にパターンを形成することができる。よっ
て、パターン形成体のパターンに沿って機能性部を形成
することにより容易にかつ安価にカラーフィルタ等の機
能性素子を形成することができる。

【００４４】さらに、本発明においては、特性変化層上
の特性を光触媒含有層中の光触媒の作用により変化させ
た後、光触媒含有層側基板を取り外してパターン形成体
側基板をパターン形成体としたものであるので、得られ
るパターン形成体には光触媒含有層が含まれていない。
したがって、得られるパターン形成体に機能性部を形成
して機能性素子とした場合に、機能性素子内部に光触媒
含有層が含まれることがなく、このため機能性素子が光
触媒の作用により経時的に劣化する可能性を皆無とする
ことが可能となる。

【００４５】このような本発明のパターン形成体の製造
方法について、図面を用いて説明する。なお、本発明に
おけるパターンとは、図案、画像、回路、文字等の種々
の模様を示すものであり、特に限定されるものではな
い。

【００４６】図１は、本発明のパターン形成体の製造方
法の一例を示すものである。この製造方法においては、
まず透明基板１とこの透明基板１上に形成された光触媒
含有層２とからなる光触媒含有層側基板３と、基板４お
よびこの基板４上に設けられた特性変化層５とからなる
パターン形成体用基板６とを準備する（図１（Ａ）参
照）。

【００４７】次に、この光触媒含有層側基板３の光触媒
含有層２と、パターン形成体用基板６の特性変化層５と
が接触するように密着させ、フォトマスク７を介して例
えばＵＶ光等により露光する。これにより、特性変化層
５上の露光された部位の特性が変化して特性変化部位８
となる（図１（Ｂ）参照）。

【００４８】次いで、光触媒含有層側基板３をパターン
形成体用基板から取り外す（離す）ことにより、特性変
化層５に特性変化部位８のパターンが描かれたパターン
形成体９が形成される（図１（Ｃ）参照）。

【００４９】また、本発明のパターン形成体の製造方法
の他の例を図２に示す。この例においては、まず基板４
上に特性変化層５が形成されたパターン形成体用基板６
を準備する（図２（Ａ）参照）。次いで、この特性変化
層上に光触媒含有層２を塗布等により形成する（図２
（Ｂ）参照）。なお、この例においては、塗布等されて
形成されたこの光触媒含有層２が本発明でいう光触媒含
有層側基板３となる。そして、上記第１の例と同様にフ
ォトマスク７を介して露光することにより特性変化層５
上に特性変化部位８が形成される（図２（Ｃ）参照）。
最後に光触媒含有層２を取り外すことにより、特性変化
層５上に特性変化部位８のパターンが形成されたパター
ン形成体９が得られる（図２（Ｄ）参照）。

【００５０】以下、上述した二つの製造方法を例とし
て、本発明のパターン形成体製造方法について詳しく説
明する。

【００５１】（光触媒含有層側基板）本発明における光
触媒含有層側基板とは、少なくとも光触媒含有層を有す
るものであれば、どのような基板をも含むものである。
例えば図１に示す例のように、光触媒含有層２の他に透
明基板１を含むものであってもよいし、図２の例に示す
ように光触媒含有層２単独で形成されたものであっても
よい。また、必要に応じて他の層が形成されたものであ
ってもよい。

【００５２】また、この光触媒含有層側基板は、図１の
例に示すように、透明基板１上に光触媒含有層２を形成
することにより得られ、予めパターン形成体用基板とは
別体に形成されたものであってもよく、また図２に示す
例のようにパターン形成体用基板６上に塗布されて形成
されたもののようにパターン形成体用基板と一体となる
ように形成されたものであってもよい。

【００５３】図１に示すように、光触媒含有層側基板３
をパターン形成体用基板６と別体に形成すると、図１
（Ａ）〜（Ｃ）に示すようにパターン形成体用基板６の
特性変化層５にこの光触媒含有層側基板３を接触させて
露光し、特性変化層５上に光触媒の作用によりパターン
を形成した後、この光触媒含有層側基板３を取り外すこ
とにより、再度この光触媒含有層側基板３を用いること
ができる。すなわち、光触媒含有層側基板をこのように
構成することにより、原則的には何度でもこの光触媒含
有層側基板を用いることが可能となり、多数のパターン
形成体を製造する場合に利点を有する。

【００５４】このように光触媒含有層側基板をパターン
形成体用基板と別体に形成する場合は、強度やコスト等
の関係から光触媒含有層以外に少なくとも透明基板を有
することが好ましい。すなわち、図１に示すように、透
明基板１上に光触媒含有層２を形成した構成とすること
により、繰り返し使用した場合の強度に耐えることがで
き、また光触媒含有層２のみで別体に形成した場合より
コスト的に有利となるのである。

【００５５】このような光触媒含有層側基板は、少なく
とも光触媒含有層と透明基板を有し、かつ片面に光触媒
含有層が露出している部分があればいかなる構成であっ
てもよい。例えば、他にフォトマスクが一体に形成され
ていてもよく、周囲に保護層等が形成されていてもよ
い。また、図１（Ｂ）において全面露光しても特性変化
層上にパターン状に特性変化部位が形成できるように、
光触媒含有層上に接触阻害層をマスクパターン状に形成
し、特性変化層と接触する部位をパターン状に制限した
ものであってもよく、また光触媒含有層自体をパターン
状に形成したものであってもよい。

【００５６】一方、光触媒含有層側基板を、図２に示す
ようにパターン形成体用基材６上に光触媒含有層を塗布
等することにより一体に形成した場合は、光触媒含有層
側基板に強度が必要とならないため、強度保持のための
層が不要となり、少数のパターン形成体を得る場合に有
利である。

【００５７】この場合も、少なくとも光触媒含有層が含
まれれば他にいかなる層が形成されていてもよく、例え
ばこの光触媒含有層側基板の取り外しを容易にするため
に、予め粘着層等を設けていてもよい。また、この光触
媒含有層がパターン状に形成されたものであってもよ
い。

【００５８】（光触媒含有層）上述したように、光触媒
含有層側基板３には少なくとも光触媒含有層２が含まれ
る。

【００５９】この光触媒含有層は、光触媒含有層中の光
触媒が接触する特性変化層の特性を変化させるような構
成であれば、特に限定されるものではなく、光触媒とバ
インダとから構成されているものであってもよいし、光
触媒単体で製膜されたものであってもよい。また、その
表面の濡れ性は特に親インク性であっても撥インク性で
あってもよい。

【００６０】この光触媒含有層における、後述するよう
な二酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、必ず
しも明確なものではないが、光の照射によって生成した
キャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸
素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の
化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。本発明
においては、このキャリアが光触媒含有層上に接触する
特性変化層中の化合物に作用を及ぼすものであると思わ
れる。

【００６１】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる例えば二酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸
化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、チタン酸ス
トロンチウム（ＳｒＴｉＯ₃）、酸化タングステン（Ｗ
Ｏ₃）、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸化鉄（Ｆ
ｅ₂Ｏ₃）を挙げることができ、これらから選択して１種
または２種以上を混合して用いることができる。

【００６２】本発明においては、特に二酸化チタンが、
バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性
もなく、入手も容易であることから好適に使用される。
二酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発
明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型
の二酸化チタンが好ましい。アナターゼ型二酸化チタン
は励起波長が３８０ｎｍ以下にある。

【００６３】このようなアナターゼ型二酸化チタンとし
ては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、
石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平
均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。

【００６４】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径か５０ｎｍ以下が
好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。

