ES2253518T3 - Procedimiento de limpieza de una superficie solida por eliminacion de suciedades organicas y/o minerales por medio de microemulsion. - Google Patents

Procedimiento de limpieza de una superficie solida por eliminacion de suciedades organicas y/o minerales por medio de microemulsion.

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ES2253518T3
ES2253518T3 ES02710948T ES02710948T ES2253518T3 ES 2253518 T3 ES2253518 T3 ES 2253518T3 ES 02710948 T ES02710948 T ES 02710948T ES 02710948 T ES02710948 T ES 02710948T ES 2253518 T3 ES2253518 T3 ES 2253518T3
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Arkema SA
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Abstract

Procedimiento de limpieza de una superficie sólida que comprende a) una etapa de limpieza de la dicha superficie sólida por medio de una composición de limpieza de tipo microemulsión, caracterizada porque comprende las siguientes etapas: b) escurrimiento de la dicha superficie limpia, c) enjuague de la dicha superficie escurrida con un solvente orgánico o una mezcla de solventes orgánicos de punto de ebullición mayor o igual a 90ºC, y d) secado de la dicha superficie enjuagada con el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos utilizados en c).

Description

Procedimiento de limpieza de una superficie sólida por eliminación de suciedades orgánicas y/o minerales por medio de una microemulsión.
La presente invención se relaciona con un procedimiento de limpieza, más precisamente se relaciona con un procedimiento de suciedades orgánicas y/o minerales de una superficie sólida (o substrato)
En la industria eléctrica, electrónica, óptica y mecánica particularmente, es necesario eliminar totalmente las suciedades minerales y/o orgánicas de piezas o materiales productos terminados o antes de sufrir las etapas posteriores de transformación.
Tradicionalmente, estas superficies siendo limpias con del 1,1,1-tricloroetano, solvente muy polivalente que ha sido condenado por el protocolo de Montreal en razón de su impacto sobre la capa de ozono.
Es igualmente conocido utilizar composiciones de limpieza que se presentan bajo la forma de microemulsiones estables a temperatura ambiente tales como las descritas en la patente FR 2 795 088 que presenta la ventaja de eliminar a la vez la suciedad orgánica y mineral pues combina una parte solvente y una parte mineral.
Sin embargo, es necesario efectuar un enjuague con de la superficie tratada con las dichas composiciones tipo microemulsión y, dentro de los dominio técnicos precitados, las superficies deben ser, no solamente exentas de toda suciedad mineral y/o orgánica sino igualmente liberadas de agua.
Se ha encontrado ahora un procedimiento de limpieza, que permite eliminar todas las suciedades orgánicas y 70 minerales y las trazas de una superficie sólida (ó sustrato)
a) que comprende una etapa de limpieza de la dicha superficie sólida por medio de una composición de limpieza de tipo microemulsión, caracterizada, por que comprende las siguientes etapas:
b) escurrimiento de la dicha superficie limpia,
c) enjuague de la dicha superficie escurrida con un solvente orgánico o una mezcla de solventes orgánicos de punto de ebullición mayor o igual a 90ºC, y
d) secado de la dicha superficie enjuagada con el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos utilizados en c).
La composición de la limpieza de tipo microemulsión utilizada según la invención presenta la ventaja de poder eliminar eficazmente de la superficie sólida para limpiar todas las suciedades orgánicas y/o minerales.
Esta composición de limpieza de tipo microemulsión está descrita en la solicitud de patente FR 2 795 088
Comprende particularmente:
(A) 30 a 70 partes en peso, en particular 35 a 60 partes en peso, de agua;
(B) 20 a 60 partes en peso, en particular 25 a 55 partes en peso de al menos un solvente orgánico líquido a la temperatura ambiente; y
C) 5 a 30 partes en peso, en particular 10 a 25 partes en peso, de al menos un agente tenso activo de fórmula (I)
(I)R^{1} --- O ---
\delm{C}{\delm{\dpara}{O}}
--- CH_{2} ---
\delm{CH}{\delm{\para}{SO _{3}  ^{\ominus} }}
---
\delm{C}{\delm{\dpara}{O}}
--- O --- R^{2}, \hskip0,5cm M^{\oplus}
En la cual:
- R^{1} y R^{2} representan cada uno independientemente un radical alquilo, lineal o ramificado, en C_{5}-C_{20};
- M es un catión escogido entre N^{+} , K^{+} y NR_{4}^{+} las R representa cada una independientemente hidrógeno o un radical alquilo en C_{1}-C_{4};
(A) + (B) + (C) representan 100 partes en peso.
