JP2001207195A - 引火点のない洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤を提供する。 【解決手段】 塩素原子を含有しない含フッ素化合物に
ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルま
たは／およびジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチル
エーテルを加え、さらにグリコールエーテルアセテート
類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、等の化合物を併
用添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、
ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用される
フラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、フラックスでハンダ付け面を予
め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法
としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等によ
り、フラックスを基板面に付着させた後、溶融ハンダを
供給する方法や予めフラックスとハンダの粉末を混合し
てペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給
した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラ
ックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるた
め、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。

【０００３】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについてもオゾン層
破壊能があるために日本では２０２０年にその使用が禁
止される予定である。

【０００４】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、溶解能が低く単独では洗浄剤として使用
できないため、特開平１０−３１６５９８号公報および
特開平１０−２１２４９８号公報等のＨＦＣやＨＦＥに
可燃性溶剤を組み合わせた洗浄剤の技術が開示されてい
る。

【０００５】特開平１０−３１６５９８号公報には環状
のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗浄剤が提
案されているが、このような洗浄剤は引火点を有し、不
燃性溶剤として取り扱うことができない。また、特開平
１０−２１２４９８号公報にはＨＦＣやＨＦＥとグリコ
ールエーテルモノアルキルエーテル類の併用についての
記載がある。しかし、例えば，フラックス洗浄剤として
は、フラックス成分であるロジンやイオン性残渣の原因
となるアミンの塩酸塩や有機酸等の汚れおよびハンダ付
け工程によって生成され、白色残渣の原因となる重合ロ
ジンやロジンの金属塩等の汚れの全てを洗浄する必要が
ある。対して、前記洗浄剤に記載されているのはジエチ
レングリコールモノアルキルエーテルおよび／またはジ
プロピレングリコールモノアルキルエーテルで、かつア
ルキル基が炭素数１〜４のアルキル基であるグリコール
エーテルモノアルキルエーテル類の単独または併用添加
であり、記載されている全てのグリコールエーテルモノ
アルキルエーテルについて、全ての汚れを充分に洗浄す
る能力はない。

【０００６】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、洗浄
剤として最適のグリコールエーテルモノアルキルエーテ
ルが開示されていないため、洗浄力が不足する場合があ
り、洗浄剤として使用する上で多くの問題を抱えている
のが現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力を示し、
かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化を防止し
つつ、低毒性で、引火点がなく、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤を提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、塩素原子を含有しない含フッ素化合物の
引火点を有さない特性を生かし、引火点の出現しない洗
浄剤を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、塩素原子を含
有しない含フッ素化合物にジプロピレングリコールモノ
−ｎ−プロピルエーテルまたは／およびジプロピレング
リコールモノ−ｎ−ブチルエーテルを加えることによ
り、広範な種類の汚れを洗浄できる事を見出し、さらに
グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン
酸エステル類、一般式（１）および（２）で表される化
合物よりなる群から選ばれる化合物を少なくとも一種併
用添加することにより、より高い洗浄効果の得られるこ
とを見出すとともに、酸化防止剤等の添加により高温下
で連続して使用できることを見出し、本発明を完成し
た。

【０００９】すなわち、発明の第一は、（ａ）塩素原子
を含有しない含フッ素化合物と（ｂ）ジプロピレングリ
コールモノ−ｎ−プロピルエーテルまたは／およびジプ
ロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルを含有す
る非引火性の洗浄剤組成物である。発明の第二は、
（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカ
ルボン酸エステル類、一般式（１）および（２）で表さ
れる化合物よりなる群から選ばれる化合物を少なくとも
一種含有する発明の第一に記載の洗浄剤組成物である。

【００１０】発明の第三は、（ｄ）１．０１３×１０⁵
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有
する発明の第一〜二に記載の洗浄剤組成物である。発明
の第四は、（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤およ
び紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる化合物を少なく
とも一種含有する発明の第一〜三に記載の洗浄剤組成物
である。以下、本発明を詳細に説明する。

