JP2000097666A5 - 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、前記干渉計の校正方法、及び投影露光装置 - Google Patents
面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、前記干渉計の校正方法、及び投影露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2000097666A5 JP2000097666A5 JP1998268582A JP26858298A JP2000097666A5 JP 2000097666 A5 JP2000097666 A5 JP 2000097666A5 JP 1998268582 A JP1998268582 A JP 1998268582A JP 26858298 A JP26858298 A JP 26858298A JP 2000097666 A5 JP2000097666 A5 JP 2000097666A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavefront aberration
- light
- pinhole
- slit
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical Effects 0.000 title claims 71
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims 51
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 12
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 9
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 5
- 230000001427 coherent Effects 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims 2
Claims (34)
- 投影原版上の回路パターンを感光性基板上へ投影する投影光学系の製造方法において、
前記投影光学系を構成する光学素子の光学面に非球面形状の参照面を近接させた状態にすると共に該光学面と参照面とを一体にした状態で、前記光学面及び前記参照面からの光を干渉させることにより前記光学面の形状を測定する面形状測定工程と;
前記光学素子を組上げて波面収差を測定する波面収差測定工程と;
前記測定された波面収差に関する情報と前記測定された光学面の形状に関する情報とに基づいて、前記光学面の形状を修正すべき量を求める面修正量算出工程と;
該求められた量に基づいて前記光学面の形状を修正する修正工程と;
を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記修正量算出工程は、前記測定された波面収差に関する情報に基づいて、前記面形状測定工程における誤差を求める補助工程を含み、
該誤差に関する情報と、前記測定された波面収差に関する情報と、前記測定された光学面の形状に関する情報とに基づいて、前記光学面の形状を修正すべき量を求めることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 前記補助工程は、前記波面収差に関する情報を、前記光学面の位置誤差に関連する成分と、前記光学面の形状誤差に関連する成分とに分解し、
前記位置誤差に関連する成分を実質的に補正した際の残渣成分を求め、
該残渣成分中の前記光学面の形状誤差に関連する成分と、前記測定された光学面の形状に関する情報とに基づいて、前記面形状測定工程における誤差を求めることを特徴とする請求項2記載の製造方法。 - 光学素子の光学面の形状を測定するためのフィゾー型干渉計において、
非球面形状の参照面と、
該参照面と前記光学面とを近接させた状態で、前記参照面と前記光学面とを一体に保持する保持部材とを有し、
前記光学面からの光と前記参照面からの光とを干渉させることを特徴とするフィゾー型干渉計。 - 前記参照面及び前記光学面に向けて光を供給すると共に、前記参照面及び前記光学面を介した光を干渉させる本体部を有し、
前記保持部材と前記本体部とは、空間的に分離されることを特徴とする請求項4記載のフィゾー型干渉計。 - 前記参照面と前記光学面との間隔は、1mm以下であることを特徴とする請求項4または5記載のフィゾー型干渉計。
- 前記参照面と前記光学面との間隔は、可変であることを特徴とする請求項4乃至6の何れか一項記載のフィゾー干渉計。
- 前記参照面と前記光学面との位置関係を検出する位置検出系をさらに有することを特徴とする請求項7記載のフィゾー干渉計。
- 前記参照面と前記光学面との間隔は、固定であり、かつ10μm以下であることを特徴とする請求項4乃至6の何れか一項記載のフィゾー干渉計。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定機において、
所定波長の放射光を供給する光源と;
該光源からの放射光に基づいて第1の理想的球面波を発生させる第1のピンホール部材と;
前記被検光学系による該第1のピンホール部材の結像位置に配置された第2のピンホール部材と;
前記第1及び第2のピンホール部材の間の光路中に配置されて、0次回折光を前記第2のピンホール部材へ到達させるように配置された回折格子と;
前記回折格子による1次又は他の次数の回折光のうち所定次数の回折光を選択的に通過させる回折光選択手段と;
前記0次回折光が前記第2のピンホール部材を経由した際に発生する第2の理想的球面波と、前記回折光選択手段を通過した前記所定次数の回折光との干渉により得られた干渉縞から前記被検光学系の波面収差を算出する手段と;
を有し、
