JPH04217622A - 化粧料 - Google Patents

化粧料

Info

Publication number
JPH04217622A
JPH04217622A JP26329490A JP26329490A JPH04217622A JP H04217622 A JPH04217622 A JP H04217622A JP 26329490 A JP26329490 A JP 26329490A JP 26329490 A JP26329490 A JP 26329490A JP H04217622 A JPH04217622 A JP H04217622A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone
group
cosmetic
present
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26329490A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomomi Okazaki
岡崎 具視
Kenichi Umishio
健一 海塩
Keiichi Uehara
計一 植原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Priority to JP26329490A priority Critical patent/JPH04217622A/ja
Publication of JPH04217622A publication Critical patent/JPH04217622A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシリコーン油に溶解し、耐水性に優れ、かつU
V−A領域の波長の紫外線を吸収する特性を有するベン
ゾフェノンシリコーン誘導体を配合する事を特徴とする
化粧料に関する。
〔従来の技術〕
紫外線はさまざまな変化を皮膚にもたらすことが知られ
ている。紫外線を皮膚科学的に分類すると400〜32
0nmのUV−Aと呼ばれる長波長紫外線、320〜2
90nmのUV−Bと呼ばれる中波長紫外線、290n
m以下のUV−Cと呼ばれる紫外線に分けられる。この
うち、地上に届く紫外線はUV−A及びUV−Bであり
、UV−Cはオゾン層において吸収され地上には殆ど到
達しない。地上にまで達する紫外線の中でUV−Bは皮
膚の紅斑や水泡を形成し、メラニン形成も促進する。一
方、UV−Aは皮膚の褐色化を惹起し、皮膚の弾力性の
低下及びシワの発生を惹起し、急激な老化をもたらす、
また紅斑反応の開始を促進しあるいはある種の患者に対
してはこの反応を増強し、また光毒性あるいは光アレル
ギー反応の原因とさえなりうる。この様なUV−Aの有
害性から皮膚を保護するため、従来よりベンゾフェノン
誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ベンゾトリアゾー
ル誘導体などがUV−A吸収剤として利用され化粧料に
配合されて来た。一方、近年紫外線吸収剤の配合される
化粧料には、その効果を持続させる必要上、汗や水浴に
よって安易に流れ落ちしない耐水性に優れたジメチルシ
ロキサン等のシリコーン油基材が広く使用されるように
なってきた。これはシリコーン油基材の耐水性機能はも
ちろん、伸びのよさ、さっぱり感、べとかない等の使用
性によるところも大きい。
しかしながら、既存のUV−A吸収剤はシリコーン系基
材に対する相溶性が著しく低い。従ってシルコーン系基
材を配合した化粧料においては、従来のUV−A吸収剤
の配合が困難となり、その使用量も極く少量に限られ、
UV−A吸収剤のもつ機能が十分に発揮されないという
欠点があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
かかる事情から、シリコーン系基材に溶解し、耐水性に
UV−A領域の紫外線から皮膚を保護するUV−A吸収
剤の開発が強く望まれるようになった。そして本発明に
用いるベンゾフェノンシリコーン誘導体が上述の性質を
満足する化合物であることと、また経皮的に吸収されず
安定でかつ皮膚刺激のないことを見いだし、本発明を完
成するに至った。本発明の目的はUV−A吸収効果に優
れ、シルコーン系基材に対する溶解性に優れた安定で皮
膚刺激のないUV−A吸収剤を配合した耐水性の優れた
化粧料を提供することにある〔課題を解決するための手
段〕 即ち本発明は、下記一般式(I) で表される単位を少なくとも1個もつシロキサン類であ
って、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が一般
式O4−m/2SiR75で表されるシルコーン誘導体
を配合する事を特徴とする化粧料である。
(前記一般式においてR1、R2はそれぞれ水素原子、
炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキ
シ基を表し、R3は少なくとも2個の炭素原子を有する
二価のアルキレン基、またはオキシアルキレン基、R4
、R5は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基又
はトリメチルシロキシ基を表し、pは0又は1、m、n
は0〜3の整数を表す)である。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明のベンゾフェノンシリコーン誘導体は一般式(I
)表わされる単位と、一般式O4−n/2Sir5nで
表される単位から構成されるものであり、式中に定義し
たR1、R2の例として、水素原子、水酸基、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、S−ブチル
、t−ブチル、n−アミル、イソアミル、n−ヘキシル
、2−エチルブチル、n−ペンチル、n−オクチル、2
−エチルヘキシル基などのアルキル基、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、s−ブ
トキシ、t−ブトキシ、n−アミロキシ、イソアミロキ
シ、n−ヘキシロキシ、2−エチルブトキシ、n−ペン
チロキシ、n−オクチロキシ、2−エチルヘキシロキシ
などのアルコキシ基が挙げられ、R1、R2は同一また
は異なってもよい。R3の例としては、例えば、−CH
2CH2−、、ヘキシレン、シクロヘキシレン、デシレ
ン基などが挙げられるが、炭素数2〜4のアルキレン基
が好ましい。R4の例としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル
、フェニル、トリメチルシロキサン基等が挙げられるが
、原料の入手のしやすさ等の理由からメチル基またはそ
の一部がフェニル基であることまたはトリメチルシロキ
シ基である事が好ましい。また、mは置換基R4の数を
表し、0〜3の整数を示す。またpは0または1である
一般式O4−n/2SiR5nで表される事を特徴とす
るシロキサン単位において、R5はメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチ
ル、フェニル、トリメチルシロキシ基等が挙げられるが
、原料の入手のしやすさ等の理由からメタル基またはそ
の一部がフェニル基であること、またはトリメチルシロ
キシ基であることが好ましい。nはR7の置換基数を示
し0〜3の整数である。
本発明に用いるベンゾフェノンシリコーン誘導体は分子
量により室温液体ないし樹脂状の固体のものまで含まれ
、いずれのものも330〜370nmに最大吸収を示し
、UV−A吸収剤として利用する事かできる。
本発明に用いる基材はベンゾフェノンシリコーン誘導体
が溶解するものであれば何れでもよいが、ここで特にシ
リコーン系基材を用いると、伸びのよさ、さっぱり感、
ベとつかない等の使用感や優れた耐水性、更に、汗や水
に流れにくいなどの機能が得られる。
本発明に用いるシリコーン系基材には特に限定はないが
、例えばジメチルポリシロキサン、メチルポリシロキサ
ン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等の鎖状ポリ
シロキサン、デカメチルポリシロキサン、ドデカメチル
ポリシロキサン、テトラメチルハイドロジェンポリシロ
キサンなどの環状ポリシロキサン、ポリエーテル、脂肪
酸変性ポリシロキサン、高級アルコール変性ポリシロキ
サン、アミノ変性ポリシロキサンなとが用いられる。
なお、本発明化粧料には通常化粧料に用いられる他の成
分、例えば、油分、潤滑油、酸化防止剤、界面活性剤、
防腐剤、金属封鎖剤、香料、水アルコール、増粘剤等を
必要に応じて適宜配合する事ができる。
本発明の化粧料の剤型は任意であり、パウダー状、クリ
ーム状、ペースト状、スチック状、液状、スプレー状、
ファンデーション等何れでもよく、乳化剤を用いて乳化
してもよい。
本発明の化粧料においてベンゾフェノンシリコーン誘導
体は、単独で用いても十分に効果を発揮するが、必要に
応じて他のUV−B吸収剤、例えばエスカロール507
(バンダイク社製)のようなp−アミノ安息香酸誘導体
、ネオヘリオパン(ハーマンアンドライマー社製)のよ
うなp−メトキシケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、
ベンジリデンカンファー誘導体、ウロカニン酸またはそ
の誘導体などとあるいは二酸化チタン、酸化亜鉛等の無
機顔料と併用することも可能である。
また、本発明の化粧料におけるベンゾフェノンシリコー
ン誘導体の配合量は、上記の剤型によってまたどの程度
の紫外線保護作用を希望するかによってもことなるが、
一般には0.1〜20重量%(以下%と略す)好ましく
は0.5〜10%である。
〔実施例〕
以下、試験例及び実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
