JP2003327917A - 日射遮蔽材料の製造方法とこの日射遮蔽材料を用いた塗布液並びに日射遮蔽膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 日射透過率とヘイズ値の低い日射遮蔽膜を可
能とする日射遮蔽材料の製造方法とこの材料を用いた塗
布液、日射遮蔽膜を提供する。 【解決手段】 この製造法は、元素換算でSn含有量が5
重量％以上12重量％未満の錫化合物とインジウム化合物
を含有し50℃以下に調整された混合溶液にアルカリ溶液
を30分未満の条件で滴下すると共に攪拌しながら熟成さ
せて沈澱物を得る工程、デカンテーションにて残留する
塩素不純物量が0.2重量％以下となるよう上記沈澱物を
洗浄した後、乾燥して比表面積が100ｍ²／ｇを超えるイ
ンジウムと錫から成る水酸化物を得る工程、この水酸化
物を還元性ガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気下にお
いて攪拌しながら25分未満の条件で加熱処理した後、空
気中で酸化させて比表面積が50ｍ²／ｇ以上のインジウ
ム錫酸化物微粒子から成る日射遮蔽材料を得る工程を具
備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、車両、ビル、事務
所、一般住宅などの窓、電話ボックス、ショーウィンド
ー、照明用ランプ、透明ケースなど、ガラス、プラスチ
ックスその他の日射遮蔽機能を必要とする透明基材に適
用される日射遮蔽材料に係り、特に、可視光透過率が８
０％以上の高い領域でも日射透過率が低くしかもヘイズ
値の低い日射遮蔽膜の形成を可能とする日射遮蔽材料の
製造方法とこの日射遮蔽材料を用いた塗布液並びに日射
遮蔽膜に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】太陽光や電球などの外部光源から熱成分
を除去・減少する方法として、従来、ガラス表面に赤外
線を反射する材料からなる膜を形成して熱線反射ガラス
とすることが行われていた。その材料にはＦｅＯｘ、Ｃ
ｏＯｘ、ＣｒＯｘ、ＴｉＯｘなどの金属酸化物やＡｇ、
Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌなどの自由電子を多量にもつ金
属材料が選択されてきた。

【０００３】しかし、これらの材料では熱効果に大きく
寄与する赤外線以外に、可視光も同時に反射もしくは吸
収する性質があるため可視光透過率が低下する問題があ
った。そして、建材、乗り物、電話ボックスなどに用い
られる透明基材では可視光領域の高い透過率が必要とさ
れることから、上記材料を利用する場合は膜厚を非常に
薄くしなければならない。このため、スプレー焼付けや
ＣＶＤ法、あるいはスパッタ法や真空蒸着法などの物理
成膜法を用いて１０ｎｍレベルの薄膜に成膜して用いら
れることが通常行われてきた。

【０００４】しかしながら、これらの成膜方法は大がか
りな装置や真空設備を必要とし、生産性や大面積化に問
題があり、膜の製造コストが高いといった欠点がある。
また、これ等材料で日射遮蔽特性（波長域３００〜２１
００ｎｍの光を遮蔽する特性）を高くしようとすると、
可視光領域の反射率も同時に高くなってしまう傾向があ
り、鏡のようなギラギラした外観を与えて美観を損ねて
しまう。更に、これらの材料では膜の導電性が高いもの
が多く、膜の導電性が高いと携帯電話やＴＶ、ラジオな
どの電波を反射して受信不能になったり、周辺地域に電
波障害を引き起こすなどの問題がある。

【０００５】このような従来の欠点を改善するには、膜
の物理特性として、可視光領域の光の反射率が低くて赤
外線領域の反射率が高く、かつ膜の表面抵抗が概ね１０
⁶Ω/□以上の膜を形成する必要があった。