【００１１】本発明の洗浄剤に使用する（ａ）塩素原子
を含有しない含フッ素化合物とは、炭化水素類やエーテ
ル類の水素原子の一部がフッ素原子のみで置換され、塩
素原子を含まないフッ素化合物であり、例えば、下記一
般式（３）で特定される環状ＨＦＣ、（４）で特定され
る鎖状ＨＦＣ、又は（５）で特定されるＨＦＥの、塩素
原子を含まない、炭素原子、水素原子、酸素原子、フッ
素原子からなる化合物、及びこれらの中から選ばれる２
種以上の化合物の組み合わせ等を挙げられる。

【００１２】 Ｃ_nＨ_2n-mＦ_m （３） （式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す） Ｃ_xＨ_2x+2-yＦ_y （４） （式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す） Ｃ_sＦ_2s+1ＯＲ （５） （式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基） 環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロ
シクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナフルオロシク
ロヘキサン等を挙げることができる。

【００１３】鎖状のＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタ
ン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフル
オロペンタン、１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、
１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロペンタン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオ
ロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペ
ンタン、１Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロ
ペンタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，
３Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオ
ロヘキサン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン等を挙げることができ
る。

【００１４】ＨＦＥの具体例としてはメチルパーフルオ
ロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエー
テル、メチルパーフルオロペンチルエーテル、メチルパ
ーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフルオ
ロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエー
テル、エチルパーフルオロペンチルエーテル等を挙げる
ことができる。本発明の洗浄剤においては、これら
（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物の中から選
ばれる１種又は２種以上の化合物を組み合わせて用いる
ことができるが、好ましくは、アルコール類、ケトン
類、エステル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤
に対する溶解性が高く地球温暖化係数の低い環状ＨＦＣ
またはＨＦＥを挙げることができる。より好ましくは、
４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチ
ルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイ
ソブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテ
ル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、およびこ
れらの混合物を挙げることができる。さらに好ましくは
メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオ
ロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：
ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）、エチルパ
ーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブ
チルエーテルおよびこれらの混合物（商品名：ＨＦＥ７
２００、住友スリーエム（株）製）を挙げることができ
る。

【００１５】本発明の洗浄剤においては、広範な種類の
汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）ジプロピレン
グリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルまたは／および
ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルを使
用する必要がある。本発明における洗浄剤は、上記成分
（ａ）、（ｂ）を含有する引火点のない洗浄剤である。
ここでいう、「引火点のない」とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６
５等の一般的な引火点評価試験により、洗浄剤に引火点
なしと認められることを意味する。本発明の洗浄剤にお
いては、洗浄力の向上を目的に（ｃ）グリコールエーテ
ルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一
般式（１）および（２）で表される化合物よりなる群か
ら選ばれる化合物を少なくとも一種併用することができ
る。

【００１６】本発明の洗浄剤に使用するグリコールエー
テルアセテート類とは、グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテル類をアセテート化した化合物である。ここで
いう、グリコールエーテルモノアルキルエーテル類とは
２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合している
脂肪族あるいは脂環式化合物において、その２個の水酸
基のうちいずれか１個の水酸基の水素が炭化水素残基ま
たはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換されている
化合物である。例えば、下記一般式（６）で特定される
グリコールエーテルアセテート類を挙げることができ
る。

【００１７】

【化１】

【００１８】（式中Ｒ⁶は炭素数１〜６のアルキル基、
アルケニル基、またはシクロアルキル基、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ
⁹は水素またはメチル基、ａは０〜１の整数、ｂは１〜
４の整数を表す。） グリコールエーテルアセテート類の具体例としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコールおよびトリプロピレングリコール等に対応する
モノアルキルエーテルのアセテート、３−メトキシ−１
−ブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチル−１−
ブチルアセテート等を挙げることができる。

【００１９】また、本発明の洗浄剤に使用するヒドロキ
シカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエステル化
合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エステ
ル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコールモ
ノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリンジエ
ステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を挙げ
ることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン酸エ
ステル類としては下記一般式（７）で特定される乳酸エ
ステル類を挙げることができる。

