JP2001279298A - 引火点を持たない洗浄剤組成物、洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗
浄装置を提供する。 【解決手段】 塩素原子を含有しない含フッ素化合物
に、特定の脂肪族アルコール、エーテル、エステルより
なる群から選ばれる一種以上の化合物を加え、さらにグ
リコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸
エステル類等を添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、
ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用される
フラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤とその洗浄剤
に適した洗浄方法および洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、フラックスでハンダ付け面を予
め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法
としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等によ
り、フラックスを基板面に付着させた後、溶融ハンダを
供給する方法や予めフラックスとハンダの粉末を混合し
てペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給
した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラ
ックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるた
め、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。

【０００３】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについてもオゾン層
破壊能があるために日本では２０２０年にその使用が禁
止される予定である。

【０００４】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できない。また、特開平１０
−３１６５９８号公報には環状のフッ素化炭化水素とエ
タノールを併用した洗浄剤が提案されているが、このよ
うな洗浄剤は引火点を有し、不燃性溶剤として取り扱う
ことができない。また、特開平１０−３６８９４号公
報、特開平１０−２１２４９８号公報および特開平１０
−２５１６９２号公報にはＨＦＣやＨＦＥとグリコール
エーテル類の併用についての記載がある。しかし、例え
ば，フラックス洗浄剤としては、フラックス成分である
ロジンやイオン性残渣の原因となるアミンの塩酸塩や有
機酸等の汚れおよびハンダ付け工程によって生成され、
白色残渣の原因となる重合ロジンやロジンの金属塩等の
汚れの全てを洗浄する必要があるが、前記洗浄剤では全
ての汚れを充分に洗浄することができない。

【０００５】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、洗浄
剤としての洗浄力が不足している等、洗浄剤として使用
する上で多くの問題を抱えているのが現状である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力を示し、
かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化を防止し
つつ、低毒性で、引火点がなく、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗
浄装置を提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、塩素原子を含有しない含フッ素化合物の
引火点を有さない特性を生かし、引火点の出現しない洗
浄剤を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、塩素原子を含
有しない含フッ素化合物に前記一般式（１）、（２）、
（３）および（４）よりなる群から選ばれる化合物の一
種、または二種以上の組み合わせを加えることより、広
範な種類の汚れを洗浄できる事を見出した。また、グリ
コールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エ
ステル類、前記一般式（５）および前記一般式（６）よ
りなる群から選ばれる１種以上の化合物を加えることよ
り、より高い洗浄効果の得られることを見出すととも
に、酸化防止剤等の添加により高温下で連続して使用で
きることを見出し、さらに、その洗浄剤に適した洗浄方
法および洗浄装置を見出し、本発明を完成した。

【０００８】すなわち、発明の第一は、（ａ）塩素原子
を含有しない含フッ素化合物と（ｂ）一般式（１）、
（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる
群から選ばれる化合物の一種、または二種以上を含有す
る引火点を持たない洗浄剤組成物である。発明の第二
は、上記成分（ｂ）化合物が３−メトキシブタノール、
３−メチル−３−メトキシブタノールのうち少なくとも
ひとつである発明の第一に記載の洗浄剤組成物である。

【０００９】発明の第三は、（ｃ）グリコールエーテル
アセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般
式（５）および（６）で表されるよりなる群から選ばれ
る化合物の一種、または二種以上を含有する発明の第一
〜二に記載の洗浄剤組成物である。発明の第四は、上記
成分（ｃ）化合物の、少なくとも一種が、ジプロピレン
グリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテルのいずれかである発明の第三に記載の洗浄
剤組成物である。

【００１０】発明の第五は、（ｄ）１．０１３×１０⁵
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有
する発明の第一〜四に記載の洗浄剤組成物である。発明
の第六は、（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤およ
び紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも一種
以上を含有する発明の第一〜五に記載の洗浄剤組成物で
ある。発明の第七は発明の第一〜六のいずれかに記載の
洗浄剤で被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも１種の
塩素原子を含有しない含フッ素化合物（ａ）からなる組
成物でリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴と
する洗浄方法である。

【００１１】発明の第八は組成物（ｆ）、添加成分
（ｄ）および化合物（ｅ）からなる群から選ばれる少な
くとも一種の成分または化合物を含有するものである発
明の第七記載の洗浄方法である。発明の第九は（Ａ）発
明の第一〜六のいずれかに記載の洗浄剤により被洗物を
洗浄するための洗浄槽、（Ｂ）組成物（ｆ）によりリン
スするためのリンス槽、引火点を有さない組成物（ｆ）
に含有される少なくとも一種の成分または化合物の蒸気
を発生させるための蒸気発生槽、該蒸気発生槽から発生
した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、（Ｃ）発生
した蒸気を凝縮した後、得られた凝縮液から水分を除去
するための水分離槽、及び水分を除去された凝縮液をリ
ンス槽（Ｂ）に戻す機構を有する洗浄装置である。

【００１２】発明の第十は発明の第一〜六のいずれかに
記載の洗浄剤を構成する少なくとも一種の成分または化
合物の蒸気を発生させるための加熱機構を有する発明の
第九の洗浄槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽
（Ａ）から発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾー
ン、水分離槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗
浄槽（Ａ）に戻す機構を有する洗浄装置。発明の第十一
は発明の第十において、リンス槽（Ｂ）の代わりに、該
凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワーリンスする機構
を有する洗浄装置である。

