JP2000086477A - ジベンゾイルメタン誘導サンスクリ―ン剤の光安定化法とその光安定化遮蔽化粧品組成物及びその用途 - Google Patents
ジベンゾイルメタン誘導サンスクリ―ン剤の光安定化法とその光安定化遮蔽化粧品組成物及びその用途Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 抗日光組成物におけるジベンゾイルメタン誘
導体の光安定性及び溶解性を改善する方法及び該方法を
使用して得られた組成物を提供する。 【解決手段】 2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を
有する有効量のシラン又はオルガノシロキサン化合物を
ジベンゾイルメタン誘導体と組合せ、該組合せを化粧品
的に許容可能な支持体に含有せしめて組成物とする。
導体の光安定性及び溶解性を改善する方法及び該方法を
使用して得られた組成物を提供する。 【解決手段】 2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を
有する有効量のシラン又はオルガノシロキサン化合物を
ジベンゾイルメタン誘導体と組合せ、該組合せを化粧品
的に許容可能な支持体に含有せしめて組成物とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、2-ヒドロキシベ
ンゾフェノン官能基を有する有効量のシラン又はオルガ
ノシロキサン化合物をジベンゾイルメタン誘導体と組合
せることからなる、少なくとも1種のジベンゾイルメタ
ン誘導体のUV線に対する安定性を改善する新規方法に
関する。
ンゾフェノン官能基を有する有効量のシラン又はオルガ
ノシロキサン化合物をジベンゾイルメタン誘導体と組合
せることからなる、少なくとも1種のジベンゾイルメタ
ン誘導体のUV線に対する安定性を改善する新規方法に
関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】280
nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼し、特にUV-B線として知られている280nm
と320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然な
サンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態とな
ったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに
美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコン
トロールする手段が変わらず必要とされている。よっ
て、このUV-B線は遮蔽するべきである。
nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼し、特にUV-B線として知られている280nm
と320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然な
サンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態とな
ったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに
美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコン
トロールする手段が変わらず必要とされている。よっ
て、このUV-B線は遮蔽するべきである。
【0003】また、皮膚をサンタン状態にする320n
mと400nmの間の波長を有するUV-A線が皮膚に
好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又
は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりで
ある。UV-A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、
しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるも
のである。UV-A線は、紅斑反応の惹起を促進した
り、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は
光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮
膚の本来の弾力性を保持するというような美的及び美容
的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV-A線の影
響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV
-A線も遮蔽することが望ましい。
mと400nmの間の波長を有するUV-A線が皮膚に
好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又
は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりで
ある。UV-A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、
しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるも
のである。UV-A線は、紅斑反応の惹起を促進した
り、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は
光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮
膚の本来の弾力性を保持するというような美的及び美容
的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV-A線の影
響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV
-A線も遮蔽することが望ましい。
【0004】かかる点に関し、現在特に有効な種類のU
V-A遮蔽剤は、特に4-tert-ブチル-4-'メトキシジベ
ンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体であ
り、これらは高い固有の吸収力を有する効果的なもので
ある。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそ
れ自体、UV-A領域に活性のある遮蔽剤としてよく知
られている生成物であり、特に仏国特許公開第2326
405号及び仏国特許公開第2440933号、並びに
欧州特許公開第0114607号に記載されている;さ
らに、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメ
タンは、ジボーダン(Givaudan)社から「パルソール(Par
sol)1789」の商品名で現在市販されている。
V-A遮蔽剤は、特に4-tert-ブチル-4-'メトキシジベ
ンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体であ
り、これらは高い固有の吸収力を有する効果的なもので
ある。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそ
れ自体、UV-A領域に活性のある遮蔽剤としてよく知
られている生成物であり、特に仏国特許公開第2326
405号及び仏国特許公開第2440933号、並びに
欧州特許公開第0114607号に記載されている;さ
らに、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメ
タンは、ジボーダン(Givaudan)社から「パルソール(Par
sol)1789」の商品名で現在市販されている。
【0005】残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体
は、紫外線(特にUV-A)に比較的敏感な生成物である
ことが知見されている。すなわち、より厳密には、この
生成物は、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く
劣化してしまうという好ましくない傾向を有している。
しかして、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さら
されることが予定されている紫外線に対して光化学的安
定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長
い間、一定の保護性を保証することは不可能であり、よ
って、使用者は、UV線から皮膚を有効に保護するため
には、短い時間をおいて規則的に繰り返し塗布しなけれ
ばならず、使用者に制約を与えるものであった。
は、紫外線(特にUV-A)に比較的敏感な生成物である
ことが知見されている。すなわち、より厳密には、この
生成物は、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く
劣化してしまうという好ましくない傾向を有している。
しかして、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さら
されることが予定されている紫外線に対して光化学的安
定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長
い間、一定の保護性を保証することは不可能であり、よ
って、使用者は、UV線から皮膚を有効に保護するため
には、短い時間をおいて規則的に繰り返し塗布しなけれ
ばならず、使用者に制約を与えるものであった。
【0006】このジベンゾイルメタン誘導体の光の対す
る不安定性を低減させるために、ベンザルマロナート誘
導体とジベンゾイルメタン誘導体を組合せることが欧州
特許公開第0709080号公報において提案されてい
る。しかしながら、現時点においても、ジベンゾイルメ
タン誘導体のUV線に対する光安定性の問題は、必ずし
も完全に満足のいく程には解決されていない。
る不安定性を低減させるために、ベンザルマロナート誘
導体とジベンゾイルメタン誘導体を組合せることが欧州
特許公開第0709080号公報において提案されてい
る。しかしながら、現時点においても、ジベンゾイルメ
タン誘導体のUV線に対する光安定性の問題は、必ずし
も完全に満足のいく程には解決されていない。
【0007】また、欧州特許公開第0843996号公
報においては、前記ジベンゾイルメタン誘導体の光に対
する不安定性を低減させるために、例えば2-ヒドロキ
シ-4-メトキシベンゾフェノン又は2-ヒドロキシ-4-
メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸のような2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン炭化水素系誘導体とジベンゾイ
ルメタン誘導体を組合せることが提案されている。
報においては、前記ジベンゾイルメタン誘導体の光に対
する不安定性を低減させるために、例えば2-ヒドロキ
シ-4-メトキシベンゾフェノン又は2-ヒドロキシ-4-
メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸のような2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン炭化水素系誘導体とジベンゾイ
ルメタン誘導体を組合せることが提案されている。
【0008】上述のものとは別にジベンゾイルメタン誘
導体に伴う他の不具合は、これが特に室温で固体である
といった不利な特徴を有する親油性の遮蔽剤であること
である。従って、これを抗日光化粧品組成物に使用する
場合は、単独であろうと他の遮蔽剤と組合わせるにして
も、これらの調製と実施、特にこれを適切に溶解させる
溶媒を見出すことに関してある種の制約が生じていた。
この点に関し、今日では例えばエステル類、特にC12
-C15安息香酸アルキル[ファインテックス社(Finete
x)の「フィンソルブ(Finsolv)TN」]、又はトリグリ
セリド、特にC 8-C12脂肪酸トリグリセリド[ヒュ
ルス社(Huels)の「ミグリオール(Miglyol)812」]のよ
うな油類が使用されているが、これら種々の製品の上述
した遮蔽剤に対する溶解性は不十分なものであった。
導体に伴う他の不具合は、これが特に室温で固体である
といった不利な特徴を有する親油性の遮蔽剤であること
である。従って、これを抗日光化粧品組成物に使用する
場合は、単独であろうと他の遮蔽剤と組合わせるにして
も、これらの調製と実施、特にこれを適切に溶解させる
溶媒を見出すことに関してある種の制約が生じていた。
この点に関し、今日では例えばエステル類、特にC12
-C15安息香酸アルキル[ファインテックス社(Finete
x)の「フィンソルブ(Finsolv)TN」]、又はトリグリ
セリド、特にC 8-C12脂肪酸トリグリセリド[ヒュ
ルス社(Huels)の「ミグリオール(Miglyol)812」]のよ
うな油類が使用されているが、これら種々の製品の上述
した遮蔽剤に対する溶解性は不十分なものであった。
【0009】欧州特許公開第0843996号公報で使
用されているような2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾ
フェノン又は2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノ
ン-5-スルホン酸とジベンゾイルメタン誘導体をベース
とした抗日光調製物でも、前記ジベンゾイルメタン誘導
体の溶解性の問題を満足に解決できなかった。
用されているような2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾ
フェノン又は2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノ
ン-5-スルホン酸とジベンゾイルメタン誘導体をベース
とした抗日光調製物でも、前記ジベンゾイルメタン誘導
体の溶解性の問題を満足に解決できなかった。
【0010】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】し
かし、本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾ
イルメタン誘導体に2-ヒドロキシベンゾフェノン官能
基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物を有効
量組合せると、これらジベンゾイルメタン誘導体の光化
学安定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善す
ることができることを見出した。
かし、本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾ
イルメタン誘導体に2-ヒドロキシベンゾフェノン官能
基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物を有効
量組合せると、これらジベンゾイルメタン誘導体の光化
学安定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善す
ることができることを見出した。
【0011】また、光安定化剤として本発明で使用可能
な2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有する所定の
シラン又はオルガノシロキサン化合物が、2-ヒドロキ
シベンゾフェノンから誘導された既知の炭化水素系有機
遮蔽剤と比較して等しく非常に驚くべき形で、例えば4
-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンのよ
うなジベンゾイルメタン誘導体型遮蔽剤の特に顕著な溶
媒を構成することが知見されており、これも本発明に関
連したさらなる利点の一つである;これにより、同量の
溶媒に対してより多量のUV遮蔽剤を使用することが可
能になる。
な2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有する所定の
シラン又はオルガノシロキサン化合物が、2-ヒドロキ
シベンゾフェノンから誘導された既知の炭化水素系有機
遮蔽剤と比較して等しく非常に驚くべき形で、例えば4
-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンのよ
うなジベンゾイルメタン誘導体型遮蔽剤の特に顕著な溶
媒を構成することが知見されており、これも本発明に関
連したさらなる利点の一つである;これにより、同量の
溶媒に対してより多量のUV遮蔽剤を使用することが可
能になる。
【0012】よって、本発明の第1の主題は、2-ヒド
ロキシベンゾフェノン官能基を有する有効量のシラン又
はオルガノシロキサン誘導体をジベンゾイルメタン誘導
体と組合せることからなる、少なくとも1種のジベンゾ
イルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する新
規方法を提供することにある。
ロキシベンゾフェノン官能基を有する有効量のシラン又
はオルガノシロキサン誘導体をジベンゾイルメタン誘導
体と組合せることからなる、少なくとも1種のジベンゾ
イルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する新
規方法を提供することにある。
【0013】本発明の方法で得られる化粧品用及び/又
は皮膚科学的組成物は、UV-AとUV-B線に長時間さ
らされた後でも、非常に光安定であるという利点を有す
る。この光線は自然のもの(日光)でも人工のもの(UV
ランプ)でも同様である。
は皮膚科学的組成物は、UV-AとUV-B線に長時間さ
らされた後でも、非常に光安定であるという利点を有す
る。この光線は自然のもの(日光)でも人工のもの(UV
ランプ)でも同様である。
【0014】また、本発明の主題は、少なくとも1種の
ジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚
科学的組成物の調製において、該ジベンゾイルメタン誘
導体のUV線に対する安定性を改善するために、2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラン又はオル
ガノシロキサン化合物を使用することにある。すなわ
ち、かかる化合物からなる、ジベンゾイルメタン誘導体
のUV線に対する安定性を改善するための安定化薬剤に
ある。
ジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚
科学的組成物の調製において、該ジベンゾイルメタン誘
導体のUV線に対する安定性を改善するために、2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラン又はオル
ガノシロキサン化合物を使用することにある。すなわ
ち、かかる化合物からなる、ジベンゾイルメタン誘導体
のUV線に対する安定性を改善するための安定化薬剤に
ある。
【0015】本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下
の詳細な記述を読めば明らかになるであろう。
の詳細な記述を読めば明らかになるであろう。
【0016】上述したように、本発明によって光安定化
されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく
知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公
開第2326405号、仏国特許公開第2440933
号及び欧州特許公開第0114607号公報に記載され
ている。
されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく
知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公
開第2326405号、仏国特許公開第2440933
号及び欧州特許公開第0114607号公報に記載され
ている。
【0017】もちろん本発明において、一又は複数のジ
ベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。本発
明で使用可能なジベンゾイルメタン誘導体としては、こ
れらに限定されるものではないが、特に: − 2-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 を挙げることができる。
ベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。本発
明で使用可能なジベンゾイルメタン誘導体としては、こ
れらに限定されるものではないが、特に: − 2-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 を挙げることができる。
【0018】上述したジベンゾイルメタン誘導体の中で
も、特にジボーダン社から「パルソール1789」の商標名
で販売されている4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用さ
れ、この遮蔽剤は次の構造式:
も、特にジボーダン社から「パルソール1789」の商標名
