JPH03287589A - ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤 - Google Patents

ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤

Info

Publication number
JPH03287589A
JPH03287589A JP2086446A JP8644690A JPH03287589A JP H03287589 A JPH03287589 A JP H03287589A JP 2086446 A JP2086446 A JP 2086446A JP 8644690 A JP8644690 A JP 8644690A JP H03287589 A JPH03287589 A JP H03287589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone
benzophenone derivative
ultraviolet absorber
external use
appropriate amount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2086446A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Yokogawa
佳浩 横川
Masashi Yoshida
正志 吉田
Kenichi Umishio
健一 海塩
Keiichi Uehara
計一 植原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Priority to JP2086446A priority Critical patent/JPH03287589A/ja
Publication of JPH03287589A publication Critical patent/JPH03287589A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cosmetics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なシリコーン系ベンゾフェノン誘導体、
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤に関する。
さらに詳しくは、シリコーン油に溶解し、耐水および耐
油性に優れ、かつ、UV−AB領領域波長の紫外線吸収
特性を有する新規なシリコーン系ベンゾフェノン誘導体
に関する。
〔従来の技術〕
周知のように種々の紫外線吸収剤は、紫外線照射に起因
して発生するプラスチック、繊維などのクラック、強度
の低下、着色、褪色などの劣化現象を防止するのに有用
な効果を発揮し、また化粧品分野においても人皮膚に有
害な290〜400nm波長の太陽光線を吸収し、皮膚
の炎症を防止する目的で使用されている。
紫外線吸収剤は、一般的に安息香酸系、ベンゾフェノン
系、アゾール系およびその他に分類される。とくに、パ
ラアミノ安息香酸(PABA)等の有効性は良く知られ
る所である。
〒方、外用剤基剤には、低分子量のジメチルポリシロキ
サンなどのシリコーン系基剤が広く使用されていること
は周知のとおりである。
これはシリコーン系基剤のもつ伸びの良さ、さっばり感
、べとつかない等の使用性および汗や水に流れにくいな
どの機能性に優れている点によるところが大きい。
〔発明が解決しようとする課題〕
監土に血立皿亙A しかしながら、既存のUV−AB例えば 2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノンは、シリコーン系基剤
に対する相溶性が著しく低い。
したがって、シリコーン系基剤の外用剤に配合するには
、油性基剤をさらに添加しなければならず、前述のシリ
コーン系基剤の有用性が十分に発揮できないという欠点
があった。
及旦曵旦ヱ かかる事情から、シリコーン油に溶解し、耐水および耐
油性に優れた紫外線吸収剤を得るべく鋭意研究を重ねた
結果、本発明に係る新規なシリコーン系ベンゾフェノン
誘導体が優れた紫外線吸収作用を有するという新たな事
実を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
〔問題点を解決するための手段および作用〕すなわち、
請求項1記載の本発明は で示されるシリコーン系ベンゾフェノン誘導体に関する
請求項2記載の発明は請求項1のシリコーン系ベンゾフ
ェノン誘導体からなる紫外線吸収剤に関する。
請求項3記載の発明は請求項1のシリコーン系ベンゾフ
ェノン誘導体を含有した皮膚外用剤に関する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明のシリコーン系ベンゾフェノン誘導体は対応する
カルボキシル化合物を常法により酸クロリドとし、公知
の方法で得られる2、4−ジヒドロキシベンゾフェノン
と反応させることにより製造される。
請求項2記載の紫外線吸収剤は、とくにその適用分野を
限定するものではなく、請求項1記載のシリコーン系ベ
ンゾフェノン誘導体の特性と目的に応じ、紫外線吸収剤
が利用される各種製品に利用されうるものである。
請求項3記載の皮膚外用剤は、とくにその適用分野を限
定するものではなく、請求項1記載のシリコーン系ベン
ゾフェノン誘導体の特性と目的に応じ、化粧料、医薬部
外品等に利用されつるものである。
また、化粧品や医薬部外品等の外用剤に配合する場合は
、通常用いられる他の成分、例えば油分、潤滑剤、本発
明以外の紫外線吸収剤、酸化防止剤界面活性剤、防腐剤
、香料、水、アルコール、増粘剤等を必要に応じて適宜
配合することができる。その剤形は任意であり、パウダ
ー状、クリーム状、ペースト状、スチック状、液状、ス
プレー状、ファウンデーション等何れの剤形でもかまわ
ず、又、乳化剤を用いてW2O型、O/W型に乳化して
も良い。また、その配合量は上記の剤形によってもこと
なるが、一般には、0.1〜20%、好ましくは0.5
〜10%である。
〔実施例〕
2以下に本発明の新規なベンゾフェノン誘導体の合成例
、及びその物理的性質を示し、本発明の詳細な説明する
。なお、本発明はこれにより限定されるものではない。
姦底I 300mlの三角フラスコに2.4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン10.0gを入れ、冷却下で攪拌しなから3
−トリメチルシリルプロピオニルクロリド264gを少
量づつ滴下した。滴下終了後、30分間攪拌を続けた後
、反応生成物をシリカゲルを用いたカラムクロマト法で
分離後再結晶用法により精製して、4−(3−)リメチ
ルシリルプロパノイルオキシ)−2ヒドロキシベンゾフ
エノンを得た。
融点:32℃ ’H−NMR(CDCIs) 7.68(2H,aro
m、、d(J=7.0Hz))。
7、52(18,arom、 、 tL 7.61(I
H,arom、 、 t)+7、62(IH,arom
、 、 d(J=8.0H2))。
6、84(IH,arom、 、 d(J=2.0Hz
))。
6、66(IH,arom、 、 dd、 (J=2.