【００１３】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において、洗浄とは被洗物に付着している汚れを次工程
に影響のないレベルまで除去することである。また、リ
ンスとは被洗物に付着している汚れ成分を含む洗浄剤を
汚れ成分の含まれない溶剤に置換することである。さら
に、蒸気洗浄とは被洗物表面にわずかに残留する汚れ成
分を、被洗物と該被洗物が晒されている蒸気との温度差
によって該被洗物表面で凝縮する蒸気成分からなる液体
で除去することである。

【００１４】本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）に使用
する（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物とは、
炭化水素類やエーテル類の水素原子の一部がフッ素原子
のみで置換され、塩素原子を含まないフッ素化合物であ
り、例えば、下記一般式（７）で特定される環状ＨＦ
Ｃ、（８）で特定される鎖状ＨＦＣ、又は（９）で特定
されるＨＦＥの、塩素原子を含まない、炭素原子、水素
原子、酸素原子、フッ素原子からなる化合物、及びこれ
らの中から選ばれる２種以上の化合物の組み合わせ等を
挙げられる。

【００１５】 Ｃ_nＨ_2n-mＦ_m （７） （式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す） Ｃ_xＨ_2x+2-yＦ_y （８） （式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す） Ｃ_sＦ_2s+1ＯＲ （９） （式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）

【００１６】環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，
４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。

【００１７】鎖状のＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタ
ン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフル
オロペンタン、１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、
１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロペンタン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオ
ロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペ
ンタン、１Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロ
ペンタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，
３Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオ
ロヘキサン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン等を挙げることができ
る。

【００１８】ＨＦＥの具体例としてはメチルパーフルオ
ロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエー
テル、メチルパーフルオロペンチルエーテル、メチルパ
ーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフルオ
ロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエー
テル、エチルパーフルオロペンチルエーテル等を挙げる
ことができる。本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）にお
いては、これら（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化
合物の中から選ばれる１種又は２種以上の化合物を組み
合わせて用いることができるが、好ましくは、アルコー
ル類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類等
の高極性溶剤に対する溶解性が高く地球温暖化係数の低
い環状ＨＦＣまたはＨＦＥを挙げることができる。好ま
しくは、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタ
ン、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフ
ルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチル
エーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、お
よびこれらの混合物を挙げることができる。より好まし
くはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフ
ルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品
名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）、エチ
ルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイ
ソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：ＨＦ
Ｅ７２００、住友スリーエム（株）製）を挙げることが
できる。さらに好ましくはメチルパーフルオロブチルエ
ーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよび
これらの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリー
エム（株）製）を挙げることができる。

【００１９】本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れ
に対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）前記一般式
（１）、（２）、（３）および（４）よりなる群から選
ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合わせを使
用する必要がある。一般式（１）で表されるものの具体
例としては、３−メチル−３−メトキシブタノール、３
−メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピル
エーテル、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル等が挙げられる。より好ましくは３−メチル−３−メ
トキシブタノール、３−メトキシブタノールが挙げられ
る。さらに好ましくは３−メチル−３−メトキシブタノ
ールが挙げられる。

【００２０】一般式（２）で表されるものの具体例とし
ては、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、
ジプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジ−ｎ−ペンチルエーテル等が挙げ
られる。より好ましくはジエチレングリコールジ−ｎ−
ブチルエーテルが挙げられる。一般式（３）で表される
ものの具体例としてはトリエチレングリコールモノ−ｎ
−プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ
−ブチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テル等が挙げられる。

【００２１】一般式（４）で表されるものの具体例とし
てはジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ペンチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテ
ル等が挙げられる。本発明における洗浄剤は、上記成分
（ａ）、（ｂ）を含有する引火点を持たない洗浄剤であ
る。ここでいう、「引火点を持たない」とは、ＪＩＳ
Ｋ ２２６５等の一般的な引火点評価試験により、洗浄
剤に引火点なしと認められることを意味する。

【００２２】本発明の洗浄剤においては、広範な種類の
汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｃ）グリコールエ
ーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル
類、前記一般式（５）および（６）で表される化合物よ
りなる群から選ばれる１種以上の化合物を併用すること
ができる。ここでいうグリコールエーテルアセテート類
とは、水酸基を有するグリコールエーテル類をアセテー
ト化した化合物である。ここでいう水酸基を有するグリ
コールエーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭
素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物にお
いて、該水酸基のうちいずれか１個の水酸基の水素原子
のみが炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素
残基に置換されている化合物である。例えば、下記一般
式（１０）で特定されるグリコールエーテルアセテート
類を挙げることができる。

【００２３】

【化４】

【００２４】（式中Ｒ²³は炭素数１〜６のアルキル基、
アルケニル基、またはシクロアルキル基、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、
Ｒ²⁶は水素またはメチル基、ｅは０〜１の整数、ｆは１
〜４の整数を表す。）

【００２５】グリコールエーテルアセテート類の具体例
としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコー
ル等に対応するモノアルキルエーテルのアセテート、３
−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メトキシ−３
−メチル−１−ブチルアセテート等を挙げることができ
る。

【００２６】また、本発明の洗浄剤に使用するヒドロキ
シカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエステル化
合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エステ
ル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコールモ
ノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリンジエ
ステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を挙げ
ることができる。これらの中でも、特に好ましいヒドロ
キシカルボン酸エステル類としては下記一般式（１１）
で特定される乳酸エステル類を挙げることができる。