【０００６】ところで、可視光透過率が高くしかも優れ
た日射遮蔽機能を持つ材料の一つとしてインジウム錫酸
化物（以下、ＩＴＯと略す）が知られている。

【０００７】そして、この日射遮蔽機能を有するＩＴＯ
を得る方法として、一般的にはインジウム塩と錫塩の混
合水溶液に沈澱剤を添加して共沈させ、この沈殿物を乾
燥焼成する方法（共沈法）が知られている。例えば、特
開平７−６９６３２号公報にはＩＴＯ粉末をさらに加圧
不活性ガス中で熱処理する方法が、特開平５−２４８３
７号公報にはアルコ−ル雰囲気下で加熱処理する方法
が、特許第３１２２３７５号公報には錫塩およびインジ
ウム塩の混合溶液を３０℃以下に保持しながらアルカリ
水溶液を反応系のｐＨが最終的に５．０〜９．０となる
ように、０．５〜１２時間の添加時間で添加して得られ
た水和物を不活性ガス雰囲気下あるいは還元性ガス雰囲
気下で加熱処理する方法等が提案されている。更に、特
開平７−２１８３１号公報には２種以上の遷移金属の組
合せから成る導電性酸化物原料を加圧不活性ガス中で熱
処理する方法が、特許第３１７５２１２号公報にはアル
コール雰囲気下で加熱処理する方法が提案されている。

【０００８】しかしながら、これ等の方法ではＩＴＯに
対し所望とする脱酸素を施すための還元処理に要する時
間が１時間以上と長く生産効率が悪い欠点があった。

【０００９】また、これ等方法で得られたＩＴＯ粉末を
用いて形成した膜では、８０％以上の高い可視光透過率
を維持しつつ、６０％以下の低い日射透過率でかつ１％
を下回るような低ヘイズ値の膜を形成するような材料は
未だ実現されていなかった。

【００１０】上記ヘイズ値は、全透過光に対する拡散透
過光の割合であり、この値が高いと人間の目には曇って
見える。したがって、透明性を要求される窓材、特によ
り透明性を必要とする車両用途では、１％を下回る低ヘ
イズ値の膜が望まれていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
とするところは、可視光透過率が８０％以上の高い領域
でも日射透過率が低くしかもヘイズ値が低い日射遮蔽材
料についてその生産性に優れた製造方法を確立すること
にあり、更には高コストの物理成膜法を用いずに簡便な
塗布法で日射遮蔽膜を形成できる塗布液とこれを用いた
日射遮蔽膜を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】そして、上記目的を達成
するため本発明者等が鋭意研究を継続した結果、所望と
する脱酸素を施すための還元処理に要する時間が長くか
かる等の弊害原因として、上記共沈法で得られた沈殿物
内に含まれる不純物、特に残留する塩素不純物にあるこ
とを見出すに至った。

【００１３】すなわち、共沈法で得られた沈殿物をデカ
ンテーションにより洗浄して残留する塩素不純物量が
０．２重量％以下となるよう調製することで上記還元処
理時間の短縮が可能となり、更に、このような洗浄処理
を施して得られた日射遮蔽材料を分散した膜若しくは成
形体においては、可視光領域に透過率の極大を持つと共
に可視光領域に近い近赤外域に強いプラズマ吸収を発現
して透過率の極小を持ちかつヘイズ値が極めて低くなる
という現象を見出すに至った。

【００１４】本発明はこのような技術的発見に基づき完
成されたものである。

【００１５】すなわち、請求項１に係る発明は、インジ
ウム錫酸化物微粒子で構成される日射遮蔽材料の製造方
法を前提とし、元素換算でＳｎ含有量が５重量％以上１
２重量％未満の錫化合物とインジウム化合物を含有しか
つ５０℃以下の温度に調整された原料混合溶液にアルカ
リ溶液を滴下時間３０分未満の条件で滴下すると共に継
続的に攪拌しながら熟成させて沈澱物を得る工程と、残
留する塩素不純物量が０．２重量％以下となるよう上記
沈澱物をデカンテーションにより洗浄した後、乾燥して
比表面積が１００ｍ²／ｇを超えるインジウムと錫から
成る水酸化物を得る工程と、この水酸化物を還元性ガス
と不活性ガスとの混合ガス雰囲気下において攪拌しなが
ら２５分未満の条件で加熱処理した後、空気中で酸化さ
せて比表面積が５０ｍ²／ｇ以上のインジウム錫酸化物
微粒子から成る日射遮蔽材料を得る工程、を具備するこ
とを特徴とするものである。

