JP2003215328A

JP2003215328A - 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜

Info

Publication number: JP2003215328A
Application number: JP2002010776A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Naganami; 武長南; Hiroko Kuno; 裕子久野
Original assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date: 2002-01-18
Filing date: 2002-01-18
Publication date: 2003-07-30

Abstract

(57)【要約】【課題】可視光透過率が高くて日射透過率が低く、し
かもヘイズ値が低い日射遮蔽膜の形成を可能とする日射
遮蔽用微粒子と日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽
膜を提供する。【解決手段】この日射遮蔽用微粒子は、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表
色系における粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*が−１０〜
−０．１、ｂ^*が−１４〜２０であり、かつ、比表面積
が５５ｍ²／ｇ以上であるインジウム錫酸化物微粒子で
構成されることを特徴とする。また、日射遮蔽膜形成用
塗布液は上記特性を有するインジウム錫酸化物微粒子が
含有されることを特徴とし、日射遮蔽膜は基材上に塗布
された上記日射遮蔽膜形成用塗布液を熱処理して得られ
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、車両、ビル、事務
所、一般住宅などの窓、電話ボックス、ショーウィンド
ー、照明用ランプ、透明ケースなど、ガラス、プラスチ
ックスその他日射遮蔽機能を必要とする透明基材に用い
る日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成
用塗布液および日射遮蔽膜に係り、特に、ヘイズ値の低
い日射遮蔽膜の形成を可能とする日射遮蔽用微粒子と日
射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜の改善に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】太陽光や電球などの外部光源から熱成分
を除去・減少する方法として、従来、ガラス表面に赤外
線を反射する材料からなる膜を形成して熱線反射ガラス
とすることが行われていた。その材料にはＦｅＯｘ、Ｃ
ｏＯｘ、ＣｒＯｘ、ＴｉＯｘなどの金属酸化物やＡｇ、
Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌなどの自由電子を多量にもつ金
属材料が選択されてきた。

【０００３】しかし、これらの材料では熱効果に大きく
寄与する赤外線以外に、可視光も同時に反射若しくは吸
収する性質があるため可視光透過率が低下する問題があ
った。そして、建材、乗り物、電話ボックスなどに用い
られる透明基材では可視光領域の高い透過率が必要とさ
れることから、上記材料を利用する場合は膜厚を非常に
薄くしなければならない。このため、スプレー焼付けや
ＣＶＤ法、あるいはスパッタ法や真空蒸着法などの物理
成膜法を用いて１０ｎｍレベルの薄膜に成膜して用いら
れることが通常行われてきた。

【０００４】しかしながら、これらの成膜方法は大がか
りな装置や真空設備を必要とし、生産性や大面積化に問
題があり、膜の製造コストが高いといった欠点がある。
また、これらの材料で日射遮蔽特性（波長域３００〜２
１００ｎｍの光を遮蔽する特性）を高くしようとする
と、可視光領域の反射率も同時に高くなってしまう傾向
があり、鏡のようなギラギラした外観を与えて美観を損
ねてしまう。更に、これらの材料では膜の導電性が高い
ものが多く、膜の導電性が高いと携帯電話やＴＶ、ラジ
オなどの電波を反射して受信不能になったり、周辺地域
に電波障害を引き起こすなどの問題がある。

【０００５】このような従来の欠点を改善するには、膜
の物理特性として、可視光領域の光の反射率が低くて赤
外線領域の反射率が高く、かつ膜の導電性が概ね１０⁶
Ω/□以上に制御可能な膜を形成する必要があった。

【０００６】ところで、可視光透過率が高くしかも優れ
た日射遮蔽機能を持つ材料として、アンチモン錫酸化物
やインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと略す）が知られ
ている。そして、これらの材料は可視光反射率が比較的
低くギラギラした外観を与えることはない。但し、プラ
ズマ周波数が近赤外線領域にあるために可視光に近い近
赤外域におけるこれらの膜の反射・吸収効果が十分でな
かった。