【００２０】

【化２】

【００２１】（式中、Ｒ¹⁰は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。） 乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることがで
きる。一般式（１）で表されるものの具体例としては、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジ
メチルエーテル等を挙げることができる。

【００２２】また、一般式（２）で表されるものの具体
例としては、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ
−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−
ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチ
ルエーテル等が挙げられる。

【００２３】成分（ｃ）は、グリコールエーテルアセテ
ート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式
（１）および（２）で表される化合物よりなる群から選
ばれた、１種又は２種以上の化合物を組み合わせること
ができる。また、成分（ｃ）の蒸気圧は、特に引火点の
ない洗浄剤組成とするために、２０℃において１．３３
×１０³Ｐａ未満が好ましく、より好ましくは６．６６
×１０²Ｐａ以下であり、さらに１．３３×１０²Ｐａ以
下が好ましい。

【００２４】本発明の洗浄剤には、１．０１３×１０⁵
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃で、請求項１記載
の成分（ａ）、成分（ｂ）および成分（ｃ）とは異なる
化合物である、成分（ｄ）を洗浄力改良剤、安定剤、融
点降下剤等の添加成分として添加し、成分（ｂ）および
成分（ｃ）の添加量の抑制、洗浄性の向上、蒸気洗浄時
の気相での金属安定性の向上および冷却時の洗浄剤の凝
固防止等を図ることもできる。

【００２５】成分（ｄ）としては、例えば、以下に示す
溶剤の種類ごとに例示することができる。炭化水素類と
しては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサ
ン、シクロヘキセン、２−メチルペンタン、２，３−ジ
メチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３
−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、イソオ
クタン等が挙げられる。アルコール類としてはメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール
等を挙げることができる。ケトン類としてはアセトン，
メチルエチルケトンを挙げることができる。エステル類
としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、
酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等を挙げることができる。

【００２６】成分（ｄ）は、上記例示された化合物のな
かから選ばれた、１種又は２種以上を組み合わせること
ができる。成分（ｄ）の沸点は２０℃〜１００℃であ
り、かつ、使用中の組成変動を少なくするために（ａ）
塩素原子を含有しない含フッ素化合物の沸点の±４０℃
の範囲に入ることが好ましく、さらに好ましくは±３０
℃である。また、成分（ｄ）は、併用する（ａ）塩素原
子を含有しない含フッ素化合物と共沸組成物あるいはそ
れに近似する組成の共沸様組成物であることが好まし
い。

【００２７】また、洗浄剤の酸化劣化を防ぐ目的で成分
（ｅ）を添加することができる。成分（ｅ）としては、
例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メ
チル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−
６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサン
ジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができ
る。

【００２８】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ-ブチル
フェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合
物を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤として
は、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステ
ル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エス
テル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エ
ステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸
エステル等の化合物を挙げることができる。

【００２９】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３０】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上の化合物とリン系酸化防止剤
およびリン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上の化
合物を併用することによって、長期間洗浄剤の酸化分解
を抑制することが可能となる。

【００３１】本発明の洗浄剤は、上述した（ａ）〜
（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化して得られ
る。各成分の重量割合については、本発明の洗浄剤の特
徴である、高洗浄性、低毒性、低引火性が損なわれない
範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）／成分
（ｂ）の重量割合（ａ）／（ｂ）の範囲が４０／６０＜
（ａ）／（ｂ）＜９５／５であることがより好ましい。
成分（ｂ）の重量割合が５より大きいときに、各種汚れ
に対するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０よ
り小さいときにより好ましい低引火性を達成できる。洗
浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを考慮した、さらに
好ましい（ａ）／（ｂ）範囲は５０／５０＜（ａ）／
（ｂ）＜９０／１０であり、いっそう好ましくは６０／
４０＜（ａ）／（ｂ）＜８０／２０である。

【００３２】成分（ｃ）をさらに添加する場合には、成
分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合成分
（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝の範囲が４０／６０＜
（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９５／５であることがよ
り好ましい。｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合が
５より大きいときに、各種汚れに対するより好ましい溶
解力改善効果が得られ、６０より小さいときにより好ま
しい低引火性が達成される。洗浄剤の洗浄性と低引火性
のバランスを考慮した、さらに好ましい（ａ）／
｛（ｂ）＋（ｃ）｝の範囲は５０／５０＜（ａ）／
｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜９０／１０であり、いっそう好ま
しくは６０／４０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）｝＜８０
／２０である。