【００６５】本発明における光触媒含有層は、上述した
ように光触媒単独で形成されたものであってもよく、ま
たバインダーと混合して形成されたものであってもよ
い。

【００６６】光触媒単独で形成する場合、例えば二酸化
チタンの場合は、透明基板もしくは特性変化層上に無定
形チタニアを形成し、次いで焼成により結晶性チタニア
に相変化させる方法等が挙げられる。ここで用いられる
無定形チタニアとしては、例えば四塩化チタン、硫酸チ
タン等のチタンの無機塩の加水分解、脱水縮合、テトラ
エトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ
−ｎ−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テト
ラメトキシチタン等の有機チタン化合物を酸存在下にお
いて加水分解、脱水縮合によって得ることができる。次
いで、４００℃〜５００℃における焼成によってアナタ
ーゼ型チタニアに変性し、６００℃〜７００℃の焼成に
よってルチル型チタニアに変性することができる。

【００６７】また、バインダを用いる場合は、バインダ
の主骨格が上記の光触媒の光励起により分解されないよ
うな高い結合エネルギーを有するものが好ましく、例え
ばこのようなバインダとしては、後述する濡れ性変化層
の説明のところで詳しく説明するオルガノポリシロキサ
ン等を挙げることができる。

【００６８】このようにオルガノポリシロキサンをバイ
ンダとして用いた場合は、上記光触媒含有層は、光触媒
とバインダであるオルガノポリシロキサンを必要に応じ
て他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製
し、この塗布液を透明基板上もしくは特性変化層上に塗
布することにより形成することができる。使用する溶剤
としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコー
ル系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプ
レーコート、ディッブコート、ロールコート、ビードコ
ート等の公知の塗布方法により行うことができる。バイ
ンダとして紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫
外線を照射して硬化処理を行うことにより光触媒含有層
を形成することかできる。

【００６９】また、バインダとして無定形シリカ前駆体
を用いることができる。この無定形シリカ前駆体は、一
般式ＳｉＸ₄で表され、Ｘはハロゲン、メトキシ基、エ
トキシ基、またはアセチル基等であるケイ素化合物、そ
れらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量
３０００以下のポリシロキサンが好ましい。

【００７０】具体的には、テトラエトキシシラン、テト
ライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシシラン等が
挙げられる。また、この場合には、無定形シリカの前駆
体と光触媒の粒子とを非水性溶媒中に均一に分散させ、
透明基板上に空気中の水分により加水分解させてシラノ
ールを形成させた後、常温で脱水縮重合することにより
光触媒含有層を形成できる。シラノールの脱水縮重合を
１００℃以上で行えば、シラノールの重合度が増し、膜
表面の強度を向上できる。また、これらの結着剤は、単
独あるいは２種以上を混合して用いることができる。

【００７１】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、５〜
６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、０．
０５〜１０μｍの範囲内が好ましい。

【００７２】また、光触媒含有層には上記の光触媒、バ
インダの他に、界面活性剤を含有させることができる。
具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬ Ｂ
Ｌ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デ
ュポン社製ＺＯＮＹＬ ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）
製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工
業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス
（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキ
ン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリ
ーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフ
ッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙
げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、アニオ
ン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもでき
る。

【００７３】さらに、光触媒含有層には上記の界面活性
剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。 （透明基板）本発明においては、図１に示すように、光
触媒含有層側基板３は透明基板１とこの透明基板１上に
形成された光触媒含有層２とから構成されることが好ま
しい。

【００７４】この透明基板は、図１（Ｂ）に示すように
露光の際に、光触媒含有層側基板の光触媒含有層２が形
成されていない側から露光可能なように、例えばＵＶ光
等の光を透過する材質であれば特に限定されるものでは
ない。好ましい材質としては、例えば石英ガラス、パイ
レックスガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリ
ジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等
の可撓性を有する透明なフレキシブル材等を挙げること
ができる。

【００７５】（パターン形成体用基板）本発明のパター
ン形成体の製造方法においては、図１および図２に示す
ように、まず上述した光触媒含有層側基板３とパターン
形成体用基板６とを準備する。

【００７６】このパターン形成体用基板は、少なくとも
特性変化層を有するものであれば特に限定されるもので
はないが、強度等の関係から基板上にこの特性変化層が
形成されていることが好ましい。また、必要であれば他
の保護層等も形成されてもよいが、少なくとも一方の面
全面もしくは部分的に特性変化層が露出している必要が
ある。

【００７７】本発明においてパターン形成体用基板と
は、いまだ特性変化層に特性変化部位によるパターンが
形成されていない状態の基板を示し、このパターン形成
体用基板に対して露光して、特性変化層上に特性変化部
位のパターンが形成されたものをパターン形成体とす
る。

【００７８】（特性変化層）本発明における特性変化層
とは、光触媒の作用により特性が変化する層であればい
かなる層であってもよく、例えば特性変化層中にスピロ
ピラン等のフォトクロミック材料あるいは光触媒の作用
により分解される有機色素等を特性変化層に混合し、特
性変化層を光触媒の作用により着色する層としてもよ
い。

【００７９】また、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィンなどのポリマー材料等を用いる
ことにより、露光した部分が光触媒の作用により、極性
基が導入されたり、表面の状態が粗い状態となったりし
て種々の物質との接着性が向上するようにした層を特性
変化層としてもよい。このように特性変化層を接着性が
変化する接着性変化層とすることにより、パターン露光
により接着性の良好なパターンを形成することが可能と
なる。このような接着性の良好な部位のパターンを有す
るパターン形成体は、例えば、このようなパターン形成
体に金属成分を蒸着し、金属の薄膜を形成し、次いで接
着性の違いを利用して金属薄膜を例えば粘着剤や薬剤等
により剥離することにより、金属の薄膜のパターンを形
成することが可能となる。この方法によれば、レジスト
のパターンを形成することなく金属薄膜のパターンを形
成することが可能となり、印刷法によるものよりも高精
細なパターンを有するプリント基板や電子回路素子等を
形成することができる。

【００８０】このように、特性変化層は光触媒の作用に
より変化する種々の特性を有する層であれば特に限定さ
れないのであるが、本発明においては中でも特性変化層
が光触媒の作用により濡れ性が変化して濡れ性によるパ
ターンが形成される濡れ性変化層である場合、および特
性変化層が光触媒の作用により分解除去され凹凸による
パターンが形成される分解除去層である場合の二つの場
合が、特に得られる機能性素子等の関係からより本発明
の有効性を引き出すものであるので好ましい。

【００８１】（濡れ性変化層）本発明でいう濡れ性変化
層とは、露光時の光触媒の作用により表面の濡れ性が変
化し、濡れ性の変化した部位によるパターンが形成でき
る層をいう。この濡れ性変化層は、特に限定されるもの
ではないが、この濡れ性変化層が、露光により水の接触
角が低下するように濡れ性が変化する濡れ性変化層であ
ることが好ましい。

【００８２】このように、露光により水の接触角が低下
するように濡れ性が変化する濡れ性変化層とすることに
より、パターン露光等を行うことにより容易に濡れ性を
変化させ、水の接触角の小さい親インク性領域のパター
ンを形成することができる。したがって、例えばこの濡
れ性変化層上の機能性部が形成される部分のみ露光する
ことにより容易に親インク性領域とすることが可能とな
り、この部分に機能性部用組成物を付着させることによ
り、容易に機能性素子を形成することができる。したが
って、効率的に機能性素子が製造でき、コスト的に有利
となるからである。

【００８３】ここで、親インク性領域とは、水の接触角
が小さい領域であり、機能性部用組成物、例えば着色用
のインクやマイクロレンズ形成用組成物等に対する濡れ
性の良好な領域をいうこととする。また、撥インク性領
域とは、水の接触角が大きい領域であり、着色用のイン
クやマイクロレンズ形成用組成物等に対する濡れ性が悪
い領域をいうこととする。