0.8.0Hz)0.98−1.57(4H,−(CH
t)s−、m)。
0.08(91(、Mea+ s) 次に、合成例に従って製造した化合物4−(3−トリメ
チルシリルプロパノイルオキシ)−2ヒドロキシベンゾ
フエノンについて、紫外線吸収スペクトルを測定した結
果、λmax=355nm、  t =9600であっ
た。 さらに、モルモットの背部皮膚を用いたUV−A
B領域紫外線(280400nm:以下UV−ABとよ
ぶ)による日焼は防止効果試験を実施した。その結果、
該化合物が優れたUV−ABによる日焼は防止効果を有
することを見出した。
次に本発明に係る化合物4−(3−トリメチルシリルプ
ロパノイルオキシ)−2ヒドロキシベンゾフエノンの動
物皮膚安全性試験および日焼は防止効果試験の結果につ
いて以下に示す。
(以下余白) 表−14−(3−トリメチルシリルプロパノイルオキシ
”)−2ヒドロキシベンゾフエノンの動物皮膚安全性試
験 表中(1)は、体重300500 gの健常なノ1−ト
レー系モルモット5匹を使用した。モルモットの背部を
刈上し、更にチオグリコール酸を含むクリームにて脱毛
、温水中で充分洗浄してから24時間後に実験に供した
。実験時にモルモットを固定器に部位に固定し、背部脱
毛部位1cm”に試料0.02m1づつ塗布し24時間
後に皮膚反応を観察した。判定は、紅斑が全く認められ
ないもの:0、わずかながら紅斑が認められるもの=1
、明らかな紅斑が認められるもの=2、強い紅斑が認め
られるもの:3として評価した。
表中(2)は、白須泰彦等編「新しい毒性試験と安全性
の評価J 、457頁、(ソフトサイエンス社)の光毒
性試験法に準拠して実施した。但し、本実験は、体重3
00〜500g  の健常なハートレー系モルモット5
匹を使用し、試料塗布量は1cm”に0.02m1.光
線照射は東芝製PL−408LBランプで総エネルギー
量1.3X10″エルグ/cm”にて行い、判定は(1
)と同様の基準に従い、24時間後に行った。
その結果、表−1に示す通り、本発明に係る化合物4−
(3−トリメチルシリルプロパノイルオキシ)−2ヒド
ロキシベンゾフエノンは、皮膚−次刺激性および光毒性
とも全く認められなかった。
表−2 4−(3−トリメチルシリルプロパノイルオキシ)−2
ヒドロキシベンゾフエノンのUV−ABによる日焼は防
止効果試験 日焼は防止効果試験は、福田等ジャーナル オブソサエ
ティー オブ コスメテイック ケミストジャパン(J
、 Soc、 Cosmet、 Chem、 Japa
n)、 15巻、254〜260(1981)の試験法
に準拠して実施した。
但し本実験は体重300〜500g  の健常なハート
レー系モルモット5匹を使用し、試料塗布量はlcかに
0.02m1.とした。判定は前記の基準に従い、光線
照射24時間後に行った。その結果、表−2から明らか
なように、4−(3−トリメチルシリルプロパノイルオ
キシ)−2ヒドロキシベンゾフエノンは、UV−ABに
よる日焼けを完全に防止することが判明した。
シリコーン基剤にたいする溶解性については、25℃に
おいて、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリ
シロキサンに対する溶解性試験を行った。
いずれにおいても5重量%以上溶解し、優れた溶解性を
示した。なお類似構造を有する2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノンは殆ど溶解性を示さなかった。
また、耐水性、耐油性については、水50%エタノール
溶液、流動パラフィン等の油に、本発明のシリコーン系
ベンゾフェノン誘導体を攪拌混合し、50℃に60日間
放置し、加水分解等が起こらないことから、耐水性、耐
油性が優れていることを確認した。
以上の結果から、請求項記載のシリコーン系ベンゾフェ
ノン誘導体は、紫外線吸収剤として、優れた有効性を有
し、安全性も高く、シリコーン基剤に対する溶解性の優
れた化合物である。
次に請求項記載のシリコーン系ベンゾフェノン誘導体を
