JP2000096034A - 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 - Google Patents

日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜

Info

Publication number
JP2000096034A
JP2000096034A JP10267811A JP26781198A JP2000096034A JP 2000096034 A JP2000096034 A JP 2000096034A JP 10267811 A JP10267811 A JP 10267811A JP 26781198 A JP26781198 A JP 26781198A JP 2000096034 A JP2000096034 A JP 2000096034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
fine particles
solar shading
solution
coating solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10267811A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4096277B2 (ja
Inventor
Hiromitsu Takeda
広充 武田
Hiroko Kuno
裕子 久野
Kenji Adachi
健治 足立
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP26781198A priority Critical patent/JP4096277B2/ja
Publication of JP2000096034A publication Critical patent/JP2000096034A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4096277B2 publication Critical patent/JP4096277B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/008Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
    • C03C17/009Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/445Organic continuous phases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials
    • C03C2217/476Tin oxide or doped tin oxide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視光領域の光の透過率が高く反射率が低
く、近赤外領域の光の透過率が低く反射率が高く、かつ
膜の導電性がおおよそ106Ω/□以上に制御可能な膜
を、高コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布法で成
膜できるための塗布液と、これに用いる日射遮蔽材料、
これを用いた日射遮蔽膜を提供する。 【解決手段】 6ホウ化物粒子を含有する日射遮蔽材
料。また、6ホウ化物微粒子を溶液中に分散した日射遮
蔽膜用塗布液。6ホウ化物微粒子に加え、更にATO、
ITO、AZOを含有してもよい。望ましくは表面抵抗
値が106Ω/□以上であり、また、望ましくは膜の透
過率プロファイルが、400〜700nmに極大値を、
700〜1800nmに極小値をもち、かつその極大値
と極小値との差が15ポイント以上である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、車両、ビル、事務
所、一般住宅の窓、電話ボックス、ショーウィンドー、
プラスチックフィルム、照明用ランプなど、ガラス、プ
ラスチックスその他の各種日射遮蔽機能を必要とする基
材に塗布して日射遮蔽膜とするための塗布液、これに用
いる日射遮蔽材料、及び、これにより得られた単層また
は多層の日射遮蔽膜に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、太陽光などからの熱成分を除去・
減少させる方法として、ガラス表面に可視・赤外域の波
長を反射する薄膜を形成して熱線反射ガラスとすること
が行なわれていた。ここで用いられる薄膜の材料として
は、FeOX、CoOX、CrOX、TiOX等の金属酸化
物や、Ag、Au、Cu、Ni、Al等の自由電子を多
量にもつ金属材料が選択された。
【0003】しかしこれらの材料は、特に太陽光線で熱
効果に大きく寄与する近赤外線以外に、可視光領域の光
も同時に反射もしくは吸収する性質があり、可視光透過
率が低下してしまう欠点があった。
【0004】そのため、建材、乗り物、電話ボックスな
どにおける透明基材にこれらの材料を利用する場合は可
視光領域の高い透過率が必要とされ、膜厚を非常に薄く
する操作が必要であった。そして、スプレー焼き付けや
CVD法、或いはスパッタ法や真空蒸着法などの物理成
膜法を用いて10nmレベルの極めて薄い薄膜に成膜し
て用いられてきた。これらの成膜方法は大がかりな装置
や真空設備を必要とし、生産性、大面積化に問題があ
り、更に膜の製造コストが高かった。
【0005】また、これらの材料では、可視光透過率を
高くしようとすると日射遮蔽特性が低下し、逆に日射遮
蔽特性を高くすると可視光透過率が低下して膜を施した
内部空間が暗くなる、といった性質を抱えていた。
【0006】また、これらの材料では可視光領域の反射
率も同時に高くなってしまう傾向があり、鏡のようなギ
ラギラした外観を与えて美観を損ねてしまう欠点があっ
た。
【0007】また更に、これらの材料では膜の導電性が
高くなるものが多く、この場合携帯電話やTV受信の電
波を反射して受信不能になったり、周辺地域に電波障害
を引き起こすなどの欠点があった。
【0008】以上のような欠点を改善するためには、膜
の物理特性として、可視光領域の光の透過率が高く、近
赤外領域の光の透過率が低く、可視光領域の光の反射率
が低く、近赤外領域の光の反射率が高く、かつ膜の導電
性がおおよそ106Ω/□以上に制御可能な膜を形成す
る必要があった。
【0009】しかしながら従来このような膜、或いはこ
のような膜を形成する材料は知られていなかった。
【0010】可視光透過率が高く、かつ熱線遮蔽機能を
もつ材料には、アンチモン含有酸化錫(ATO)や、錫
含有酸化インジウム(ITO)、アルミニウム含有酸化
亜鉛(AZO)が知られている。これらの材料は可視光
反射率が比較的低く、ギラギラした外観を与えることは
ないが、プラズマ波長が比較的長波長側にあり、可視光
に近い近赤外域におけるこれらの膜の反射・吸収効果は
十分ではなかった。また、物理成膜法でこれらの膜を形
成した場合には、膜の導電性が上がり、上記の電波の反
射妨害を引き起こす欠点があった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、上記
従来技術の問題点を解決し、可視光領域の光の透過率が
高く反射率が低く、近赤外領域の光の透過率が低く反射
率が高く、かつ膜の導電性がおおよそ106Ω/□以上
に制御可能な膜を、高コストの物理成膜法を用いずに簡
便な塗布法で成膜できるための塗布液と、これに用いる
日射遮蔽材料と、これを用いた日射遮蔽膜とを提供する
ことを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者らは、材料そのものの特性として、自由電
子を多量に保有する6ホウ化物に着目し、種々検討の結
果、これを超微粒子化し、かつ高度に分散した膜を作製
することにより、可視光領域に透過率の極大をもつとと
もに、可視光領域に近い近赤外域に強い吸収および反射
を発現して透過率の極小をもつようになるという現象を
見出し、更にこれらの特性は6ホウ化物に顕著にみら
れ、膜の表面抵抗を106Ω/□以上に制御可能な膜
を、高コストの物理成膜法を用いずに簡単な塗布法で成
膜できることを見いだし本発明に至った。
【0013】すなわち、本発明の日射遮蔽材料は、6ホ
ウ化物粒子を含有することを特徴とする。ここで6ホウ
化物を「XB6」で表記した場合、Xが、Ce、Gd、
Tb、Dy、Ho、Y、Sm、Eu、Er、Tm、Y
b、Lu、Sr、Caのうちの1種以上であることが望
ましい。
【0014】また、本発明の日射遮蔽膜用塗布液は、6