【０００７】そこで、不活性ガスあるいは弱還元性ガス
中で熱処理した特定の色のＩＴＯ粉末を用いることによ
り、可視光に近い近赤外域の光も反射・吸収できるよう
にした方法が、特開平７−６９６３２号公報、特開平８
−４１４４１号に提案されている。そして、この方法に
よれば、高い可視光透過率を維持しつつ、低い日射透過
率が得られている。しかし、１％を下回るようなヘイズ
値の膜を形成するような材料は未だ実現されていなかっ
た。

【０００８】上記ヘイズ値は、全透過光に対する拡散透
過光の割合であり、この値が高いと人間の目には曇って
見える。したがって、透明性が要求される窓材、特によ
り透明性を必要とする車両用途では、１％を下回るヘイ
ズ値の膜が望まれていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこの様な問題
点に着目してなされたもので、その課題とするところ
は、可視光透過率が高くて日射透過率が低く、しかもヘ
イズ値が１％を下回る程度の低い日射遮蔽膜の形成を可
能とする日射遮蔽用微粒子を提供することにあり、更に
は高コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布法で成膜
できる日射遮蔽膜形成用塗布液と、これを用いた日射遮
蔽膜を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
するため本発明者等が鋭意研究を行ったところ、特定の
粉体色を有し、かつ高比表面積のＩＴＯ微粒子を高度に
分散した膜の作製によって可視光領域に透過率の極大を
持つと共に、可視光領域に近い近赤外域に強いプラズマ
吸収を発現して透過率の極小を持ち、かつ、ヘイズ値が
極めて低くなるという現象を見出すに至り本発明を完成
した。ここで、特定の粉体色は、国際照明委員会（ＣＩ
Ｅ）が推奨しているＬ^*ａ^*ｂ^*表色系（ＪＩＳＺ８７
２９）における粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*が−１０
〜−０．１、ｂ^*が−１４〜２０であり、また、微粒子
の比表面積は５５ｍ²／ｇ以上である。

【００１１】すなわち、請求項１に係る発明は、日射遮
蔽用微粒子を前提とし、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系における粉体
色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*が−１０〜−０．１、ｂ^*が
−１４〜２０であり、かつ、比表面積が５５ｍ²／ｇ以
上であるインジウム錫酸化物微粒子で構成されることを
特徴とする。

【００１２】次に、請求項２に係る発明は、日射遮蔽膜
を形成するための日射遮蔽膜形成用塗布液を前提とし、
請求項１記載の日射遮蔽用微粒子が溶媒中に分散されて
いることを特徴とし、請求項３に係る発明は、請求項２
記載の発明に係る日射遮蔽膜形成用塗布液を前提とし、
バインダー成分として、無機バインダーまたは樹脂バイ
ンダーが含有されることを特徴とするものである。

【００１３】また、請求項４に係る発明は、基材上に塗
布された日射遮蔽膜形成用塗布液を熱処理して形成され
る日射遮蔽膜を前提とし、上記日射遮蔽膜形成用塗布液
が請求項２または３記載の日射遮蔽膜形成用塗布液で構
成されていることを特徴とし、請求項５に係る発明は、
請求項４記載の日射遮蔽膜上に、珪素、ジルコニウム、
チタン若しくはアルミニウムの酸化物膜が形成されてい
ることを特徴とし、請求項６に係る発明は、請求項４ま
たは５記載の発明に係る日射遮蔽膜を前提とし、可視光
透過率８０％以上のときの波長域３００〜２１００ｎｍ
における日射透過率が６０％未満で、かつ、ヘーズ値が
１％未満であることを特徴とする。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００１５】まず、本発明に係る日射遮蔽用微粒子を構
成するＩＴＯ微粒子において、元素換算での錫含有量
は、原則任意であるが可能なら１〜１５重量％が好まし
い。１重量％未満では錫の添加効果が見られないことが
あり、１５重量％を超えると錫の固溶が不十分となるこ
とがあるからである。また、上記ＩＴＯ微粒子の比表面
積は上述したように５５ｍ²／ｇ以上であることを要す
る。５５ｍ²／ｇ未満では所望とする上記光学特性が得
られらないからである。