【００２７】

【化５】

【００２８】（式中、Ｒ²⁷は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。）乳酸
エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることができ
る。

【００２９】一般式（５）で表されるものの具体例とし
ては、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ−ｉ−ブチルエーテルが挙げられる。

【００３０】一般式（６）で表されるものの具体例とし
てはジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエ
チルエーテル等が挙げられる。上記成分（ｃ）化合物
の、少なくとも一種が、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−
ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのい
ずれかである時に、より良好なフラックス溶解性、基板
洗浄性が実現できる。

【００３１】さらに、成分（ｂ）および成分（ｃ）の蒸
気圧は、特に引火点を有さない洗浄剤組成とするため
に、２０℃において１．３３×１０³Ｐａ未満が好まし
く、より好ましくは６．６６×１０²Ｐａ以下であり、
さらに１．３３×１０²Ｐａ以下が好ましい。本発明の
洗浄剤および組成物（ｆ）には、１．０１３×１０⁵Ｐ
ａにおける沸点が２０℃〜１００℃で、請求項１記載の
成分（ａ）、成分（ｂ）および成分（ｃ）とは異なる化
合物である、成分（ｄ）から選ばれる化合物の一種、ま
たは二種以上の組み合わせを洗浄力改良剤、安定剤、融
点降下剤等の添加成分として添加し、成分（ｂ）および
成分（ｃ）の添加量の抑制、洗浄性の向上、蒸気洗浄時
の気相での金属安定性の向上および冷却時の洗浄剤の凝
固防止等を図ることもできる。

【００３２】成分（ｄ）としては、例えば、以下に示す
溶剤の種類ごとに例示することができる。炭化水素類と
しては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサ
ン、シクロヘキセン、２−メチルペンタン、２，３−ジ
メチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３
−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、イソオ
クタン等が挙げられる。アルコール類としてはメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール
等を挙げることができる。ケトン類としてはアセトン，
メチルエチルケトンを挙げることができる。エステル類
としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、
酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等を挙げることができる。

【００３３】成分（ｄ）の沸点は２０℃〜１００℃であ
り、かつ、使用中の組成変動を少なくするために（ａ）
塩素原子を含有しない含フッ素化合物の沸点の±４０℃
の範囲に入ることが好ましく、さらに好ましくは±３０
℃である。また、成分（ｄ）は、併用する（ａ）塩素原
子を含有しない含フッ素化合物と共沸組成物あるいはそ
れに近似する組成の共沸様組成物であることが好まし
い。また、洗浄剤および組成物（ｆ）の酸化劣化を防ぐ
目的で成分（ｅ）を添加することができる。成分（ｅ）
としては、例えば、以下に示す種類ごとに例示すること
ができる。

【００３４】フェノール系酸化防止剤としては、１−オ
キシ−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン、２，４
−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−
ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチ
レングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，
６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート等の化合物を挙げる
ことができる。

【００３５】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフ
ェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤としては、
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、
ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステ
ル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エス
テル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エ
ステル等の化合物を挙げることができる。

【００３６】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３７】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびリ
ン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用するこ
とによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが
可能となる。

【００３８】本発明の洗浄剤は、上述した（ａ）〜
（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化して得られ
る。各成分の重量割合については、本発明の洗浄剤の特
徴である、高洗浄性、低毒性、低引火性が損なわれない
範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）／成分
（ｂ）の重量割合（ａ）／（ｂ）の範囲が４０／６０＜
（ａ）／（ｂ）＜９５／５であることがより好ましい。
成分（ｂ）の重量割合が５より大きいときに、各種汚れ
に対するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０よ
り小さいときにより好ましい低引火性が達成される。洗
浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを考慮した、さらに
好ましい成分（ａ）／成分（ｂ）の重量割合の範囲は５
０／５０＜（ａ）／（ｂ）＜９０／１０であり、いっそ
う好ましくは６０／４０＜（ａ）／（ｂ）＜８０／２０
である。

【００３９】成分（ｃ）をさらに添加する場合には、成
分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合
（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝の範囲が４０／６０＜
（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９５／５であることがよ
り好ましい。｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合が
５より大きいときに、各種汚れに対するより好ましい溶
解力改善効果が得られ、６０より小さいときにより好ま
しい低引火性を達成できる。洗浄剤の洗浄性と低引火性
のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）／
｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合の範囲は５０／
５０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９０／１０であ
り、いっそう好ましくは６０／４０＜（ａ）／｛（ｂ）
＋（ｃ）｝＜８０／２０である。

【００４０】成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合（ｂ）
／（ｃ）の範囲は１０／９０＜（ｂ）／（ｃ）＜９０／
１０であることがより好ましい。成分（ｃ）の重量割合
が１０より大きいときに、より好ましいフラックス溶解
性が得られ、９０より小さいときに、重合ロジンやロジ
ンの金属塩に対するより好ましい洗浄性が得られる。洗
浄剤のフラックスに対する溶解性と重合ロジン等の白色
残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバランスを考慮
した、さらに好ましい成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割
合の範囲は２０／８０＜（ｂ）／（ｃ）＜８０／２０で
ある。

【００４１】成分（ｄ）を添加する場合には重量割合
｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）の範囲が９０／１
０＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）＜９９．９／
０．１であることがより好ましい。（ｄ）の重量割合が
１０より小さいときにより好ましい低引火性を達成で
き、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤として
のより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量割
合の範囲は９３／７＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／
（ｄ）＜９９／１である。