La etapa de limpieza puede ser realizada en una tina para inmersión o un baño para ducha en combinación con ondas ultrasónicas, vibraciones ó conmociones mecánicas.
La composición de limpieza de tipo microemulsión será utilizado a una temperatura que vaya de la temperatura ambiente (alrededor de 20ºC) a 60ºC y preferencialmente, a una temperatura comprendida entre 20ºC y 40ºC.
La duración de la limpieza de la superficie sólida- etapa a) - está en función del tipo de suciedad y de su adherencia a la superficie sólida.
Esta duración de limpieza no sobrepasa los 5 minutos e, preferencialmente, está comprendida entre 1 a 3 minu-
tos.
El o los solventes orgánicos (B) contenido(s) en la composición de limpieza de tipo microemulsión utilizada en la etapa a) son escogidos preferiblemente entre los hidrocarburos alifáticos, los monoéteres de alquilenglicoles y los monoéteres de dialquilenglicoles.
Los hidrocarburos alifáticos pueden ser hidrocarburos lineales, ramificados, cíclicos o sus combinaciones. Contiene particularmente de 3 a 24 átomos de carbono, preferiblemente 6 a 24 átomos de carbono. Ejemplos de hidrocarburos alifáticos disponibles en el comercio son:
- los NORPAR™ 12, 13 y 15 (solventes parafínicos normales disponibles en la Sociedad "EXXON CORPORATION");
- los ISOPAR™ G, H, K, L, M, V (solventes isoparafínicos disponibles en la Sociedad "EXXON CORPORATION");
- los solventes SHELLSOL™ (disponibles en la Sociedad "SHELL CHEMICAL COMPANY");
- los PETROSOLV™ de CEPSA D-15/20, D-19/22, D-20/26, D-24/27, D-28/31 (solventes parafínicos e isoparafínicos disponibles en la Sociedad "CEPSA");
- los solventes hidrocarbonados EXXSOL™ comercializados por la c Sociedad "EXXON CORPORATION";
- las fracciones de querosenos tales como los KETRUL 211, 212, D80, D85, comercializados por la TOTALFINAELF.
Los monoéteres de los alquilen glicoles pueden ser principalmente los monoéteres del propilenglicol en C4-C25, tales como el éter monometílico del propilen glicol (PM), el éter monoetílico del propilen glicol (PE), el éter mono-n-propílico del propilen glicol (PNP), el éter mono-tert.-butílico del propilen glicol (PTB), el éter mono-n-butílico del propilen glicol (PNB) y el éter mono-hexílico del propilen glicol;
Los monoéteres a partir de dialquilen glicoles pueden ser por ejemplo el éter monometílico del dipropilen glicol (DPM), el éter mono-n-propílico del dipropilen glicol (DPNP), el éter mono-tert.-butílico del dipropilen glicol (DPTB), el éter mono-n-butílico del dipropilen glicol (DPNB) y el éter monohexílico del dipropilen glicol;
y el éter n-butílico del dietilen glicol (Butyl Diglicol Ether - BDG), el éter hexílico del dietilen glicol y el éter octílico del dietilen glicol.
La composición utilizable según la invención puede además contener:
- al menos un agente secuestrante tal como el ácido etilen diamino tetra acético, (EDTA) y sus sales, a razón principalmente de 0,001 a 0,1 partes en peso para 100 partes en peso de (A) + (B) + (C); y/o
- al menos un agente anticorrosión escogido principalmente entre los ácidos orgánicos de tipo RCOOH, siendo R un radical hidrocarbonado en C_{4}-C_{24}, y las aminas, a razón principalmente de 0,01 a 0,5 partes en peso para 100 partes en peso de (A) + (B) + (C); y/o
- al menos un aditivo, en las cantidades usuales escogido entre los desinfectantes, los fungicidas (sales de amonio cuaternarias) y los biocidas (peróxidos orgánicos, peróxido de hidrógeno, compuestos con halógeno activo, sales inorgánicas fenólicas, sales de amonio cuaternarias, derivados organometálicos, derivados organoazufrados); y/o
- al menos un aroma.