【００１６】また、請求項２に係る発明は、溶媒中に日
射遮蔽材料が分散した日射遮蔽膜形成用塗布液を前提と
し、上記日射遮蔽材料が請求項１記載の日射遮蔽材料で
構成されかつその固形分濃度が３０重量％以下であるこ
とを特徴とし、請求項３に係る発明は、請求項２記載の
発明に係る日射遮蔽膜形成用塗布液を前提とし、無機バ
インダー若しくは樹脂バインダーが含まれていることを
特徴とする。

【００１７】次に、請求項４に係る発明は、日射遮蔽材
料が分散した日射遮蔽膜を前提とし、上記日射遮蔽材料
が請求項１記載の日射遮蔽材料で構成されていることを
特徴とし、請求項５に係る発明は、請求項４記載の発明
に係る日射遮蔽膜を前提とし、可視光透過率８０％以上
のときの波長域３００〜２１００ｎｍにおける日射透過
率が６０％未満で、かつ、ヘイズ値が１％未満であるこ
とを特徴とするものである。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、具体的に説明する。

【００１９】まず、本発明に係る日射遮蔽材料の製造方
法は、元素換算でＳｎ含有量が５重量％以上１２重量％
未満の錫化合物とインジウム化合物を含有しかつ５０℃
以下の温度に調整された原料混合溶液にアルカリ溶液を
滴下時間３０分未満の条件で滴下すると共に継続的に攪
拌しながら熟成させて沈澱物を得る工程と、残留する塩
素不純物量が０．２重量％以下となるよう上記沈澱物を
デカンテーションにより洗浄した後、乾燥して比表面積
が１００ｍ²／ｇを超えるインジウムと錫から成る水酸
化物を得る工程と、この水酸化物を還元性ガスと不活性
ガスとの混合ガス雰囲気下において攪拌しながら２５分
未満の条件で加熱処理した後、空気中で酸化させて比表
面積が５０ｍ²／ｇ以上のインジウム錫酸化物微粒子か
ら成る日射遮蔽材料を得る工程を具備することを特徴と
するものである。

【００２０】ここで、本発明において適用されるインジ
ウム化合物および錫化合物は特に限定されるものでな
く、例えば、硝酸インジウム、塩化インジウム、塩化
錫、硝酸錫などが挙げられる。また、錫化合物における
錫含有量は、元素換算での５重量％以上１２重量％未満
である。５重量％未満では所望の光学特性が得られず、
他方１２重量％を超えると錫が固溶せず、錫の添加効果
が発揮されないからである。

【００２１】次に、本発明で用いるアルカリ溶液も特に
限定されず、例えば、炭酸水素アンモニウム、水酸化ア
ンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの
各水溶液が挙げられる。また、濃度は、各塩が水酸化物
となるに必要な化学当量以上、好ましくはアルカリ残留
による洗浄時間の観点から当量〜１．５倍過剰量とす
る。このときの溶液温度は５０℃以下とする。下限は得
られるＩＴＯ微粒子の特性から特に限定されないが、低
すぎると新たに冷却装置などが必要になってくることか
らそのような装置を要しない温度とすることが好まし
い。他方、５０℃を越えると水酸化物粒子の成長によっ
て所望の光学特性が得られないため５０℃以下とする必
要がある。アルカリ溶液の滴下時間は、生産性の観点か
ら３０分未満、好ましくは２５分以下とする。終了後、
系内の均一化を図るために継続的に攪拌しながら熟成を
行うが、そのときの温度は共沈温度と同温とする。ま
た、時間は特に限定されないが、生産性の観点から３０
分以下、好ましくは１５分以下であるとよい。