【００４２】成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００ｐｐ
ｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。ま
た、組成物（ｆ）は上述した成分（ａ）単独、または
（ａ）、（ｄ）及び（ｅ）の各成分を定法に従って混合
し均一化して得られる。組成物（ｆ）において、成分
（ａ）に成分（ｄ）を添加する場合には（ａ）／（ｄ）
の重量割合の範囲が９０／１０〜９９．９／０．１ある
ことがより好ましい。（ｄ）の重量割合が１０よい小さ
いときにより好ましい低引火性を達成でき、０．１より
大きいときに安定剤、融点降下剤としてのより好ましい
効果が得られる。さらに好ましい重量割合の範囲は９３
／７〜９９／１である。

【００４３】組成物（ｆ）において成分（ｅ）を添加す
る場合には｛（ａ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００
ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）の融点は１５℃以下
が好ましいが、冬期使用することも考慮すると１０℃以
下がより好ましく，さらに好ましくは５℃以下である。
また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対して優れた洗
浄性を示すが、特にフラックスなどの樹脂類の洗浄に適
している。

【００４４】本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）には、
必要に応じて各種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、
消泡剤等を必要に応じて添加しても良い。以下に本発明
の洗浄剤に添加できる添加剤の具体例を例示する。界面
活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界
面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を
添加しても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素
数が６〜２０の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等
のアルカリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等
が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、第４級
アンモニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤
としては、アルキルフェノール、炭素数が８〜１８の直
鎖または分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド
付加物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサ
イドのブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性
剤としては，ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。

【００４５】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００４６】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）は、以下
に示す洗浄方法及び洗浄装置を利用することによって、
最も効果的な洗浄を行うことができる。本発明の洗浄方
法は、被洗物に付着したあらゆるタイプの汚れを（ａ）
塩素原子を含有しない含フッ素化合物に化合物（ｂ）を
含有し、必要に応じて化合物（ｃ）、（ｄ）１．０１３
×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成
分および（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化
防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および
紫外線吸収剤を添加することによって、優れた洗浄性を
示し、かつ、引火点を有さない洗浄剤で洗浄したのち、
汚れ成分等を発明の第七に記載の組成物（ｆ）または発
明の第八に記載の組成物（ｆ）で被洗物をリンスおよび
／または蒸気洗浄することを特徴としている。

【００４７】組成物（ｆ）は少なくとも１種の成分(ａ)
を含有する組成であれば、いかなる組成でもよいが、必
要に応じて組成を使い分けることができ、例えば、被洗
物表面での洗浄剤成分の残留やシミの抑制を重視する場
合には揮発性の高い成分（ａ）のみからなる組成が好ま
しく、イオン性残渣洗浄性を重視する場合には成分
（ａ）に（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の添加成分を添加することが好まし
い。洗浄工程及びリンス工程には洗浄性、リンス性を向
上することを目的とした手拭き、浸漬、スプレー、シャ
ワー等の物理的な方法を組み合わせることにより、効果
的な洗浄が可能となる。本発明の洗浄方法は本発明の洗
浄剤を使用する上で、洗浄性及び乾燥性に優れ、被洗物
の材質に対する影響も少なく、最も適した洗浄方法と言
える。

【００４８】本発明の洗浄方法を実施する装置として
は、これまでトリクロロエタン，ＣＦＣ１１３等の塩素
系洗浄剤で使用されていた３槽式洗浄機等の一般的な洗
浄機であれば使用することが可能であり、洗浄装置を限
定するものではないが、具体的な洗浄装置の事例とし
て、図１に示した本発明の第九に記載の洗浄装置、図２
に示した本発明の第十に記載の洗浄装置および図３に示
した本発明の第十一に記載の洗浄装置を挙げることがで
きる。

【００４９】以下に本発明の洗浄方法及び洗浄装置を添
付図面によって具体的に説明する。図１に示す洗浄装置
は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１、組
成物（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）２及び蒸気発生槽
３、組成物（ｆ）の蒸気に満たされる蒸気ゾーン４、蒸
発した組成物（ｆ）を冷却管９によって凝縮し、凝縮し
た液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分
離槽（Ｃ）５からなる。実際の洗浄においては被洗物を
専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽
（Ａ）１、リンス槽（Ｂ）２、蒸気ゾーン４の順に通過
させながら洗浄を完了させる。

【００５０】洗浄槽（Ａ）１では、本発明の洗浄剤をヒ
ーター７で加熱昇温し、一定温度にコントロールしなが
ら被洗物に付着した汚れを超音波振動子８により発生し
たキャビテーションで洗浄除去する。この時，物理的な
力としては超音波以外に揺動や洗浄剤の液中噴流等のこ
れまでの洗浄機に採用されているいかなる方法を使用し
ても良い。本洗浄装置においては被洗物を洗浄槽（Ａ）
１からリンス槽（Ｂ）２に移動する時、洗浄剤成分が被
洗物表面に付着していることにより、被洗物表面での乾
燥による汚れ成分の固着を防止しつつ、リンス槽（Ｂ）
２へ移動することが可能となる。