ホウ化物微粒子が溶液中に分散されたことを特徴とし、
望ましくは粒径が200nm以下の6ホウ化物微粒子が
溶液中に分散され、また、望ましくは塗布液中にバイン
ダーとして、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニ
ウムのアルコキシド、もしくは、アルミニウムのアルコ
キシドの部分加水分解重合物が1種以上含まれ、また、
望ましくは塗布液中にバインダーとして、紫外線硬化樹
脂、常温硬化樹脂、もしくは、熱可塑性樹脂が1種以上
含まれるとよい。
【0015】本発明の他の日射遮蔽材料は、6ホウ化物
微粒子に加え、更に、アンチモン含有酸化錫(ATO)
微粒子、錫含有酸化インジウム微粒子(ITO)、アル
ミニウム含有酸化亜鉛微粒子(AZO)の1種以上が含
有されていてもよい。
【0016】本発明の日射遮蔽膜は、上記いずれかの日
射遮蔽膜用塗布液を基材に塗布して得たものであり、更
に、該日射遮蔽膜と屈折率の異なる膜を1種以上重ねて
多層膜とし、光の干渉効果を用いて効率よく日射を遮蔽
する多層膜としてもよく、また、この場合に最上層を、
膜を保護するためのオーバーコート層としてもよい。
【0017】本発明の日射遮蔽膜は、望ましくは表面抵
抗値が106Ω/□以上であり、また、望ましくは膜の
透過率プロファイルが、400〜700nmに極大値
を、700〜1800nmに極小値をもち、かつその極
大値と極小値との差が15ポイント以上であるとよい。
【0018】また、本発明の日射遮蔽機能を有する透明
基材透明基材は、上記いずれかの日射遮蔽膜または多層
膜を有する透明基材である。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる6ホウ化物微
粒子を「XB6」で表記した場合、Xが、Ce、Gd、
Tb、Dy、Ho、Y、Sm、Eu、Er、Tm、Y
b、Lu、Sr、Caである6ホウ化物微粒子がその代
表的なものとして挙げられるが、これら2種以上の混合
物や、これら以外の6ホウ化物であっても日射遮蔽効果
が得られる。
【0020】6ホウ化物微粒子はその表面が酸化してい
ないことが好ましいが、通常は僅かに酸化していること
が多く、また微粒子の分散工程で表面の酸化が起こるこ
とはある程度避けられない。しかしその場合でも日射遮
蔽効果を発現する有効性に変わりはない。
【0021】また、これらの6ホウ化物微粒子は、結晶
性が低くX線回折で極めてブロードな回折ピークを生じ
るようなものであっても、微粒子内部の基本的な結合が
立方晶CaB6タイプの構造を有するものであるならば
日射遮蔽効果を発現する。
【0022】これらの6ホウ化物微粒子は、暗い青紫な
どに着色した粉末であるが、粒径が可視光波長に比べて
十分小さく、薄膜中に分散した状態においては、膜に可
視光透過性が生じる。しかし赤外光遮蔽能は十分強く保
持できる。この理由は詳細には理解されていないが、こ
れら材料は自由電子を比較的多く保有し、4f−5d間
のバンド間遷移や電子−電子、電子−フォノン相互作用
による吸収が近赤外領域に存在することに由来すると考
えられる。
【0023】実験によれば、これら微粒子を十分細かく
且つ均一に分散した膜では、透過率が波長400〜70
0nmの間に極大値をもち、かつ波長700〜1800
nmの間に極小値をもつことが観察される。可視光波長
が380〜780nmであり、視感度が550nm付近
をピークとする釣鐘型であることを考慮すると、このよ
うな膜では可視光を有効に透過し、それ以外の日射を有
効に吸収・反射することが理解できる。
【0024】場合により使用されるITO微粒子、AT
O微粒子、及びAZO微粒子は、可視光領域で光の吸収
がほとんど無く、1000nm以上の領域でプラズモン
に由来する反射・吸収が大きい。従って、上記の6ホウ
化物微粒子と合わせて使用することで、可視光透過率を
さほど減少させずに、近赤外領域の太陽光線や、地表に
吸収された熱エネルギーの再放射を効率よく遮蔽するこ
とが可能となり、熱線遮蔽特性を向上させる効果が得ら
れる。
【0025】塗布液中の6ホウ化物微粒子の粒径は20
0nm以下が良く、好ましくは100nm以下が良い。
粒子径が200nmよりも大きくなると、上に述べたよ
うな特有の透過率プロファイル、すなわち透過率が波長
400〜700nmの間に極大値をもち、かつ波長70
0〜1800nmの間に極小値をもつようなプロファイ
ルの山と谷の差が小さくなり、可視光透過率を十分保っ
たまま、効率よく日射透過率を低下させることが難しく
なるからである。また粒子径が200nmよりも大きい
場合には、分散液中の微粒子同士の凝集傾向が強くな
り、微粒子の沈降原因となるからである。
【0026】更に200nmを超える微粒子もしくはそ
れらの凝集した粗大粒子は、光散乱源となって膜に曇り
(ヘイズ)を生じたり可視光透過率が減少する原因とな
るので好ましくない。なお、現状の技術で経済的に入手
可能な最低の粒径は2nm程度である。
【0027】場合により使用されるITO微粒子、AT
O微粒子、またはAZO微粒子の粒径も、200nm以
下が良く、好ましくは100nm以下が良い。粒子径が
200nmよりも大きくなると分散液中の微粒子同士の
凝集傾向が強くなり、微粒子の沈降原因となるからであ
る。また前記同様、200nmを超える微粒子もしくは
それらの凝集した粗大粒子は、光散乱源となって膜に曇
り(ヘイズ)を生じたり可視光透過率が減少する原因と
なるので好ましくない。なお、現状の技術で経済的に入
手可能な最低の粒径は2nm程度である。
【0028】塗布液中の微粒子の分散媒は特に限定され
るものではなく、塗布条件や塗布環境、塗布液中のアル
コキシド、合成樹脂バインダーなどに合わせて選択可能
であり、例えば水、アルコール、エーテル、エステル、
ケトンなどの有機溶媒の各種が使用可能である。また必
要に応じて酸やアルカリを添加してpHを調整しても良
い。更に、塗布液中微粒子の分散安定性を一層向上させ
るために、各種の界面活性剤、カップリング剤などを添
加することも可能である。そのときのそれぞれの添加量
は、無機微粒子に対して30重量%以下、好ましくは5
重量%以下である。
【0029】この塗布液を用いた膜の導電性は、微粒子
の接触箇所を経由した導電パスに沿って行われるため、
例えば、界面活性剤やカップリング剤の量を加減するこ
とで導電パスを部分的に切断することができ、106Ω
/□以上の表面抵抗値へ膜の導電性を容易に低下させる
ことができる。また珪素、ジルコニウム、チタン、アル
ミニウムの各金属のアルコキシド、もしくはこれらの部
分加水分解重合物、または合成樹脂バインダーの含有量
を加減することによっても導電性の制御が可能である。
【0030】上記微粒子の分散方法は、微粒子が均一に
溶液中に分散する方法であれば任意に選択できる。例と
して、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、超音波分
散などの方法を挙げることができる。
【0031】本発明の日射遮蔽膜は、基材上に上記微粒
子が高密度に堆積して膜を形成するものである。塗布液
中に、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウムの各
金属のアルコキシド、もしくはこれら金属の部分加水分
解重合物、または合成樹脂バインダーを含ませると、塗
布液を塗布、硬化後、微粒子の基材への結着性が向上
し、更に膜の硬度が向上する。またこのようにして得ら
れた膜上に、更に珪素、ジルコニウム、チタン、アルミ
ニウムなどの各金属アルコキシドもしくはこれら金属ア
ルコキシドの加水分解重合物または合成樹脂を含有する
層を重ねて形成することで、微粒子を主成分とする膜の
基材への結着力や、膜の硬度及び耐候性を一層向上させ
ることができる。
【0032】塗布液中に珪素、ジルコニウム、チタン、
アルミニウムの各金属のアルコキシド、もしくはこれら
金属の加水分解重合物、または合成樹脂バインダーを含
ませない場合、この塗布液を基材に塗布後に得られる膜
は、基材上に上記微粒子のみが堆積した膜構造になる。
このままでも日射遮蔽効果を示すが、この膜に上記と同
様に更に、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム
の各金属のアルコキシド、もしくはこれら金属の加水分
解重合物、または合成樹脂バインダーを含む塗布液を塗
布して被膜を形成し多層膜とすることにより、塗布液成
分が第1層の微粒子の堆積した間隙を埋めて成膜される
ため、膜のヘイズが低減し可視光透過率が向上し、また
微粒子の基材への結着性が向上する。
【0033】上記微粒子を主成分とする膜を、珪素、ジ
ルコニウム、チタン、アルミニウムの各金属のアルコキ
シド、もしくはこれら金属の加水分解重合物からなる被