で販売されている4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用さ
れ、この遮蔽剤は次の構造式:
【化38】 に相当するものである。
【0019】本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン
誘導体は、4-イソプロピルジベンゾイルメタンで、こ
の遮蔽剤はメルク(Merck)社から「ユーソレックス(Euso
lex)8020」の名前で販売されており、次の構造式:
誘導体は、4-イソプロピルジベンゾイルメタンで、こ
の遮蔽剤はメルク(Merck)社から「ユーソレックス(Euso
lex)8020」の名前で販売されており、次の構造式:
【化39】 に相当するものである。
【0020】ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明
の方法によって安定化された組成物中に、一般的に、組
成物の全重量に対して0.01〜10重量%、好ましく
は0.3〜5重量%の範囲の含有量で存在する。
の方法によって安定化された組成物中に、一般的に、組
成物の全重量に対して0.01〜10重量%、好ましく
は0.3〜5重量%の範囲の含有量で存在する。
【0021】本発明の組成物における第2の化合物は、
2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラン又
はオルガノシロキサン化合物である。これらの化合物は
よく知られており、例えば仏国特許第1518231
号;仏国特許第2200275号;米国特許第4436
851号;米国特許第4321400号;米国特許第4
278804号;米国特許第4328346号;米国特
許第4395461号;米国特許第4467082号;
欧州特許公開第0088842号;DD208470;
米国特許第4419405号;米国特許第447749
9号;米国特許第4414349号;米国特許第455
5545号;米国特許第4555559号;米国特許第
4696969号;DD249030;米国特許第48
68251号;日本国特許第01096259号;日本
国特許第02187437号;欧州特許公開第0389
337号;欧州特許公開第0475149号;米国特許
第5250615号;仏国特許第2657351号;日
本国特許第03287589号;日本国特許第0328
7588号;欧州特許公開第0478284号;日本国
特許第04217622号;欧州特許公開第05263
99号;米国特許第5310845号;欧州特許公開第
0655453号;欧州特許公開第0667379号;
欧州特許公開第0668313号;日本国特許第081
69815号;米国特許第3352986号公報(これ
らの公報は本出願内容の一部を構成する)において記載
され合成されている。
2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラン又
はオルガノシロキサン化合物である。これらの化合物は
よく知られており、例えば仏国特許第1518231
号;仏国特許第2200275号;米国特許第4436
851号;米国特許第4321400号;米国特許第4
278804号;米国特許第4328346号;米国特
許第4395461号;米国特許第4467082号;
欧州特許公開第0088842号;DD208470;
米国特許第4419405号;米国特許第447749
9号;米国特許第4414349号;米国特許第455
5545号;米国特許第4555559号;米国特許第
4696969号;DD249030;米国特許第48
68251号;日本国特許第01096259号;日本
国特許第02187437号;欧州特許公開第0389
337号;欧州特許公開第0475149号;米国特許
第5250615号;仏国特許第2657351号;日
本国特許第03287589号;日本国特許第0328
7588号;欧州特許公開第0478284号;日本国
特許第04217622号;欧州特許公開第05263
99号;米国特許第5310845号;欧州特許公開第
0655453号;欧州特許公開第0667379号;
欧州特許公開第0668313号;日本国特許第081
69815号;米国特許第3352986号公報(これ
らの公報は本出願内容の一部を構成する)において記載
され合成されている。
【0022】本発明で使用される2-ヒドロキシベンゾ
フェノン基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合
物は、好ましくは次の式(I):
フェノン基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合
物は、好ましくは次の式(I):
【化40】 {上式中: − R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水
素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC1
-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状のC 1-C
10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基で置換されていてもよ
い、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジ
イル(diyl)基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − nは0又は1であり; − oは0又は1であり; − pは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(1)、(2)又は(3):
素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC1
-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状のC 1-C
10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基で置換されていてもよ
い、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジ
イル(diyl)基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − nは0又は1であり; − oは0又は1であり; − pは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(1)、(2)又は(3):
【化41】
【化42】 -Si(R7)3 (3) の基であり、ここで − R6は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリ
フルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選
択され、数的にR6基の少なくとも80%はメチルであ
り; − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れ; − Bは同一でも異なっていてもよく、R6基及び次の
式:
枝状のC1-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリ
フルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選
択され、数的にR6基の少なくとも80%はメチルであ
り; − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れ; − Bは同一でも異なっていてもよく、R6基及び次の
式:
【化43】 (上式中、R1、R2、L、a及びbは上述したものと
同様の意味を有する)のX基から選択され; − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数
であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも1つ
はXを示し; − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数で
あり、t+uは3以上であると理解されるものである}
に相当するものである。
同様の意味を有する)のX基から選択され; − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数
であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも1つ
はXを示し; − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数で
あり、t+uは3以上であると理解されるものである}
に相当するものである。
【0023】上述した化合物の中でも、以下の特徴: − R1=R2=R3=R5=H; − n=0; − q=1; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する種類の化合
物を、特に挙げることができる。
物を、特に挙げることができる。
【0024】また、以下の特徴: − R1=R2=R3=R4=H; − n=0; − q=1; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する種類の化合
物を、特に挙げることができる。
物を、特に挙げることができる。
【0025】この種類の範囲において、好ましく使用さ
れる化合物は以下の特徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − p=1であり; − R4が水素又はメチル基である; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有するものであ
る。
れる化合物は以下の特徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − p=1であり; − R4が水素又はメチル基である; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有するものであ
る。
【0026】また、好ましく使用される化合物は以下の
特徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − m=1であり; − R3が水素又はメチル基である; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有するものであ
る。これらの化合物及びそれらの調製方法は、例えば欧
州特許公開第0389377号公報に記載されている。
特徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − m=1であり; − R3が水素又はメチル基である; の少なくとも1つ、好ましくは全てを有するものであ
る。これらの化合物及びそれらの調製方法は、例えば欧
州特許公開第0389377号公報に記載されている。
【0027】好ましい第2の種類の化合物は、s=0で
ある式(I)の化合物を組合せたものである。これらの化
合物及びそれらの調製方法は、特に仏国特許公開第26
57351号及び欧州特許公開第0655453号公報
に記載されている。特に好ましい式(I)の化合物の例と
して、以下の式:
ある式(I)の化合物を組合せたものである。これらの化
合物及びそれらの調製方法は、特に仏国特許公開第26
57351号及び欧州特許公開第0655453号公報
に記載されている。特に好ましい式(I)の化合物の例と
して、以下の式:
【化44】
【化45】
【化46】
【化47】
【化48】
【化49】
【化50】
【化51】
【化52】 の生成物を挙げることができる。
【0028】上述した式(I)の化合物に中には新規なも
のもあり、これが本発明の他の主題を構成する。これ
は、上述した式(I)において、pが1であり、Z基がヒ
ドロキシル又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC
2-C8アルキル基を有する直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC1-C6ジイル基であり、さらにR2がO
H基以外である化合物の場合である。これら特定の化合
物として、上述した化合物(8)を挙げることができる。
のもあり、これが本発明の他の主題を構成する。これ
は、上述した式(I)において、pが1であり、Z基がヒ
ドロキシル又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC
2-C8アルキル基を有する直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC1-C6ジイル基であり、さらにR2がO
H基以外である化合物の場合である。これら特定の化合
物として、上述した化合物(8)を挙げることができる。
【0029】式(I)の新規の化合物の他の種類は、Wが
式(3)の基であり;nが0であり、さらにR2がOH基
以外であるシラン化合物からなる。これらの化合物とし
て、上述した化合物(10)を挙げることができる。
式(3)の基であり;nが0であり、さらにR2がOH基
以外であるシラン化合物からなる。これらの化合物とし
て、上述した化合物(10)を挙げることができる。
【0030】本発明において、「2-ヒドロキシベンゾ
フェノン官能基を有する有効量のシラン又はオルガノシ
ロキサン化合物」という表現は、組成物に含有されるジ
ベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を有意かつ顕著
に改善するのに十分な量であることを意味する。使用さ
れる安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧
品的に許容可能な支持体の性質に応じて変わるが、例え
ば仏国特許公開第2607700号に記載されているよ
うな、光安定性を測定するための標準テストにより、何
ら困難なことなく決定することができる。
フェノン官能基を有する有効量のシラン又はオルガノシ
ロキサン化合物」という表現は、組成物に含有されるジ
ベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を有意かつ顕著
に改善するのに十分な量であることを意味する。使用さ
れる安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧
品的に許容可能な支持体の性質に応じて変わるが、例え
ば仏国特許公開第2607700号に記載されているよ
うな、光安定性を測定するための標準テストにより、何
ら困難なことなく決定することができる。
【0031】2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有
するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、組成物の
全重量に対して少なくとも0.5重量%の含有量で一般
的に本発明の組成物中に存在する。さらに好ましくは、
この含有量は組成物の全重量に対して0.5〜20重量
%の範囲にある。
するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、組成物の
全重量に対して少なくとも0.5重量%の含有量で一般
的に本発明の組成物中に存在する。さらに好ましくは、
この含有量は組成物の全重量に対して0.5〜20重量
%の範囲にある。
【0032】もちろん、本発明が目的としている化粧品
用及び/又は皮膚科学的組成物は、一又は複数の付加的
な親水性又は親油性のUV-A及び/又はUV-Bに活性
のあるサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。こ
れらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリ
チル酸誘導体、ベンジリデンショウノウ誘導体、ベンゾ
トリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、トリ
アジン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、β,β'-ジ
フェニルアクリラート誘導体、p-アミノ安息香酸誘導
体、及び国際特許出願第93/04665号に記載され
ている遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマーから選択するこ
とができる。有機遮蔽剤の他の例は、欧州特許公開第0
487404号に示されている。
用及び/又は皮膚科学的組成物は、一又は複数の付加的
な親水性又は親油性のUV-A及び/又はUV-Bに活性
のあるサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。こ
れらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリ
チル酸誘導体、ベンジリデンショウノウ誘導体、ベンゾ
トリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、トリ
アジン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、β,β'-ジ
フェニルアクリラート誘導体、p-アミノ安息香酸誘導
体、及び国際特許出願第93/04665号に記載され
ている遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマーから選択するこ
とができる。有機遮蔽剤の他の例は、欧州特許公開第0
487404号に示されている。
【0033】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(D
HA)をさらに含有してもよい。
日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(D
HA)をさらに含有してもよい。
【0034】さらに、本発明の化粧品用及び/又は皮膚
科学的組成物は、被覆された又は被覆されていない金属
酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径:一般
に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例え
ば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び/又はアナタ
ーゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又
は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これ
らは全てそれ自体よく知られている光保護剤であり、U
V線を物理的にブロック(反射及び/又は散乱)すること
で作用する。さらに、従来の被覆剤はアルミナ及び/又
はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆
された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、
特に欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開
第0518773号に記載されている。
科学的組成物は、被覆された又は被覆されていない金属
酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径:一般
に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例え
ば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び/又はアナタ
ーゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又
は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これ
らは全てそれ自体よく知られている光保護剤であり、U
V線を物理的にブロック(反射及び/又は散乱)すること
で作用する。さらに、従来の被覆剤はアルミナ及び/又
はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆
された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、
特に欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開
第0518773号に記載されている。
【0035】またさらに、本発明の組成物は、特に、脂
肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、
柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル剤、不透明化
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、ヒドロキシ
酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面
活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴
霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品及び/
又は皮膚科学の分野で通常使用されている任意の他の成
分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造す
るためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバ
ントを含有することができる。言うまでもなく、本発明
の組成物に導入することができる全ての付加的な成分
は、2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラ
ン又はオルガノシロキサン化合物がジベンゾイルメタン
誘導体に対して及ぼす光安定化効果に、実質的に悪影響
を及ぼさないか阻害しないものでなければならない。
肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、
柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル剤、不透明化
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、ヒドロキシ
酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面
活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴
霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品及び/
又は皮膚科学の分野で通常使用されている任意の他の成
分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造す
るためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバ
ントを含有することができる。言うまでもなく、本発明
の組成物に導入することができる全ての付加的な成分
は、2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有するシラ
ン又はオルガノシロキサン化合物がジベンゾイルメタン
誘導体に対して及ぼす光安定化効果に、実質的に悪影響
を及ぼさないか阻害しないものでなければならない。
【0036】脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合
物からなるものであってよい。油という用語は、室温で
液状の化合物を意味すると理解されるものである。ロウ
という用語は、室温で固体又は実質的に固体の化合物
で、その融点が一般的に35℃を越えるものを意味する
と理解される。油としては、鉱物性油(ワセリン);植物
性油(スイートアルモンド油、マカダミア油、グレープ
シード油、ホホバ油);合成油、例えばペルヒドロスク
ワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル[例
えば、カプリン/カプリル酸のものを含むトリグリセリ
ド類、ラノリン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチ
ル、ファインテックス社から「フィンソルブTN」の商
品名で販売されているC1 2-C15安息香酸アルキ
ル]、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された
脂肪エステル類及び脂肪エーテル類;シリコーン油(シ
クロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はPDM
S)又はフッ化油;ポリアルキレン類を挙げることがで
きる。ロウ状化合物としては、パラフィン、カルナウバ
ロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油を挙げることができ
る。
物からなるものであってよい。油という用語は、室温で
液状の化合物を意味すると理解されるものである。ロウ
という用語は、室温で固体又は実質的に固体の化合物
で、その融点が一般的に35℃を越えるものを意味する
と理解される。油としては、鉱物性油(ワセリン);植物
性油(スイートアルモンド油、マカダミア油、グレープ
シード油、ホホバ油);合成油、例えばペルヒドロスク
ワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル[例
えば、カプリン/カプリル酸のものを含むトリグリセリ
ド類、ラノリン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチ
ル、ファインテックス社から「フィンソルブTN」の商
品名で販売されているC1 2-C15安息香酸アルキ
ル]、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された
脂肪エステル類及び脂肪エーテル類;シリコーン油(シ
クロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はPDM
S)又はフッ化油;ポリアルキレン類を挙げることがで
きる。ロウ状化合物としては、パラフィン、カルナウバ
ロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油を挙げることができ
る。
【0037】有機溶媒としては、低級アルコール及びポ
リオールを挙げることができる。増粘剤は、特に、架橋
したポリアクリル酸、変性した又は未変性のグアガム及
びセルロース、例えばヒドロキシプロピルグアガム、メ
チルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースから選択することができる。
リオールを挙げることができる。増粘剤は、特に、架橋
したポリアクリル酸、変性した又は未変性のグアガム及
びセルロース、例えばヒドロキシプロピルグアガム、メ
チルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースから選択することができる。
【0038】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。
【0039】この組成物は、特に、単一又は複合エマル
ション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)の
形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲ
ル、パウダー、棒状固体の形態であってもよく、また、
任意にエアゾールとして包装されてもよく、フォーム又
はスプレーの形態であってもよい。好ましくは、本発明
の組成物は、水中油型エマルションの形態である。
ション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)の
形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲ
ル、パウダー、棒状固体の形態であってもよく、また、
任意にエアゾールとして包装されてもよく、フォーム又
はスプレーの形態であってもよい。好ましくは、本発明
の組成物は、水中油型エマルションの形態である。
【0040】エマルションである場合、このエマルショ
ンの水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタン
ディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mo
l. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第2315991号
及び仏国特許第2416008号]により調製される非
イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
ンの水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタン
ディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mo
l. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第2315991号
及び仏国特許第2416008号]により調製される非
イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0041】本発明の化粧品用及び/又は皮膚科学的組
成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するため
の組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ
製品として使用することができる。
成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するため
の組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ
製品として使用することができる。
【0042】本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒ
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、ペンシル状固体、スティック、エアゾールフ
ォーム又はスプレーの形態とされ得る。
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、ペンシル状固体、スティック、エアゾールフ
ォーム又はスプレーの形態とされ得る。
【0043】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は
後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又
は毛髪のストレート化処理の前、処理中又は処理後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪の
セット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ
処理、毛髪のストレート化処理、染色又は脱色用の毛髪
のための組成物を構成し得る。
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は
後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又
は毛髪のストレート化処理の前、処理中又は処理後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪の
