JP2001181685A - 引火点を有さない洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤を提供する。 【解決手段】 非塩素系フッ素化合物にグリコールエー
テル類を特定の配合重量比で添加し、さらに酸化防止剤
等を添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、
ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用される
フラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、フラックスでハンダ付け面を予
め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法
としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等によ
り、フラックスを基板面に付着させた後、溶融ハンダを
供給する方法や予めフラックスとハンダの粉末を混合し
てペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給
した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラ
ックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるた
め、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。

【０００３】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについてもオゾン層
破壊能があるために日本では２０２０年にその使用が禁
止される予定である。

【０００４】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できない。また、特開平１０
−３１６５９８号公報、特開平１０−３６８９４号公
報、特開平１０−２１２４９８号公報および特開平１０
−２５１６９２号公報等のＨＦＣやＨＦＥに可燃性溶剤
を組み合わせた洗浄剤の技術が開示されている。

【０００５】しかし、特開平１０−３１６５９８号公報
には環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗
浄剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を
有し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。ま
た、特開平１０−３６８９４号公報、特開平１０−２１
２４９８号公報および特開平１０−２５１６９２号公報
にはＨＦＣやＨＦＥと二塩基酸エステルやグリコールエ
ーテル類の併用についての記載がある。しかし、例え
ば，フラックス洗浄剤としては、フラックス成分である
ロジンやイオン性残渣の原因となるアミンの塩酸塩や有
機酸等の汚れおよびハンダ付け工程によって生成され、
白色残渣の原因となる重合ロジンやロジンの金属塩等の
汚れの全てを洗浄する必要があるが、前記洗浄剤では二
塩基酸エステルやグリコールエーテル類を単独で使用し
ていたり、グリコールエーテル類を併用していてもグリ
コールエーテルモノアルキルエーテル類の併用やグリコ
ールエーテルジアルキルエーテル類の併用であるため
に、全ての汚れを充分に洗浄することができない。

【０００６】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、材質
に対するダメージが大きい等、洗浄剤として使用する上
で多くの問題を抱えているのが現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力を示し、
かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化を防止し
つつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が高く、引
火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提
供することを課題とする。

【０００８】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、非塩素系フッ素化合物の引火点を有さな
い特性を生かし、引火点の出現しない洗浄剤を見出すべ
く鋭意検討を重ねた結果、非塩素系フッ素化合物にグリ
コールエーテル類を特定の配合重量比で加えることによ
り、あらゆる汚れを洗浄できる事を見出し、さらに酸化
防止剤等の添加により高温下で連続して使用できること
を見出し，本発明を完成した。

【０００９】すなわち、発明の第一は、（ａ）塩素原子
を含有しない含フッ素化合物と（ｂ）グリコールエーテ
ルジアルキルエーテル類から選ばれる１種以上の化合物
と（ｃ）グリコールエーテルモノアルキルエーテル類か
ら選ばれる１種以上の化合物とを含有し、かつ成分
（ａ）と成分（ｂ）の配合重量比（ａ）／（ｂ）が７０
／３０＜（ａ）／（ｂ）≦９９／１であり、成分（ａ）
と成分（ｃ）の配合重量比（ａ）／（ｃ）が８５／１５
＜（ａ）／（ｃ）≦９９／１である引火点を有さない洗
浄剤組成物である。

【００１０】発明の第二は、（ｄ）グリコールエーテル
アセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル類よ
りなる群から選ばれる一種以上の化合物を含有する発明
の第一に記載の洗浄剤組成物である。発明の第三は
（ｅ）１．０１３×１０^５Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の添加成分を含有する発明の第一〜二に記載の
洗浄剤組成物である。発明の第四は（ｆ）フェノール系
酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、
イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤よりなる群から
選ばれる少なくとも一種以上の化合物を含有する発明の
第一〜三に記載の洗浄剤組成物である。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
洗浄剤に使用する（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素
化合物とは、炭化水素類やエーテル類の水素原子の一部
がフッ素原子のみで置換され、塩素原子を含まないフッ
素化合物であり、例えば、下記一般式（１）で特定され
る環状ＨＦＣ、（２）で特定される鎖状ＨＦＣ、又は
（３）で特定されるＨＦＥの、塩素原子を含まない、炭
素原子、水素原子、酸素原子、フッ素原子からなる化合
物、及びこれらの中から選ばれる２種以上の化合物の組
み合わせ等を挙げられる。 Ｃ_ｎＨ_２ｎ−ｍＦ_ｍ （１） （式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す） Ｃ_ｘＨ_{２ｘ＋２−ｙ}Ｆ_ｙ （２） （式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す） Ｃ_ｓＦ_２ｓ＋１ＯＲ （３） （式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）