【００１６】また、本発明に係る日射遮蔽用微粒子を構
成するＩＴＯ微粒子の粉体色は、上述したようにＬ^*ａ^*
ｂ^*表色系における粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*が−
１０〜−０．１、ｂ^*が−１４〜２０であることを要す
るが、その理由は以下に説明する。

【００１７】一般的な光と物質内の電子の相互作用につ
いて説明すると、ある物質には固有のプラズマ周波数が
あってこの周波数より長波長の光は反射され、短波長の
光は透過されることが知られている。

【００１８】プラズマ周波数ω_pは以下の式（１）で表
される。

【００１９】ω_p ²＝ｎｑ²／εｍ（１）ここで、ｎは伝導電子密度、ｑは電子の電荷、εは誘電
率、ｍは電子の有効質量である。

【００２０】一般に、伝導電子密度が増加するとプラズ
マ周波数が大きくなるため、短波長側の光まで反射され
ることになる。伝導電子密度は金属で１０²²／ｃｍ
³台、ＩＴＯで１０²¹／ｃｍ³台であるため、金属では可
視光領域からすでに反射率が高いが、ＩＴＯでは、可視
光線は透過し近赤外線域から反射率が高くなるため、日
射遮蔽膜として用いることができる。

【００２１】特開平８−４１４４１号にも記載されてい
るように、ＩＴＯ微粒子をアルコール含有不活性ガス、
若しくは還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスで処理す
ると、その粉体色が黄色→黄緑色→淡青色→濃青色→暗
青色→黒色と変化すると同時に、その圧粉抵抗も減少す
る。これは、ＩＴＯを前記のようなガスで処理すること
によって空孔が生じ、この空孔が錫と同様にｎ型半導体
である酸化インジウムに対してドナーとして働くために
空孔の増加によって自由電子が増加したと考えられ、粉
体色と伝導電子密度、つまりプラズマ周波数とは深い関
係があることが予想されている。

【００２２】そこで、ＩＴＯ微粒子の粉体色および比表
面積と、成膜したときの日射透過率との関係を詳しく調
査して高日射遮蔽を達成するための条件を求めたとこ
ろ、比表面積５５ｍ²／ｇ以上のＩＴＯ微粒子における
Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系による粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*
が−１０〜−０．１、ｂ^*が−１４〜２０となると、高
い可視光透過率を維持しつつ日射透過率が６０％未満と
低くなり、しかもヘイズ値が１％未満となることが確認
された。

【００２３】次に、本発明に係る日射遮蔽膜形成用塗布
液は、ＩＴＯ微粒子を溶媒中に分散したものであるが、
溶媒は特に限定されるものではなく、塗布条件、塗布環
境、および無機バインダーや樹脂バインダーを含有させ
たときはバインダー成分に合わせて適宜選択する。例え
ば、水やエタノール、プロパノール、ブタノール、イソ
プロピルアルコール、イソブチルアルコール、ジアセト
ンアルコールなどのアルコール類、メチルエーテル,エ
チルエーテル,プロピルエーテルなどのエーテル類、エ
ステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、シクロヘキサノン、イソブチルケトンなどのケト
ン類といった各種の有機溶媒が使用可能であり、また必
要に応じて酸やアルカリを添加してｐＨ調整してもよ
い。さらに、塗布液中の微粒子の分散安定性を一層向上
させるため、各種の界面活性剤、カップリング剤などの
添加も勿論可能である。

【００２４】また、無機バインダーや樹脂バインダーの
種類は特に限定されるものではないが、無機バインダー
としては、珪素、ジルコニウム、チタン、若しくはアル
ミニウムの金属アルコキシドやこれらの部分加水分解縮
重合物あるいはオルガノシラザンが利用でき、樹脂バイ
ンダーとしてはアクリル樹脂などの熱可塑性樹脂、エポ
キシ樹脂などの熱硬化性樹脂などが利用できる。

【００２５】次に、ＩＴＯ微粒子を溶媒中に分散させる
方法は、塗布液中に均一に分散する方法であれば特に限
定されず、例えばビーズミル、ボールミル、サンドミ
ル、ペイントシェーカー、超音波ホモジナイザーなどが
挙げられる。