【００３３】成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合（ｂ）
／（ｃ）の範囲は１０／９０＜（ｂ）／（ｃ）＜９０／
１０であることがより好ましい。成分（ｃ）の重量割合
が１０より大きいときに、より好ましいフラックス溶解
性が得られ、９０より小さいときに、重合ロジンやロジ
ンの金属塩に対するより好ましい洗浄性が得られる。洗
浄剤のフラックスに対する溶解性と重合ロジン等の白色
残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバランスを考慮
した、さらに好ましい（ｂ）／（ｃ）の範囲は２０／８
０＜（ｂ）／（ｃ）＜８０／２０である。

【００３４】成分（ｄ）を添加する場合には｛成分
（ａ）＋成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝／成分（ｄ）の重量
割合｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）の範囲が９０
／１０＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）＜９９．
９／０．１であることがより好ましい。（ｃ）の重量割
合が１０より小さいときにより好ましい低引火性を達成
でき、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤とし
てのより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量
割合の範囲は９３／７＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／
（ｄ）＜９９／１である。

【００３５】成分（ｅ）を添加する場合には｛成分
（ａ）＋成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の全重
量に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは１０
〜１０００ｐｐｍである。本発明の洗浄剤の融点は１５
℃以下が好ましいが、冬期使用することも考慮すると１
０℃以下がより好ましく，さらに好ましくは５℃以下で
ある。また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対して優
れた洗浄性を示すが、特にフラックスなどの樹脂類の洗
浄に適している。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各
種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必要
に応じて添加しても良い。

【００３６】以下に本発明の洗浄剤に添加できる添加剤
の具体例を例示する。界面活性剤としては、アニオン系
界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活
性剤及び両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系
界面活性剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属、アルカノー
ルアミンおよびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界
面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられ
る。ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノー
ル、炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコ
ールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサ
イドポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が
挙げられる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、ア
ミノ酸型等が挙げられる。

【００３７】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり （２）融点測定 サンプルびんに洗浄剤０．００５Ｌを入れ、１５℃にコ
ントロールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目
視評価した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００３９】（３）フラックス溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを６０℃の洗浄剤０．００５Ｌで２分間揺動洗
浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエー
テルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混
合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）
製）でリンスした後、エアーブローして乾燥する。溶解
性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以下の計算
式で計算する。 フラックス溶解性（％）＝｛（試験前重量−試験後重
量）／試験前重量｝×１００ 評価は以下の基準による。 ◎：４０％以上 ○：３０％以上４０％未満 ×：３０％未満 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製） （４）基板洗浄性試験 重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因と
なる汚れに対する洗浄剤の洗浄性を、以下の操作により
測定した。

【００４０】ガラスエポキシ製プリント基板（０．０３
５×０．０４８ｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した
後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を６０℃
の洗浄剤０．０５Ｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）
し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパ
ーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦ
Ｅ７１００、住友スリーエム（株）製）でリンスした
後、ＨＦＥ７１００で蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は
基板表面の外観を目視評価する。評価は以下の基準によ
る。 ◎：白色残渣全くなし（白色残渣がなく、かつハンダ面
に光沢がある。） ○：白色残渣なし（白色残渣はないが、ハンダ面に光沢
がない。） ×：白色残渣あり 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００４１】

【実施例１〜１１】表１に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験
を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）塩素原子を含
有しない含フッ素化合物、（ｂ）ジプロピレングリコー
ルモノ−ｎ−プロピルエーテルまたは／およびジプロピ
レングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルを均一混合す
ることにより、引火点を消去した上で、ロジン、重合ロ
ジン、ロジンの金属塩、アミンの塩酸塩および有機酸等
のフラックス成分およびハンダ付け工程において生成さ
れたあらゆる汚れを洗浄できることが確認された。さら
に（ｃ）グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシ
カルボン酸エステル類、一般式（１）および（２）で表
される化合物よりなる群から選ばれる化合物を単独で添
加したり、二種以上を組み合わせて添加することによ
り、より高い洗浄効果の得られることが確認された。ま
た、（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０
℃〜１００℃の成分を添加することによって、成分
（ｂ）や成分（ｃ）の添加量を抑制した上で、いっそう
優れた洗浄性が得られるとともに、融点が改善された。