前記第1のピンホール部材は、前記被検光学系の光軸を横切る面に沿って2次元的に配列された複数の第1ピンホールを有し、
前記第2のピンホール部材は、前記被検光学系による前記複数の第1ピンホールの複数の結像位置のそれぞれに対応した位置に配列された複数の第2ピンホールを有し、
前記回折光選択手段は、前記複数の結像位置へ向かう複数の光束が前記回折格子を通過することにより生じる複数の所定次数の回折光のそれぞれを選択的に通過させるための複数の開口部を有することを特徴とする波面収差測定機。 - 前記光源は、シンクロトロン放射光を供給する光源、レーザ光源、及びレーザプラズマX線源のうちの1つであることを特徴とする請求項10記載の波面収差測定機。
- 前記光源はレーザプラズマX線源であり、
前記複数の第1ピンホールのそれぞれは、複数のピンホールからなるピンホール群で構成されることを特徴とする請求項11記載の波面収差測定機。 - 前記ピンホール群を構成する前記複数のピンホールは、所定の1次元方向に沿って配列されることを特徴とする請求項12記載の波面収差測定機。
- 前記所定の1次元方向に沿って配列される前記複数のピンホールの配列ピッチは、前記被検光学系の前記第1ピンホール側の開口数により定まるエアリーディスクの半径の10倍〜25倍であることを特徴とする請求項13記載の波面収差測定機。
- 前記ピンホール群を構成する前記複数のピンホールは、所定の1次元方向に延びたスリット形状の開口部を有することを特徴とする請求項12記載の波面収差測定機。
- 前記第1のピンホール部材の前記複数の第1ピンホールのうちの一部を選択的に照明するための第1の選択照明手段と;
前記第2のピンホール部材の前記複数の第2ピンホールのうちの前記第1ピンホールの一部に対応した一部からの前記第2の理想的球面波と、前記複数の開口部のうちの前記第1ピンホールの一部に対応した一部を通過する前記所定次数の回折光とを選択的に受光する選択受光手段と;
を備えることを特徴とする請求項10乃至15の何れか一項記載の波面収差測定機。 - 前記回折格子を移動させて縞走査を行うためのフリンジスキャン手段をさらに備えることを特徴とする請求項10乃至15の何れか一項記載の波面収差測定機。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定機において、
コヒーレント光を供給する光源と;
該光源からのコヒーレント光を第1の光束と第2の光束とに分割するビームスプリッタと;
前記第1の光束に基づいて第1の理想的球面波を発生させる第1のピンホール部材と;
前記被検光学系による前記第1のピンホール部材の理想結像面に2次元的に配列されて前記第2の光束を通過させる複数の開口部と、前記被検光学系からの前記第1の光束を反射させる反射部とを有するピンホールミラーと;
を備え、
前記第2の光束に基づいて前記ピンホールミラーの前記複数の開口部から発生する第2の理想的球面波と、前記反射部にて反射された前記第1の光束との干渉により生じる干渉縞に基づいて前記被検光学系の波面収差を求めることを特徴とする波面収差測定機。 - 前記第1の光束の光路長と、前記第2の光束の光路長とのうち、少なくとも一方の光路長を変化させるフリンジスキャン手段をさらに有することを特徴とする請求項18記載の波面収差測定機。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定機において、
レーザプラズマX線源と;
該レーザプラズマX線源からの放射光に基づいて、複数の第1の理想的球面波を発生させる複数の第1ピンホールからなる第1ピンホール群を備える第1のピンホール部材と;
前記被検光学系による該第1のピンホール部材の結像位置に配置された複数の第2ピンホールからなる第2ピンホール群を備える第2のピンホール部材と;
前記第1及び第2のピンホール部材の間の光路中に配置されて、前記第1ピンホール群を経由した光の0次回折光を前記第2ピンホール群へ到達させるように配置された回折格子と;
前記回折格子による1次又は他の次数の回折光のうち所定次数の回折光を選択的に通過させる回折光選択手段と;
前記0次回折光が前記第2ピンホール群を経由した際に発生する第2の理想的球面波と、前記回折光選択手段を通過した前記所定次数の回折光との干渉により得られた干渉縞から前記被検光学系の波面収差を算出する手段と;
を備えることを特徴とする波面収差測定機。 - 前記第1のピンホール部材は、複数の前記第1スリット群を備え、
前記第2のピンホール部材は、前記被検光学系による前記複数の第1ピンホール群の複数の結像位置のそれぞれに対応して配置された複数の前記第2ピンホール群を備え、
前記回折光選択手段は,前記複数の結像位置へ向かう複数の光束が前記回折格子を通過することにより生じる複数の所定次数の回折光のそれぞれを選択的に通過させるための複数の開口部を有することを特徴とする請求項20記載の波面収差測定機。 - 前記複数の第1ピンホール群のうちの一部の第1ピンホール群を選択的に照明するための第1の選択照明手段と;
前記複数の第2ピンホール群のうちの前記一部の第1ピンホール群に対応した一部の第2ピンホール群を通過する前記第2の理想的球面波と、前記複数の開口部のうちの前記一部の第1ピンホール群に対応した一部の開口部を通過する前記所定次数の回折光とを選択的に受光する選択受光手段と;
を備えることを特徴とする請求項21記載の波面収差測定機。 - 前記複数の第2ピンホール群のうちの前記一部の第2ピンホール群を選択的に照明する第2の選択照明手段をさらに備えることを特徴とする請求項22記載の波面収差測定機。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定機において、
レーザプラズマX線源と;
該レーザプラズマX線源からの放射光に基づいて、複数の第1の理想的1次元球面波を発生させる複数の第1スリットからなる第1スリット群を備える第1のスリット部材と;
前記被検光学系による該第1のスリット部材の結像位置に配置された複数の第2スリットからなる第2スリット群を備える第2のスリット部材と;