La superficie sólida limpia es sometida a una etapa b) de escurrimiento que consiste en retirar la dicha superficie sólida limpia de la composición de limpieza y de escurrirla a temperatura ambiente durante un periodo que vaya de 30 segundos a 1 minuto.
Enseguida, la superficie sólida escurrida es sometida a una etapa de enjuague c) que se efectúa con un solvente orgánico o una mezcla de solventes orgánicos, inertes, preferiblemente no inflamables y de bajo punto de ebulli-
ción.
Esta etapa de enjuague se efectúa a una temperatura inferior a 10 a 15ºC, preferiblemente inferior a 5ºC del punto de ebullición del solvente orgánico o del compuesto más volátil de la mezcla de solventes orgánicos utilizados para la dicha etapa de enjuague.
Al tratarse de mezclas de solventes orgánicos, se utilizarán sobre todo particularmente mezclas azeotrópicas o cuasi azeotrópicas.
Por solvente orgánico o mezcla de solventes orgánicos debajo punto de ebullición, se designa aquí un solvente orgánico o una mezcla de solventes orgánicos que tengan una temperatura de ebullición mayor o igual a 90ºC y, preferiblemente, comprendida entre 25 y 70ºC.
El solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos pueden ser escogidos principalmente entre:
- los alcoholes alifáticos tales como el metanol, el etanol, el isopropanol, el butanol;
- los ésteres alifáticos tales como el acetato de etilo, de butilo; el formiato de metilo;
- los hidrocarburos saturados lineales, ramificados o cíclicos que contienen de 5 a 7 átomos de carbono, tales como:
el pentano, el hexano, el heptano, el ciclopentano, el ciclohexano;
- las cetonas alifáticas tales como la acetona, la metiletilcetona;
- los éteres alifáticos tales como el tetrahidrofurano (THF), el dietiléter, el dipropiléter, el dibutiléter;
- los acetales tales como el dimetoximetano (metilal);
- los hidrocarburos alifáticos halogenados tales como el cloruro de metileno, el tricloroetileno, los perfluoroalcanos C_{n}F_{2n+2} yendo n de 4 a 8, los hidrofluorocarbonos (HFC) tales como le 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentano (4310 mee), el 1,1,1,3,3-pentafluorobutano (365 mfc);
- los hidrofluoroclorocarbonos (HCFC) tales como el 1,1-dicloro-1-fluoroetano (141 b), los hidrofluoroéteres, tales como el perfluorometiléter (C_{4}F_{9}OCH_{3});
O la mezcla de al menos dos de los compuestos precitados.
Preferiblemente, se utilizará mezclas azeotrópicas o cuasi azeotrópicas de al menos dos compuestos precitados.
A título de ilustración de tales mezclas azeotrópicas o cuasi azeotrópicas utilizables según la presente invención como solvente de enjuague, se citará:
-Los azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 781 499-A1 tales como el azeótropo binario 4310 mee/365 mfc (9/91), (las cifras entre paréntesis indican el porcentaje en peso respectivamente de los constituyentes del azeótropo), el azeótropo ternario 4310 mee/365 mfc/CH_{3}OH (12/8315);
- los azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 792 648 tales como el azeótropo binario 4310 mee/tricloroetileno (89/11), el azeótropo ternario 4310 mee/tricloroetileno/CH_{3}OH (84,5/9,5/6), el azeótropo ternario 4310 mee/tricloroetileno/isopropanol (88,2/9,6/2,2), el azeótropo ternario 4310 mee/tricloroetileno/metilal (87/9/4);
- los azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 792 649 tales como el azeótropo cuaternario 4310 mee/CH_{2}Cl_{2}/ciclopentano/CH_{3}OH (47,5/32,7/17/2,8);
- los azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 792 647 tales como el azeótropo cuaternario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH/4310 mee (56,2/39,8/3,5/0,5);
- los azeótropos o cuasi azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 766 836 tales como el cuasi azeótropo ternario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH (89/7/4);
- los azeótropos mencionados en la solicitud de patente FR 2 759 090 tales como el azeótropo binario 4310 mee/CH_{2}Cl_{2} (50/50).