【００５１】リンス槽（Ｂ）２では、被洗物に付着して
いる洗浄剤中に溶解している汚れ成分を本発明の組成物
（ｆ）で除去する。組成物（ｆ）は、リンス槽（Ｂ）２
からオーバーフロー配管１１、１６、１２を通って蒸気
発生槽３に入り、蒸気発生槽３のヒーター６で加熱沸騰
され、その組成物の一部または全部が蒸気となって矢印
１３のように冷却管９で凝縮された後、配管１４から水
分離槽（Ｃ）５に集まり水と分離された上で、配管１５
を通ってリンス槽（Ｂ）２に戻る。この組成物（ｆ）を
洗浄装置内で液体や気体に状態変化させながら循環する
ことによって、リンス槽（Ｂ）２に持ち込まれた洗浄剤
成分や汚れ成分を連続的に蒸気発生槽３に蓄積し，リン
ス槽（Ｂ）２の清浄度の維持や蒸気ゾーン４における蒸
気洗浄が可能となる。

【００５２】蒸気発生槽３で発生した蒸気に満たされた
蒸気ゾーン４で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝
縮することによりできた液中に汚れ成分が全く含まれな
いので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。
さらに、洗浄効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）２
の冷却管１０で組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、浸漬
する被洗物温度を低く抑制することによって，蒸気温度
との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。

【００５３】本発明の洗浄装置では、洗浄剤と組成物
（ｆ）の２種類の液を使用するために独立した浸漬槽構
造となっているが、各槽上部の空間を蒸気ゾーンとして
共通に使用することにより，洗浄剤からの（ａ）塩素原
子を含有しない含フッ素化合物の蒸発ロスを抑制し、結
果として洗浄剤の組成変動を減少し、長期連続使用する
ことが可能となる。次に図２に示す洗浄装置は、主な構
造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１７、組成物
（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）１８、洗浄剤の蒸気に満
たされる蒸気ゾーン（Ｄ）１９、蒸発した洗浄剤を冷却
管２３によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した
水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）２０からな
る。実際の洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等
に入れて、洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）１７、リンス槽
（Ｂ）１８、蒸気ゾーン（Ｄ）１９の順に通過させなが
ら洗浄を完了させる。リンス槽数については精密洗浄等
の高い清浄度が求められる場合には必要に応じて２槽以
上に増やしても良い。

【００５４】洗浄槽（Ａ）１７では、本発明の洗浄剤を
ヒーター２１で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であればいかなる方法を使用しても良い。
本洗浄装置では、被洗物を洗浄槽（Ａ）１７からリンス
槽（Ｂ）１８に移動する時、洗浄剤成分が被洗物表面に
付着することにより、被洗物表面での乾燥による汚れ成
分の固着を防止しつつ，リンス槽（Ｂ）１８へ移動する
ことが可能となる。

【００５５】リンス槽（Ｂ）１８では、本発明の組成物
（ｆ）で被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している
汚れ成分を除去する。洗浄剤は、洗浄槽（Ａ）１７のヒ
ーター２１で加熱沸騰され、その組成の一部または全部
が蒸気となって矢印２５のように蒸気ゾーン（Ｄ）１９
を満たした後、冷却管２３で凝縮された後、配管２６か
ら水分離槽（Ｃ）２０に集まり水と分離された上で、配
管２７を通って、一旦リンス槽（Ｂ）１８に戻された
後、該リンス槽（Ｂ）１８からオーバーフローして矢印
２８のように最終的に洗浄槽（Ａ）に戻される。

【００５６】このように図２に示す洗浄装置は図１に示
した洗浄装置と異なり、洗浄剤と組成物（ｆ）が洗浄槽
（Ａ）１７において混合することを特徴とし、洗浄剤と
組成物（ｆ）に含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含
フッ素化合物と（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
沸点が２０℃〜１００℃の添加成分は同一成分とするこ
とが好ましい。

【００５７】この洗浄剤と組成物（ｆ）に含まれる
（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物と（ｄ）
１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００
℃の添加成分を洗浄装置内で循環させ、且つ、リンス相
（Ｂ）１８内の組成物の一部を洗浄槽（Ａ）１７にオー
バーフローさせることによって、蒸気ゾーン（Ｄ）１９
における蒸気洗浄が可能となるのみならず、被洗物によ
りリンス槽（Ｂ）１８に持ち込まれた洗浄剤中の（ｂ）
一般式（１）、（２）、（３）、および（４）で表され
る化合物よりなる群から選ばれる一種、または二種以上
の化合物、（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒ
ドロキシカルボン酸エステル類、および一般式（５）お
よび（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる一
種、または二種以上の化合物及び（ｅ）フェノール系酸
化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イ
オウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤を連続的に洗浄槽
（Ａ）１７に戻すことが可能となり、洗浄槽（Ａ）１７
内の洗浄剤、及びリンス槽（Ｂ）１８内の組成物（ｆ）
の組成を一定に保つことができる。 洗浄槽（Ａ）１７
で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン（Ｄ）１９で行
う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮したことにより
できた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄工程
最後の仕上げ洗浄として有効である。さらに、洗浄効果
を高めるためには、リンス槽（Ｂ）１８の冷却管２４で
組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、被洗物温度を低くす
ることによって、蒸気温度との温度差を広げ凝縮量を増
やすことが効果的である。

【００５８】次に図３に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）２９、洗浄剤の蒸気に満
たされる蒸気ゾーン（Ｄ）３０、蒸発した洗浄剤を冷却
管３４によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した
水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）３１，水分離
槽（Ｃ）３１で静置分離された凝縮液をシャワーリンス
するためのポンプ３３とからなる。実際の洗浄において
は被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を
洗浄槽（Ａ）２９、蒸気ゾーン（Ｄ）３０の順に通過さ
せながら洗浄を完了させる。