セット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ
処理、毛髪のストレート化処理、染色又は脱色用の毛髪
のための組成物を構成し得る。
【0044】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメー
クアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、ほほ紅、マスカラ又はアイライナーとして使用され
る場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性
の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルショ
ン、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
クアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、ほほ紅、マスカラ又はアイライナーとして使用され
る場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性
の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルショ
ン、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【0045】指針として、水中油型エマルション型の支
持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相(特
に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、
一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量
%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物
に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量
%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20
重量%、好ましくは2〜10重量%である。
持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相(特
に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、
一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量
%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物
に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量
%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20
重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0046】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これらは
本発明を限定するものではない。 実施例1: 式(8)の誘導体の調製:
本発明を限定するものではない。 実施例1: 式(8)の誘導体の調製:
【化53】 窒素で8時間バブリングしながら、ヨウ化テトラブチル
アンモニウム(0.2g)の存在下において、2,4-ジヒ
ドロキシベンゾフェノン(10.7g、0.05モル)と
3-グリシジルオキシプロピルビス(トリメチルシロキ
シ)メチルシラン(17.2g、0.051モル)の混合
物を110℃にした。得られた粗油をシリカによるクロ
マトグラフィー(溶離剤:ジクロロメタン/ヘプタン:
60/40からジクロロメタン単独まで勾配をかけたも
の)にかけたところ、中間のフラクションに、淡黄色で
粘性のある油状の実施例1の誘導体が14.7g(収
率:53%)得られた: − UV(エタノール)λmax=286nm、εmax=15,090 λmax=326nm、εmax=9890
アンモニウム(0.2g)の存在下において、2,4-ジヒ
ドロキシベンゾフェノン(10.7g、0.05モル)と
3-グリシジルオキシプロピルビス(トリメチルシロキ
シ)メチルシラン(17.2g、0.051モル)の混合
物を110℃にした。得られた粗油をシリカによるクロ
マトグラフィー(溶離剤:ジクロロメタン/ヘプタン:
60/40からジクロロメタン単独まで勾配をかけたも
の)にかけたところ、中間のフラクションに、淡黄色で
粘性のある油状の実施例1の誘導体が14.7g(収
率:53%)得られた: − UV(エタノール)λmax=286nm、εmax=15,090 λmax=326nm、εmax=9890
【0047】実施例2: 式(11)の誘導体の調製:
【化54】 塩化チオニル(0.725ml、0.01モル)を、15
mlのジクロロメタンに5-ベンゾイル-4-ヒドロキシ-
2-メトキシベンゼンスルホン酸のナトリウム塩(3.3
g、0.01モル)が入った懸濁液に、室温で5分以上
かけて添加した。混合物を40℃で1時間加熱した。こ
の混合物を、5mlのジクロロメタンに1-アミノ-3-
[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)
オキシ]ジシロキサニル]プロパン(2.8g、0.0
1モル)とトリエチルアミン(1g、0.01モル)が入
った混合物に、5〜10℃の温度で滴下した。ついで、
混合物を室温で2時間保持した。これを50mlの氷冷
水に注いだ。有機相を回収し、水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥させて濃縮した。60/40のエタノー
ル/水の混合物から得られた固形物の再結晶化後、淡黄
色のパウダー状である実施例2の誘導体が3.2g(収
率:56%)得られた: − UV(エタノール)λmax=287nm、εmax=15,210 λmax=326nm、εmax=9230
mlのジクロロメタンに5-ベンゾイル-4-ヒドロキシ-
2-メトキシベンゼンスルホン酸のナトリウム塩(3.3
g、0.01モル)が入った懸濁液に、室温で5分以上
かけて添加した。混合物を40℃で1時間加熱した。こ
の混合物を、5mlのジクロロメタンに1-アミノ-3-
[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)
オキシ]ジシロキサニル]プロパン(2.8g、0.0
1モル)とトリエチルアミン(1g、0.01モル)が入
った混合物に、5〜10℃の温度で滴下した。ついで、
混合物を室温で2時間保持した。これを50mlの氷冷
水に注いだ。有機相を回収し、水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥させて濃縮した。60/40のエタノー
ル/水の混合物から得られた固形物の再結晶化後、淡黄
色のパウダー状である実施例2の誘導体が3.2g(収
率:56%)得られた: − UV(エタノール)λmax=287nm、εmax=15,210 λmax=326nm、εmax=9230
【0048】実施例3: 式(4)の誘導体の調製:
【化55】 20mlのDMFに2,4-ヒドロキシベンゾフェノン
(2.14g、0.01モル)、炭酸カリウム(2.76
g)及びヨウ化カリウム(0.276g)が入った混合物
を、窒素でバブリングし、攪拌しつつ、90℃にした。
クロロイソブチルヘプタメチルトリシロキサン(6.2
6g、0.02モル)を、90℃で15分以上かけて添
加した。混合物を90〜100℃で16時間加熱した。
反応混合物を氷に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。有
機相を回収し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
させて濃縮した。得られた粗油をシリカによるクロマト
グラフィー(溶離剤:ジクロロメタン/ヘプタン:50
/50)にかけたところ、淡黄色の油状の実施例3の誘
導体が2.1g(収率:43%)得られた: − UV(エタノール)λmax=286nm、εmax=15,550 λmax=326nm、εmax=9920
(2.14g、0.01モル)、炭酸カリウム(2.76
g)及びヨウ化カリウム(0.276g)が入った混合物
を、窒素でバブリングし、攪拌しつつ、90℃にした。
クロロイソブチルヘプタメチルトリシロキサン(6.2
6g、0.02モル)を、90℃で15分以上かけて添
加した。混合物を90〜100℃で16時間加熱した。
反応混合物を氷に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。有
機相を回収し、水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
させて濃縮した。得られた粗油をシリカによるクロマト
グラフィー(溶離剤:ジクロロメタン/ヘプタン:50
/50)にかけたところ、淡黄色の油状の実施例3の誘
導体が2.1g(収率:43%)得られた: − UV(エタノール)λmax=286nm、εmax=15,550 λmax=326nm、εmax=9920
【0049】実施例4: 以下の組成物A及びBを調製した(量は組成物の全重量
に対する重量%として表している):
に対する重量%として表している):
【表1】
【0050】上述した組成物B(本発明品)は、式(I)に
相当し、次の式:
相当し、次の式:
【化56】 の構造を有する、5重量%の本発明の2-ヒドロキシベ
ンゾフェノン官能基を有するシリコーン化合物(5)をさ
らに含有する。この化合物は、仏国特許公開第2657
351号に記載されており、この特許の実施例1に示さ
れている手順に従い合成される。
ンゾフェノン官能基を有するシリコーン化合物(5)をさ
らに含有する。この化合物は、仏国特許公開第2657
351号に記載されており、この特許の実施例1に示さ
れている手順に従い合成される。
【0051】これら各々の組成物について、UV線を照
射した後の残留したパルソール1789(4-tert-ブチル-
4'-メトキシジベンゾイルメタン)のパーセンテージ
を、以下の手順により測定した:各々の組成物につい
て、3つの対照用サンプルと3つのテスト用サンプルと
を調製した。2μl/cm 2の組成物を、すり石英プ
レート上にマイクロピペットで配した。ついでテスト用
プレートを、1kWのキセノンランプを取付けたヘレウ
スサンテスト(Heraeus Suntest)に2時間50分さらし