膜で結着する方法としては、スパッタ法や蒸着法も可能
であるが、成膜工程の容易さやコストが低いなどの利点
から塗布法が有効である。この被膜用塗布液は、水やア
ルコール中に、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニ
ウムの各金属のアルコキシド、もしくはこれら金属の加
水分解重合物を1種もしくは2種以上含むものであり、
その含有液は加熱後に得られる酸化物換算で全溶液中の
40重量%以下が好ましい。また必要に応じて酸やアル
カリを添加してpHを調整することも可能である。
【0034】このような液を上記微粒子を主成分とする
膜上に更に第2層として塗布し加熱することで、珪素、
ジルコニウム、チタン、アルミニウムなどの酸化物被膜
を容易に作製することができる。また、これらアルコキ
シド以外に、一般に使用されている熱可塑性樹脂や、常
温硬化樹脂、紫外線硬化樹脂を用いて、上記微粒子を主
成分とする膜上に更に第2層として塗布し硬化させ、樹
脂被膜を容易に作製することもできる。
【0035】また、微粒子分散膜の屈折率と異なる屈折
率をもつ膜を多層に重ねて塗布することにより、各膜の
界面での屈折率差による光の干渉効果を利用して、目的
とする日射遮蔽特性を更に向上させることが可能であ
る。
【0036】塗布液及び被膜用の塗布液の塗布方法とし
ては、特に限定されるものではなく、スピンコート法、
スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷
法、ロールコート法、流し塗りなど、処理液を平坦且つ
薄く均一に塗布できる方法であれば如何なる方法でも適
宜採用することができる。
【0037】上記各金属アルコキシド及びその加水分解
重合物を含む塗布液の塗布後の基材加熱温度は、100
℃未満では塗膜中に含まれるアルコキシド及びその加水
分解重合物の重合反応が未完結で残る場合が多く、また
水や有機溶媒が膜中に残留し、加熱後の膜の可視光透過
率の低減の原因となるので、100℃以上が好ましく、
更に好ましくは塗布液中の溶媒の沸点以上で加熱を実施
するとよい。
【0038】また合成樹脂バインダーを使用した場合は
それぞれ最適な硬化方法に従って硬化させれば良く、例
えば紫外線硬化樹脂であれば紫外線を適宜照射すれば良
い。また常温硬化樹脂であれば塗布後そのまま放置して
おけばよいため、既存の窓ガラスなどへの現場での塗布
が可能であり、汎用性が広がる。
【0039】本発明の塗布液に使用するバインダー成分
として、或いはオーバーコート用の塗布液としては、オ
ルガノシラザン溶液を用いても良い。オルガノシザラン
溶液としては、側鎖基の修正や酸化触媒の添加で重合硬
化温度が100℃以下のものも市販されており、これら
を用いることによって成膜温度をかなり低くすることが
できる。
【0040】本発明の膜では上記微粒子の分散した膜で
あるために、物理成膜法により製造された酸化物薄膜の
ように結晶が緻密に膜内を埋めた鏡面状表面をもつ膜に
比べると、可視光領域での反射が少なく、ギラギラした
外観を呈することが回避できる。また可視光領域の反射
を更に抑制したい場合は、本微粒子分散膜の上に、Si
2やMgFのような低屈折率の膜を成膜することによ
り、容易に視感反射率1%以下の多層膜を製造可能であ
る。
【0041】塗布液には更に、ATOやITOやAZO
などの微粒子を混合することも可能である。これらの透
明微粒子は添加量を増すと可視光に近い近赤外線領域で
の吸収が増加するため、可視光透過率の高い日射遮蔽膜
とすることが可能である。また逆にATOやITOやA
ZOなどの微粒子分散した液に本発明の塗布液を添加し
て、膜に着色すると同時にその熱線遮蔽効果を補助する
ことも可能である。この場合、主体となるITOなどに
対して奔の僅かの添加量で日射遮蔽効果を補助できる。
【0042】本発明による塗布液は無機微粒子を分散し
たものであり、焼成時の熱による塗布成分の分解或いは
化学反応を利用して目的の熱線遮蔽膜を形成するもので
はないため、特性の安定した均一な膜厚の透過膜を形成
することができる。
【0043】本発明における微粒子分散膜は、基材上に
微粒子が高密度に堆積して膜を形成するものであり、塗
布液中に含まれる珪素、ジルコニウム、チタン、アルミ
ニウムの各金属のアルコキシド、もしくはこれらの加水
分解重合物、もしくは合成樹脂バインダーは、塗膜の硬
化後、微粒子の基材上への結着性を向上させ、更に膜の
強度を向上させる効果がある。
【0044】このように本発明によれば上記無機微粒子
の材料を適当に混合することで、熱線遮蔽効果を有する
膜の製造が可能であるが、これらの微粒子材料は無機材
料であるので、有機材料と比べて耐候性は非常に高く、
例えば太陽光線(紫外線)の当たる部位に使用しても、
色や諸機能の劣化はほとんど生じない。
【0045】
【実施例】以下、本発明を実施例によってより詳細に説
明する。 実施例1 ・・・ CeB6微粒子(平均粒径90n
m)20g、ジアセトンアルコール(DAA)78g、
および微粒子分散用カップリング剤2.0gを混合し、
直径4mmのジルコニアボールを用いて150時間ボー
ルミル混合し、CeB6微粒子の分散液100gを作製
した(A液)。
【0046】次に、平均重合度で4〜5量体であるエチ
ルシリケート40(多摩化学工業株式会社製)を25
g、エタノール32g、5%塩酸水溶液8g、水5gで
調整したエチルシリケート溶液70gに、エタノール3
0gを良く混合してエチルシリケート混合液100gを
調整し、これをバインダーとして使用した(B液)。
【0047】A液とB液とを表1の組成になるようにエ
タノールで希釈して十分混合し、この溶液15gを15
0rpmで回転する200×200×2mmのソーダラ
イム系板硝子基板上にビーカーから滴下し、そのまま5
分間振り切った後回転を止めた。これを180℃の電気
炉に入れて30分加熱し、目的とする膜を得た。
【0048】形成された膜の透過率は日立製作所製の分
光光度計を用いて、200〜1800nmの透過率を測
定し、JIS R 3106に従って日射透過率(τ
e)、可視光透過率(τv)を算出した。これらの結果
を表1に示す。表1には実施例2〜16、比較例1で得
られた膜の特性についても併せて示した。またこの膜の
代表的なプロファイルを図1に示す。
【0049】実施例2 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をGdB6微粒子(平均粒径85nm)とした
以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピンコ
ートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0050】実施例3 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をTbB6微粒子(平均粒径90nm)とした
以外は実施例1と同様の方法で塗布液を調整し、これ
を、微粒子濃度が2.0重量%になるまでエタノールで
希釈し、この溶液15gを200rpmで回転する20
0×200×3mmのソーダライム系板硝子基板上にビ
ーカーから滴下し、そのまま5分間振り切った後回転を
止めた。この上に更に、B液のSiO2濃度を2.0%
までエタノールで希釈した溶液15gを、150rpm
で回転する上記塗布基板上にビーカーから滴下し、その
まま5分間振り切った後回転を止めた。これを180℃
の電気炉に入れて30分加熱し、目的とする膜を得た。
この膜の光学特性を表1に示す。
【0051】実施例4 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をDyB6微粒子(平均粒径95nm)とした
以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピンコ
ートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0052】実施例5 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をHoB6微粒子(平均粒径85nm)とした
以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピンコ
ートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0053】実施例6 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をYB6微粒子(平均粒径90nm)とした以
外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピンコー
トし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱し、
目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示す。
【0054】実施例7 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をYB6微粒子(平均粒径90nm)とし、B
液の代わりに、信越シリコーン社製のシリコーン系UV
硬化樹脂をバインダーとして使用した以外は実施例1と
同様の方法で塗布液調整及びスピンコートし、これを1
00℃の電気炉に入れて2分乾燥し溶媒を蒸発させた
後、高圧水銀灯を使用して2分間紫外線照射し、目的と
する膜を得た。この膜の光学特性を表1に示す。
【0055】実施例8 ・・・ 実施例1のA液のCe
6微粒子をEuB6微粒子(平均粒径90nm)とし、
B液の代わりに、三井化学社製のウレタンラッカーをバ
インダーとして使用し、スピン回転数を200rpmと
した以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピ
ンコートし、これを室温で放置し溶媒を蒸発させ、目的
とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示す。
【0056】実施例9 ・・・実施例1のA液のCeB
6微粒子をErB6微粒子(平均粒径120nm)とし、
B液の代わりに、信越シリコーン社製の常温硬化樹脂を
バインダーとして使用し、スピン回転数を200rpm
とした以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びス
ピンコートし、これを室温で放置し溶媒を蒸発させ、目
的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示す。
【0057】実施例10 ・・・ 実施例1のA液のC
eB6微粒子をTmB6微粒子(平均粒径110nm)と
した以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピ
ンコートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加
熱し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に
示す。
【0058】実施例11 ・・・ 実施例1のA液のC
eB6微粒子をLuB6微粒子(平均粒径95nm)とし
た以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピン
コートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0059】実施例12 ・・・ 実施例1のA液のC
eB6微粒子をSrB6微粒子(平均粒径95nm)とし
た以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピン
コートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0060】実施例13 ・・・ 実施例1のA液のC
eB6微粒子をCaB6微粒子(平均粒径80nm)とし
た以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピン
コートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0061】実施例14 ・・・ 実施例1のA液のC
eB6微粒子をTbB6微粒子(平均粒径80nm)とし
た以外は実施例1と同様の方法で塗布液調整及びスピン
コートし、これを180℃の電気炉に入れて30分加熱
し目的とする膜を得た。この膜の光学特性を表1に示
す。
【0062】実施例15 ・・・ ITO微粒子(平均
粒径55nm)35g、ジアセトンアルコール(DA
A)61g、および微粒子分散用カップリング剤4.0
gを混合し、直径4mmのジルコニアボールを用いて1
2時間ボールミル混合してITO微粒子の分散液100
gを作製した(C液)。このC液と、実施例1のA液と
信越シリコーン社製のシリコーン系UV硬化樹脂を表1
の実施例20の組成になるようにエタノールで希釈して
十分混合し、この溶液15gを200rpmで回転する
200×200×3mmのソーダライム系板硝子基板上
にビーカーから滴下し、そのまま5分間振り切った後回
転を止めた。これを100℃の電気炉に入れて2分乾燥
し溶媒を蒸発させた後、高圧水銀灯を使用して2分間紫
外線照射し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を
表1に示す。
【0063】実施例16 ・・・ ATO微粒子(平均
粒径50nm)35g、ジアセトンアルコール(DA
A)61g、および微粒子分散用カップリング剤4.0
gを混合し、直径4mmのジルコニアボールを用いて1
2時間ボールミル混合してITO微粒子の分散液100
gを作製した(D液)。このD液と、実施例1のA液と
信越シリコーン社製のシリコーン系UV硬化樹脂を表1
の実施例20の組成になるようにエタノールで希釈して
十分混合し、この溶液15gを200rpmで回転する
200×200×3mmのソーダライム系板硝子基板上
にビーカーから滴下し、そのまま5分間振り切った後回
転を止めた。これを100℃の電気炉に入れて2分乾燥
し溶媒を蒸発させた後、高圧水銀灯を使用して2分間紫
外線照射し、目的とする膜を得た。この膜の光学特性を
表1に示す。
【0064】以上の実施例1〜16では、全ての膜につ
いて、可視光透過率よりも日射透過率が百分率で15ポ
イント以上低く、明るさを保ちながら、効率よく日射を
遮蔽していることがよくわかり、日射遮蔽膜として有用
であることがわかる。また、実施例の全ての膜は可視光
領域での反射率が8%以下であって、ミラー状のギラツ
キが無く、更に表面抵抗値が全ての膜で8×1010Ω/
□以上であって、電波透過性において問題の無いことが
確かめられた。
【0065】比較例1 ・・・ 塗布法に比べて高コス
トの物理成膜法により作製された市販の熱線反射ガラス
について、340〜1800nmの分光透過率を測定
し、JIS R 3106に従って光学特性を調べたと
ころ、可視光透過率61.8%、日射透過率63.4%
となった。これは、上記6ホウ化物塗布膜と比較して可
視光透過率と日射透過率の差が小さく、日射遮蔽効率が
悪い。また可視光反射率は30以上%と非常に高く、外
観もギラギラしたミラー状の外観を呈していた。また膜
面の表面抵抗値は83Ω/□と低く、電波透過性及び反
射性には問題があることが明らかであった。
【0066】
【表1】
【0067】
【発明の効果】以上示したように、本発明によれば、可
視光領域の光の透過率が高くて、近赤外領域の光の透過
率が低いために、明るさを損なわずに日射の熱エネルギ
ーを効率よく遮蔽でき、可視光反射率が低いのでギラツ
キが無く、膜の導電性が106Ω/□以上に制御可能な
ので電波透過性に優れた日射遮蔽膜であり、これを、高
コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布法で成膜でき
る塗布液と、これを用いた日射遮蔽膜とが提供できた。
【0068】この膜を、例えばビル等の窓ガラスに使用
することで、夏場の冷房負荷を低減する効果があり、省
エネルギーにも役立ち、環境的にも有用性の高い工業製
品である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の膜による、横軸を波長(nm)、縦
軸を透過率(%)とした代表的なプロファイルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/22 G02B 5/22 5/26 5/26 Fターム(参考) 2H048 CA05 CA12 CA17 FA05 FA13 FA24 4F100 AA19A AA29A AA31A AA33A AD10A AG00 AH06 AH08A AK01A AS00A AT00B BA01 BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 DE01A EH46 GB07 GB32 JB12A JB14A JB16A JD01 JG01 JG04A JN02 JN06A JN08 JN18C YY00 YY00A 4J038 DL031 DM021 DN001 EA011 HA216 HA476 JA23 KA20 MA07 MA08 MA10 MA14 NA19 PA19 PB05 PC03 PC08