試験例1 本発明に用いるシリコーン誘導体の性状並び
に溶解性 本発明に用いるシリコーン誘導体の例として化合物No
.1〜No.7及び比較化合物として2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン(比較化合物(1))、4
−イソプロピルジベンゾイルチタン(比較化合物(2)
)の溶解性をシリコーン系油剤であるシリコーンKF9
6(10cs)、シリコーンKF96(300cs)(
いずれも信越化学社製)及びスクワランで試験した。
各化合物の室温(25℃)での溶解度(w/w)を表1
に示した。室温で完全に透明に溶解するものについて○
印、若干でも白濁するものについては×印で示した。比
較化合物(1)、(2)との比較から、本発明ベンゾフ
ェノンシルコーン誘導体はいずれもシリコーン系油剤に
よく溶解し、本発明の目的を達成していることがわかる
試験例2 本発明に用いるシリコーン誘導体の耐水性 試験に先立って、試験方法を説明する。男性パネル10
名の下腕部内側全面を石ケンを用いて十分に洗浄し、乾
燥した後、試料液0.5gを下腕部内側全面に塗擦する
。その後、塗擦部3cm2をアセトニトリル20mlを
用いて抽出し、その溶液の吸光度を分光光度計にて測定
する(これを吸光度Aとする)。抽出後、洗濯機(松下
電機製NA−400)を渦巻強に設定し、水温を30±
2℃に調節した水を毎分10l放水しつづける。この洗
濯機に下腕部を2分間浸漬した後、ドライヤー乾燥して
上記と同様にアセトニトリルで抽出する。この溶液の吸
光度をBとする。耐水性の評価は次式により計算して皮
膚上の残存率で示した。
(残存率の計算) (試料液の作成) 本発明シルコーン誘導体☆3No.8〜12及び比較化
合物としてエスカロール507を選び、各々3gを97
gのスクワランに溶解して試料液とした。試料液のNo
.は各溶解化合物のNo.により、試料液8〜12とし
、エスカロール507を比較試料液とした。
(結果) 上記各試料液を用いて試験した結果を表2に示した。こ
の結果より本発明シリコーン誘導体は従来の紫外線吸収
剤エスカロール507より耐水性に優れており、汗、水
浴々により容易に流れ落ちるものではない事が判明した
(以下余白) 実施例1 日焼け止め化粧料(油状タイプ)■デカメチ
ルシクロペンタシロキサン 47.0%■ジメチルポリ
シロキサン 20.0 (10cs/25℃) ■メチルフェニルポリシロキサン 18.0(20cs
/25℃) ■シリコーン樹脂 10.0 ■エスカロール507 3.0 ■シリコーン誘導体(No.2) 2.0(製法) ■〜■を混合し、十分に溶解した後ろ過して製品とする
実施例2 日焼け止め化粧料(w/oクリーム)■オク
タメチルシクロテトラシロキサン 20.5%■ジメチ
ルポリシロキサン(100cs) 5.0■ジメチルポ
リシロキサン 3.0 (2,500,000cs) ■流動パラフィン 5.0 ■ポリエーテル変性シリコーン 6.0■エスカロール
507 5.0 ■シリコーン誘導体(No.4) 4.0■精製水 4
3.1 ■L−グルタミン酸ナトリウム 3.0■1,3−ブチ
レングリコール 5.0■防腐剤 0.2 ■香料 0.2 (製法) ■〜■、■を混合し、加熱溶解して70℃に保ち油相部
とする。別に■〜■を加熱溶解して70℃に保ち、水相
部とする。この油相部に水相部を添加して乳化機により
、十分に乳化する。乳化後かきまぜなから冷却し、35
℃以下になったら容器に流し込み、放冷し、35℃以下
になったら容器に流し込み、放冷して固める。
実施例3 日焼け止め化粧料(o/wクリーム)■デカ
メチルシクロペンタシロキサン 8.0%■流動パラフ
ィン 3.0 ■イソプロピルミリステート 2.0 ■ワセリン 4.0 ■セタノール 4.0 ■ステアリン酸 3.0 ■グリセリルモノイソステアレート 3.0■ネオヘリ
オパンAV 3.0 ■シリコーン誘導体(No.7) 1.0■防腐剤 0
.2 ■香料 0.2 ■グリセリン 10.0 ■プロピレングリコール 5.0 ■ヒアルロン酸 0.01 ■水酸化カリウム 0.2 ■精製水 53.39 (製法) ■〜■を70℃で加熱各版して油相部とする。■〜■を
70℃に加熱し完全溶解した後水相部とする。
油相部を水相部に添加し乳化機にて乳化する。乳化物を
熱交換器にて30℃まで冷却した後、充填して製品を得
る。
実施例4 日焼け止めローション ■ジメチルポリシロキサン(5cs) 10.0%■メ
チルフェニルポリシロキサン(20cs) 7.0■ス
テアリン酸 1.0 ■エスカロール507 5.0 ■シリコーン誘導体(No.8) 10.0■防腐剤 
0.2 ■香料 0.2 ■グリセリン 5.0 ■モンモリロナイト 0.5 ■水酸化カリウム 0.2 ■精製水 60.9 (製法) ■〜■を70℃で加熱攪拌して油相部とする。■〜■を
70℃に加熱溶解し水相部とする。油相部を水相部中に
添加し、乳化機にて乳化する。乳化物を熱交換器にて3