Entre todas estas mezclas azeotrópicas, se prefiere sobretodo particularmente la azeótropa ternaria 4310 mee/365 mfc/CH_{3}OH (12,83,5), la azeótropa binaria 4310 mee/CH_{2}Cl_{2} (50/50), el azeótropa binaria 365 mfc/CH_{2}Cl_{2} (56,6/
43,4), el azeótropo binario 4310 mee/365 mfc (9/91), el cuasi azeótropo ternario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH(89/7/4), el azeótropo binario 141b/metanol (96/4), el azeótropo ternario 365/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH (57/39,5/3,5).
Según la presente invención la etapa de secado d) es realizada exponiendo la superficie sólida enjuagada, al vapor producido por el calor del solvente orgánico o de la mezcla de solventes orgánicos utilizados durante la etapa de enjuague c). En el caso de una mezcla de solventes no azeotrópicas, la superficie enjuagada será secada por el vapor del compuesto más volátil.
La duración del secado es de a menos 20 segundos y, preferiblemente, comprendida entre 30 segundos y 1 minuto.
El procedimiento según la presente invenciones aplica sobretodo particularmente para la eliminación de suciedades orgánicas y/o minerales de superficies sólidas de piezas metálicas, de cerámicas, de cristales, de materias plásticas, de circuitos impresos (piezas electrónicas, piezas de semiconductores.
El procedimiento de la presente invención permite obtener superficies sólidas limpias, exentas de toda suciedad orgánica y/o minerales así como de trazas de agua. Las piezas limpias por medio del procedimiento según la invención son utilizables inmediatamente para otras operaciones de tratamiento tales como por ejemplo, pintura, electrodeposición.
El dispositivo para poner en acción el procedimiento según la invención puede estar constituido por la secuencia de los siguientes aparatos:
Una primera tina en la cual se efectúa la limpieza de la superficie sólida con la composición de tipo microemulsión.
Esta tina puede ser suministrada de medios de calentamiento y de medios que permiten producir ultrasonidos.
La pieza (o las piezas) para limpiar, dispuesta sobre una cesta, está sumergido en un baño de la composición tipo microemulsión a una temperatura allí durante un periodo tal como definió anteriormente.
-
La pieza es enseguida retirada del baño luego escurrida, preferiblemente por encima de un plano inclinado que permite el retorno de la composición tipo microemulsión en la tina de limpieza luego es dirigida hacia el ciclo de enjuague/secado.
Las etapas de enjuague/secado son preferiblemente realizadas en una máquina de comercio que comprende al menos dos tinas provistas de medios de calentamiento y de condensación.
En una primera tina, eventualmente provista de medios de producción de ultrasonido, se efectúa el enjuague de la pieza por su inmersión en un baño de solvente orgánico o de una mezcla de solventes orgánicos llevado a una temperatura tal como se definió anteriormente. Enseguida la pieza es retirada del dicho baño luego transportada hacia la segunda tina para allí ser secada. Esta segunda tina contiene el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos utilizados en la tina anterior de enjuague que es llevada a su punto de ebullición.
La pieza es entonces secada por los vapores del solvente orgánico o de la mezcla de solventes orgánicos utilizados para el enjuague. Estos vapores son condensados por medio de un serpentín de condensación refrigerado y reciclado en la tina de enjuague líquido.
Los ejemplos que siguen ilustran la invención.
Equipo
Se coloca en línea
- una tina de limpieza que contiene 5 litros de una composición tipo microemulsión
- un plano inclinado de escurrimiento de la microemulsión con retorno en la tina de limpieza, y
- una máquina de 2 tinas tipo B 125 (comercializado por la Sociedad BRANSON ULTRASONIC S.A.).
El esquema de la secuencia es el siguiente:
1
Piezas para limpiar
- una placa inoxidable 316L de dimensiones de 100 x 100 x 1 mm es revestida con aceite de fracción MOBIL CUT 151 o con aceite de maquinado MOBIL 766,
- una rejilla inoxidable de dimensiones 100 x 100 (40 varillas por cm) es recubierta con la misma suciedad.