前記第1及び第2のスリット部材の間の光路中に配置されて、前記第1スリット群を経由した光の0次回折光を前記第2スリット群へ到達させるように配置された回折格子と;
前記回折格子による1次又は他の次数の回折光のうち所定次数の回折光を選択的に通過させる回折光選択手段と;
前記0次回折光が前記第2スリット群を経由した際に発生する第2の理想的1次元球面波と、前記回折光選択手段を通過した前記所定次数の回折光との干渉により得られた干渉縞から前記被検光学系の波面収差を算出する手段と;
を備えることを特徴とする波面収差測定機。 - 前記第1のスリット部材は、複数の前記第1スリット群を備え、
前記第2のスリット部材は、前記被検光学系による前記複数の第1スリット群の複数の結像位置のそれぞれに対応して配置された複数の前記第2スリット群を備え、
前記回折光選択手段は,前記複数の結像位置へ向かう複数の光束が前記回折格子を通過することにより生じる複数の所定次数の回折光のそれぞれを選択的に通過させるための複数の開口部を有することを特徴とする請求項24記載の波面収差測定機。 - 前記複数の第1スリット群のうちの一部の第1スリット群を選択的に照明するための第1の選択照明手段と;
前記複数の第2スリット群のうちの前記一部の第1スリット群に対応した一部の第2スリット群を通過する前記第2の理想的1次元球面波と、前記複数の開口部のうちの前記一部の第1スリット群に対応した一部の開口部を通過する前記所定次数の回折光とを選択的に受光する選択受光手段と;
を備えることを特徴とする請求項25記載の波面収差測定機。 - 前記複数の第2スリット群のうちの前記一部の第2スリット群を選択的に照明する第2の選択照明手段をさらに備えることを特徴とする請求項26記載の波面収差測定機。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定機において、
レーザプラズマX線源と;
該レーザプラズマX線源からの放射光に基づいて、複数の理想的1次元球面波を発生させる複数のスリットからなるスリット群を備えるのスリット部材と;
前記スリット部材と前記被検光学系による前記スリット部材の結像位置との間に配置されて、前記スリット部材を経た光に基づいて回折光を発生させる回折格子と;
該回折格子による前記回折光のうち、所定次数の回折光と、該所定次数の回折光とは異なる次数の回折光とを選択的に通過させる回折光選択手段と;
該回折光選択手段を介した少なくとも2つの回折光を重ね合わせて干渉縞を形成するための重ね合わせ手段と;
前記干渉縞形成位置に配置された検出器と;
を備え、前記干渉縞から前記被検光学系の波面収差を算出することを特徴とする波面収差測定機。 - 前記スリット部材は、複数の前記スリット群を備えることを特徴とする請求項28記載の波面収差測定機。
- 前記複数のスリット群のうちの一部のスリット群を選択的に照明するための第1の選択照明手段と;
前記一部のスリット群を経由した光に基づく干渉縞を検出するために前記検出器の検出位置を変更する検出位置変更手段と;
を備えることを特徴とする請求項29記載の波面収差測定機。 - 50nm以下の放射光を供給する光源と;
該光源からの放射光に基づいて、複数の理想的1次元球面波を発生させる複数のスリットからなるスリット群を備えるのスリット部材と;
前記スリット部材と前記被検光学系による前記スリット部材の結像位置との間に配置されて、複数の開口部を有するハルトマンプレートと;
前記結像位置を挟んで前記被検光学系とは逆側に配置されて、前記春と万プレートの前記複数の開口部を通過する光線群の位置を検出する撮像素子と;
を備え、前記撮像素子上に到達する前記光線群の位置に基づいて前記被検光学系の波面収差を求めることを特徴とする波面収差測定機。 - 前記スリット部材は、複数の前記スリット群を備え、
前記複数のスリット群のうちの一部のスリット群を選択的に照明するための第1の選択照明手段と;
前記一部のスリット群を経由した光に基づく前記光線群を検出するために前記撮像素子の検出位置を変更する検出位置変更手段と;
を備えることを特徴とする請求項32記載の波面収差測定機。 - 光学系を構成する光学素子の光学面の面形状を測定するための干渉計の校正方法において、
干渉計を用いて前記光学面の面形状を測定する第1工程と;
前記光学面を有する前記光学素子から前記光学系を組み立てる第2工程と;
前記第2工程で組み立てられた光学系の波面収差を測定する第3工程と;
前記第3工程にて測定された前記波面収差を、前記光学面の位置誤差に起因する成分と、面形状誤差に関する成分とに分離する第4工程と;
前記光学面の位置誤差に起因する成分を補正した際の前記面形状誤差に関する成分を求める第5工程と、
前記第5工程にて求められた面形状誤差に関する成分を補正値として、前記面形状測定の測定値から補正することを特徴とする干渉計の校正方法。 - 投影原版上の回路パターンを感光性基板上へ投影する投影光学系と、
前記投影光学系の波面収差を測定するための請求項10乃至32の何れか一項記載の波面収差測定機と、
を備えることを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10268582A JP2000097666A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
US09/401,552 US6312373B1 (en) | 1998-09-22 | 1999-09-22 | Method of manufacturing an optical system |
US09/870,734 US6456382B2 (en) | 1998-09-22 | 2001-06-01 | Interferometer that measures aspherical surfaces |
US10/217,015 US6765683B2 (en) | 1998-09-22 | 2002-08-13 | Interferometer system and method of manufacturing projection optical system using same |