0℃まで冷却した後充填し日焼け止めローションを得る
実施例5 日焼け止め両用ファンデーション■シリコー
ン処理酸化チタン 9.5%■シリコーン処理マイカ 
40.0 ■シルコーン処理タルク 20.45 ■シリコーン処理酸化鉄 7.5 ■球状ナイロンパウダー 10.0 ■トリメチロールプロパントリイソステアレート 5.
0■スクワラン 3.0 ■ビースワックス 2.0 ■シリコーン誘導体(No.9) 0.5■ソルビタン
トリオレート 1.0 ■防腐剤 0.5 ■ビタミンE 0.05 ■香料 0.5 (製法) ■〜■をヘンシェルミキサーで混合し、これに■〜■を
加熱溶解混合したものを添加混合した後粉砕し、これを
中皿に成型し日焼け止め両用ファンデーションを得た。
実施例6 日焼け止めスチック化粧料 ■酸化チタン 10.0% ■酸化亜鉛 7.0 ■マイカ 16.0 ■赤色酸化鉄 1.5 ■黄色酸化鉄 1.5 ■黒色酸化鉄 1.0 ■ジメチルポリシロキサン(20cs) 29.4■ト
ルメチロールプロパントリ−2−エチルヘキサノエート
 8.0 ■流動パラフィン 7.0 ■マイクロクリスタリンワックス 2.0■セレシン 
1.0 ■固形パラフィン 6.0 ■エスカロール507 5.0 ■シリコーン誘導体(No.12) 3.0■香料 0
.5 ■酸化防止剤 0.1 ■ソルビタンセスキオレート 1.0 (製法) ■〜■をヘンシェルミキサーで混合し、■〜■、■、■
、■、■を加熱攪拌溶解したものに加え混合する。次に
■〜■、■を溶融したものを上記混合物に添加し、十分
混合したのち、スチック状に成型する。
実施例7 日焼け止め化粧下地 ■ジメチルポリシロキサン(2cs) 19.0%■グ
リセリルトリイソステアレート 10.0■アイソパー
G 5.0 ■ソルビタンセスキオレート 1.0 ■ポリシロキサンエチレン変性オルガノポリシロキサン
 3.0 ■精製水 45.0 ■1,3−ブチレングリコール 5.0■微粒子酸化チ
タン 10.0 ■パルソールMCX(GIVA社製) 1.0■シリコ
ーン誘導体(No.3) 1.0■防腐剤 適量 ■酸化防止剤 適量 ■香料 適量 (製法) ■〜■、■、■、■,■を70℃で撹拌溶解し、これに
あらかじめ70℃に加熱した■〜■、■を添加し、乳化
分散後冷却して、目的の日焼け止め化粧下地を得た。
〔発明の効果〕
本発明の化粧料はUV−A領域の紫外線を吸収し、耐水
性に優れており、基剤や他の配合成分を事由に選べる化
粧料を提供する事ができると同時に、日焼け止め化粧料
として炎天下などの過酷な条件下に放置した場合におい
ても安定性に優れているという利点をゆうする。さらに
用いる紫外線吸収剤がシリコーン誘導体であることによ
り、伸びがよく、さっぱり感があるべとつかない等の極
めて優れた使用性、且つ汗や水に流れにくいためにUV
−A吸収の効果が長く持続するという利点を有している
特許出願人 株式会社 資生堂

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式(I) で表される単位を少なくとも1個もつシロキサン類であ
    って、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が一般
    式O4−m/2SiR5mで表されるシリコーン誘導体
    を配合する事を特徴とする化粧料。 (前記一般式においてR1、R2はそれぞれ、水素原子
    、炭素数1〜8のアルキル基又は、炭素数1〜8のアル
    コキシ基を表し、R3は少なくとも2個の炭素原子を有
    する二価のアルキレン基、またはオキシアルキレン基、
    R4、R5は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル
    基またははトリメチルシロキシ基を表わし、pは0又は
    1、m、nは0〜3の整数を表す)
JP26329490A 1990-10-01 1990-10-01 化粧料 Pending JPH04217622A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26329490A JPH04217622A (ja) 1990-10-01 1990-10-01 化粧料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26329490A JPH04217622A (ja) 1990-10-01 1990-10-01 化粧料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04217622A true JPH04217622A (ja) 1992-08-07

Family