【００８４】上記濡れ性変化層は、その水の接触角が、
露光していない部分においては９０度以上、好ましくは
１４０度以上であることが好ましい。これは、露光して
いない部分は、本発明においては撥インク性が要求され
る部分であることから、水の接触角が９０度より小さい
場合は、撥インク性が十分でなく、着色用のインク等の
機能性部用組成物が残存する可能性が生じるため好まし
くないからである。

【００８５】また、上記濡れ性変化層は、露光すると水
の接触角が低下して３０度以下、より好ましくは２０度
以下となるような層であることが好ましい。露光した部
分の水の接触角を３０度以下としたのは、３０度を越え
る場合は、この部分での着色用インク等の機能性部用組
成物の広がりが劣る可能性があり、機能性部の欠け等が
生じる可能性があるからである。

【００８６】なお、ここでいう水の接触角は、マイクロ
シリンジから水滴を滴下して３０秒後に接触角測定器
（協和界面科学（株）製ＣＡ一Ｚ型）を用いて測定した
値をいう。

【００８７】このような濡れ性変化層に用いられる材料
としては、上述した濡れ性変化層の特性、すなわち露光
により接触する光触媒含有層中の光触媒により濡れ性が
変化する材料で、かつ光触媒の作用により劣化、分解し
にくい主鎖を有するものであれば、特に限定されるもの
ではないが、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロ
ロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大
きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥
水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオル
ガノポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンを挙げ
ることができる。

【００８８】上記の（１）の場合、一般式： Ｙ_nＳｉＸ_(4-n) （ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化
合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は
１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。

【００８９】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン；エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ
−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロム
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−
ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−へキシルトリブロムシ
ラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシル
トリエトキシシラン、ｎ−へキシルトリイソプロポキシ
シラン、ｎ−へキシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−デ
シルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、
ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキ
シシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−
デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オクタデシルトリ
クロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ
−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシル
トリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラ
ン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリｔ−ブトキシシラン；テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシ
ラン；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ
−ブトキシシラン；トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリｔ−ブ
トキシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン；
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
ｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン；お
よび、それらの部分加水分解物；および、それらの混合
物を使用することができる。

【００９０】また、特にフルオロアルキル基を含有する
ポリシロキサンが好ましく用いることができ、具体的に
は、下記のフルオロアルキルシランの１種または２種以
上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一
般にフッ素系シランカップリング剤として知られたもの
を使用することができる。

【００９１】ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃；ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ
₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ
₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ
₃（ＯＣＨ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｓｉ ＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈
ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ ＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）
Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆
Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅
（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ
₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ
₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ₃
（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ
₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ₃
（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；および
ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ₂Ｈ₄ＣＨ₂Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₃。

【００９２】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダとして用いることにより、
濡れ性変化層の非露光部の撥インク性が大きく向上し、
着色用のインク等の機能性部用組成物の付着を妨げる機
能を発現する。

【００９３】また、上記の（２）の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。

【００９４】

【化１】

【００９５】ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ¹，
Ｒ²はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ¹、Ｒ²がメ
チル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好
ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好
ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少
なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。

【００９６】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコーン化合物を混合してもよい。

【００９７】本発明における濡れ性変化層には、さらに
界面活性剤を含有させることができる。具体的には、日
光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ、ＢＣ、Ｂ
Ｏ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製Ｚ
ＯＮＹＬ ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製サーフロン
Ｓ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製メ
ガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製フター
ジェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製
ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製
フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいは
シリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることかで
き、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤、両性界面活性剤を用いることもできる。

【００９８】また、濡れ性変化層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。

【００９９】このような濡れ性変化層は、上述した成分
を必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗
布液を調製し、この塗布液を基板上に塗布することによ
り形成することができる。使用する溶剤としては、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤
が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、デ
ィッブコート、ロールコート、ビードコート等の公知の
塗布方法により行うことができる。また、紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより濡れ性変化層を形成することかでき
る。

【０１００】本発明において、この濡れ性変化層の厚み
は、光触媒による濡れ性の変化速度等の関係より、０．
００１μｍから１μｍであることが好ましく、特に好ま
しくは０．０１〜０．１μｍの範囲内である。

【０１０１】本発明において上述した成分の濡れ性変化
層を用いることにより、接触する光触媒含有層中の光触
媒の作用により、上記成分の一部である有機基や添加剤
の酸化、分解等の作用を用いて、露光部の濡れ性を変化
させて親インク性とし、非露光部との濡れ性に大きな差
を生じさせることができる。よって、機能性部用組成
物、例えば着色用のインク等との受容性（親インク性）
および反撥性（撥インク性）を高めることによって、品
質の良好でかつコスト的にも有利なカラーフィルタ等の
機能性素子を得ることができる。

【０１０２】（分解除去層）次に分解除去層について説
明する。この分解除去層は、露光された際に光触媒含有
層中の光触媒の作用により、露光された部分の分解除去
層が分解除去される層である。例えば、図１において、
特性変化層５が分解除去層であった場合、図１（Ｃ）の
特性変化部位は光触媒の作用により分解除去されること
になり、図１（Ｃ’）に示すように分解除去層１０のパ
ターン、言い換えれば分解除去層１０が除去され、下の
基板４が露出した凹凸のパターンが形成されたパターン
形成体を得ることができる。また、図２においても同様
に基板４上に分解除去層１０が除去され基板４が露出し
た凹凸のパターンが形成されたパターン形成体を得るこ
とができる（図２（Ｄ’）参照）。

【０１０３】このように分解除去層は、露光した部分が
光触媒の作用により分解除去されることから、現像工程
や洗浄工程を行うことなく分解除去層のある部分と無い
部分からなるパターン、すなわち凹凸を有するパターン
を形成することができる。したがって各種印刷版原版等
の凹凸のパターンを必要とする部材は、この方法により
容易に形成することができる。また、スクリーン上にこ
の分解除去層を塗布し、光触媒含有層側基板と接触させ
てパターン露光することにより、露光された部分の分解
除去層は分解除去されることから、スクリーン印刷の原
版を現像・洗浄工程無しに形成することができる。さら
に、レジスト特性を有する素材でこの分解除去層を形成
した場合は、光触媒含有層側基板と接触させてパターン
露光することにより、容易にレジストのパターンを形成
することができる。したがって、現像・洗浄工程の無い
フォトレジストとして、半導体製造工程等に用いること
も可能である。

【０１０４】なお、この分解除去層は、露光による光触
媒の作用により酸化分解され、気化等されることから、
現像・洗浄工程等の特別な後処理なしに除去されるもの
であるが、分解除去層の材質によっては、洗浄工程等を
行ってもよい。

【０１０５】また、この分解除去層を用いた場合は、凹
凸を形成するのみならず、分解除去されて露出する露出
部材と分解除去層との特性の相違によりパターンを形成
することも可能である。このような特性としては、接着
性、発色性等種々のものを挙げることができるが、本発
明においては中でも濡れ性を挙げることができ、この濡
れ性の相違によりパターンを形成することが、最終的に
素子を形成した場合の有効性の点で好ましい。

【０１０６】すなわち、本発明においては、分解除去層
とこの分解除去層が分解除去されて露出する露出部材と
の水の接触角が異なるように構成されていることが好ま
しく、特に露出部材の水の接触角より分解除去層上の水
の接触角が大きいことが好ましく、特に好ましくは分解
除去層の水との接触角が６０度以上であることである。