【００４２】

【比較例１〜４】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。成分
（ａ）として用いた４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシ
クロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテルとメ
チルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、エチル
パーフルオロブチルエーテルとエチルパーフルオロイソ
ブチルエーテルの混合物および２Ｈ，３Ｈ−パーフルオ
ロペンタン単独ではフラックス溶解性および基板洗浄性
がいずれも不充分であった。

【００４３】

【比較例５〜８】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を含
有しない含フッ素化合物に成分（ｃ）として用いたジプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノ−ｉ−ブチルエーテルおよびジプロピレン
グリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル各々の単独添加、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルおよ
びジプロピレングリコールモノメチルエーテルの併用添
加ではフラックス溶解性がいずれも不充分であった。

【００４４】

【比較例９〜１０】表２に記載の組成で各成分を混合し
洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を
含有しない含フッ素化合物に成分（ｃ）として用いたジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレング
リコールジメチルエーテル各々を単独添加しただけでは
基板洗浄性が不充分であった。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【表２】

【００４７】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全である。すなわち、引火点
を有さないものの、フラックス等の汚れに対する溶解性
に劣る塩素原子を含有しない含フッ素化合物単体にジプ
ロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルまたは
／およびジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエー
テルを併用することによって、引火点を有さないという
塩素原子を含有しない含フッ素化合物の特性をそのまま
に、優れた洗浄力を有し、さらにグリコールエーテルア
セテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、一般式
（１）および（２）で表される化合物よりなる群から選
ばれる化合物を少なくとも一種添加することにより，基
板表面に残留する重合ロジン、ロジンの金属塩およびイ
オン性物質等に対する優れたフラックス洗浄性を有する
洗浄剤を提供できる。洗浄剤が引火点を有さないので、
引火の危険性が低減され、洗浄機等の設備上、引火，爆
発等を防ぐための防爆構造とする必要がなく、かつ、既
存の洗浄設備をそのまま使用できるため低コストの洗浄
システムを確立することが可能となる。また、酸化防止
剤や１．０１３×１０⁵Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１
００℃の添加成分により、蒸気洗浄時の金属安定性及び
酸化劣化抑制効果の向上、冷却時の洗浄剤の凝固防止等
が可能となる。

【００４８】本発明の組成物によれば、引火の危険を全
く心配せずにあらゆるタイプの汚れを容易に被洗物表面
から溶解洗浄する事ができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化
   合物と（ｂ）ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピ
   ルエーテルまたは／およびジプロピレングリコールモノ
   −ｎ−ブチルエーテルを含有する引火点のない洗浄剤組
   成物。
2. 【請求項２】 （ｃ）グリコールエーテルアセテート
   類、ヒドロキシカルボン酸エステル類、下記一般式
   （１）および（２）で表される化合物よりなる群から選
   ばれる化合物を少なくとも一種含有する請求項１に記載
   の洗浄剤組成物。 Ｒ¹Ｏ―（Ｒ²Ｏ）₂― Ｒ³ （１） （式中Ｒ¹は炭素数１〜３のアルキル基、アルケニル
   基、Ｒ²は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ³は炭素数１
   〜２のアルキル基、アルケニル基を表す。） Ｒ⁴Ｏ―（Ｒ⁵Ｏ）₂― Ｈ （２） （式中Ｒ⁴は炭素数１〜４のアルキル基、アルケニル
   基、Ｒ⁵は炭素数２〜３のアルキレン基を表す。ただ
   し、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテ
   ル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル
   を除く。）
3. 【請求項３】 （ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
   沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
   〜２に記載の洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 （ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン
   系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
   および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
   一種以上の化合物を含有する請求項１〜３に記載の洗浄
   剤組成物。