【００５９】洗浄槽（Ａ）２９では、本発明の洗浄剤を
ヒーター３２で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であれば、いかなる方法を使用しても良
い。蒸気ゾーン（Ｄ）３０では、主に本発明の洗浄剤に
含まれる（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物や
（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の添加成分等の蒸気圧の高い成分の蒸気を冷却
管３４で凝縮させ水分離槽（Ｃ）３１に集めた後、これ
ら凝縮液をポンプ３３で配管３８、３９に送液し、シャ
ワーノズル４０，４１から被洗物にシャワーすることに
よって，被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している
汚れ成分を除去する。凝縮液は、水分離槽（Ｃ）３１に
集められた後、配管３７およびポンプ３３から洗浄槽
（Ａ）２９に入りヒーター３２で加熱沸騰され、その組
成の一部または全部が蒸気となって矢印３５のように冷
却管３４で凝縮された後、配管３６から水分離槽（Ｃ）
３１に戻る。

【００６０】洗浄槽（Ａ）２９で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）３０で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が
全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として
有効である。本発明の洗浄装置では、洗浄剤に含まれる
（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物や（ｄ）
１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００
℃等の蒸気圧の高い成分が主に洗浄装置内で液体や気体
に状態変化させながら循環することによって、被洗物に
付着しているわずかに残留している可能性の有る汚れ成
分を組成物（ｆ）及びリンス槽（Ｂ）を使用せずにリン
ス及び蒸気洗浄が可能である。

【００６１】前記図１〜３に示した各洗浄装置はその目
的や用途によって使い分けることができ、高清浄度が求
められるような精密洗浄等では、洗浄槽（Ａ）およびリ
ンス槽（Ｂ）を１槽または２槽以上にした洗浄装置がよ
り好ましい。

【００６２】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 ［実施例１〜１２及び比較例１〜４］ （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり

【００６３】（２）融点測定 サンプルビンに洗浄剤５ｍｌを入れ、１５℃にコントロ
ールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目視評価
した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００６４】（３）フラックス溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを６０℃の洗浄剤５ｍｌで２分間揺動洗浄（２
００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエーテルお
よびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物
（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）
でリンスした後、エアーブローして乾燥する。溶解性は
試験の前後にペレットの重量を測定し、以下の計算式で
計算する。 フラックス溶解性（％）＝［（試験前重量−試験後重
量）／試験前重量］×１００ 評価は以下の基準による。 ◎：４０％以上 ○：３０％以上４０％未満 ×：３０％未満 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００６５】（４）基板洗浄性試験 重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因と
なる汚れに対する洗浄剤の洗浄性を、以下の操作により
測定した。ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×
４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５
０℃でハンダ付けして作成した試験片を６０℃の洗浄剤
５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）し、メチル
パーフルオロブチルエーテルおよびメチルパーフルオロ
イソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦＥ７１０
０、住友スリーエム（株）製）でリンスおよび蒸気洗浄
して乾燥する。洗浄性は基板表面の外観を目視評価す
る。評価は以下の基準による。 ◎：白色残渣全くなし（白色残渣がなく、かつハンダ面
に光沢がある。） ○：白色残渣なし（白色残渣はないが、ハンダ面に光沢
がない。） ×：白色残渣あり 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００６６】

【実施例１〜１２】表１に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験
を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）塩素原子を含
有しない含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、
（２）、（３）および（４）で表される化合物よりなる
群から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組み合
わせを均一混合することにより、引火点を消去した上
で、ロジン、重合ロジン、ロジンの金属塩、アミンの塩
酸塩および有機酸等のフラックス成分およびハンダ付け
工程において生成されたあらゆる汚れを洗浄できること
が確認された。

【００６７】さらに（ｃ）グリコールエーテルアセテー
ト類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式（５）
および（６）で表される化合物よりなる群から選ばれる
一種以上の化合物を併用して添加することにより、より
高い洗浄効果の得られることが確認された。また、
（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の成分を添加することによって、成分（ｂ）や
成分（ｃ）の添加量を抑制した上で、優れた洗浄性が得
られるとともに、融点が改善された。

【００６８】

【比較例１〜４】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。４Ｈ，５
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチル
エーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテル
とエチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、お
よび２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン単独ではフラッ
クス溶解性および基板洗浄性のいずれも不充分であっ
た。

【００６９】

【比較例５〜１０】表２に記載の組成で各成分を混合し
洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を
含有しない含フッ素化合物に成分（ｃ）として用いたジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルおよびジプロピレ
ングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル各々の単独添
加、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル
およびジプロピレングリコールモノメチルエーテルの併
用添加、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル各々の単独添加で
はいずれもフラックス溶解性または基板洗浄性が不充分
であった。

【００７０】［実施例１３〜１４及び比較例１１］ （５）実機洗浄試験１ 図１に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１に所定の組成の洗
浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）２、蒸気発生槽３および水
分離槽（Ｃ）５に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重
合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因とな
る汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条
件により測定した。

【００７１】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」する。評価
は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７２】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に
下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱し
て作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成
物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性
は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７３】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１ ：４０℃、２分間超音波洗浄（出
力：１１０ｗ、周波数：２８ｋＨｚ） リンス槽（Ｂ）２ ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回
／分） 蒸気ゾーン４ ：２分間静置