US10/461,379 US20030215053A1 (en) | 1998-09-22 | 2003-06-16 | Interferometer system and method of manufacturing projection optical system using same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10268582A JP2000097666A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007302508A Division JP2008064770A (ja) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | フィゾー型干渉計 |
JP2007302507A Division JP2008135745A (ja) | 2007-11-22 | 2007-11-22 | 波面収差測定機及び投影露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000097666A JP2000097666A (ja) | 2000-04-07 |
JP2000097666A5 true JP2000097666A5 (ja) | 2005-11-04 |
Family
ID=17460538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10268582A Pending JP2000097666A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000097666A (ja) |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4980522B2 (ja) * | 2000-07-21 | 2012-07-18 | オリンパス株式会社 | 被検面上のうねり成分を抽出する測定手法 |
US7106455B2 (en) | 2001-03-06 | 2006-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Interferometer and interferance measurement method |
JP4929529B2 (ja) * | 2001-03-27 | 2012-05-09 | 株式会社ニコン | 光学系の製造方法、および該製造方法で製造された光学系を備えた露光装置 |
US6771375B2 (en) * | 2001-06-20 | 2004-08-03 | Zygo Corporation | Apparatus and method for measuring aspherical optical surfaces and wavefronts |
JP4782958B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2011-09-28 | 株式会社リコー | 表面形状測定装置及びその方法、プログラム並びに記憶媒体 |
JP4661015B2 (ja) * | 2001-09-26 | 2011-03-30 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置及び波面収差測定方法、並びに、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP4343706B2 (ja) * | 2002-04-17 | 2009-10-14 | キヤノン株式会社 | レチクル及び光学特性計測方法 |
US6867846B2 (en) * | 2003-01-15 | 2005-03-15 | Asml Holding Nv | Tailored reflecting diffractor for EUV lithographic system aberration measurement |
JP4314040B2 (ja) | 2003-03-05 | 2009-08-12 | キヤノン株式会社 | 測定装置及び方法 |
JP4963231B2 (ja) * | 2003-10-20 | 2012-06-27 | ザイゴ コーポレイション | 再構成可能干渉計システム |
JP4590181B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2010-12-01 | キヤノン株式会社 | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP4408040B2 (ja) | 2003-11-28 | 2010-02-03 | キヤノン株式会社 | 干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP4464166B2 (ja) | 2004-02-27 | 2010-05-19 | キヤノン株式会社 | 測定装置を搭載した露光装置 |
JP2005294404A (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Canon Inc | 測定装置、測定方法及びそれを有する露光装置及び露光方法、それを利用したデバイス製造方法 |
JP4630611B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP4666982B2 (ja) | 2004-09-02 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 光学特性測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4095598B2 (ja) | 2004-09-16 | 2008-06-04 | キヤノン株式会社 | 二次元波面収差の算出方法 |