【０１０７】これは、本発明において露光されない部分
は分解除去層が残存する部分すなわち凸部となることか
ら、この凸部に機能性部用組成物を付着させるよりは分
解除去層が除去され露出部材が露出した凹部に機能性部
用組成物を付着させることが好ましい。このため、分解
除去層は機能性部用組成物が付着しにくいように撥イン
ク性を示す方が好ましく、露出部材の水の接触角より分
解除去層上の水の接触角が大きいことが好ましくなるの
である。分解除去層上の水の接触角が６０度より小さい
場合は、撥インク性が十分でなく、例えば着色用のイン
ク等の機能性部用組成物が残存する可能性が生じるため
好ましくない。

【０１０８】このような分解除去層に用いられる材料と
しては、上述した分解除去層の特性、すなわち露光によ
り接触する光触媒含有層中の光触媒の作用により分解除
去される材料で、かつ好ましくは水との接触角が６０度
以上となる材料である。

【０１０９】このような材料としては、例えば炭化水素
系、フッ素系またはシリコーン系の非イオン界面活性剤
を挙げることができる。このようなものとして具体的に
は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル、パーフルオロアル
キルエチレンオキシド付加物、もしくはパーフルオロア
ルキルアミンオキシド等を挙げることができる。

【０１１０】このような材料は、炭化水素系の非イオン
系界面活性剤であれば、ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ、ＢＣ、Ｂ
Ｏ、ＢＢの各シリーズ（商品名、日本サーファクタント
工業社製）、フッ素系あるいはシリコン系の非イオン系
界面活性剤であれば、ＺＯＮＹＬ ＦＳＮ、ＦＳＯ（商
品名、デュポン社製）、サーフロンＳ−１４１、１４５
（商品名、旭硝子社製）、メガファックＦ−１４１、１
４４（商品名、大日本インキ社製）、フタージェント
Ｆ２００、Ｆ２５１（商品名、ネオス社製）、ユニダイ
ンＤＳ−４０１、４０２（商品名、ダイキン工業社
製）、フロラードＦＣ−１７０、１７６（商品名、スリ
ーエム社製）として入手することができる。

【０１１１】この分解除去層の材料としては他にもカチ
オン系、アニオン系、両性界面活性剤を用いることが可
能であり、具体的には、アルキルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム、アルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフ
ルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベ
タイン等を挙げることができる。

【０１１２】さらに、分解除去層の材料としては、界面
活性剤以外にも種々ポリマーもしくはオリゴマーを用い
ることができる。このようなポリマーもしくはオリゴマ
ーとしては、例えばポリビニルアルコール、不飽和ポリ
エステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタ
レート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、
ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリ
イミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、
ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリブタジエン、
ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピ
クロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等
を挙げることができる。本発明においては、中でもポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル等の水との接触角の高い撥インク性のポリマーを用
いることが好ましい。

【０１１３】このような分解除去層は、上述した成分を
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を基板もしくは露出部材（基板
と露出部材が共通しても良い。）上に塗布することによ
り形成することができる。塗布はスピンコート、スプレ
ーコート、ディッブコート、ロールコート、ビードコー
ト等の公知の塗布方法により行うことができる。

【０１１４】本発明において、この分解除去層の厚みは
光触媒による分解速度等の関係より、０．００１μｍか
ら１μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．０
１〜０．１μｍの範囲内である。

【０１１５】（基板）本発明のパターン形成体の製造方
法において、特性変化層は強度との関係や最終的な機能
性素子との関係から、図１および図２に示すように基板
４上に形成されることが好ましい。このような基板とし
ては、パターン形成体もしくはパターン形成体により形
成された機能性素子の用途に応じて、ガラス、アルミニ
ウム、およびその合金等の金属、プラスチック、織物、
不織布等を挙げることができる。

【０１１６】また、上述したように特性変化層が分解除
去層である場合は、基板と分解除去層との間に露出部材
を設けてもよい。この露出部材は、上述したように分解
除去層が露光による光触媒の作用により分解除去された
際に露出する部材であり、分解除去層とその特性が異な
るもので形成されていることが好ましい。特に、上述し
たように、上記特性が濡れ性である場合は、水との接触
角が３０度以下のものであることが好ましい。このよう
なものとしては、例えばガラスセラミックス等の無機材
料や、表面をプラズマやカップリング剤により親水化処
理したポリマー材料等を挙げることができる。

【０１１７】なお、本発明においては、上記基板がこの
露出部材としての機能を有する場合は、別に露出部材を
設ける必要はない。

【０１１８】（光触媒含有層と特性変化層との接触）本
発明においては、図１（Ｂ）および図２（Ｃ）に示すよ
うに、露光時に光触媒含有層側基板３の光触媒含有層２
と、パターン形成体用基板６の特性変化層５とが接触す
るように配置される必要がある。

【０１１９】ここで、本発明でいう接触とは、実質的に
光触媒の作用が特性変化層に及ぶような状態で配置され
た状態をいうこととし、図２（Ｃ）に示すように特性変
化層上に塗布されて形成され密着されている状態、およ
び図１（Ｂ）に示すように物理的に接触している状態を
含み、さらに例えば物理的な接触が無い場合でも間に水
もしくは空気等が介在して光触媒含有層中の光触媒の作
用が特性変化層に及ぶように配置されている場合をも含
むものとする。本発明においては、このような接触状態
は、少なくとも露光の間だけ維持されればよい。

【０１２０】（露光）本発明においては、光触媒含有層
側基板３の光触媒含有層２と、パターン形成体用基板６
の特性変化層５とが接触するように配置した後、図１
（Ｂ）および図２（Ｃ）に示すように露光が行われる。

【０１２１】本発明における露光によるパターンの形成
は、図１（Ｂ）および図２（Ｃ）に示すようなフォトマ
スク７を介した露光によるものであっても、レーザー光
等を用いた光描画照射によるものであってもよい。

【０１２２】上記フォトマスクを用いた場合、縮小光学
系によりマスクパターンの画像を縮小する縮小投影露光
方法を用いることによって、微細なパターンを形成する
ことができる。このようなフォトマスクとしては、蒸着
用マスクのように金属板に形成されたもの、ガラス板に
金属クロムで形成されたもの等、さらには印刷用途では
製版用フィルム等を用いることができる。

【０１２３】一方、レーザー光等を用いた光描画照射に
よる場合は、フォトマスクを用いずに、所定の描画照射
システムを用いて直接所定のパターンを描くことができ
る。

【０１２４】通常こような露光に用いる光の波長は、４
００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲
から設定されるが、これに限定されるものではなく、例
えばクロム、白金、パラジウム等の金属イオンのドーピ
ング、蛍光物質の添加、感光性色素の添加等によって、
可視およびその他の波長に感受性を有するようにするこ
とも可能である。このような色素としては、シアニン色
素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、ヘミ
シアニン色素等のシアニン色素を挙げることができ、他
の有用な色素としては、クリスタルバイオレット、塩基
性フクシンなどのトリフェニルメタン色素等のジフェニ
ルメタン色素、ローダミンＢの様なキサンテン色素、ビ
クトリアブルー、ブリリアントグリーン、マラカイトグ
リーン、メチレンブルー、ピリリウム塩、ベンゾピリリ
ウム塩、トリメチンベンゾピリリウム塩、トリアリルカ
ルボニウム塩等が挙げられる。

【０１２５】このような露光に用いることができる光源
としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ、エキシマランプ、エキシマレーザー、ＹＡＧ
レーザー、その他種々の光源を挙げることができる。

【０１２６】また、露光に際しての光の照射量は、特性
変化層が光触媒の作用により特性を変化させるのに必要
な照射量とする。この際、光触媒含有層を加熱しながら
露光することにより、感度を上昇させことができる。こ
れは、特に光描画照射を用いる場合には重要である。