紫外線吸収剤として適用するための実施例を示す。なお
本発明はこれにより限定されるものではない。 配合量
は重量%である。
塞」L例」2 日焼は止め乳液 (A)デカメチルシクロペンタシロキサン69.5 ポリエチレングリコール    5.0モンモリロナイ
ト        0.5分散剤・キレート剤    
  適量 アルカリ           適量 (B)ステアリン酸          2.0セチル
アルコール       1.0ワセリン      
      5.0ジメチルポリシロキサン (10cs/25℃) 10.0 メチルフェニルポリシロキサン (20cs/25℃)2.0 グリセリルモノステアレート   1.5ポリオキシエ
チレン(20モル) モノオレート1.5 4−(3−)リメチルシリル プロパノイルオキシ)−2ヒドロキシ ベンゾフエノン        2°0香料     
        適量 防腐剤            適量 酸化防止剤          適量 〈製法〉 加熱溶解した(A)相に加熱溶解した(B)相を添加、
よく攪拌し、ホモミキサーで均一に分散後攪拌冷却する
mエ 日焼は止めクリーム (A)デカメチルシクロペンタシロキサン41.0 ポリエチレングリコール    5.0分散剤    
        適量 (B)セチルアルコール       5.0ワセリン
            10.0ジメチルポリシロキ
サン (10cs/25°C)       15.0メチル
フェニルポリシロキサン (20cs/25℃)5.0 ミクロクリスタリンワックス  5.0グリセリルモノ
ステアレート2.0 ポリオキシエチレン ソルビタンモノステアレート2.0 (20モル) 4−(3−トリメチルシリル プロパノイルオキシ)−2ヒドロキシ ベンゾフエノン        5.0香料     
        適量 防腐剤            適量 酸化防止剤          適量 (C)二酸化チタン         5.0(最大粒
径0.1μ以下、平均粒子径 10〜40 mμ) 色材             適量 く製法〉 (A)相を加熱溶解した後(C)相を添加しホモミキサ
ーで均一に分散する。それに(B)相を加熱溶解したも
のを添加し、よく攪拌し、ホモミキサーで均一に分散後
、攪拌冷却する。
!JLI−日焼は止め両用ファンデーション(A)シリ
コーン処理酸化チタン   9.5シリコーン処理マイ
カ     40.0シリコーン処理タルク     
20.45シリコーン処理験化鉄     7.5球状
ナイロンパウダー     10.0(B)トリメチロ
ールプロパン トリイソステアレート     5.0スクワラン  
         3.0ピースワツクス      
   2.04−(3−)リメチルシリル プロパノイルオキシ)−2ヒドロキシ ベンゾフエノン        0.5ソルビタントリ
オレート     1.0防腐剤          
  0.5ビタミンE             O,
05香料             0.5く製法〉 (A)相をヘンシェルミキサーで混合し、これにCB)
相を加熱溶解混合したものを添加混合した後粉砕し、こ
れを中皿に成形する。
m−日焼は止めスチック化粧料 (A)酸化チタン          10.0酸化亜
鉛           7.0マイカ       
     16.0赤色酸化麩          1
.5黄色酸化銖           1.5黒色酸化
鉄          1.0(B)ジメチルポリシロ
キサン(20cs/25℃)29.4 トリメチロールプロパン トリー2−エチルヘキサノエート 10.0 4−(3−トリメチルシリル プロパノイルオキシ)−2ヒドロキシ ベンゾフエノン        5.0酸化防止剤  
         0.1ソルビタンセスキオレート 
   1.0流動パラフイン        8.0(
C)マイクロクリスタリンワックス 2.0セレシン 
           1.0固形パラフイン    
     6.0香料             0.