JP4769448B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2011-09-07 | キヤノン株式会社 | 干渉計を備えた露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4600047B2 (ja) * | 2005-01-13 | 2010-12-15 | 株式会社ニコン | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 |
CN100373142C (zh) * | 2005-02-06 | 2008-03-05 | 浙江大学 | 近红外脉冲波前干涉仪的系统误差标定系统及其方法 |
JP2006228930A (ja) | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Canon Inc | 測定装置及びそれを搭載した露光装置 |
JP4731951B2 (ja) | 2005-02-28 | 2011-07-27 | キヤノン株式会社 | 干渉縞の解析方法及び装置、測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4904708B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2012-03-28 | 株式会社ニコン | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 |
JP4939765B2 (ja) | 2005-03-28 | 2012-05-30 | 株式会社日立製作所 | 変位計測方法とその装置 |
JP2006294972A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Nikon Corp | 干渉縞解析方法、干渉縞解析装置、干渉縞解析プログラム、干渉測定装置、投影光学系の製造方法、投影露光装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2006332586A (ja) | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Canon Inc | 測定装置、露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006324311A (ja) | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
DE102005056914A1 (de) * | 2005-11-29 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsystem |
JP4984522B2 (ja) * | 2005-12-21 | 2012-07-25 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置、ピンホールマスク、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法 |
JP2007281003A (ja) | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Canon Inc | 測定方法及び装置、並びに、露光装置 |
JP2007335493A (ja) | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Canon Inc | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2008186912A (ja) * | 2007-01-29 | 2008-08-14 | Nikon Corp | 収差評価方法、調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2008192855A (ja) | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Canon Inc | 測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2008153023A1 (ja) | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Nikon Corporation | 計測部材、センサ、計測方法、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP5039578B2 (ja) * | 2008-01-16 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | 計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置 |
JP2009216454A (ja) | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Canon Inc | 波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2010034319A (ja) | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Canon Inc | 波面収差の測定方法 |
JP2010206033A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Nikon Corp | 波面収差計測装置、該装置の校正方法、及び露光装置 |