【００２２】次に、熟成させて得られた沈澱物はデカン
テ−ションにより塩素イオンの残留不純物量が０．２重
量％以下となるよう十分洗浄した後、乾燥する。上記残
留不純物量（塩素不純物量）が０．２重量％を超える
と、還元処理において残留不純物が還元阻害因子となる
ため、所望の光学特性を得るためには還元時間を長くす
る必要があり生産効率を悪化させる弊害を生じ、また、
還元時間を短くすると所望の光学特性が得られなくなる
弊害を生ずる。尚、上記塩素不純物量の下限については
任意であり、洗浄に要する時間や光学特性の観点から適
宜設定される。また、洗浄処理後の乾燥温度やその時間
は特に限定されるものではない。ここで、上記沈澱物中
には塩素イオン以外に、例えば、硝酸イオンや硫酸イオ
ンも残留することがあるが、硝酸イオンについては水酸
化物の加熱処理において熱分解により除去され易く、ま
た、硫酸イオンについてはデカンテ−ションによる洗浄
処理にて塩素イオンと同程度若しくはより完全に除去さ
れていると考えられることから、これ等硝酸イオンや硫
酸イオンの残留不純物量についての測定は任意であり、
かつ、塩素イオンの残留不純物量（塩素不純物量）が
０．２重量％以下であることを条件に上述した弊害を解
消することが可能である。

【００２３】次に、乾燥処理された水酸化物については
特定の粉体色にするため還元処理を施す。特定の粉体色
にするための処理法は、窒素、アルゴン、ヘリウムなど
の不活性ガス単独またはこれらが混合されたガスと還元
性ガスとの混合ガスを供給する。このときの処理温度
は、所望とする高比表面積値を有する微粒子、光学特性
および生産効率の観点から下限は２００℃以上が好まし
い。一方、上限は、４００℃を越えても格段の効果が得
られず、また高温になるほど粒成長による光学特性の低
下が懸念されることから、４００℃以下が好ましい。こ
のときの還元時間は温度に応じて所望とする粉体色とな
るよう適宜選択され、上記洗浄処理により塩素不純物量
が０．２重量％以下となることにより２５分未満とする
ことが可能となる。この後、空気中で酸化させて比表面
積が５０ｍ²／ｇ以上のインジウム錫酸化物微粒子から
成る日射遮蔽材料が得られる。そして、このようにして
得られた日射遮蔽材料を用いた日射遮蔽膜はそのヘイズ
値も極端に低くなる。

【００２４】また、本発明に係る塗布液は上記日射遮蔽
材料を溶媒中にその固形分濃度が３０重量％以下、好ま
しくは１５重量％以下となるように分散したものであ
る。固形分濃度が高くなるほどコスト高となるため、所
望とする日射遮蔽特性との兼ね合いから上述したように
３０重量％以下、好ましくは１５重量％以下となるよう
に調整する。また、上記日射遮蔽材料が分散される溶媒
は特に限定されるものではなく、塗布条件、塗布環境、
および無機バインダーや樹脂バインダ−を含有させたと
きはバインダーに合わせて適宜選択する。例えば、水や
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロピル
アルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、ジアセトンアルコ
−ルなどのアルコ−ル類、メチルエ−テル,エチルエ−
テル,プロピルエ−テルなどのエ−テル類、エステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、
シクロヘキサノン、イソブチルケトンなどのケトン類と
いった各種の有機溶媒が使用可能であり、また必要に応
じて酸やアルカリを添加してｐＨ調整してもよい。さら
に、塗布液中の微粒子の分散安定性を一層向上させるた
め各種の界面活性剤、カップリング剤などの添加も勿論
可能である。