【００１２】環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，
４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。

【００１３】鎖状ＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフル
オロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタン、１
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、
２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ
−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−パーフル
オロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，４
Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオ
ロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン、２
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロヘキサン等を挙げることができる。ＨＦＥの具体
例としてはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチル
パーフルオロイソブチルエーテル、メチルパーフルオロ
ペンチルエーテル、メチルパーフルオロシクロヘキシル
エーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチル
パーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロ
ペンチルエーテル等を挙げることができる。

【００１４】本発明の洗浄剤においては、これら（ａ）
塩素原子を含有しない含フッ素化合物の中から選ばれる
１種又は２種以上の化合物を組み合わて用いることがで
きるが、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エステ
ル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤に対する溶
解性が高く地球温暖化係数の低い環状ＨＦＣまたはＨＦ
Ｅを挙げることができる。より好ましくは、４Ｈ，５
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチル
エーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテ
ル、エチルパーフルオロイソブチルエーテル、およびこ
れらの混合物を挙げることができる。さらに好ましくは
メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオ
ロイソブチルエーテル、およびこれらの混合物を挙げる
ことができる。

【００１５】本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れ
に対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）グリコールエーテ
ルジアルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合物
と（ｃ）グリコールエーテルモノアルキルエーテル類か
ら選ばれる一種以上の化合物を併用する必要がある。

【００１６】本発明の洗浄剤で使用する（ｂ）グリコー
ルエーテルジアルキルエーテル類とは、２個の水酸基が
２個の相異なる炭素原子に結合している脂肪族あるいは
脂環式化合物において、該２個の水酸基の水素がいずれ
も炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基
に置換されている化合物である。また、（ｃ）グリコー
ルエーテルモノアルキルエーテル類とは、２個の水酸基
が２個の相異なる炭素原子に結合している脂肪族あるい
は脂環式化合物において、該２個の水酸基のうち、いず
れか１個の水酸基の水素が炭化水素残基またはエーテル
結合を含む炭化水素残基と置換している化合物である。
例えば、下記一般式（４）で特定されるグリコールエー
テルジアルキルエーテル類および下記一般式（５）で特
定されるグリコールエーテルモノアルキルエーテル類を
挙げることができる。

【００１７】

【化１】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^５は炭素数１〜６のアルキル基、アル
ケニル基又はシクロアルキル基、 Ｒ^２ 、Ｒ^３ 、Ｒ^４
は水素またはメチル基、ａは０〜１の整数、ｂは１〜
４の整数を示す。）

【００１８】

【化２】 （式中、Ｒ^６ は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニ
ル基又はシクロアルキル基、 Ｒ^７ 、Ｒ^８ 、Ｒ^９ は
水素またはメチル基、ｃは０〜１の整数、ｄは１〜４の
整数を示す。）

【００１９】（ｂ）グリコールエーテルジアルキルエー
テル類の具体例としては、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールジメチルエーテル等を挙げることがで
きる。

【００２０】また、（ｃ）グリコールエーテルモノアル
キルエーテル類の具体例としては、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール、
３−メチル−３−メトキシブタノール、エチレングリコ
ールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、プロピレングリコー
ルモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ−ｎ−ブチルエーテル等を挙げることができる。

【００２１】各成分の重量割合については、成分（ａ）
と成分（ｂ）の配合重量比（ａ）／（ｂ）が７０／３０
＜（ａ）／（ｂ）≦９９／１の時に、様々なフラックス
に対する優れた溶解性と低引火性を両立できる。フラッ
クスの溶解性と低引火性のバランスを考慮した、より好
ましい成分（ａ）／成分（ｂ）の配合重量比は７０／３
０＜（ａ）／（ｂ）≦９５／５以上であり、さらに好ま
しくは７０／３０＜（ａ）／（ｂ）≦９０／１０であ
る。