JP5434147B2 (ja) * | 2009-03-04 | 2014-03-05 | 株式会社ニコン | 波面収差計測装置、該装置の校正方法、及び露光装置 |
US8269981B1 (en) * | 2009-03-30 | 2012-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method and an apparatus for measuring a deviation of an optical test surface from a target shape |
JP5503193B2 (ja) | 2009-06-08 | 2014-05-28 | キヤノン株式会社 | 波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5093220B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2012-12-12 | 株式会社日立製作所 | 変位計測方法とその装置 |
JP5673073B2 (ja) * | 2010-12-21 | 2015-02-18 | 富士通株式会社 | X線分析方法 |
JP6378602B2 (ja) * | 2014-10-03 | 2018-08-22 | 日本電信電話株式会社 | 光計測装置 |
CN106526649B (zh) * | 2016-09-28 | 2019-10-22 | 北京空间机电研究所 | 一种软x射线源辐射强度标定系统和标定方法 |
-
1998
- 1998-09-22 JP JP10268582A patent/JP2000097666A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000097666A5 (ja) | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、前記干渉計の校正方法、及び投影露光装置 | |
US6765683B2 (en) | Interferometer system and method of manufacturing projection optical system using same | |
US7643149B2 (en) | Method of aligning an optical system | |
US8593642B2 (en) | Method of measuring a shape of an optical surface based on computationally combined surface region measurements and interferometric measuring device | |
US6242754B1 (en) | Method of detecting position of mark on substrate, position detection apparatus using this method, and exposure apparatus using this position detection apparatus | |
JP5522944B2 (ja) | 測定装置、測定方法及び露光装置 | |
US7388696B2 (en) | Diffuser, wavefront source, wavefront sensor and projection exposure apparatus | |
JP2000097666A (ja) | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 | |
KR102598505B1 (ko) | 이미징 광학 시스템용 측정 방법 및 측정 배열체 | |
JP4545155B2 (ja) | 光結像系の波面測定装置及び方法、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
US20090002663A1 (en) | Projection illumination system | |
US5062705A (en) | Apparatus for evaluating a lens | |
JP6605736B2 (ja) | 波面解析のデバイス及び方法 | |
US7088458B1 (en) | Apparatus and method for measuring an optical imaging system, and detector unit | |
TW201807389A (zh) | 決定波前像差的測量系統 | |
US5550635A (en) | Rotational deviation detecting method and system using a periodic pattern | |
US20170284893A1 (en) | Optical device | |
US5504596A (en) | Exposure method and apparatus using holographic techniques | |
JP2008135745A (ja) | 波面収差測定機及び投影露光装置 | |
JP2018536907A (ja) | リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 | |
KR20200061339A (ko) | 광학계의 파면 효과를 분석하는 방법 및 조립체 | |
WO2022038683A1 (ja) | 露光装置、計測装置、計測方法、およびデバイス製造方法 | |
JP3067041B2 (ja) | ホログラム干渉計 | |
JPS62255805A (ja) | 露光装置 | |
JPH065662B2 (ja) | 露光装置 |