【０１２７】なお、図１（Ｂ）および図２（Ｃ）では光
触媒含有層側基板３側から露光を行っていえるが、本発
明においては露光の方向はこれに限定されるものではな
く、基板４および特性変化層５が光を透過するものであ
れば、パターン形成体用基板４側から露光してもよい。

【０１２８】このように露光を行うことにより、図１
（Ｂ）および図２（Ｃ）に示すように露光した特性変化
層５はパターン状に特性変化部位８となる。この特性変
化部位は、例えば特性変化層が露光により濡れ性が変化
する濡れ性変化層であれば、濡れ性変化部位となり、ま
た接着性が変化する接着性変化層であれば、接着性の異
なる部位となり、さらに分解除去される分解除去層であ
れば、凹部が形成される部位となるのである。

【０１２９】（光触媒含有層側基板の取り外し）本発明
においては、図１（Ｃ）および図２（Ｄ）に示すよう
に、露光が行われた後、光触媒含有層側基板３が取り外
されることにより特性変化層５上に特性変化部位８のパ
ターンが形成されたパターン形成体９が得られる。

【０１３０】本発明におけるこの光触媒含有層側基板の
取り外しは、例えば光触媒含有層側基板が、図１に示す
ように単に接触している場合であれば、単にパターン形
成体９から光触媒含有層側基板３を離すことにより取り
外すことが可能となるが、例えば図２に示すように、光
触媒含有層側基板３がパターン形成体に密着している場
合には、例えば粘着テープ等を用いて引き剥がす必要が
ある。

【０１３１】（パターン形成体）このようにして得られ
たパターン形成体は、特性変化層上に特性変化部位のパ
ターンが形成されたものである。したがって、特性変化
層の特性が濡れ性である場合は、濡れ性が変化した部位
は、印刷インクの受容性が変化しているので、印刷板と
して使用することができる。そして、本発明のパターン
形成体を印刷版原版とした場合には、湿式現像等の必要
がなく、露光と同時に印刷版の作成が完了するという効
果を有するものである。

【０１３２】また、特性変化層が分解除去層であった場
合は、露光した部分が光触媒の作用により分解除去され
ることから、パターン形成体は凹凸を有するパターンと
なる。したがって、この凹凸を有するパターン形成体は
各種印刷版原版等として用いることができる。また、基
板をスクリーンとし、このスクリーン上に特性変化層と
して分解除去層を形成したものである場合は、露光した
部分は分解除去されて取り除かれることから、スクリー
ンの目の詰まった部分と抜けた部分とからなるパターン
形成体を得ることができ、スクリーン印刷用の原版とし
て用いることができる。

【０１３３】（機能性素子）さらに、このパターン形成
体の形成されたパターンに対応した部位上に機能性部を
配置することにより種々の機能性素子を得ることができ
る。

【０１３４】ここで機能性とは、光学的（光選択吸収、
反射性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あ
るいはリン光等のルミネッセンス、フォトクロミック性
等）、磁気的（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、
電気・電子的（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電
性等）、化学的（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、イ
オン伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロク
ロミック性等）、機械的（耐摩耗性等）、熱的（伝熱
性、断熱性、赤外線放射性等）、生体機能的（生体適合
性、抗血栓性等）な各種の機能を意味するものである。

【０１３５】このような機能性部のパターン形成体のパ
ターンに対応した部位への配置は、特性変化層の特性に
よって種々の方法がある。例えば、特性変化層が接着性
を変化させる接着性変化層であった場合は、パターン形
成体に接着性が変化したパターンが形成されていること
から、特性変化層上に全面にわたって金属等の機能性部
用組成物を蒸着させ、その後粘着剤等により引き剥がす
ことにより、接着性が良好な部分にのみ機能性部として
の金属のパターンが形成される。これにより容易に回路
等を形成することができる。

【０１３６】また、特性変化層が分解除去層であった場
合は、凹凸が変化したパターンが形成される。したがっ
て、凹部に機能性部用組成物を挿入・付着させることに
よって、容易にパターンに対応した部位に機能性部を配
置することができる。この場合、凹部と凸部との間の濡
れ性に相違がある場合、ずなわち凹部が濡れ性の良好な
親インク性領域であり、凸部が濡れ性の悪い撥インク性
領域であると、さらにこの機能性部用組成物の挿入・付
着が容易となる。

【０１３７】また、特性変化層が濡れ性変化層である場
合は、濡れ性が変化したパターンが形成されていること
から、機能性部用組成物をパターン形成体上に塗布する
ことにより、濡れ性の良好な親インク性領域のみ機能性
部用組成物が付着することになり、容易にパターン形成
体のパターンに対応した部位に機能性部を配置すること
ができる。この場合には、パターン形成体の未露光部
は、臨界表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下、好ましくは３０
ｍＮ／ｍ以下であることが望ましい。

【０１３８】本発明に用いられる機能性部用組成物とし
ては、上述したように機能性素子の機能、機能性素子の
形成方法等によって大きく異なるものであり、例えば接
着性の相違により金属のパターンを形成するような場合
は、この機能性部用組成物は金属となり、また濡れ性が
相違するパターン形成体や凹凸が相違するパターン形成
体を用いる場合は、紫外線硬化型モノマー等に代表され
る溶剤で希釈されていない組成物や、溶剤で希釈した液
体状の組成物等を用いることができる。溶剤で希釈した
液体状組成物の場合は、溶剤が水、エチレングリコール
等の高表面張力を示すものであることが好ましい。ま
た、機能性部用組成物としては粘度が低いほど短時間に
パターンが形成できることから、特性変化層が濡れ性変
化層である場合に特に好ましい。ただし、溶剤で希釈し
た液体状組成物の場合には、パターン形成時に溶剤の揮
発による粘度の上昇、表面張力の変化が起こるため、溶
剤が低揮発性であることが望ましい。

【０１３９】本発明に用いられる機能性部用組成物とし
ては、パターン形成体に付着等させて配置されることに
より機能性部となるものであってもよく、またパターン
形成体上に配置された後、薬剤により処理され、もしく
は紫外線、熱等により処理された後に機能性部となるも
のであってもよい。この場合、機能性部用組成物の結着
剤として、紫外線、熱、電子線等で効果する成分を含有
している場合には、硬化処理を行うことにより素早く機
能性部が形成できることから好ましい。

【０１４０】このような機能性素子の形成方法を具体的
に説明すると、例えば特性変化層が濡れ性変化層である
場合、機能性部用組成物はディップコート、ロールコー
ト、ブレードコート、スピンコート等の塗布手段、イン
クジェット等を含むノズル吐出手段等の手段を用いてパ
ターン形成体上に形成された親インク性領域のパターン
上に機能性部を形成する。例えば、図３に示すように、
基板４上に特性変化層５が設けられ、特性変化層５には
光触媒含有層と接触してパターン露光されることにより
形成された特性変化部位（親インク性領域）８が形成さ
れたパターン形成体９上にブレードコータ１０を用いて
機能性部用組成物１１を塗布する方法、もしくは、図４
に示すように同様なパターン形成体９上に機能性部用組
成物１１を滴下し、スピンコータ１２により塗布する方
法等を挙げることができる。このようにして機能性部用
組成物１１を塗布することにより、図５に示すように濡
れ性が変化して親インク性領域となった特性変化部位８
上にのみ機能性部用組成物が付着する。この機能性部用
組成物を硬化させて機能性部１３とすることにより、機
能性素子を形成することができる。

【０１４１】さらに、無電解めっきによる金属膜形成方
法に本発明のパターン形成体を用いることにより、機能
性部として金属膜のパターンを有する機能性素子を得る
ことができる。これも特性変化層が濡れ性変化層であっ
た場合に有効な方法であり、濡れ性が変化したパターン
を有するパターン形成体の親インク性領域にのみ化学め
っきの前処理液によって処理を行い、次いで処理したパ
ターン形成体を化学めっき液に浸漬することにより、所
望の金属パターンを特性変化層上に有する機能性素子を
得ることができる。この方法によれば、レジストパター
ンを形成することなく、金属のパターンを形成すること
ができるので、機能性素子として、プリント基板や電子
回路素子を製造することができる。