【００２２】また成分（ａ）と成分（ｂ）だけでは、フ
ラックス成分に対する溶解性は優れるものの、ハンダ付
け工程で生成される重合ロジンやロジンの金属塩等の白
色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性に劣るため、成
分（ｃ）を併用する必要がある。その重量割合について
は、成分（ａ）と成分（ｃ）の配合重量比（ａ）／
（ｃ）が８５／１５＜（ａ）／（ｃ）≦９９／１の時
に、優れたイオン性残渣除去性、白色残渣除去性と低引
火性のバランスを両立できる。イオン性残渣除去性、白
色残渣除去性と、低引火性のバランスを考慮した、より
好ましい成分（ａ）／成分（ｃ）の配合重量比は８５／
１５＜（ａ）／（ｃ）≦９５／５であり、さらに好まし
くは８５／１５＜（ａ）／（ｃ）≦９０／１０である。

【００２３】成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合（ｂ）
／（ｃ）の範囲は１０／９０＜（ｂ）／（ｃ）＜９０／
１０であることがより好ましい。成分（ｂ）の重量割合
が１０より大きいときに、より好ましいフラックス溶解
性が得られ、９０より小さいときに、重合ロジンやロジ
ンの金属塩に対するより好ましい洗浄性が得られる。洗
浄剤のフラックスに対する溶解性と重合ロジン等の白色
残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバランスを考慮
した、さらに好ましい成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割
合の範囲は４０／６０＜（ｂ）／（ｃ）＜８０／２０で
ある。

【００２４】本発明における洗浄剤は、上記成分
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を所定の割合で含有する引火点
を有さない洗浄剤である。ここでいう、「引火点を有さ
ない」とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６５等の一般的な引火点評
価試験により、洗浄剤に引火点なしと認められることを
意味する。本発明の洗浄剤においては、洗浄力の向上を
目的に（ｄ）グリコールエーテルアセテート類およびヒ
ドロキシカルボン酸エステル類よりなる群から選ばれる
一種以上の化合物を併用することができる。本発明の洗
浄剤に使用する（ｄ）グリコールエーテルアセテート類
とは、（ｃ）グリコールエーテルモノアルキルエーテル
類をアセテート化した化合物である。例えば、下記一般
式（６）で特定される（ｄ）グリコールエーテルアセテ
ート類を挙げることができる。

【００２５】

【化３】 （式中Ｒ¹⁰は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル
基、またはシクロアルキル基、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³は水素
またはメチル基、ｅは０〜１の整数、ｆは１〜４の整数
を表す。）

【００２６】（ｄ）グリコールエーテルアセテート類の
具体例としては、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリ
コール等に対応するモノアルキルエーテルのアセテー
ト、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メトキ
シ−３−メチル−１−ブチルアセテート等を挙げること
ができる。

【００２７】また、本発明の洗浄剤に使用する（ｄ）ヒ
ドロキシカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエス
テル化合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エ
ステル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコー
ルモノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリン
ジエステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を
挙げることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン
酸エステル類としては下記一般式（７）で特定される乳
酸エステル類を挙げることができる。

【００２８】

【化４】 （式中、Ｒ^１４は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニ
ル基又はシクロアルキル基を示す。）

【００２９】乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙
げることができる。成分（ｄ）を添加する場合には、成
分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の
重量割合の範囲が４０／６０＜（ａ）／｛（ｂ）＋
（ｃ）＋（ｄ）｝＜９５／５であることがより好まし
い。｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の重量割
合が５より大きいときに、各種汚れに対するより好まし
い溶解力改善効果が得られ、６０より小さいときにより
好ましい低引火性を達成できる。洗浄剤の洗浄性と低引
火性のバランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）
／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の重量割合
の範囲は５０／５０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）＋
（ｄ）｝＜９０／１０であり、いっそう好ましくは６０
／４０＜（ａ）／｛（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝＜８０／
２０である。

【００３０】成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｄ）
の蒸気圧は、特に引火点を有さない洗浄剤組成とするた
めに、グリコールエーテル類の蒸気圧が２０℃、１．０
１３×１０^５ Ｐａにおける蒸気圧が１．３３×１０^３
Ｐａ未満が好ましく、より好ましくは６．６６×１０^２
Ｐａ以下であり、さらに１．３３×１０^２Ｐａ以下が好
ましい。本発明の洗浄剤には、１．０１３×１０^５Ｐａ
における沸点が２０℃〜１００℃で、請求項１記載の成
分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｄ）と
は異なる化合物である、成分（ｅ）を洗浄力改良剤、安
定剤、融点降下剤等の添加成分として添加し、成分
（ｂ）、成分（ｃ）、および成分（ｄ）の添加量の抑
制、洗浄性の向上、蒸気洗浄時の気相での金属安定性の
向上および冷却時の洗浄剤の凝固防止等を図ることもで
きる。