【００２６】この塗布液を用いて膜を形成したときの膜
の導電性は、ＩＴＯ微粒子の接触個所を経由した導電パ
スに沿って行われるため、例えば、界面活性剤やカップ
リング剤の量を加減することで導電パスを部分的に切断
することができ、膜の導電性を１０⁶Ω/□以上の表面抵
抗値へ低下させることは容易である。また、無機バイン
ダーあるいは樹脂バインダーの含有量の加減によっても
導電性を制御できる。

【００２７】次に、本発明に係る日射遮蔽膜は、基材上
に日射遮蔽用微粒子を構成する上記ＩＴＯ微粒子が高密
度に堆積して膜を形成するものであり、塗布液中に含ま
れる樹脂バインダーまたは無機バインダーは、塗布、硬
化後にＩＴＯ微粒子の基材への密着性を向上させ、さら
に膜の硬度を向上させる効果がある。また、このように
して得られた膜上に、さらに珪素、ジルコニウム、チタ
ン、若しくはアルミニウムの金属アルコキシド、これら
の部分加水分解縮重合物からなる被膜を第２層として被
着し、珪素、ジルコニウム、チタン、若しくはアルミニ
ウムの酸化物膜を形成することで、ＩＴＯ微粒子を主成
分とする膜の基材へ結着力や膜の硬度、耐候性を一層向
上させることができる。

【００２８】また、塗布液中に樹脂バインダーまたは無
機バインダーを含まない場合に得られる膜は、基材上に
上記ＩＴＯ微粒子のみが堆積した膜構造になる。このま
までも日射遮蔽効果を示すが、この膜上にさらに珪素、
ジルコニウム、チタン、若しくはアルミニウムの金属ア
ルコキシドやこれらの部分加水分解縮重合物などの無機
バインダーまたは樹脂バインダーを含む塗布液を塗布し
て被膜を形成して多層膜とするとよい。このようにする
ことにより、塗布液成分が第１層のＩＴＯ微粒子の堆積
した間隙を埋めて成膜されるため、膜のヘイズが低減し
て可視光透過率が向上し、また微粒子の基材への結着性
が向上する。

【００２９】上記ＩＴＯ微粒子のみが堆積した膜上ある
いはＩＴＯ微粒子を主成分とする膜上に、珪素、ジルコ
ニウム、チタン、若しくはアルミニウムの金属アルコキ
シドやこれらの部分加水分解縮重合物からなる被膜で結
着する方法としては、成膜工程の容易さやコストの観点
から塗布法が有効である。塗布液は、水やアルコール中
に珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウムの金属ア
ルコキシドやこれらの部分加水分解縮重合物を１種若し
くは２種以上含むものであり、その含有量は加熱後に得
られる酸化物換算で全溶液中の４０重量％以下が好まし
い。また、必要に応じて酸やアルカリを添加してｐＨ調
整することも可能である。このような液をＩＴＯ微粒子
を主成分とする膜上にさらに第２層として塗布し加熱す
ることで、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム
などの酸化物被膜を容易に作製することが可能である。
さらには、本発明の塗布液に使用するバインダー成分と
して、あるいはオーバーコート用の塗布液として、オル
ガノシラザン溶液を用いてもよい。

【００３０】本発明に係る塗布液の塗布方法および本発
明で用いる酸化物被膜などの被膜形成用の塗布方法は特
に限定されない。例えば、スピンコート法、バーコート
法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン
印刷法、ロールコート法、流し塗りなど、処理液を平坦
かつ薄く均一に塗布できる方法であればいずれの方法で
もよい。

【００３１】そして、無機バインダーとして、珪素、ジ
ルコニウム、チタン、若しくはアルミニウムの金属アル
コキシドおよびその加水分解重合物を含む塗布液の塗布
後における基材加熱温度は、１００℃未満では塗膜中に
含まれるアルコキシドまたはその加水分解重合物の重合
反応が未完結で残る場合が多く、また水や有機溶媒が膜
中に残留して加熱後の膜の可視光透過率の低減の原因と
なるので、１００℃以上が好ましく、さらに好ましくは
塗布液中の溶媒の沸点以上で加熱を行う。