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 6ホウ化物粒子を含有する日射遮蔽材
    料。
  2. 【請求項2】 6ホウ化物(XB6)微粒子を含有する
    日射遮蔽材料であって、Xが、Ce、Gd、Tb、D
    y、Ho、Y、Sm、Eu、Er、Tm、Yb、Lu、
    Sr、Caのうちの1種以上である日射遮蔽材料。
  3. 【請求項3】 6ホウ化物微粒子を溶液中に分散した日
    射遮蔽膜用塗布液。
  4. 【請求項4】 粒径が200nm以下の6ホウ化物微粒
    子を溶液中に分散した日射遮蔽膜用塗布液。
  5. 【請求項5】 塗布液中にバインダーとして、ケイ素、
    チタン、ジルコニウム、アルミニウムのアルコキシド、
    もしくは、アルミニウムのアルコキシドの部分加水分解
    重合物が1種以上含まれる請求項3または請求項4に記
    載の日射遮蔽膜用塗布液。
  6. 【請求項6】 塗布液中にバインダーとして、紫外線硬
    化樹脂、常温硬化樹脂、もしくは、熱可塑性樹脂が1種
    以上含まれる請求項3〜請求項5いずれかに記載の日射
    遮蔽膜用塗布液。
  7. 【請求項7】 6ホウ化物微粒子に加え、更に、アンチ
    モン含有酸化錫(ATO)微粒子、錫含有酸化インジウ
    ム微粒子(ITO)、アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子
    (AZO)の1種以上を含有する日射遮蔽材料。
  8. 【請求項8】 6ホウ化物微粒子に加え、更に、アンチ
    モン含有酸化錫(ATO)微粒子、錫含有酸化インジウ
    ム微粒子(ITO)、アルミニウム含有酸化亜鉛微粒子
    (AZO)の1種以上を溶液中に分散した日射遮蔽膜用
    塗布液。
  9. 【請求項9】 請求項3〜請求項8のいずれかに記載の
    日射遮蔽膜用塗布液を基材に塗布して得た日射遮蔽膜。
  10. 【請求項10】 請求項3〜請求項8のいずれかに記載
    の日射遮蔽膜用塗布液を基材に塗布して得た日射遮蔽膜
    を有する日射遮蔽板。
  11. 【請求項11】 請求項3〜請求項8のいずれかに記載
    の日射遮蔽膜用塗布液を基材に塗布した日射遮蔽膜に、
    更に、該日射遮蔽膜と屈折率の異なる膜を1種以上重ね
    て多層膜とし、光の干渉効果を用いて効率よく日射を遮
    蔽する多層膜。
  12. 【請求項12】 最上層を膜を保護するためのオーバー
    コート層とした請求項11に記載の多層膜。
  13. 【請求項13】 表面抵抗値が106Ω/□以上である
    請求項9に記載の日射遮蔽膜。
  14. 【請求項14】 表面抵抗値が106Ω/□以上である
    請求項11または請求項12に記載の多層膜。
  15. 【請求項15】 膜の透過率プロファイルが、400〜
    700nmに極大値を、700〜1800nmに極小値
    をもち、かつ、その極大値と極小値との差が15ポイン
    ト以上である請求項9に記載の日射遮蔽膜。
  16. 【請求項16】 膜の透過率プロファイルが、400〜
    700nmに極大値を、700〜1800nmに極小値
    をもち、かつ、その極大値と極小値との差が15ポイン
    ト以上である請求項11または請求項12に記載の多層
    膜。
  17. 【請求項17】 上記いずれかの日射遮蔽膜または多層
    膜が形成された日射遮蔽機能を有する透明基材。
JP26781198A 1998-09-22 1998-09-22 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 Expired - Lifetime JP4096277B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26781198A JP4096277B2 (ja) 1998-09-22 1998-09-22 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26781198A JP4096277B2 (ja) 1998-09-22 1998-09-22 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000096034A true JP2000096034A (ja) 2000-04-04
JP4096277B2 JP4096277B2 (ja) 2008-06-04