【００３１】成分（ｅ）としては、例えば、以下に示す
溶剤の種類ごとに例示することができる。炭化水素類と
しては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサ
ン、シクロヘキセン、２−メチルペンタン、２，３−ジ
メチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３
−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、イソオ
クタン等が挙げられる。

【００３２】アルコール類としてはメタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等を挙げる
ことができる。ケトン類としてはアセトン，メチルエチ
ルケトンを挙げることができる。エステル類としてはギ
酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル等を挙げることができる。

【００３３】成分（ｅ）は、上記例示された化合物のな
かから選ばれた、１種又は２種以上を組み合わせること
ができる。成分（ｅ）は沸点が２０℃〜１００℃であ
り、かつ、使用中の組成変動を少なくするために併用す
る（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物の沸点の
±４０℃の範囲に入ることが好ましく、さらに好ましく
は±３０℃である。また、成分（ｅ）は、併用する
（ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化合物と共沸組成
物あるいはそれに近似する組成の共沸様組成物であるこ
とが好ましい。

【００３４】成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝／（ｅ）の重量割合の範囲が
９０／１０＜｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝／
（ｅ）＜９９．９／０．１あることがより好ましい。
（ｅ）の重量割合が１０より小さいときにより好ましい
低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定剤、
融点降下剤としてより好ましい効果が得られる。さらに
好ましい重量割合の範囲は９３／７＜｛（ａ）＋（ｂ）
＋（ｃ）＋（ｄ）｝／（ｅ）＜９９／１である。

【００３５】また、洗浄剤の酸化劣化を防ぐ目的で成分
（ｆ）を添加することができる。成分（ｆ）としては、
例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メ
チル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−
６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサン
ジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができ
る。

【００３６】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフ
ェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。

【００３７】イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル
−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシ
ル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリス
チル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステ
アリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル等の化
合物を挙げることができる。

【００３８】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３９】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびリ
ン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用するこ
とによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが
可能となる。

【００４０】成分（ｆ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）＋（ｅ）｝に対して、１〜１０
００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍであ
る。本発明の洗浄剤は、上述した（ａ）〜（ｆ）各成分
を定法に従って混合し均一化して得られる。本発明の洗
浄剤の融点は１５℃以下が好ましいが、冬期使用するこ
とも考慮すると１０℃以下がより好ましく，さらに好ま
しくは５℃以下である。

【００４１】また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対
して優れた洗浄性を示すが，特にフラックスなどの樹脂
類の洗浄に適している。本発明の洗浄剤には、必要に応
じて各種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等
を必要に応じて添加しても良い。以下に本発明の洗浄剤
に添加できる添加剤の具体例を例示する。界面活性剤と
しては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を添加し
ても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数が６
〜２０の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアル
カリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が挙げ
られる。カチオン系界面活性剤としては、第４級アンモ
ニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤として
は、アルキルフェノール、炭素数が８〜１８の直鎖また
は分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付加
物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイド
のブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性剤と
しては，ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。

【００４２】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００４３】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり

【００４４】（２）融点測定 サンプルビンに洗浄剤０．００５Ｌを入れ、１５℃にコ
ントロールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目
視評価した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００４５】（３）フラックス溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを６０℃の洗浄剤０．００５Ｌで２分間揺動洗
浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエー
テルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混
合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）
製）でリンスした後、エアーブローして乾燥する。溶解
性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以下の計算
式で計算する。 フラックス溶解性（％）＝｛（試験前重量−試験後重
量）／試験前重量｝×１００ 評価は以下の基準による。 ◎：４０％以上 ○：３０％以上４０％未満 ×：３０％未満 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００４６】（４）基板洗浄性試験 重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因と
なる汚れに対する洗浄剤の洗浄性を、以下の操作により
測定した。ガラスエポキシ製プリント基板（０．０３５
×０．０４８ｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した
後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験片を６０℃
の洗浄剤０．０５Ｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）
し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパ
ーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦ
Ｅ７１００、住友スリーエム（株）製）でリンスした
後、ＨＦＥ７１００で蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は
基板表面の外観を目視評価する。評価は以下の基準によ
る。 ◎：白色残渣全くなし（白色残渣がなく、かつハンダ面
に光沢がある。） ○：白色残渣なし（白色残渣はないが、ハンダ面に光沢
がない。） ×：白色残渣あり 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００４７】