【００２５】また、必要に応じて配合される無機バイン
ダーや樹脂バインダ−についてその種類は特に限定され
るものではない。例えば、無機バインダーとして、珪
素、ジルコニウム、チタン、もしくはアルミニウムの金
属アルコキシドやこれらの部分加水分解縮重合物あるい
はオルガノシラザンが利用でき、樹脂バインダーとし
て、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂な
どの熱硬化性樹脂などが利用できる。また、日射遮蔽材
料の分散方法は、塗布液中に均一に分散される方法であ
れば特に限定されず、例えばビ−ズミル、ボ−ルミル、
サンドミル、ペイントシェ−カ−、超音波ホモジナイザ
−などが挙げられる。

【００２６】この塗布液を用いて膜を形成したときの膜
の導電性は、ＩＴＯ微粒子の接触個所を経由した導電パ
スに沿って行われるため、例えば界面活性剤やカップリ
ング剤の量を加減することで導電パスを部分的に切断す
ることができ、膜の導電性を１０⁶Ω/□以上の表面抵抗
値へ低下させることは容易である。また、無機バインダ
ー、あるいは樹脂バインダ−の含有量の加減によっても
導電性を制御できる。

【００２７】次に、本発明に係る日射遮蔽膜は、透明基
材上に上記ＩＴＯ微粒子が高密度に堆積して膜形成する
ものであり、塗布液中に含まれる樹脂バインダ−または
無機バインダ−は、塗布硬化後にＩＴＯ微粒子の基材へ
の密着性を向上させ、さらに膜の硬度を向上させる効果
がある。また、このようにして得られた膜上に、さらに
珪素、ジルコニウム、チタン、もしくはアルミニウムの
金属アルコキシド、これらの部分加水分解縮重合物から
なる皮膜を第２層として被着し、珪素、ジルコニウム、
チタン、もしくはアルミニウムの酸化物膜を形成するこ
とで、ＩＴＯ微粒子を主成分とする膜の基材へ結着力や
膜の硬度、耐候性を一層向上させることができる。ま
た、塗布液中に樹脂バインダ−または無機バインダ−を
含まない場合に得られる膜は、基材上に上記ＩＴＯ微粒
子のみが堆積した膜構造になる。このままでも日射遮蔽
効果を示すが、この膜上にさらに珪素、ジルコニウム、
チタン、もしくはアルミニウムの金属アルコキシドやこ
れらの部分加水分解縮重合物などの無機バインダ−また
は樹脂バインダ−を含む塗布液を塗布して皮膜を形成し
て多層膜とするとよい。このようにすることにより、塗
布液成分が第１層のＩＴＯ微粒子の堆積した間隙を埋め
て成膜されるため、膜のヘイズが低減して可視光透過率
が向上し、また微粒子の基材への結着性が向上する。

【００２８】また、本発明に係る塗布液の塗布方法およ
び本発明で用いる皮膜形成用の塗布方法は特に限定され
ず、例えば、スピンコ−ト法、バ−コ−ト法、スプレ−
コ−ト法、ディップコ−ト法、スクリ−ン印刷法、ロ−
ルコ−ト法、流し塗りなど、処理液を平坦かつ薄く均一
に塗布できる方法であればいずれの方法でもよい。

【００２９】また、無機バインダーとして、珪素、ジル
コニウム、チタン、もしくはアルミニウムの金属アルコ
キシドおよびその加水分解重合物を含む塗布液の塗布後
における基材の加熱温度は、１００℃未満では塗膜中に
含まれるアルコキシドまたはその加水分解重合物の重合
反応が未完結で残る場合が多く、また水や有機溶媒が膜
中に残留して加熱後における膜の可視光透過率の低下の
原因となるので、１００℃以上が好ましく、さらに好ま
しくは塗布液中の溶媒の沸点以上で加熱を行うことがよ
い。他方、樹脂バインダ−を使用した場合は、それぞれ
の硬化方法に従って硬化させればよい。例えば、紫外線
硬化樹脂であれば紫外線を適宜照射すればよく、また常
温硬化樹脂であれば塗布後そのまま放置しておけばよ
い。このため、既存の窓ガラスなどへの現場での塗布が
可能である。