【０１４２】また、上述したように全面に機能性部用組
成物を配置した後、露光部と未露光部との特性の差異を
利用して不要な部分を取り除くことにより、パターンに
沿って機能性部を形成するようにしてもよい。これは特
性変化層が接着性変化層であった場合に特に有効な方法
であり、例えば、粘着テープを密着した後に粘着テープ
を引き剥がすことによる剥離、空気の吹き付け、溶剤に
よる処理等の後処理により不要部分を除去して機能性部
のパターンを得ることができる。このような全面に機能
性部を配置する方法としては、例えばＰＶＤ、ＣＶＤ等
の真空製膜手段を挙げることができる。すなわち、図６
（Ａ）に示すようなＣＶＤ等の真空を利用した成膜手段
１４を用いることにより、特性変化部位８のパターンを
有する特性変化層５が基板４上に設けられたパターン形
成体９上に、機能性部用組成物１１を全面にわたって形
成する。このように全面に形成された機能性部用組成物
１１の不要部分を取り除く方法としては、図６（Ｂ）に
示すように、粘着テープ１５の粘着面を密着した後に引
き剥がすことにより、未露光部上の機能性部用組成物１
１を除去して、機能性部１３を形成する方法、あるいは
図６（Ｃ）に示すように空気噴射ノズル１６から空気を
噴射することにより、不要部分の機能性部用組成物１１
を除去して、機能性部１３を形成する方法等を挙げるこ
とができる。

【０１４３】さらに、図７は特性変化層が接着性変化層
もしくは濡れ性変化層であった場合に特に有効な機能性
素子の形成方法であり、まず図７（Ａ）に示すように特
性変化部位８のパターンを有する特性変化層５が基板４
上に設けられたパターン形成体９上に、シート１７の片
面に熱溶融性組成物層１８が積層された熱転写体１９
を、熱溶融性組成物層１８が特性変化層５に接触するよ
うに密着させる。次いで図７（Ｂ）に示すように熱転写
体１９のシート１７側から加熱板２０を押し当てて加熱
する。そして図７（Ｃ）に示すように、冷却後熱転写体
１９を引き剥がすことにより、特性変化層５上に形成さ
れた特性変化部位８のパターンに沿うように機能性部１
３が形成された機能性素子を得ることができる（図７
（Ｄ））。

【０１４４】このようにして得られる機能性素子として
具体的には、カラーフィルタ、マイクロレンズ等を挙げ
ることができる。

【０１４５】上記カラーフィルタは、液晶表示装置等に
用いられるものであり、赤、緑、青等の複数の画素部が
ガラス基板等上に高精細なパターンで形成されたもので
ある。本発明のパターン形成体をこのカラーフィルタの
製造に用いることにより、低コストで高精細なカラーフ
ィルタとすることができる。すなわち、例えば特性変化
層を濡れ性変化層とし、この濡れ性変化層にパターン露
光を施すことにより、濡れ性の変化したパターンが形成
されたパターン形成体を得る。次いで、この濡れ性の変
化した部位（露光により親インク性領域となった部位）
に、例えばインクジェット装置等によりインク（機能性
部用組成物）を付着・硬化させることにより、容易に画
素部（機能性部）を形成することができ、これにより少
ない工程数で高精細なカラーフィルタを得ることができ
る。

【０１４６】また、機能性素子がマイクロレンズである
場合は、濡れ性変化層上に濡れ性が変化した円形のパタ
ーンを有するパターン形成体を製造する。次いで、濡れ
性が変化した部位上にレンズ形成用組成物（機能性部用
組成物）を滴下すると、濡れ性が変化した親インク性領
域のみに広がり、さらに滴下することにより液滴の接触
角を変化させることができる。このレンズ形成用組成物
を硬化させることにより種々の形状あるいは焦点距離の
ものを得ることが可能となり、高精細なマイクロレンズ
を得ることができる。このようなマイクロレンズの製造
方法について図８を用いて説明すると、特性変化層（濡
れ性変化層）５上に特性変化部位（親インク性領域）８
の円形のパターンが形成されたパターン形成体９を調製
し、次いで、この円形の特性変化部位（親インク性領
域）８のパターンに向けて機能性部用組成物（紫外線硬
化性樹脂組成物）を吐出装置２１により吐出する（図８
（Ａ））。この機能性部用組成物（紫外線硬化性樹脂組
成物）１１は、特性変化部位８である親インク性領域と
未露光領域の撥インク性領域との間の濡れ性の相違によ
り盛り上がる（図８（Ｂ））。これに樹脂硬化用紫外線
２２を用いて硬化させることによりマイクロレンズ２３
が形成される（図８（Ｃ））。

【０１４７】

【実施例】以下、本発明について、実施例を通じてさら
に詳述する。

【０１４８】［実施例１］ １．光触媒含有層側基板の形成 イソプロピルアルコール３０ｇとフルオロアルキルシラ
ンが主成分であるＭＦ−１６０Ｅ（商品名、トーケムプ
ロダクツ（株）製）０．４ｇとトリメトキシメチルシラ
ン（東芝シリコーン（株）製、商品名；ＴＳＬ８１１
３）３ｇと、光触媒である二酸化チタン水分散体である
ＳＴ−Ｋ０１（商品名；石原産業（株）製）２０ｇとを
混合し、１００℃で２０分間撹拌した。これをイソプロ
ピルアルコールにより３倍に希釈し光触媒含有層用組成
物とした。

【０１４９】上記組成物をソーダガラス製の透明基板上
にスピンコータにより塗布し、１５０℃で３０分間の乾
燥処理を行うことにより、透明な光触媒含有層（厚み
０．２μｍ）を形成して光触媒含有層側基板を形成し
た。

【０１５０】２．パターン形成体用基板の形成 まず、下記の組成からなる濡れ性変化層用組成物を調製
した。

【０１５１】（濡れ性変化層用組成物の組成） ・シリコーンコーティング剤（東芝シリコーン（株）
製、商品名：ＹＳＲ３０２２、組成；ポリアルキルシロ
キサンおよびポリアルキル水素シロキサン３０重量％、
メチルエチルケトン１０重量％、トルエン６０重量％）
… １００重量部 ・触媒（東芝シリコーン（株）製、商品名：ＹＣ６８３
１、組成；有機スズ化合物４０重量％、トルエン６０重
量％） … ４重量部 ・トルエン … ４００重量部

【０１５２】この濡れ性変化層用組成物をソーダガラス
製の基板上にスピンコータにより塗布し、１００℃で１
０分間加熱し、厚さ３μｍの濡れ性変化層を形成し、パ
ターン形成体用基板とした。

【０１５３】３．露光 上記パターン形成体用基板の濡れ性変化層上に、上記光
触媒含有層側基板の光触媒含有層が濡れ性変化層に接触
するように光触媒含有層側基板を載置し、光触媒含有層
側から水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）により７０ｍＷ／
ｃｍ²の照度で６０秒間露光を行い、特性変化部位（親
インク性領域）を形成した。濡れ性変化層の露光前後に
おける水に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学
（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジ
から水滴を滴下して３０秒後）した結果、露光前におけ
る水の接触角は１１０度であるのに対し、露光後におけ
る水の接触角は７度であり、露光された特性変化部位が
親インク性領域となり、露光部と非露光部との濡れ性の
相違によるパターンを形成することが可能であることが
確認された。