(1.7UV-A時間及び3UV-B時間に等しい)、対照
用プレートを同じ温度(35〜40℃)で同じ時間、暗所
で保管した。その後、各々のプレートを50gの無水エ
タノールに浸し、良好な抽出を行うために15分間超音
波で処理することにより、遮蔽剤を抽出した。得られた
溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析した。各々の
テスト用組成物において、照射後のパルソール1789の残
留量を、未照射サンプル中のその濃度に対する照射サン
プル中のその濃度の比で示す。
射した後の残留したパルソール1789(4-tert-ブチル-
4'-メトキシジベンゾイルメタン)のパーセンテージ
を、以下の手順により測定した:各々の組成物につい
て、3つの対照用サンプルと3つのテスト用サンプルと
を調製した。2μl/cm 2の組成物を、すり石英プ
レート上にマイクロピペットで配した。ついでテスト用
プレートを、1kWのキセノンランプを取付けたヘレウ
スサンテスト(Heraeus Suntest)に2時間50分さらし
(1.7UV-A時間及び3UV-B時間に等しい)、対照
用プレートを同じ温度(35〜40℃)で同じ時間、暗所
で保管した。その後、各々のプレートを50gの無水エ
タノールに浸し、良好な抽出を行うために15分間超音
波で処理することにより、遮蔽剤を抽出した。得られた
溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析した。各々の
テスト用組成物において、照射後のパルソール1789の残
留量を、未照射サンプル中のその濃度に対する照射サン
プル中のその濃度の比で示す。
【0052】得られた結果を次の表にまとめる。
【表2】
【0053】これらの結果には、シリコーン化合物(5)
により、UV線照射後のパルソール1789の光安定性が改
善されたことが示されている。
により、UV線照射後のパルソール1789の光安定性が改
善されたことが示されている。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年10月1日(1999.10.
1)
1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項21
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項22
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】削除
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】上述した化合物の中でも、以下の特徴:−
R1=R2=R3=R4=H;− n=0;− q=
1;の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する種類の
化合物を、特に挙げることができる。
R1=R2=R3=R4=H;− n=0;− q=
1;の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する種類の
化合物を、特に挙げることができる。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】削除
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】ここで、好ましく使用される化合物は以下
の特徴:− R6がメチルであり;− Bがメチルであ
り;− rが5〜20であり;− sが2〜15であ
り;− t+uが3〜10であり;− m=1であり;
− R3が水素又はメチル基である;の少なくとも1
つ、好ましくは全てを有するものである。
の特徴:− R6がメチルであり;− Bがメチルであ
り;− rが5〜20であり;− sが2〜15であ
り;− t+uが3〜10であり;− m=1であり;
− R3が水素又はメチル基である;の少なくとも1
つ、好ましくは全てを有するものである。
Claims (35)
- 【請求項1】 少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘
導体のUV線に対する安定性を改善する方法において、
2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有する有効量の
シラン又はオルガノシロキサン化合物を前記ジベンゾイ
ルメタン誘導体と組合せることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を
有するシラン又はオルガノシラン化合物が次の式(I): 【化1】 {上式中: − R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水
素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC1
-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状のC 1-C
10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基で置換されていてもよ
い、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジ
イル基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − nは0又は1であり; − oは0又は1であり; − pは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(1)、(2)又は(3): 【化2】 【化3】 -Si(R7)3 (3) の基であり、ここで − R6は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリ
フルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選
択され、数的にR6基の少なくとも80%はメチルであ
り; − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れ; − Bは同一でも異なっていてもよく、R6基及び次の
式: 【化4】 (上式中、R1、R2、L、a及びbは上述したものと
同じ意味を有する)のX基から選択され; − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数
であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも1つ
はXを示し; − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数で
あり、t+uは3以上であると理解されるものである} に相当するものであることを特徴とする請求項1に記載
の方法。 - 【請求項3】 式(I)の化合物が、以下の特徴: − R1=R2=R3=R5=H; − n=0、 − q=1 の少なくとも1つ、好ましくは全てに相当するものであ
ることを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 式(I)の化合物が、さらに以下の特徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − p=1であり; − R4が水素又はメチル基である、 の少なくとも1つ、好ましくは全てに相当するものであ
ることを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項5】 式(I)の化合物がs=0のものから選択
されることを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項6】 式(I)の化合物が、次の式: 【化5】 【化6】 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 【化13】 の化合物から選択されることを特徴とする請求項2に記
載の方法。 - 【請求項7】 式(I)の化合物が、pが1であり、Z基
がヒドロキシル又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和
のC2-C8アルキル基を有する直鎖状又は分枝状で飽
和又は不飽和のC1-C6ジイル基であるものから選択
されることを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項8】 式(I)の化合物が次の構造: 【化14】 の化合物であることを特徴とする請求項7に記載の方
法。 - 【請求項9】 式(I)の化合物が、Wが式(3)の基であ
り、n=0であるものから選択されることを特徴とする
請求項2に記載の方法。 - 【請求項10】 式(I)の化合物が、次の構造: 【化15】 の化合物であることを特徴とする請求項9に記載の方
法。 - 【請求項11】 ジベンゾイルメタン誘導体が: − 2-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 から選択されることを特徴とする請求項1ないし10の
いずれか1項に記載の方法。 - 【請求項12】 ジベンゾイルメタン誘導体が4-(tert
-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであること
を特徴とする請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 ジベンゾイルメタン誘導体が4-イソ
プロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請
求項11に記載の方法。 - 【請求項14】 化粧品的に許容可能な支持体に少なく
とも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含有するタイプ
の、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を局所
的に光保護する光安定性遮蔽化粧品組成物において、2
-ヒドロキシベンゾフェノン官能基を有する有効量の少
なくとも1種のシラン又はオルガノシランをさらに含有
することを特徴とする組成物。 - 【請求項15】 ジベンゾイルメタン誘導体が: − 2-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-メチルジベンゾイルメタン、 − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 から選択されることを特徴とする請求項14に記載の組
成物。 - 【請求項16】 ジベンゾイルメタン誘導体が4-(tert