5く製法〉 (A)相をヘンシェルミキサーで混合し、(B)相を加
熱攪拌溶解したものに加え、混合する。次に(C)相を
溶融したものを上記混合物に添加し、十分混合した後、
スティック状に成型し、日焼は止めスティック化粧料を
得た。
)11− 日焼は止め化粧下地 (、A)ジメチルポリシロキサン 2C3/25℃19
.0グリセリルトリイソステアレート  10.0フイ
ソパー (登録商標)5.0 ソルビタンセスキオレート1.0 ポリオキシエチレン変性オルガノ ポリシロキサン        3.04−(3−トリ
メチルシリル プロパノイルオキシ)−2ヒドロキシ ベンゾフエノン         8.0酸化防止剤 
           適量香料          
     適量(B)精製水            
 38.01.3−ブチレングリコール      5
.0微粒子酸化チタン         1O10防腐
剤              適量く製法〉 (A)相を70℃で攪拌溶解し、これにあらかじめ70
℃に加熱した(B)相を添加し、乳化分散後冷却して目
的の日焼は止め化粧下地を得た。
これらの皮膚外用剤は、いずれも高い紫外線防止効果を
有し、かつ化粧持ちに優れるものであった。
〔発明の効果〕
本発明に係る請求項1のシリコーン系ベンゾフェノン誘
導体は、UV−AB波長領域の優れた紫外線吸収効果を
もつとともにシリコーン油に対して優れた溶解性を示す
極めて有用な新規化合物である。 また、請求項2の紫
外線吸収剤は、化粧料、医薬部外品等の、とくに、外用
剤配合に適し、基剤の特性を損なうことなく、任意量配
合でき、かつ耐水性、耐油性にも優れた紫外線吸収剤で
ある。請求項3の皮膚外用剤は、高い紫外線防止効果を
有する優れたものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)下記構造式( I )で示されるシリコーン系ベンゾ
    フェノン誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 2)請求項1記載のシリコーン系ベンゾフェノン誘導体
    からなる紫外線吸収剤。 3)請求項1記載のシリコーン系ベンゾフェノン誘導体
    を含有した皮膚外用剤。
JP2086446A 1990-03-31 1990-03-31 ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤 Pending JPH03287589A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2086446A JPH03287589A (ja) 1990-03-31 1990-03-31 ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2086446A JPH03287589A (ja) 1990-03-31 1990-03-31 ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03287589A true JPH03287589A (ja) 1991-12-18

Family

ID=13887151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2086446A Pending JPH03287589A (ja) 1990-03-31 1990-03-31 ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03287589A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2782516A1 (fr) * 1998-08-21 2000-02-25 Oreal Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisation
CN109749701A (zh) * 2019-01-09 2019-05-14 广州天宸高新材料有限公司 一种紫光led封装用有机硅组合物及其制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2782516A1 (fr) * 1998-08-21 2000-02-25 Oreal Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisation
EP0982310A1 (fr) * 1998-08-21 2000-03-01 L'oreal Procédé de photostabilisation de filtres solaires dérivés du dibenzoylméthane, compositions cosmétiques filtrantes photostabilisées ainsi obtenues et leurs utilisations.
CN109749701A (zh) * 2019-01-09 2019-05-14 广州天宸高新材料有限公司 一种紫光led封装用有机硅组合物及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3428104B2 (ja) ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤
JPH02295912A (ja) 肌用化粧料
JP2001072531A (ja) 化粧品配合物またはスキンケア用配合物の耐水性を改善する添加物
EP0548694A1 (en) Oil-based solid cosmetic composition
JP3515873B2 (ja) 日焼け止め化粧料
JPS63165310A (ja) 光に安定な化粧品組成物
JPH07277914A (ja) 化粧料
JP4376765B2 (ja) 桂皮酸誘導体、その紫外線吸収剤としての用途、及びこれを配合した紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。
JP2008007444A (ja) 新規な桂皮酸誘導体、その紫外線吸収剤としての用途、及びこれを配合した紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。
JPS62240611A (ja) 長波長紫外線吸収剤
JPH03287589A (ja) ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤
JP3480954B2 (ja) 皮膚外用剤
JPH08208710A (ja) 環状イヌロオリゴ糖誘導体及びそれを含有する化粧料
JPH02212579A (ja) 柴外線吸収組成物としてのベンゼン・ビス―1,3―ジケトン誘導体
JPH049355A (ja) 桂皮酸誘導体、紫外線吸収剤およびそれを配合した皮膚外用剤
JPH0987234A (ja) 皮膚又は毛髪用紫外線吸収剤、並びにこれを含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料
JPH0717983A (ja) 5−アリルペンタジエン酸シリコン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤
JPS6239517A (ja) 化粧料
JPH03287588A (ja) ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤
JPH07238275A (ja) 紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤
JPH0632710A (ja) 皮膚外用剤
JPH02153988A (ja) 紫外線を吸収するシクロヘキセニリデン組成物
JP2004051550A (ja) ファンデーション組成物
JPH02117613A (ja) 皮膚外用剤
JPH05186429A (ja) ベンジリデンヒダントイン誘導体及びそれを配合した皮膚外用剤