【００７４】

【実施例１３、１４】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ
素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および
（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物
を均一混合した洗浄剤と（ａ）塩素原子を含有しない含
フッ素化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）で洗
浄することにより、フラックス及び油に対する優れた洗
浄が確認された。また、組成物（ｆ）において（ｄ）
１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００
℃の成分を添加することによって、イオン性残渣量が低
減された。

【００７５】

【比較例１１】表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）に
ついて実施例１３、１４と同じ評価試験を行った。結果
を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいず
れも不充分であった。 ［実施例１５〜１６及び比較例１２］ （６）実機洗浄試験２ 図２に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１７に所定の組成の
洗浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）１８および水分離槽
（Ｃ）２０に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重合ロ
ジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚
れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件に
より測定した。 操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評
価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７６】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に
下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱し
て作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成
物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性
は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７７】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 リンス槽（Ｂ）１８ ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０
回／分） 蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間静置

【００７８】

【実施例１５、１６】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しない含フッ
素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、（３）および
（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化合物
を均一混合した洗浄剤、（ａ）塩素原子を含有しない含
フッ素化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）およ
び該洗浄剤を沸騰することによって発生する蒸気および
凝縮液で洗浄することにより、フラックス及び油に対す
る優れた洗浄が確認された。また、組成物（ｆ）おい
て、（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０
℃〜１００℃の成分を添加することによって、イオン性
残渣量が低減された。

【００７９】

【比較例１２】表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）に
ついて実施例１５，１６と同じ評価試験を行った。結果
を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいず
れも不充分であった。

【００８０】［実施例１７及び比較例１３］ （７）実機洗浄試験３ 図３に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）２９及び水分離槽
（Ｃ）３１に所定の組成の洗浄剤を入れ、洗浄槽（Ａ）
の洗浄剤をヒーター３２により加熱沸騰させ、１時間空
運転を行い水分離槽（Ｃ）３１の洗浄剤に含まれる成分
（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｅ）の中
で蒸気圧の低い成分の濃度を低下させた上で、重合ロジ
ン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れ
に対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件によ
り測定した。

【００８１】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、該洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液で
リンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン
性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメー
ター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定
し、その測定値を「β」とする。評価は以下の基準によ
る。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００８２】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に
下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱し
て作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、該洗
浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液でリンスし
た後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価する。
評価は以下の基準による。○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００８３】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間シャワーリンス（５Ｌ／
分）後，２分間静置

【００８４】

【実施例１７】表３に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤を得た。洗浄剤を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表３にまとめた。（ａ）塩素原子を含有しな
い含フッ素化合物、（ｂ）一般式（１）、（２）、
（３）および（４）で表される化合物よりなる群から選
ばれる化合物を均一混合した洗浄剤と該洗浄剤を沸騰す
ることによって発生する蒸気および凝縮液で洗浄するこ
とにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認
された。また、該洗浄剤を沸騰することによって発生す
る蒸気および凝縮液中には成分（ｂ）および成分（ｃ）
をほとんど含まず、該凝縮液でシャワーリンスすること
によって充分なリンス性が得られた。

【００８５】

【比較例１３】表３に記載の洗浄剤について実施例１７
と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分
（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパー
フルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラック
ス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。

【００８６】

【表１】

【００８７】

【表２】

【００８８】

【表３】

【００８９】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全である。すなわち、引火点
を有さないものの、フラックス等の汚れに対する溶解性
に劣る塩素原子を含有しない含フッ素化合物単体に、一
般式（１）、（２）、（３）および（４）で表される化
合物よりなる群から選ばれる化合物の一種、または二種
以上の組み合わせを併用することによって、引火点を有
さないという塩素原子を含有しない含フッ素化合物の特
性をそのままに、優れた洗浄性を有する。

【００９０】さらにグリコールエーテルアセテート類、
ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式（５）およ
び、一般式（６）で表される化合物よりなる群から選ば
れる一種以上の化合物を添加することより、基板表面に
残留する重合ロジン、ロジンの金属塩およびイオン性物
質等に対する優れたフラックス洗浄性を有する洗浄剤を
提供できる。洗浄剤が引火点を有さないので、引火の危
険性が低減され、洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防
ぐための防爆構造とする必要がなく、かつ、既存の洗浄
設備をそのまま使用できるため低コストの洗浄システム
を確立することが可能となる。また、酸化防止剤や１．
０１３×１０⁵Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１００℃の
添加成分により、蒸気洗浄時の金属安定性及び酸化劣化
抑制効果の向上、洗浄剤の凝固防止等が可能となる。

【００９１】本発明の組成物によれば、引火の危険を全
く心配せずにあらゆるタイプの汚れを容易に被洗物表面
から溶解洗浄する事ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図２】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図３】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【符号の説明】