【００３２】また、樹脂バインダーを使用した場合は、
それぞれの硬化方法に従って硬化させればよい。例え
ば、紫外線硬化樹脂であれば紫外線を適宜照射すればよ
く、また常温硬化樹脂であれば塗布後そのまま放置して
おけばよい。このため、既存の窓ガラスなどへの現場で
の塗布が可能である。

【００３３】そして、本発明に係る日射遮蔽膜ではＩＴ
Ｏ微粒子が分散しているため、物理成膜法により製造さ
れた酸化物薄膜のように結晶が緻密に膜内を埋めた鏡面
状表面をもつ膜に比べると可視光領域での反射が少な
く、ギラギラした外観を呈することが回避できる。ま
た、その一方で、上記のように可視から近赤外域にプラ
ズマ周波数をもつため、これに伴うプラズマ反射が近赤
外域で大きくなる。

【００３４】また、可視光領域の反射をさらに抑制した
い場合には、本発明に係る日射遮蔽膜上に、ＳｉＯ₂や
ＭｇＦ₂のような低屈折率の膜を成膜することにより容
易に視感反射率１％以下の多層膜を得ることができる。

【００３５】また、本発明に係る日射遮蔽用微粒子、塗
布液、日射遮蔽膜のさらなる紫外線遮蔽機能を付与させ
るため、無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウム
などの微粒子や、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリ
アゾールなどの１種若しくは２種以上を添加してもよ
い。

【００３６】本発明によれば、上述した特性を有するＩ
ＴＯ微粒子を日射遮蔽用微粒子として用いることによっ
て日射遮蔽効果を発揮する日射遮蔽膜の製造が可能であ
るが、このＩＴＯ微粒子は無機材料であるので有機材料
と比べて耐候性は非常に高く、例えば太陽光線（紫外
線）の当たる部位に使用しても色や諸機能の劣化はほと
んど生じない。また、本発明に係る日射遮蔽膜形成用塗
布液は、焼成時の熱による塗布成分の分解あるいは化学
反応を利用して上記日射遮蔽膜を形成するものではない
ため、特性の安定した均一な膜厚の透過膜を形成するこ
とができる。

【００３７】

【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるもので
ない。

【００３８】尚、得られた日射遮蔽膜の可視光透過率や
日射透過率および粉体の色彩（標準光源Ｃ,１０°視
野）は日立製作所（株）製の分光光度計Ｕ−４０００を
用いて測定した。また、ヘーズ値は村上色彩技術研究所
（株）製ＨＲ−２００を用いて測定した。膜評価におい
ては線径の異なる３種のバーコーターで成膜し、得られ
た膜厚が異なる３種類の膜の可視光透過率、日射透過
率、ヘーズ値をそれぞれ測定し、可視光透過率８４％の
ときの日射透過率およびヘーズ値を３点プロットから求
めた。

【００３９】ＩＴＯの選定日射遮蔽用微粒子として適用するＩＴＯ粒子の選定のた
めに、以下の表１に示すような粉体色と比表面積を有す
る種々のＩＴＯ粒子を準備した。

【００４０】尚、表１において、ａ〜ｅが実施例に係る
ＩＴＯ微粒子であり、ｆ〜ｌが比較例に係るＩＴＯ微粒
子である。

【００４１】

【表１】次に、上記ＩＴＯ微粒子を用いて形成した実施例ならび
に比較例に係る日射遮蔽膜について光学特性を評価した
結果について述べる。

【００４２】［実施例１］表１のａのＩＴＯ微粒子２０
重量％、メチルイソブチルケトン６３．３重量％、分散
剤１６．７重量％を、充填率６３％相当の０．３ｍｍジ
ルコニアビーズを入れたペイントシェーカーで１２時間
分散した。

【００４３】次に、得られた分散液６７．５重量％、バ
インダーとしてメチルイソブチルケトンに溶解したアク
リル樹脂溶液２７．５重量％および硬化剤５重量％から
成る塗布液を、番手４０，２４，６のバーでそれぞれ１
００ｍｍ×１００ｍｍ×３ｍｍのソーダライムガラス基
板に塗布した後、１８０℃で１時間焼成して日射遮蔽膜
Ａを得た。表２に示すように、日射遮蔽膜Ａの日射透過
率およびヘーズ値はそれぞれ５８％、０．３％であっ
た。