【０１５４】４．パターンの形成 上記露光と同様にして、１００μｍのライン＆スペース
のフォトマスクを介して露光し、パターン形成体を得
た。このパターン形成体上に以下の組成の赤色着色剤を
ディップコータにより塗布し、ＵＶ硬化させたところ、
１００μｍのライン＆スペースの赤色パターンが作成さ
れた。

【０１５５】（赤色着色剤組成） ・ＵＶ硬化樹脂（エステルアクリレート樹脂：荒川化学
工業社製、商品名：ＡＱ−１１） … １０重量部 ・硬化開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、チバスペシャリティーケミカルズ社製、商品
名：イルガキュア１８４） … ０．５重量部 ・赤色染料（東京化成社製、商品名：ローズベンガル）
… ０．５重量部

【０１５６】５．カラーフィルタの作製 無アルカリガラス製の透明基板上に上記と同様にして濡
れ性変化層を形成し、パターン形成体用基板を得た。次
に開口部２８０μｍのラインが３００μｍのピッチで配
置されているネガ型フォトマスクを介して、上記露光と
同様にして、露光し、パターン形成体を得た。

【０１５７】このパターン形成体の露光部（特性変化部
位、親インク性領域）に以下の組成の各色画素部用組成
物を液体精密吐出装置（ＥＥＤ社製ディスペンサー、商
品名；１５００ＸＬ−１５）にて吐出し、１００℃、４
５分間の加熱処理を施して赤色パターン、青色パター
ン、緑色パターンからなる画素部を形成した。保護層と
して２液混合型熱硬化剤（ＪＳＲ（株）製、商品名；Ｓ
Ｓ７２６５）をスピンコータにて画素部上に塗布し、２
００℃、３０分間の硬化処理を施して保護層を形成し、
カラーフィルタを得た。

【０１５８】（画素部用組成物の組成） ・顔料（ピグメントレッド１６８、ピグメントグリーン
３６、あるいはピグメントブルー６０） … ３重量部 ・非イオン界面活性剤（日光ケミカルズ（株）製、商品
名；ＮＩＫＫＯＬ ＢＯ−１０ＴＸ） … ０．０５重
量部 ・ポリビニルアルコール（信越化学工業（株）製、商品
名；信越ポバールＡＴ）… ０．６重量部 ・水 … ９７重量部

【０１５９】［実施例２］ １．光触媒含有層側基板とパターン形成体用基板の調製 実施例１と同様にして、パターン形成体用基板を調製し
た後、このパターン形成体用基板の濡れ性変化層上に、
実施例１と同様の光触媒含有層用組成物をスピンコータ
により塗布し、１５０℃で３０分加熱して、厚さ０．２
μｍの光触媒含有層を形成し、これを光触媒含有層側基
板とした。

【０１６０】２．露光 光触媒含有層側から、実施例１と同様にして露光した。
次いで、粘着テープ（住友３Ｍ社製、商品名：スコッチ
テープ）を光触媒含有層に圧着させた後、１ｍｍ／ｓｅ
ｃ．のスピードで引き剥がし、光触媒含有層を剥離し
た。そして、実施例１と同様にして、水の接触角を露光
前後の濡れ性変化層上で測定した。露光前における水の
接触角は９５度であるのに対し、露光後における水の接
触角は７度であり、露光された特性変化部位が親インク
性領域となり、露光部と非露光部との濡れ性の相違によ
るパターンを形成することが可能であることが確認され
た。

【０１６１】［実施例３］ １．光触媒含有層側基板の形成 エタノール１５ｇとイソプロピルアルコール１５ｇと光
触媒である二酸化チタンの水分散体であるＳＴ−Ｋ０３
（商品名、石原産業（株）製）３０ｇとを混合し、１０
０℃にて２０分間撹拌し、光触媒含有層用組成物とし
た。この組成物をソーダライムガラス製の透明基板上に
ディップコータにより塗布し、１５０℃で１０分間の加
熱処理を行うことにより、透明な光触媒含有膜（厚み
０．２μｍ）を形成して光触媒含有層側基板を形成し
た。

【０１６２】２．パターン形成体用基板の形成 フッ素系非イオン界面活性剤であるＺＯＮＹＬ ＦＳＮ
（商品名、デュポン社製）をイソプロパノールに２重量
％混合し、分解除去層用組成物とした。この分解除去層
用組成物をソーダライムガラス製の透明基板上にスピン
コータにより塗布し、５０℃で１０分間加熱し、厚さ
０．１μｍの分解除去層を形成し、パターン形成体用基
板とした。

【０１６３】３．露光 上記パターン形成体用基板の分解除去層上に、上記光触
媒含有層側基板の光触媒含有層が分解除去層に接触する
ように光触媒含有層側基板を載置し、光触媒含有層側か
ら水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）により７０ｍＷ／ｃｍ
²の照度で２分間露光を行い、分解除去層を分解除去
し、基材のガラスを露出させた。露光前後、すなわち分
解除去層表面と露光後露出したガラス表面の水に対する
接触角を実施例１と同様にして測定した結果、分解除去
層表面は７１度であるのに対し、露光後露出したガラス
表面は９度であり、露光部と非露光部との濡れ性の相違
によるパターンを形成することが可能であることが確認
された。

【０１６４】４．マイクロレンズの形成 ２００μｍの円形の開口部が１００μｍ間隔で複数配置
されているネガ型フォトマスクを介して、上記露光と同
様にして露光し、パターン形成体を得た。このパターン
形成体の露光部に以下の組成のマイクロレンズ用組成物
を液体精密吐出装置（ＥＥＤ社製ディスペンサー、商品
名；１５００ＸＬ−１５）にて、０．０００１ｍｌ吐出
法により塗布し、ＵＶ硬化させたところ、直径２００μ
ｍ、焦点距離５００μｍのマイクロレンズアレイを得
た。

【０１６５】（マイクロレンズ用組成物の組成） ・ＵＶ硬化樹脂（エステルアクリレート樹脂、荒川化学
工業社製、商品名；ＡＱ−１１） … １０重量部 ・硬化開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、チバスペシャリティーケミカルズ社製、商品
名：イルガキュア１８４） … ０．５重量部

【０１６６】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【０１６７】例えば、上記説明においては、機能性素子
は全てパターン形成体上に設けられる例を用いて説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわ
ち、例えば図９に示すように、まず上記説明と同様の方
法により基板４上に特性変化層５を形成し、この特性変
化層５の特性変化部位のパターンに沿って機能性部１３
を形成する（図９（Ａ））。次に、この機能性部１３に
接するように素子形成用基材２４を密着する（図９
（Ｂ））。そして、この素子形成用基材２４に機能性部
１３を転写して機能性素子とする方法等である。このよ
うに、機能性素子は、パターン形成体上に形成されるこ
とに限定されるものではない。

【０１６８】

【発明の効果】本発明は、少なくとも光触媒含有層を有
する光触媒含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有
層中の光触媒の作用により特性の変化する特性変化層を
有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層お
よび前記特性変化層が接触するように配置した後、露光
することにより、露光した部分の特性変化層の特性を変
化させ、次いで光触媒含有層側基板を取り外すことによ
り、特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパ
ターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の
製造方法である。

【０１６９】このように、本発明においては、光触媒含
有層および前記特性変化層が接触するように配置した
後、露光することにより、露光した部分の特性変化層の
特性を変化させてパターンを形成するものであるので、
特に露光後の後処理も必要無く、高精細なパターンを有
するパターン形成体を製造することができる。また、露
光後、パターン形成体から光触媒含有層側基板を取り外
すので、パターン形成体自体には光触媒含有層が含まれ
ることがなく、したがってパターン形成体の光触媒の作
用による経時的な劣化に対する心配がないという効果を
奏するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）〜（Ｃ）および（Ｃ’）は、本発明のパ
ターン形成体の製造方法の一例を示す概略断面図であ
る。