【００３０】そして、本発明に係る日射遮蔽膜では、Ｉ
ＴＯ微粒子が分散しているため、物理成膜法により製造
された酸化物薄膜のように結晶が緻密に膜内を埋めた鏡
面状表面をもつ膜に比べると可視光領域での反射が少な
く、ギラギラした外観を呈することが回避できる。その
一方で、可視から近赤外域にプラズマ周波数をもつた
め、これに伴うプラズマ反射が近赤外域で大きくなる。
さらに可視光領域の反射を抑制したい場合には、ＩＴＯ
微粒子分散膜の上に、ＳｉＯ₂やＭｇＦ₂のような低屈折
率の膜を成膜することにより、容易に視感反射率１％以
下の多層膜を得ることができる。

【００３１】また、本発明に係る日射遮蔽材料、塗布液
並びに日射遮蔽膜のさらなる紫外線遮蔽機能を付与させ
るため、無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウム
などの微粒子や、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリ
アゾ−ルなどの１種もしくは２種以上を添加してもよ
い。

【００３２】このように本発明によれば、日射遮蔽効果
を発揮する塗布膜製造が可能であり、ＩＴＯ微粒子は無
機材料であるので有機材料と比べて耐候性が非常に高
く、例えば太陽光線（紫外線）の当たる部位に使用して
も色や諸機能の劣化はほとんど生じない。また、本発明
に係る塗布液は、焼成時の熱によって塗布成分の分解あ
るいは化学反応を利用して目的の日射遮蔽膜を形成する
ものではないため、特性の安定した均一な膜厚の透過膜
を形成することができる。

【００３３】

【実施例】以下、本発明についてその実施例を挙げ更に
具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。

【００３４】尚、得られた日射遮蔽膜の可視光透過率や
日射透過率は日立製作所（株）製の分光光度計Ｕ−４０
００を用いて測定した。また、ヘイズ値は村上色彩技術
研究所（株）製ＨＲ−２００を用いて測定した。膜評価
においては線径の異なる３種のバーコーターで成膜し、
得られた膜厚が異なる３種類の膜の３点プロットから可
視光透過率８４％のときの日射透過率およびヘイズ値を
求めた。

【００３５】［実施例１］１０％Ｉｎ（ＮＯ₃）₃・３Ｈ
₂Ｏ水溶液５００ｇ、および、１０％ＳｎＣｌ₄・５Ｈ₂
Ｏ水溶液６４．４ｇ（Ｓｎ１０％相当）との原料混合水
溶液に、２０℃制御下で攪拌しながら１５％ＮＨ₄ＨＣ
Ｏ₃水溶液２５９ｇを２０分かけて滴下し、滴下後さら
に１０分間攪拌して熟成した。

【００３６】次に、デカンテーションにて一回につき７
００ｍｌのイオン交換水での洗浄を繰り返し行い、その
後１０５℃で乾燥した。尚、乾燥物中の残留Ｃｌ量（表
１と表２において共に「残留不純物量」と記載する）は
０．０７重量％であった。

【００３７】次に、粉砕処理を施した上記乾燥物２５ｇ
を５００ｍｌのセパラブルフラスコに投入し、攪拌しな
がらＮ₂ガスをキャリアとした９％Ｈ₂ガスを供給しなが
ら加熱し、３００℃の温度で２０分間還元処理した後、
空気中で酸化させることによってＩＴＯ微粒子（日射遮
蔽材料）を得た。なお、還元処理前における乾燥粉の比
表面積は１５８．９ｍ²/ｇで、還元処理後における乾燥
粉の比表面積は７７．６ｍ²/ｇであった。

【００３８】次に、該微粒子２０重量％、メチルイソブ
チルケトン６３．３重量％、分散剤１６．７重量％を、
充填率６３％相当の０．３ｍｍジルコニアビ−ズを入れ
たペイントシェ−カ−で１８時間分散した。