【００４４】［実施例２〜実施例５および比較例１〜比
較例７］同様に、表１に示すｂ〜ｌのＩＴＯ微粒子を用
いた以外は、実施例１と同様にして、それぞれ日射遮蔽
膜Ｂ（実施例２）、日射遮蔽膜Ｃ（実施例３）、日射遮
蔽膜Ｄ（実施例４）、日射遮蔽膜Ｅ（実施例５）、日射
遮蔽膜Ｆ（比較例１）、日射遮蔽膜Ｇ（比較例２）、日
射遮蔽膜Ｈ（比較例３）、日射遮蔽膜Ｉ（比較例４）、
日射遮蔽膜Ｊ（比較例５）、日射遮蔽膜Ｋ（比較例
６）、および、日射遮蔽膜Ｌ（比較例７）を得た。

【００４５】そして、以下の表２に示すように、実施例
１〜実施例５はいずれも日射透過率が６０％未満で、か
つヘイズ値は１％未満であった。一方、比較例１〜比較
例７はいずれも日射透過率が６０％を越えるものであ
り、かつ、比較例４のヘーズ値は１１であった。

【００４６】

【表２】

【００４７】

【発明の効果】本発明に係る日射遮蔽用微粒子は、Ｌ^*
ａ^*ｂ^*表色系における粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ^*が
−１０〜−０．１、ｂ^*が−１４〜２０であり、かつ、
比表面積が５５ｍ²／ｇ以上であるインジウム錫酸化物
微粒子で構成されるため、可視光透過率が高くて日射透
過率が低く、しかもヘイズ値が１％を下回る程度の低い
日射遮蔽膜の形成を可能とする効果を有する。

【００４８】また、この日射遮蔽用微粒子を含有させる
ことにより高コストの物理成膜法を用いずに簡便な塗布
法で成膜できる日射遮蔽膜形成用塗布液を提供でき、か
つ、この日射遮蔽膜形成用塗布液を用いた上記日射遮蔽
膜を提供できる効果を有する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０９Ｄ 201/00 Ｃ０９Ｄ 201/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＺＦターム(参考） 2H048 FA01 FA04 FA05 FA07 FA09 FA13 FA21 2K009 BB02 CC03 CC09 CC24 DD02 DD06 EE00 EE01 EE03 4G059 AA01 AC06 EA03 EA18 EB09 4J038 CG141 DB001 DL171 DM001 EA011 HA216 KA12 KA20 MA10 NA19

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】日射遮蔽用微粒子において、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系における粉体色のＬ^*が５２〜８０、ａ
^*が−１０〜−０．１、ｂ^*が−１４〜２０であり、か
つ、比表面積が５５ｍ²／ｇ以上であるインジウム錫酸
化物微粒子で構成されることを特徴とする日射遮蔽用微
粒子。
【請求項２】日射遮蔽膜を形成するための日射遮蔽膜形
成用塗布液において、請求項１記載の日射遮蔽用微粒子が溶媒中に分散されて
いることを特徴とする日射遮蔽膜形成用塗布液。
【請求項３】バインダー成分として、無機バインダーま
たは樹脂バインダーが含有されることを特徴とする請求
項２記載の日射遮蔽膜形成用塗布液。
【請求項４】基材上に塗布された日射遮蔽膜形成用塗布
液を熱処理して形成される日射遮蔽膜において、上記日射遮蔽膜形成用塗布液が請求項２または３記載の
日射遮蔽膜形成用塗布液で構成されていることを特徴と
する日射遮蔽膜。
【請求項５】請求項４記載の日射遮蔽膜上に、珪素、ジ
ルコニウム、チタン若しくはアルミニウムの酸化物膜が
形成されていることを特徴とする日射遮蔽膜。
【請求項６】可視光透過率８０％以上のときの波長域３
００〜２１００ｎｍにおける日射透過率が６０％未満
で、かつ、ヘーズ値が１％未満であることを特徴とする
請求項４または５記載の日射遮蔽膜。