【実施例１〜１１】表１に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験
を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）塩素原子を含
有しない含フッ素化合物、（ｂ）グリコールエーテルジ
アルキルエーテルおよび（ｃ）グリコールエーテルモノ
アルキルエーテルにより引火点を消去した上で、ロジ
ン、重合ロジン、ロジンの金属塩、アミンの塩酸塩およ
び有機酸等のフラックス成分およびハンダ付け工程にお
いて生成されたあらゆる汚れを洗浄できることが確認さ
れた。また、（ｅ）１．０１３×１０^５Ｐａにおける沸
点が２０℃〜１００℃の成分を添加することによって、
成分（ｂ）、成分（ｃ）及び成分（ｄ）の添加量を抑制
した上で、優れた洗浄性が得られるとともに、融点が改
善された。

【００４８】

【比較例１〜４】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。４Ｈ，５
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチル
エーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテル
とエチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、お
よび２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン単独ではフラッ
クス溶解性および基板洗浄性のいずれも不充分であっ
た。

【００４９】

【比較例５〜７】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を含
有しない含フッ素化合物に成分（ｂ）として用いたジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル各々の単独添加、および併用添
加だけでは基板洗浄性がいずれも不充分であった。

【００５０】

【比較例８〜１１】表２に記載の組成で各成分を混合し
洗浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試
験を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）塩素原子を
含有しない含フッ素化合物に成分（ｃ）として用いたジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルおよびジプロピレ
ングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル各々の単独添
加、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル
およびジプロピレングリコールモノメチルエーテルの併
用添加だけではフラックス溶解性がいずれも不充分であ
った。

【００５１】

【表１】

【００５２】

【表２】

【００５３】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全に使用できる。すなわち、
引火点を有さないものの、フラックス等の汚れに対する
溶解性に劣る塩素原子を含有しない含フッ素化合物単体
に、グリコールエーテルモノアルキルエーテルとグリコ
ールエーテルジアルキルエーテルを併用することによっ
て、引火点を有さないという塩素原子を含有しない含フ
ッ素化合物の特性をそのままに、例えば，フラックス洗
浄において、高いフラックス溶解性を有するとともに基
板表面に残留する重合ロジン、ロジンの金属塩およびイ
オン性物質に対する優れた洗浄性を有する洗浄剤を提供
できる。洗浄剤が引火点を有さないので、引火の危険性
が低減され、洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防ぐた
めの防爆構造とする必要がなく、かつ、既存の洗浄設備
をそのまま使用できるため低コストの洗浄システムを確
立することが可能となる。また、１．０１３×１０^５Ｐ
ａにおいて沸点が２０℃〜１００℃の添加成分により、
蒸気洗浄時の気相での金属安定性の向上、冷却時の洗浄
剤の凝固防止等が可能となる。

【００５４】本発明の組成物によれば、引火の危険を全
く心配せずにあらゆる汚れを容易に被洗物表面から溶解
洗浄する事ができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）塩素原子を含有しない含フッ素化
   合物と（ｂ）グリコールエーテルジアルキルエーテル類
   から選ばれる１種以上の化合物と（ｃ）グリコールエー
   テルモノアルキルエーテル類から選ばれる１種以上の化
   合物とを含有し、かつ成分（ａ）と成分（ｂ）の配合重
   量比（ａ）／（ｂ）が７０／３０＜（ａ）／（ｂ）≦９
   ９／１であり、成分（ａ）と成分（ｃ）の配合重量比
   （ａ）／（ｃ）が８５／１５＜（ａ）／（ｃ）≦９９／
   １である引火点を有さない洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 （ｄ）グリコールエーテルアセテート類
   およびヒドロキシカルボン酸エステル類よりなる群から
   選ばれる一種以上の化合物を含有する請求項１に記載の
   洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 （ｅ）１．０１３×１０^５Ｐａにおける
   沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
   〜２に記載の洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 （ｆ）フェノール系酸化防止剤、アミン
   系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
   および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
   一種以上の化合物を含有する請求項１〜３に記載の洗浄
   剤組成物。