Estas placas y la rejilla están dispuestas sobre una cesta que efectúa la secuencia anterior.
Productos utilizados
- Composición de limpieza tipo microemulsión (% expresado en peso)
- agua: 42%
- fracción de petróleo KETRUL 211 : 32%
- tensioactivo ``EMPIMIN OP 070 comercializado por la Sociedad "Albrigth y Wilson Iberica": 18%
- el éter mono-n-butílico del dipropilen glicol (DPNB): 8%
- aditivos anti-corrosión: 0,15% con respecto a la suma de agua, fracción de petróleo, tensioactivo, DPNB es decir:
-
ácido heptanóico (0,063%)
-
ácido undecíclico (0,0435%)
-
IRGAMET 42 (amina cíclica) (0,0435%)
- Solventes orgánicos o mezclas de solventes orgánicos utilizados se reportan en la Tabla 1 más adelante con su temperatura de ebullición.
Se efectúa la secuencia de limpieza según el esquema anterior sobre las placas y la rejilla revestidas de las suciedades mencionadas anteriormente. La temperatura del baño de la tina de limpieza es de 40ºC.
La temperatura de enjuague es igual a Te-5ºC, siendo Te la temperatura de ebullición del solvente orgánico, del azeótropo o bien del cuasi-azeótropo.
Los resultados se reportan en la Tabla 1.
Ensayo Solvente de enjuague y de secado Te(C) Aspecto de las placas y parrillas limpias
1 Azeótropo 4310 mee/365 mfc (9/91) 36,5 No presenta ninguna suciedad más. Las superficies
están perfectamente limpias y secas.
2 Azeótropo 4310 mee/365 mfc/CH_{3}OH (12/83/5) 33,2
3 Cuasi-azeótropo 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH (89/7/4) 35,7
4 Azeótropo 4310 mee/CH_{2}Cl_{2} (50/50) 34,2
5 CH_{2}Cl_{2} estabilizado 40
6 Azeótropo 1,1-dicloro-1-fluoroetano/metanol (96/4) 29
7 Tricloroetileno estabilizado 86,7
8 Azeótropo 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CH_{3}OH (57/39/3,5) 32,1
9 Azeótropo 365 mfc/CH_{2}Cl_{2} (56,6/43,4) 33,6

Claims (13)

1. Procedimiento de limpieza de una superficie sólida que comprende
a) una etapa de limpieza de la dicha superficie sólida por medio de una composición de limpieza de tipo microemulsión, caracterizada porque comprende las siguientes etapas:
b) escurrimiento de la dicha superficie limpia,
c) enjuague de la dicha superficie escurrida con un solvente orgánico o una mezcla de solventes orgánicos de punto de ebullición mayor o igual a 90ºC, y
d) secado de la dicha superficie enjuagada con el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos utilizados en c).
2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la composición de limpieza de tipo microemulsión es utilizada a una temperatura que va de la temperatura ambiente hasta 60ºC y, preferiblemente, aminoácido una temperatura compendia entre 20ºC y 40ºC.
3. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado porque la duración de la limpieza (etapa a)) no sobrepasa 5 minutos.
4. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la duración del escurrido va de 30 segundos a 1 minuto.
5. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la etapa de enjuague c) se efectúa a una temperatura inferior de 10 a 15ºC, preferiblemente, inferior en 5ºC del punto de ebullición del solvente orgánico o del compuesto más volátil de la mezcla de solventes orgánicos utilizados en la dicha etapa de enjuague.
6. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la etapa de secado d) se realiza exponiendo la superficie sólida enjuagada al vapor producido por el calentamiento del solvente orgánico o de la mezcla de solventes orgánicos utilizados en la etapa de enjuague c).
7. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1, 5 ó 6, caracterizado porque el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos tienen una temperatura de ebullición comprendida entre 25ºC y 70ºC.
8. Procedimiento según una de las reivindicaciones 1 ó 6, caracterizado porque la duración de la etapa de secado d) es de al menos 20 segundos y, preferiblemente, comprendida entre 30 segundos y 1 minuto.
9. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la composición de limpieza de tipo microemulsión comprende:
(A) 30 a 70 partes en peso, en particular 35 a 60 partes en peso de agua;
(B) 20 a 60 partes en peso, en particular 25 a 55 partes en peso, de al menos un solvente orgánico líquido a temperatura ambiente; y
(C) 5 a 30 partes en peso, en particular 10 a 25 partes en peso, de al menos un agente tensioactivo de fórmula I:
\vskip1.000000\baselineskip
(I)R^{1} --- O ---
\delm{C}{\delm{\dpara}{O}}
--- CH_{2} ---
\delm{CH}{\delm{\para}{SO _{3}  ^{\ominus} }}
---
\delm{C}{\delm{\dpara}{O}}
--- O --- R^{2}, \hskip0,5cm M^{\oplus}
En la cual:
- R^{1} y R^{2} representan cada uno independientemente un radical alquilo, lineal o ramificado, en C_{5}-C_{20};
- M es un catión escogido entre Na^{+,} K^{+} y NR_{4}^{+}, representando los R cada uno independientemente hidrógeno o un radical alquilo en C_{1}-C_{4};
(A) + (B) + (C) representan 100 partes en peso.
10. Procedimiento según la reivindicación 9, caracterizado porque el o los solvente(s) orgánico(s) (B) contenido(s) en la composición de limpieza de tipo microemulsión utilizada en la etapa a) es (son) escogido(s) entre los hidrocarburos alifático, los monoéteres de alquilenglicoles y los monoéteres de los alquilenglicoles.
11. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado porque el solvente orgánico o la mezcla de solventes orgánicos utilizados en las etapas c) y d) son escogidos entre los alcoholes alifáticos, preferiblemente el metanol o el isopropanol; los ésteres alifáticos, preferiblemente, acetato de etilo; los hidrocarburos saturados lineales, ramificados o cíclicos, que contienen de 5 a 7 átomos de carbono; las cetonas alifáticas; los éteres alifáticos; el dimetoximetano, el cloruro de metileno, el tricloroetileno, los perfluoroalcanos, C_{n}F_{2n+2} con n siendo de 4 a 8; los hidrofluorocarbonos (HFC) preferiblemente 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-decafluoropentano (4310 mee) o el 1,1,1,3,3-pentafluorobutano (365 mfc); los hidrofluroclorocarbonos (HCFC) preferiblemente el 1,1-dicloro-1-fluroetano (141 b), el perfluorometiléter (C_{4}F_{9}OCH_{3}) o la mezcla de al menos dos de los compuestos precitados.
12. Procedimiento según la reivindicación 11, caracterizado porque las mezclas de solventes orgánicos son mezclas azeotrópicas o cuasi-azeotrópicas de los compuestos mencionados.
13. Procedimiento según la reivindicación 12, caracterizado porque las mezclas azeotrópicas o cuasi-azeotrópicas utilizadas en las etapas c) y d) son el azeótropo 4310 mee/365 mfc/(9/91), el azeótropo ternario 4310 mee/365 mfc/CH_{3}OH(12/83/5), el cuasi-azeótropo ternario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/(50/50), el azeótropo binario 1,1-dicloro-1-fluoroetano/metanol (96/4), el azeótropo ternario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2}/CF_{3}OH (57/39,5/3,5), el azeótropo binario 365 mfc/CH_{2}Cl_{2} (56,6/43,4).
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4663891B2 (ja) * 2001-02-19 2011-04-06 東燃化学株式会社 熱可塑性樹脂成形体の洗浄方法およびこれを利用した熱可塑性樹脂微多孔膜の製造方法
CN1690120A (zh) * 2004-03-01 2005-11-02 三菱瓦斯化学株式会社 具有高减震能力的树脂组合物
FR2873689B1 (fr) * 2004-07-29 2006-10-13 Arkema Sa Composition a base de 1,1,1,3,3,-pentafluorobutane
JP3994992B2 (ja) * 2004-08-13 2007-10-24 三菱瓦斯化学株式会社 シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法
EP2392908B1 (en) * 2004-12-17 2019-08-21 Ventana Medical Systems, Inc. Methods for preparing a paraffin-embedded biological sample for staining.