Family

ID=17449942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26781198A Expired - Lifetime JP4096277B2 (ja) 1998-09-22 1998-09-22 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4096277B2 (ja)

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000169765A (ja) * 1998-12-10 2000-06-20 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜
JP2003277045A (ja) * 2002-01-18 2003-10-02 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 6ホウ化物粒子とこの6ホウ化物粒子が分散された分散体および6ホウ化物粒子若しくは分散体を用いた物品
WO2003095561A1 (fr) * 2002-05-13 2003-11-20 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Materiau en feuille de protection contre les rayons thermiques et additif liquide utilise pour produire celui-ci
JP2004162020A (ja) * 2002-09-25 2004-06-10 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線遮蔽成分分散体とその製造方法およびこの分散体を用いて得られる熱線遮蔽膜形成用塗布液と熱線遮蔽膜並びに熱線遮蔽樹脂成形体
WO2004065512A1 (ja) * 2003-01-23 2004-08-05 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 日射遮蔽体と日射遮蔽体形成用分散液
JP2005179504A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Teijin Chem Ltd ハードコート層を有するポリカーボネート樹脂成形体
JP2007191368A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体
US7258923B2 (en) 2003-10-31 2007-08-21 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
JP2007231145A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Achilles Corp 熱遮蔽性シート
JP2008066699A (ja) * 2006-08-10 2008-03-21 Kochi Univ Of Technology 透明電磁遮蔽膜
US7399571B2 (en) 2005-05-06 2008-07-15 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
EP1944152A1 (en) 2007-01-11 2008-07-16 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Light-absorbing resin composition for use in laser welding, light-absorbing resin molded article, and method for manufacturing light-absorbing resin molded article
JP2009007434A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Nagoya Institute Of Technology 希土類化合物熱光変換システム
JP2009298813A (ja) * 2007-07-30 2009-12-24 Yohei Tanaka 生体深部組織の近赤外線損傷の防止製品
US7666930B2 (en) 2002-07-31 2010-02-23 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Master batch containing heat radiation shielding component, and heat radiation shielding transparent resin form and heat radiation shielding transparent laminate for which the master batch has been used
JP2012121277A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Bridgestone Corp 熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラス
WO2013125563A1 (ja) 2012-02-22 2013-08-29 住友金属鉱山株式会社 複合タングステン酸化物微粒子分散ポリカーボネート樹脂組成物およびそれを用いた熱線遮蔽成形体並びに熱線遮蔽積層体
WO2014010562A1 (ja) * 2012-07-13 2014-01-16 コニカミノルタ株式会社 赤外遮蔽フィルム
US8900693B2 (en) 2005-07-13 2014-12-02 Sabic Global Technologies B.V. Polycarbonate compositions having infrared absorbance, method of manufacture, and articles prepared therefrom
EP2958870A1 (de) * 2013-02-25 2015-12-30 Saint-Gobain Glass France Scheibenanordnung mit infrarotdämpfender beschichtung
JP2016018156A (ja) * 2014-07-10 2016-02-01 旭硝子株式会社 近赤外線吸収構造体、および、その製造方法
JP2016162500A (ja) * 2015-02-26 2016-09-05 住友金属鉱山株式会社 光熱変換層、ドナーシート
KR101666350B1 (ko) 2015-09-01 2016-10-17 한국화학연구원 탄화불소 박막을 포함하는 열차단 필름 및 이의 제조방법
KR20170046774A (ko) 2014-08-29 2017-05-02 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 헥사보라이드 미립자의 집합체, 헥사보라이드 미립자 분산액, 헥사보라이드 미립자 분산체, 헥사보라이드 미립자 분산체를 갖는 적층 투명기재, 적외선 흡수 필름 및 적외선 흡수 유리
JP2017218362A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 住友金属鉱山株式会社 ホウ化物粒子中の元素の選択方法及びホウ化物粒子の製造方法
US9913318B2 (en) 2014-11-25 2018-03-06 Sabic Global Technologies B.V. Method and device for heating a surface
KR20180100123A (ko) 2016-01-04 2018-09-07 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 붕화물 입자, 붕화물 입자 분산액, 적외선 차폐 투명 기재, 적외선 차폐 광학 부재, 적외선 차폐 입자 분산체, 적외선 차폐를 구비한 투명 기재, 적외선 차폐 입자 분산 분말 및 마스터 배치
US10107948B2 (en) 2014-11-25 2018-10-23 Sabic Global Technologies B.V. Method and article for emitting radiation from a surface
WO2019021992A1 (ja) * 2017-07-24 2019-01-31 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収微粒子分散粉、赤外線吸収微粒子分散粉含有分散液、赤外線吸収微粒子分散粉含有インク、および偽造防止インク、並びに偽造防止用印刷物
CN109501396A (zh) * 2017-09-14 2019-03-22 东莞市荣腾纳米科技有限公司 一种导光隔热膜及其制备方法
US10604665B2 (en) 2015-01-27 2020-03-31 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US11021002B2 (en) 2015-01-27 2021-06-01 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US11248133B2 (en) 2015-01-27 2022-02-15 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US11312116B2 (en) 2016-01-04 2022-04-26 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Boride particles, boride particle dispersed liquid, infrared light shielding transparent base, infrared light shielding optical member, infrared light shielding particle dispersed body, infrared light shielding laminated transparent base, infrared light shielding particle dispersed powder, and master batch

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101222936B1 (ko) 2010-09-29 2013-01-17 (주)디오 아미노실란을 이용한 수계 자외선 및 적외선 차단 코팅제 및 이를 사용하여 제조된 코팅막
JP6828514B2 (ja) 2017-02-28 2021-02-10 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽微粒子、熱線遮蔽微粒子分散液、熱線遮蔽膜用塗布液、およびこれらを用いた熱線遮蔽膜、熱線遮蔽樹脂フィルム、熱線遮蔽微粒子分散体