【００３９】次に、該分散液６７．５重量％、バインダ
−としてメチルイソブチルケトンに溶解したアクリル樹
脂溶液２７．５重量％および硬化剤５重量％からなる塗
布液を、番手４０，２４，６のバ−でそれぞれ１００ｍ
ｍ×１００ｍｍ×３ｍｍのソ−ダライムガラス基板に塗
布した後、１８０℃で１時間焼成して膜ａを得た。膜ａ
の日射透過率およびヘイズ値はそれぞれ５７．５％、
０．２０％であった。

【００４０】［実施例２〜実施例５、比較例１〜比較例
４］還元時間を１０分とした以外は実施例１と同様にし
て膜ｂ（実施例２）を得、また、還元時間を１４分とし
た以外は実施例１と同様にして膜ｃ（実施例３）を得、
また、残留Ｃｌ量が０．１０重量％である乾燥物の還元
時間を２３分とした以外は実施例１と同様にして膜ｄ
（実施例４）を得、また、還元温度を３２０℃として５
分間還元した以外は実施例１と同様にして膜ｅ（実施例
５）を得、また、残留Ｃｌ量が０．３１重量％である乾
燥物の還元時間を２７０分とした以外は実施例１と同様
にして膜ｆ（比較例１）を得、また、比較例１と同一の
乾燥物を用い還元時間を１０分とした以外は実施例１と
同様にして膜ｇ（比較例２）を得、また、比較例１と同
一の乾燥物を用い還元時間を９０分とした以外は実施例
１と同様にして膜ｈ（比較例３）を得、また、比較例１
と同一の乾燥物を用い還元時間を１８０分とした以外は
実施例１と同様にして膜ｉ（比較例４）を得た。

【００４１】そして、表１に示すように、実施例２の膜
ｂ、実施例３の膜ｃ、実施例４の膜ｄおよび実施例５の
膜ｅの日射透過率はいずれも６０％以下であり、ヘイズ
値も１％未満であった。

【００４２】一方、比較例１の膜ｆ、比較例３の膜ｈお
よび比較例４の膜ｉの日射透過率は、９０分以上の還元
処理により６０％未満となり、また、還元時間を１０分
とした比較例２の膜ｇの日射透過率は６０％を超え、か
つ、ヘイズ値も１０．５％と１％を大幅に越えるもので
あった。

【００４３】［実施例６〜８、比較例５〜６］１０％Ｉ
ｎＣｌ₃・４Ｈ₂Ｏ水溶液５００ｇ、および、１０％Ｓｎ
Ｃｌ₄・５Ｈ₂Ｏ水溶液７７．７ｇ（Ｓｎ１０％相当）と
の原料混合水溶液とした以外は実施例１と同様にして膜
ｊ（実施例６）を得、また、１０％Ｉｎ₂（ＳＯ₄）₃・
９Ｈ₂Ｏ水溶液５００ｇ、および、１０％ＳｎＣｌ₄・５
Ｈ₂Ｏ水溶液６７．０ｇ（Ｓｎ１０％相当）との原料混
合水溶液とした以外は実施例１と同様にして膜ｋ（実施
例７）を得、また、１０％Ｉｎ₂（ＳＯ₄）₃・９Ｈ₂Ｏ水
溶液５００ｇ、および、１０％ＳｎＣｌ₄・５Ｈ₂Ｏ水溶
液６７．０ｇ（Ｓｎ１０％相当）との原料混合水溶液と
した以外は実施例２と同様にして膜ｌ（実施例８）を
得、また１０％Ｉｎ₂（ＳＯ₄）₃・９Ｈ₂Ｏ水溶液５００
ｇ、および、１０％ＳｎＣｌ₄・５Ｈ₂Ｏ水溶液６７．０
ｇ（Ｓｎ１０％相当）との原料混合水溶液とした以外は
比較例１と同様にして膜ｍ（比較例５）を得、また、１
０％Ｉｎ₂（ＳＯ₄）₃・９Ｈ₂Ｏ水溶液５００ｇ、およ
び、１０％ＳｎＣｌ₄・５Ｈ₂Ｏ水溶液６７．０ｇ（Ｓｎ
１０％相当）との原料混合水溶液とした以外は比較例２
と同様にして膜ｎ（比較例６）を得た。