JP6023641B2 (ja) 2013-04-25 2016-11-09 Jxエネルギー株式会社 洗浄剤組成物
CN112404026B (zh) * 2020-09-11 2022-03-01 上海金堂轻纺新材料科技有限公司 一种除油污废水循环利用的工艺

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4650493A (en) * 1980-12-22 1987-03-17 A.B. Electrolux Method of washing textile objects and a device for performing the method
US4975468A (en) * 1989-04-03 1990-12-04 Affinity Biotech, Inc. Fluorinated microemulsion as oxygen carrier
US4956115A (en) * 1989-05-23 1990-09-11 Hoechst Celanese Corporation Water borne solvent strippers
US5196136A (en) * 1991-06-20 1993-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Cleaning composition of hydrocarbon component, surfactant and multibasic ester additive
US6090901A (en) * 1991-07-05 2000-07-18 Biocompatibles Limited Polymeric surface coatings
US5213624A (en) * 1991-07-19 1993-05-25 Ppg Industries, Inc. Terpene-base microemulsion cleaning composition
MX9206771A (es) * 1991-12-02 1993-06-01 Allied Signal Inc Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples
FR2691473B1 (fr) * 1992-05-21 2002-05-17 Atochem Elf Sa Compositions pour le démouillage ou le dégraissage de surfaces solides.
BR9405958A (pt) * 1993-04-02 1995-12-12 Dow Chemical Co Microemulsão continua de óleo de fase única emulsao concentrado de limpeza e método para limpar metal tendo graxa
US5911837A (en) * 1993-07-16 1999-06-15 Legacy Systems, Inc. Process for treatment of semiconductor wafers in a fluid
US5464480A (en) * 1993-07-16 1995-11-07 Legacy Systems, Inc. Process and apparatus for the treatment of semiconductor wafers in a fluid
US5634978A (en) * 1994-11-14 1997-06-03 Yieldup International Ultra-low particle semiconductor method
US5571337A (en) * 1994-11-14 1996-11-05 Yieldup International Method for cleaning and drying a semiconductor wafer
CA2222896C (en) * 1995-06-02 2007-07-31 Ashland Inc. Stable microemulsion cleaners having low volatile organic content
US6030754A (en) * 1996-02-05 2000-02-29 Texas Instruments Incorporated Photoresist removal without organic solvent following ashing operation
US5888308A (en) * 1997-02-28 1999-03-30 International Business Machines Corporation Process for removing residue from screening masks with alkaline solution
US5938856A (en) * 1997-06-13 1999-08-17 International Business Machines Corporation Process of removing flux residue from microelectronic components
US6165962A (en) * 1997-07-31 2000-12-26 E. I. Du Pont De Nemours And Comapny Aqueous microemulsions
US5908822A (en) * 1997-10-28 1999-06-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compositions and processes for drying substrates
US6120613A (en) * 1998-04-30 2000-09-19 Micell Technologies, Inc. Carbon dioxide cleaning and separation systems
US6159827A (en) * 1998-04-13 2000-12-12 Mitsui Chemicals, Inc. Preparation process of semiconductor wafer
US6159917A (en) * 1998-12-16 2000-12-12 3M Innovative Properties Company Dry cleaning compositions containing hydrofluoroether
FR2795088B1 (fr) 1999-06-21 2002-05-24 Atofina Compositions de nettoyage a froid du type microemulsions
US6593283B2 (en) * 2000-04-28 2003-07-15 Ecolab Inc. Antimicrobial composition
US6730595B2 (en) * 2000-12-12 2004-05-04 Mitsui Chemicals, Inc. Protecting method for semiconductor wafer and surface protecting adhesive film for semiconductor wafer used in said method
DE60137229D1 (de) * 2001-10-22 2009-02-12 Viroblock Sa Non-phospholipid Vesikel (npLV) und ihre Verwendung in kosmetischen, therapeutischen und prophylaktischen Anwendungen
EP1438456B1 (en) * 2001-10-26 2006-04-26 Unilever N.V. Dry cleaning process
KR100480606B1 (ko) * 2002-08-01 2005-04-06 삼성전자주식회사 아이피에이 증기 건조 방식을 이용한 반도체 웨이퍼 건조장치

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