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4889917A (ja) * 1972-03-01 1973-11-24
JPS6111250A (ja) * 1984-06-27 1986-01-18 株式会社豊田中央研究所 透明導電膜の形成方法
JPH036015Y2 (ja) * 1985-04-22 1991-02-15
JPH04243913A (ja) * 1991-01-25 1992-09-01 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ホウ化物微粉末の製造方法
JPH0641723A (ja) * 1992-07-27 1994-02-15 Tonen Corp 透明導電膜
JPH06144874A (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射膜及びその製造方法
JPH0841441A (ja) * 1994-05-25 1996-02-13 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム−錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法
JPH08325034A (ja) * 1995-05-29 1996-12-10 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射ガラス体
JPH1025200A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Nippon Sanso Kk 成膜用基板および電気素子
JPH10101375A (ja) * 1996-09-30 1998-04-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽膜用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4889917A (ja) * 1972-03-01 1973-11-24
JPS6111250A (ja) * 1984-06-27 1986-01-18 株式会社豊田中央研究所 透明導電膜の形成方法
JPH036015Y2 (ja) * 1985-04-22 1991-02-15
JPH04243913A (ja) * 1991-01-25 1992-09-01 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ホウ化物微粉末の製造方法
JPH0641723A (ja) * 1992-07-27 1994-02-15 Tonen Corp 透明導電膜
JPH06144874A (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射膜及びその製造方法
JPH0841441A (ja) * 1994-05-25 1996-02-13 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム−錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法
JPH08325034A (ja) * 1995-05-29 1996-12-10 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射ガラス体
JPH1025200A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Nippon Sanso Kk 成膜用基板および電気素子
JPH10101375A (ja) * 1996-09-30 1998-04-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽膜用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜

Cited By (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000169765A (ja) * 1998-12-10 2000-06-20 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜
JP2003277045A (ja) * 2002-01-18 2003-10-02 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 6ホウ化物粒子とこの6ホウ化物粒子が分散された分散体および6ホウ化物粒子若しくは分散体を用いた物品
WO2003095561A1 (fr) * 2002-05-13 2003-11-20 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Materiau en feuille de protection contre les rayons thermiques et additif liquide utilise pour produire celui-ci
AU2003235856B2 (en) * 2002-05-13 2009-01-29 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Heat ray shielding sheet material and liquid additive for use in producing the same
CN1329451C (zh) * 2002-05-13 2007-08-01 住友金属矿山株式会社 热线屏蔽树脂片材及其制造用添加液
US9074071B2 (en) 2002-05-13 2015-07-07 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Heat ray shielding sheet material and liquid additive for use in producing the same
US7666930B2 (en) 2002-07-31 2010-02-23 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Master batch containing heat radiation shielding component, and heat radiation shielding transparent resin form and heat radiation shielding transparent laminate for which the master batch has been used
JP2004162020A (ja) * 2002-09-25 2004-06-10 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線遮蔽成分分散体とその製造方法およびこの分散体を用いて得られる熱線遮蔽膜形成用塗布液と熱線遮蔽膜並びに熱線遮蔽樹脂成形体
US7238418B2 (en) 2002-09-25 2007-07-03 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Heat radiation shielding component dispersion, process for its preparation and heat radiation shielding film forming coating liquid, heat radiation shielding film and heat radiation shielding resin form which are obtained using the dispersion
WO2004065512A1 (ja) * 2003-01-23 2004-08-05 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 日射遮蔽体と日射遮蔽体形成用分散液
CN100334178C (zh) * 2003-01-23 2007-08-29 住友金属矿山株式会社 日照屏蔽体及日照屏蔽体形成用分散液
US7258923B2 (en) 2003-10-31 2007-08-21 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
JP2005179504A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Teijin Chem Ltd ハードコート層を有するポリカーボネート樹脂成形体
JP4700276B2 (ja) * 2003-12-19 2011-06-15 帝人化成株式会社 ハードコート層を有するポリカーボネート樹脂成形体
US7399571B2 (en) 2005-05-06 2008-07-15 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
US8900693B2 (en) 2005-07-13 2014-12-02 Sabic Global Technologies B.V. Polycarbonate compositions having infrared absorbance, method of manufacture, and articles prepared therefrom
JP2007191368A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体
JP4737419B2 (ja) * 2006-01-20 2011-08-03 住友金属鉱山株式会社 ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体
JP2007231145A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Achilles Corp 熱遮蔽性シート
JP2008066699A (ja) * 2006-08-10 2008-03-21 Kochi Univ Of Technology 透明電磁遮蔽膜
EP1944152A1 (en) 2007-01-11 2008-07-16 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Light-absorbing resin composition for use in laser welding, light-absorbing resin molded article, and method for manufacturing light-absorbing resin molded article
JP2009007434A (ja) * 2007-06-27 2009-01-15 Nagoya Institute Of Technology 希土類化合物熱光変換システム
JP2009298813A (ja) * 2007-07-30 2009-12-24 Yohei Tanaka 生体深部組織の近赤外線損傷の防止製品
JP2012121277A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Bridgestone Corp 熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラス
WO2013125563A1 (ja) 2012-02-22 2013-08-29 住友金属鉱山株式会社 複合タングステン酸化物微粒子分散ポリカーボネート樹脂組成物およびそれを用いた熱線遮蔽成形体並びに熱線遮蔽積層体
US9612366B2 (en) 2012-02-22 2017-04-04 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Composite tungsten oxide particle dispersion polycarbonate resin composition and heat-ray shielding sintered compact and heat-ray shielding laminate using the composition
KR20140129210A (ko) 2012-02-22 2014-11-06 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 복합 텅스텐 산화물 미립자 분산 폴리카보네이트 수지 조성물, 및 이를 이용한 열선 차폐 성형체 및 열선 차폐 적층체
WO2014010562A1 (ja) * 2012-07-13 2014-01-16 コニカミノルタ株式会社 赤外遮蔽フィルム
JPWO2014010562A1 (ja) * 2012-07-13 2016-06-23 コニカミノルタ株式会社 赤外遮蔽フィルム
JP2016515084A (ja) * 2013-02-25 2016-05-26 サン−ゴバン グラス フランス 赤外減衰コーティングを含む板ガラス配置
EP2958870A1 (de) * 2013-02-25 2015-12-30 Saint-Gobain Glass France Scheibenanordnung mit infrarotdämpfender beschichtung
EP2958870B1 (de) * 2013-02-25 2017-04-05 Saint-Gobain Glass France Scheibenanordnung mit infrarotdämpfender beschichtung
JP2016018156A (ja) * 2014-07-10 2016-02-01 旭硝子株式会社 近赤外線吸収構造体、および、その製造方法
US10934207B2 (en) 2014-08-29 2021-03-02 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Methods for producing an assembly of hexaboride fine particles
KR20170046774A (ko) 2014-08-29 2017-05-02 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 헥사보라이드 미립자의 집합체, 헥사보라이드 미립자 분산액, 헥사보라이드 미립자 분산체, 헥사보라이드 미립자 분산체를 갖는 적층 투명기재, 적외선 흡수 필름 및 적외선 흡수 유리
EP3868710A1 (en) 2014-08-29 2021-08-25 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Method to make an assembly of hexaboride particles
US10107948B2 (en) 2014-11-25 2018-10-23 Sabic Global Technologies B.V. Method and article for emitting radiation from a surface
US9913318B2 (en) 2014-11-25 2018-03-06 Sabic Global Technologies B.V. Method and device for heating a surface
US11248133B2 (en) 2015-01-27 2022-02-15 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US11021002B2 (en) 2015-01-27 2021-06-01 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US11084949B2 (en) 2015-01-27 2021-08-10 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
US10604665B2 (en) 2015-01-27 2020-03-31 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same, anti-counterfeit ink composition using near infrared absorbing fine particle dispersion liquid, and anti-counterfeit printed matter using near infrared absorbing fine particles
JP2016162500A (ja) * 2015-02-26 2016-09-05 住友金属鉱山株式会社 光熱変換層、ドナーシート
KR101666350B1 (ko) 2015-09-01 2016-10-17 한국화학연구원 탄화불소 박막을 포함하는 열차단 필름 및 이의 제조방법
KR20180100123A (ko) 2016-01-04 2018-09-07 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 붕화물 입자, 붕화물 입자 분산액, 적외선 차폐 투명 기재, 적외선 차폐 광학 부재, 적외선 차폐 입자 분산체, 적외선 차폐를 구비한 투명 기재, 적외선 차폐 입자 분산 분말 및 마스터 배치
US11312116B2 (en) 2016-01-04 2022-04-26 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Boride particles, boride particle dispersed liquid, infrared light shielding transparent base, infrared light shielding optical member, infrared light shielding particle dispersed body, infrared light shielding laminated transparent base, infrared light shielding particle dispersed powder, and master batch
JP2017218362A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 住友金属鉱山株式会社 ホウ化物粒子中の元素の選択方法及びホウ化物粒子の製造方法
JPWO2019021992A1 (ja) * 2017-07-24 2020-05-28 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収微粒子分散粉、赤外線吸収微粒子分散粉含有分散液、赤外線吸収微粒子分散粉含有インク、および偽造防止インク、並びに偽造防止用印刷物
WO2019021992A1 (ja) * 2017-07-24 2019-01-31 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収微粒子分散粉、赤外線吸収微粒子分散粉含有分散液、赤外線吸収微粒子分散粉含有インク、および偽造防止インク、並びに偽造防止用印刷物
JP7259748B2 (ja) 2017-07-24 2023-04-18 住友金属鉱山株式会社 赤外線吸収微粒子分散粉、赤外線吸収微粒子分散粉含有分散液、赤外線吸収微粒子分散粉含有インク、および偽造防止インク、並びに偽造防止用印刷物
IL272223B1 (en) * 2017-07-24 2023-09-01 Sumitomo Metal Mining Co Dispersion powder containing INFA red absorbent particles, dispersion liquid containing dispersion powder containing INFA red absorbent particles, ink containing dispersion powder containing INFA red absorbent particles, anti-counterfeiting ink, and anti-counterfeiting printed material
US11787949B2 (en) 2017-07-24 2023-10-17 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared absorbing fine particle dispersed powder, dispersion liquid containing infrared absorbing fine particle dispersed powder, ink containing infrared absorbing fine particle dispersed powder, and anti-counterfeit ink, and anti-counterfeit printed matter
CN109501396A (zh) * 2017-09-14 2019-03-22 东莞市荣腾纳米科技有限公司 一种导光隔热膜及其制备方法
CN109501396B (zh) * 2017-09-14 2021-06-22 东莞市荣腾纳米科技有限公司 一种导光隔热膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4096277B2 (ja) 2008-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000096034A (ja) 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜
JP4096278B2 (ja) 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜
JP4626284B2 (ja) 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、および日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子
AU736327B2 (en) Film for cutting off heat rays and a coating liquid for forming the same
JP4058822B2 (ja) 選択透過膜用塗布液、選択透過膜および選択透過多層膜
WO2005037932A1 (ja) 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
JP3262098B2 (ja) 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜
JP2007269523A (ja) 熱線遮蔽ガラス及びその製造方法
JP2005226008A (ja) 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法
US20090216492A1 (en) Solar radiation shielding member and solar radiation shielding member forming fluid dispersion
JP3744188B2 (ja) 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜
JP2003176132A (ja) 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物粒子および日射遮蔽膜形成用塗布液ならびに日射遮蔽膜
KR100471098B1 (ko) 열선차폐필름용코팅용액및이를사용하여열선차폐필름을제조하는방법
JP4058850B2 (ja) 日射フィルター膜形成用塗布液
JP2002194291A (ja) 日射遮蔽膜形成用塗布液の製造方法
US7247371B2 (en) Antimony tin oxide fine particles for sunlight shielding, and disperse liquid for formation of sunlight shielding solid, sunlight shielding solid, and transparent substrate for sunlight shielding using thereof
JP2008230954A (ja) 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材
JP2003215328A (ja) 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜
JPH10101375A (ja) 日射遮蔽膜用塗布液およびこれを用いた日射遮蔽膜
JP3915880B2 (ja) 日射遮蔽膜形成用微粒子の製造方法
JP4200424B2 (ja) 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材
JP2018077301A (ja) 近赤外線吸収性光学部材、およびこれを用いた画像表示デバイス
JP2002138271A (ja) 熱線遮蔽用微粒子の製造方法およびこの方法により製造された微粒子を用いた熱線遮蔽膜形成用塗布液の製造方法
JP2006249424A (ja) 選択透過膜用塗布液、選択透過膜および選択透過多層膜
JP2002201027A (ja) 日射遮蔽用インジウム錫酸化物微粒子とその製造方法およびこれを用いた塗布液および日射遮蔽膜

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051220

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20060206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071127

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080215

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080228

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110321

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110321

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120321

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130321

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130321

Year of fee payment: 5

EXPY Cancellation because of completion of term