【００４４】そして、表２に示すように、実施例６の膜
ｊ、実施例７の膜ｋおよび実施例８の膜ｌの日射透過率
はいずれも６０％以下であり、ヘイズ値も１％未満であ
った。

【００４５】一方、比較例５の膜ｍの日射透過率は、２
７０分以上の還元処理により６０％未満となり、また、
還元時間を１０分とした比較例６の膜ｎの日射透過率は
６０％を超え、かつ、ヘイズ値も１１％と１％を大幅に
越えるものであった。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】

【発明の効果】請求項１記載の発明に係る日射遮蔽材料
の製造方法によれば、可視光透過率が８０％以上の高い
領域でも日射透過率が低くしかもヘイズ値が低い日射遮
蔽材料について効率よく製造することができる効果を有
する。

【００４９】また、請求項２〜３記載の発明に係る塗布
液によれば、可視光透過率が８０％以上の高い領域でも
日射透過率が低くしかもヘイズ値が低い日射遮蔽材料に
ついて簡便な塗布法により形成できる効果を有する。

【００５０】更に、請求項４〜５記載の発明に係る日射
遮蔽膜によれば、可視光透過率が８０％以上の高い領域
でも日射透過率が低くしかもヘイズ値が低い効果を有す
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/22 Ｇ０２Ｂ 5/22 Ｆターム(参考） 2H048 FA05 FA09 FA12 4G059 AA01 AC06 EA02 EA03 EA07 EB09 4J038 AA001 CG001 DB001 HA211 HA216 KA06 NA19 PB05 PB07 PC02 PC03

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】インジウム錫酸化物微粒子で構成される日
   射遮蔽材料の製造方法において、 元素換算でＳｎ含有量が５重量％以上１２重量％未満の
   錫化合物とインジウム化合物を含有しかつ５０℃以下の
   温度に調整された原料混合溶液にアルカリ溶液を滴下時
   間３０分未満の条件で滴下すると共に継続的に攪拌しな
   がら熟成させて沈澱物を得る工程と、 残留する塩素不純物量が０．２重量％以下となるよう上
   記沈澱物をデカンテーションにより洗浄した後、乾燥し
   て比表面積が１００ｍ²／ｇを超えるインジウムと錫か
   ら成る水酸化物を得る工程と、 この水酸化物を還元性ガスと不活性ガスとの混合ガス雰
   囲気下において攪拌しながら２５分未満の条件で加熱処
   理した後、空気中で酸化させて比表面積が５０ｍ²／ｇ
   以上のインジウム錫酸化物微粒子から成る日射遮蔽材料
   を得る工程、を具備することを特徴とする日射遮蔽材料
   の製造方法。
2. 【請求項２】溶媒中に日射遮蔽材料が分散した日射遮蔽
   膜形成用塗布液において、 上記日射遮蔽材料が請求項１記載の日射遮蔽材料で構成
   されかつその固形分濃度が３０重量％以下であることを
   特徴とする日射遮蔽膜形成用塗布液。
3. 【請求項３】無機バインダー若しくは樹脂バインダーが
   含まれていることを特徴とする請求項２記載の日射遮蔽
   膜形成用塗布液。
4. 【請求項４】日射遮蔽材料が分散した日射遮蔽膜におい
   て、 上記日射遮蔽材料が請求項１記載の日射遮蔽材料で構成
   されていることを特徴とする日射遮蔽膜。
5. 【請求項５】可視光透過率８０％以上のときの波長域３
   ００〜２１００ｎｍにおける日射透過率が６０％未満
   で、かつ、ヘイズ値が１％未満であることを特徴とする
   請求項４記載の日射遮蔽膜。