ID=17387477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26329490A Pending JPH04217622A (ja) 1990-10-01 1990-10-01 化粧料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04217622A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0655453A1 (en) * 1993-11-25 1995-05-31 Shiseido Company Limited A benzophenone derivative, and ultraviolet light absorbent and an endermic liniment
FR2782516A1 (fr) * 1998-08-21 2000-02-25 Oreal Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisation

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0655453A1 (en) * 1993-11-25 1995-05-31 Shiseido Company Limited A benzophenone derivative, and ultraviolet light absorbent and an endermic liniment
US5475126A (en) * 1993-11-25 1995-12-12 Shiseido Company Ltd. Benzophenone derivative, an ultraviolet light absorbent and an endermic liniment
FR2782516A1 (fr) * 1998-08-21 2000-02-25 Oreal Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisation
EP0982310A1 (fr) * 1998-08-21 2000-03-01 L'oreal Procédé de photostabilisation de filtres solaires dérivés du dibenzoylméthane, compositions cosmétiques filtrantes photostabilisées ainsi obtenues et leurs utilisations.

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3724988B2 (ja) 新規シリコーン化合物及びそれを含有してなる化粧料
KR100697054B1 (ko) 실리콘중합물 및 실리콘조성물 및 그것을 사용한 화장료
JP3658561B2 (ja) 化粧料
JP3428104B2 (ja) ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤
KR20050042199A (ko) 신규 오가노폴리실록산 중합물, 페이스트상 조성물 및 이조성물을 이용한 화장료
JP2009256616A (ja) グリセリン変性シリコーン及びそれを含む化粧料
JP2008266285A (ja) オルガノシロキサン誘導体
JP2003292415A (ja) 化粧料
EP3878517A1 (en) Cosmetic product
JP3515873B2 (ja) 日焼け止め化粧料
JP2003146832A (ja) 化粧料
JPH04217621A (ja) 化粧料
JP5345309B2 (ja) 化粧料
JPH04217622A (ja) 化粧料
JP3229383B2 (ja) アルキル−アリール1,3−プロパンジオンシリコーン誘導体及びそれを配合した皮膚外用剤
EP2699622A1 (en) A silicone compound and photoprotective personal care compositions comprising the same
JP2860305B2 (ja) 皮膚外用剤
JPH0717983A (ja) 5−アリルペンタジエン酸シリコン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤
JP3088224B2 (ja) シリコーン系ヒダントイン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤
JPH07223932A (ja) 皮膚外用剤
JPH049355A (ja) 桂皮酸誘導体、紫外線吸収剤およびそれを配合した皮膚外用剤
JPH0543585A (ja) スチリルケトンシリコーン誘導体及びそれを配合した皮膚外用剤
JPH04139122A (ja) 化粧料
JPH07267842A (ja) 日焼け止め化粧料
JPH05247063A (ja) ジベンゾイルメタンシリコ−ン誘導体及びそれを配合した皮膚外用剤