１ 洗浄槽（Ａ） ２ リンス槽（Ｂ） ３ 蒸気発生槽 ４ 蒸気ゾーン ５ 水分離槽（Ｃ） ６ ヒーター ７ ヒーター ８ 超音波振動子 ９ 冷却管 １０冷却管 １１オーバーフロー配管 １２オーバーフロー配管 １３蒸気の流れ １４凝縮液用配管 １５水分離後の凝縮液用配管 １６オーバーフロー液用配管 １７洗浄槽（Ａ） １８リンス槽（Ｂ） １９蒸気ゾーン（Ｄ） ２０水分離槽（Ｃ） ２１ヒーター ２２超音波振動子 ２３冷却管 ２４冷却管 ２５蒸気の流れ ２６凝縮液用配管 ２７水分離後の凝縮液用配管 ２８組成物（ｆ）の流れ ２９洗浄槽（Ａ） ３０蒸気ゾーン（Ｄ） ３１水分離槽（Ｃ） ３２ヒーター ３３ポンプ ３４冷却管 ３５蒸気の流れ ３６凝縮液用配管 ３７水分離後の凝縮液配管 ３８シャワー用の凝縮液配管 ３９シャワー用の凝縮液配管 ４０シャワーノズル ４１シャワーノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 7/28 Ｃ１１Ｄ 7/28 7/32 7/32 7/34 7/34 7/36 7/36 7/50 7/50 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｅ Ａ Ｆターム(参考） 3B201 AA46 AB01 AB45 BB04 BB05 BB13 BB21 BB82 BB85 BB92 BB95 CB01 CC01 CC11 CC21 CD22 4H003 DA15 DA16 DB02 DB03 EB03 EB13 EB21 EB23 ED03 ED26 ED28 ED29 ED30 ED32 FA01 FA15 FA45 5E343 CC24 CC26 CC50 CC54 EE02 EE08 EE10 EE18 EE20 FF23 GG20

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化
   合物と、（ｂ）下記一般式（１）、（２）、（３）、お
   よび（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる化
   合物の一種、または二種以上を含有する引火点を持たな
   い洗浄剤組成物。 【化１】 （式中Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル
   基、またはシクロアルキル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は水素ま
   たはメチル基、Ｒ⁵は水素、炭素数１〜６のアルキル
   基、アルケニル基、またはシクロアルキル基、ａは０〜
   １の整数を表す。） 【化２】 （式中Ｒ⁶は炭素数４〜６のアルキル基、アルケニル
   基、またはシクロアルキル基、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は水素ま
   たはメチル基、Ｒ¹⁰は炭素数３〜６のアルキル基、アル
   ケニル基、またはシクロアルキル基、ｂは０〜１の整数
   を表す。） 【化３】 （式中Ｒ¹¹は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル
   基、またはシクロアルキル基、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は水素
   またはメチル基、Ｒ¹⁵は水素、炭素数１〜６のアルキル
   基、アルケニル基、またはシクロアルキル基、ｃは０〜
   １の整数、ｄは３〜４の整数を表す。） Ｒ¹⁶−Ｏ−（Ｒ¹⁷Ｏ）₂−Ｈ （４） （式中Ｒ¹⁶は炭素数５〜６のアルキル基、アルケニル
   基、またはシクロアルキル基、Ｒ¹⁷は炭素数２〜３のア
   ルキレン基を表す。）
2. 【請求項２】 上記成分（ｂ）化合物が、３−メトキシ
   ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールのう
   ち少なくとも一つを含むものである請求項１の洗浄剤組
   成物。
3. 【請求項３】 （ｃ）グリコールエーテルアセテート
   類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、および下記一般
   式（５）および（６）で表される化合物よりなる群から
   選ばれる化合物の一種、または二種以上を含有する請求
   項１〜２記載の洗浄剤組成物。 Ｒ¹⁸Ｏ―（Ｒ¹⁹Ｏ）₂―Ｈ （５） （式中Ｒ¹⁸は炭素数１〜４のアルキル基、アルケニル
   基、Ｒ¹⁹は炭素数２〜３のアルキレン基を表す。） Ｒ²⁰Ｏ―（Ｒ²¹Ｏ）₂― Ｒ²² （６） （式中Ｒ²⁰は炭素数１〜３のアルキル基、アルケニル
   基、Ｒ²¹は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ²²は炭素数
   １〜２のアルキル基、アルケニル基を表す。）
4. 【請求項４】 上記、成分（ｃ）化合物の、少なくとも
   一種が、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエ
   ーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエー
   テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロ
   ピレングリコールジメチルエーテルのいずれかである請
   求項３記載の洗浄剤組成物。
5. 【請求項５】 （ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
   沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
   〜４に記載の洗浄剤組成物。
6. 【請求項６】 （ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン
   系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
   および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
   一種以上の化合物とを含有する請求項１〜５に記載の洗
   浄剤組成物。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤
   で被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも１種の（ａ）
   塩素原子を含有しない含フッ素化合物を含有する組成物
   でリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴とする
   洗浄方法。
8. 【請求項８】 組成物（ｆ）が、添加成分（ｄ）および
   化合物（ｅ）よりなる群から選ばれる少なくとも一種の
   成分または化合物を含有するものである請求項８記載の
   洗浄方法。
9. 【請求項９】 （Ａ）請求項１〜６のいずれかに記載の
   洗浄剤により被洗物を洗浄するための洗浄槽、（Ｂ）組
   成物（ｆ）によりリンスするためのリンス槽、引火点を
   有さない組成物（ｆ）に含有される少なくとも一種の成
   分または化合物の蒸気を発生させるための蒸気発生槽、
   該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸
   気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した後、得られた
   凝縮液から水分を除去するための水分離槽、及び水分を
   除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻す機構を有する
   洗浄装置。
10. 【請求項１０】 請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄
    剤を構成する少なくとも一種の成分または化合物の蒸気
    を発生させるための加熱機構を有する請求項９の洗浄槽
    （Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽（Ａ）から発
    生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、水分離槽
    （Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗浄槽（Ａ）に
    戻す機構を有する洗浄装置。
11. 【請求項１１】 請求項１０において、リンス槽（Ｂ）
    の代わりに、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワー
    リンスする機構を有する洗浄装置。