-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであること
を特徴とする請求項15に記載の組成物。 - 【請求項17】 ジベンゾイルメタン誘導体が4-イソ
プロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請
求項16に記載の組成物。 - 【請求項18】 ジベンゾイルメタン誘導体の含有量が
組成物の全重量に対して0.01〜10重量%であるこ
とを特徴とする請求項14ないし17のいずれか1項に
記載の組成物。 - 【請求項19】 前記含有量が組成物の全重量に対して
0.1〜6重量%であることを特徴とする請求項18に
記載の組成物。 - 【請求項20】 2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基
を有するシラン又はオルガノシラン化合物が次の式
(I): 【化16】 {上式中: − R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水
素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC1
-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状のC 1-C
10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基で置換されていてもよ
い、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジ
イル基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − nは0又は1であり; − oは0又は1であり; − pは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(1)、(2)又は(3): 【化17】 【化18】 -Si(R7)3 (3) の基であり、ここで − R6は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリ
フルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選
択され、数的にR6基の少なくとも80%はメチルであ
り; − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れ; − Bは同一でも異なっていてもよく、R6基及び次の
式: 【化19】 (上式中、R1、R2、L、a及びbは上述したものと
同じ意味を有する)のX基から選択され; − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数
であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも1つ
はXを示し; − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数で
あり、t+uは3以上であると理解されるものである} に相当するものであることを特徴とする請求項14ない
し19のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項21】 式(I)の化合物が、以下の特徴: − R1=R2=R3=R5=H、 − n=0、 − q=1 の少なくとも1つ、好ましくは全てに相当するものであ
ることを特徴とする請求項20に記載の組成物。 - 【請求項22】 式(I)の化合物が、さらに以下の特
徴: − R6がメチルであり; − Bがメチルであり; − rが5〜20であり; − sが2〜15であり; − t+uが3〜10であり; − p=1であり; − R4が水素又はメチル基である、 の少なくとも1つ、好ましくは全てに相当するものであ
ることを特徴とする請求項20に記載の組成物。 - 【請求項23】 式(I)の化合物がs=0のものから選
択されることを特徴とする請求項22に記載の組成物。 - 【請求項24】 式(I)の化合物が、次の式: 【化20】 【化21】 【化22】 【化23】 【化24】 【化25】 【化26】 【化27】 【化28】 の化合物から選択されることを特徴とする請求項20に
記載の組成物。 - 【請求項25】 式(I)の化合物が、pが1であり、Z
基がヒドロキシル又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽
和のC2-C8アルキル基を有する直鎖状又は分枝状で
飽和又は不飽和のC1-C6ジイル基であるものから選
択されることを特徴とする請求項20に記載の組成物。 - 【請求項26】 式(I)の化合物が次の構造: 【化29】 の化合物であることを特徴とする請求項25に記載の組
成物。 - 【請求項27】 式(I)の化合物が、Wが式(3)の基で
あり、n=0であるものから選択されることを特徴とす
る請求項20に記載の組成物。 - 【請求項28】 式(I)の化合物が、次の構造: 【化30】 の化合物であることを特徴とする請求項27に記載の組
成物。 - 【請求項29】 シラン又はオルガノシロキサン化合物
の含有量が、組成物の全重量に対して0.5重量%以上
であることを特徴とする請求項14ないし28のいずれ
か1項に記載の組成物。 - 【請求項30】 前記含有量が組成物の全重量に対して
0.5〜20重量%の範囲にあることを特徴とする請求
項29に記載の組成物。 - 【請求項31】 次の式(I): 【化31】 {上式中: − R1は、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又
は分枝状のC1-C10アルキル基もしくは直鎖状又は
分枝状のC1-C10アルコキシ基を表し; − R2は、水素、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状
のC1-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状の
C1-C10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(CO)n-(O)o-(Z)-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基を有する、直鎖状又は
分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジイル基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − nは0又は1であり; − oは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(1)、(2)又は(3): 【化32】 【化33】 -Si(R7)3 (3) の基であり、ここで − R6は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリ
フルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選
択され、数的にR6基の少なくとも80%はメチルであ
り; − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れ; − Bは同一でも異なっていてもよく、R6基及び次の
式: 【化34】 (上式中、R1、R2、L、a及びbは上述したものと
同じ意味を有する)のX基から選択され; − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数
であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも1つ
はXを示し; − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数で
あり、t+uは3以上であると理解されるものである}
に相当する化合物。 - 【請求項32】 次の構造: 【化35】 の化合物。
- 【請求項33】 次の式(I): 【化36】 {上式中: − R1は、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又
は分枝状のC1-C10アルキル基もしくは直鎖状又は
分枝状のC1-C10アルコキシ基を表し; − R2は、水素、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状
のC1-C10アルキル基もしくは直鎖状又は分枝状の
C1-C10アルコキシ基を表し; − aは1〜3の範囲の整数であり; − bは1〜5の範囲の整数であり; − Aは式-L-Wの基であり; − Lは次の式(IIa)又は(IIb): -CH2-CHR3-[C(R4)2]m-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIa) -CH=CR3-[C(R4)2]m-(O)o-(Z)p-(Y)q- (IIb) の2価の基であり、ここで − R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、水素
又は直鎖状又は分枝状のC1-C5アルキル基を表し; − Zはヒドロキシル、又は直鎖状又は分枝状で飽和又
は不飽和のC2-C8アルキル基で置換されていてもよ
い、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C6ジ
イル基であり; − Yは-O-、-NR5-、-SO2NH-、-(CO)O-、
-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでR5は
水素又はC1-C5アルキル基であり; − mは0〜10の範囲の整数であり; − oは0又は1であり; − pは0又は1であり; − qは0又は1であり; − Wは次の式(3): -Si(R7)3 (3) の基であり、ここで − R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
枝状のC1-C30アルキル及びフェニル基から選択さ
れる}に相当する化合物。 - 【請求項34】 次の構造: 【化37】 の化合物。
- 【請求項35】 2-ヒドロキシベンゾフェノン官能基
を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物からな
る、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性
を改善するための薬剤。
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