【図2】（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｄ’）は、本発明のパ
ターン形成体の製造方法の他の例を示す概略断面図であ
る。

【図３】本発明における機能性素子の製造方法を説明す
るための概略断面図である。

【図４】本発明における機能性素子の製造方法を説明す
るための概略断面図である。

【図５】本発明における機能性素子の製造方法を説明す
るための概略断面図である。

【図６】（Ａ）から（Ｃ）は、本発明の機能性素子の製
造方法を説明するための概略断面図である。

【図７】（Ａ）から（Ｄ）は、本発明の機能性素子の製
造方法を説明するための概略断面図である。

【図８】（Ａ）から（Ｃ）は、本発明によるマイクロレ
ンズの製造方法の一例を示す概略断面図である。

【図９】（Ａ）から（Ｃ）は、本発明に含まれる機能性
素子の製造方法を説明するための概略断面図である。

【符号の説明】

１…透明基板、 ２…光触媒含有層、 ３…光触媒含有
層側基板、４…基板、 ５…特性変化層、 ６…パター
ン形成体用基板、７…フォトマスク、 ８…特性変化部
位、 ９…パターン形成体、１０…ブレードコータ、
１１…機能性部用組成物、 １２…スピンコータ、１３
…機能性部、 １４…成膜手段、 １５…粘着テープ、
１６…空気噴射ノズル、 １７…シート、 １８…熱溶
融性組成物層、１９…熱転写体、 ２０…加熱板、 ２
１…吐出装置、２２…樹脂硬化用紫外線、 ２３…マイ
クロレンズ、 ２４…素子形成用基材。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 学 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA64 BB14 BB37 BB42

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも光触媒含有層を有する光触媒
   含有層側基板と、少なくとも前記光触媒含有層中の光触
   媒の作用により特性の変化する特性変化層を有するパタ
   ーン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特
   性変化層が接触するように配置した後、露光することに
   より、露光した部分の特性変化層の特性を変化させ、次
   いで光触媒含有層側基板を取り外すことにより、特性変
   化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成
   体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。
2. 【請求項２】 前記光触媒含有層側基板が、少なくとも
   透明基板と光触媒含有層とからなり、パターン形成体用
   基板とは別に形成されていることを特徴とする請求項１
   記載のパターン形成体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記光触媒含有層側基板が、前記パター
   ン形成体用基板の特性変化層上に光触媒含有層をコーテ
   ィングすることにより形成されることを特徴とする請求
   項１記載のパターン形成体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記光触媒含有層に含有される光触媒
   が、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、
   酸化スズ（ＳｎＯ₂）、チタン酸ストロンチウム（Ｓｒ
   ＴｉＯ₃）、酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化ビスマス
   （Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）から選択され
   る１種または２種以上の物質であることを特徴とする請
   求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のパ
   ターン形成体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記光触媒が二酸化チタン（ＴｉＯ₂）
   であることを特徴とする請求項４記載のパターン形成体
   の製造方法。
6. 【請求項６】 前記パターン形成体用基板が、少なくと
   も基板とこの基板上に設けられた前記特性変化層とから
   形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５
   までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造
   方法。
7. 【請求項７】 前記特性変化層が、前記光触媒含有層中
   の光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変
   化層であることを特徴とする請求項１から請求項６まで
   のいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方
   法。
8. 【請求項８】 前記濡れ性変化層が、光触媒含有層中の
   光触媒の作用により、露光により水の接触角が低下する
   ように濡れ性が変化する濡れ性変化層であることを特徴
   とする請求項７記載のパターン形成体の製造方法。
9. 【請求項９】 前記濡れ性変化層上の水の接触角が、露
   光されていない部分において９０度以上であり、露光さ
   れた部分において３０度以下であることを特徴とする請
   求項８記載のパターン形成体の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記濡れ性変化層が、オルガノポリシ
    ロキサンを含有する層であることを特徴とする請求項８
    または請求項９に記載のパターン形成体の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記オルガノポリシロキサンが、Ｙ_n
    ＳｉＸ_(4-n)（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアル
    キル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキ
    シ基を示し、Ｘはアルコキシル基またはハロゲンを示
    す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化
    合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共
    加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
    とを特徴とする請求項１０記載のパターン形成体の製造
    方法。
12. 【請求項１２】 前記特性変化層が、光触媒含有層中の
    光触媒の作用により分解除去される分解除去層であるこ
    とを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの
    請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記分解除去層とこの分解除去層が分
    解除去された際に露出する露出部材との水の接触角が異
    なることを特徴とする請求項１２記載のパターン形成体
    の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記分解除去層上の水の接触角が６０
    度以上であり、この分解除去層が分解除去された際に露
    出する露出部材の水の接触角が３０度以下であることを
    特徴とする請求項１３に記載のパターン形成体の製造方
    法。
15. 【請求項１５】 前記分解除去層が、炭化水素系、フッ
    素系またはシリコーン系の非イオン界面活性剤であるこ
    とを特徴とする請求項１３または請求項１４記載のパタ
    ーン形成体の製造方法。
16. 【請求項１６】 前記露光が、フォトマスクを介した露
    光であることを特徴とする請求項１から請求項１５まで
    のいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方
    法。
17. 【請求項１７】 前記露光が、光描画照射により行われ
    ることを特徴とする請求項１から請求項１５までのいず
    れかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
18. 【請求項１８】 前記露光が、光触媒含有層を加熱しな
    がらなされることを特徴とする請求項１から請求項１７
    までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造
    方法。
19. 【請求項１９】 少なくとも透明基板と光触媒含有層と
    からなる光触媒含有層側基板であって、表面に光触媒の
    作用により特性が変化する特性変化層を有するパターン
    形成用基板の特性変化層と前記光触媒含有層とを接触さ
    せて露光することによりパターン形成体を形成すること
    を特徴とするパターン形成体製造用光触媒含有層側基
    板。
20. 【請求項２０】 前記光触媒含有層に含まれる光触媒が
    二酸化チタンであることを特徴とする請求項１９記載の
    パターン形成体製造用光触媒含有層側基板。
21. 【請求項２１】 基板と、この基板上に形成され、光触
    媒の作用により特性が変化したパターンを有する特性変
    化層とを少なくとも有し、光触媒含有層を有さないこと
    を特徴とするパターン形成体。
22. 【請求項２２】 前記特性変化層が、光触媒の作用によ
    り露光により水の接触角が低下するように濡れ性が変化
    する濡れ性変化層であることを特徴とする請求項２１記
    載のパターン形成体。
23. 【請求項２３】 前記特性変化層が、光触媒の作用によ
    り分解除去される分解除去層であり、前記分解除去層と
    この分解除去層が分解除去された際に露出する露出部材
    との水の接触角が異なることを特徴とする請求項２１記
    載のパターン形成体。
24. 【請求項２４】 請求項２１から請求項２３に記載のパ
    ターン形成体に形成されたパターンに対応した部位上に
    機能性部が配置されたことを特徴とする機能性素子。
25. 【請求項２５】 前記パターンが水の接触角が異なる部
    位により形成されたパターンであり、このパターンにお
    いて水の接触角が小さい部分上に機能性部が形成された
    ことを特徴とする請求項２４に記載の機能性素子。
26. 【請求項２６】 請求項２５記載の機能性素子の機能性
    部が、画素部であることを特徴とするカラーフィルタ。
27. 【請求項２７】 請求項２５記載の機能性素子の機能性
    部が、レンズであることを特徴とするマイクロレンズ。