JP2001240897A

JP2001240897A - 引火点を有さない洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置

Info

Publication number: JP2001240897A
Application number: JP2000165048A
Authority: JP
Inventors: Shiyouji Matsumoto; 省慈松本; Kazuo Kabashima; 和夫椛島
Original assignee: Asahi Kasei Corp
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 1999-12-24
Filing date: 2000-06-01
Publication date: 2001-09-04

Abstract

(57)【要約】【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗
浄装置を提供する。【解決手段】非塩素系フッ素化合物にグリコールエー
テルモノアルキルエーテルとグリコールエーテルジアル
キルエーテルを加え、さらに酸化防止剤等の添加剤を必
要に応じて併用した洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方
法および洗浄装置を利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に使用される種々の加工油類やグ
リース類やワックス類、電気電子部品のハンダ付け時に
使用されるフラックス類、基板製造時に使用されるスク
リーンに付着したインキやペースト類および樹脂吐出装
置のミキシング部に付着した樹脂類を洗浄するのに好適
な洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、ロジンを主成分としたフラック
スでハンダ付け面を予め処理することが通常行われてい
る。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に
基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着さ
せた後、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスと
ハンダの粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性
の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除
去する必要がある。

【０００３】また、近年、スクリーン印刷法が電子工業
分野をはじめとして広く活用されている。これは絹、ナ
イロン，テトロン（登録商標）などの繊維、あるいはス
テンレスの針金などで織った布地（スクリーン）を枠に
張って四周を固定し、その上にポリビニルアルコール、
酢酸ビニルエマルジョン、アクリルモノマー等の主剤と
ジアゾニウム塩類や重クロム酸塩等の感光剤を撹拌混合
したものを塗布し、光化学的方法で乳剤膜を作って必要
な画線以外の目をふさぎ、パターンを形成したスクリー
ンと、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを取り付けた
道具を使い、印刷を行うものである。印刷を終えたスク
リーンとスキージは保管または再使用のため、スクリー
ンおよびスキージに付着したインキ、ペーストを洗浄、
除去する必要がある。

【０００４】また、各種電気・電子部品等をエポキシ、
ウレタン、シリコーンおよびポリエステル等の樹脂で接
合、充填または封止するために樹脂吐出装置が広く使用
されている。この用途に使用される樹脂には常温付近で
架橋・硬化する２液タイプ（主剤と硬化剤）のものも多
く使われており，２液を自動的に比率計量、混合撹拌す
る工程で作業を中断する際、吐出装置内での樹脂の硬化
を防止するためにミキシング部やノズル部を洗浄する必
要がある。

【０００５】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについても僅かにオ
ゾン層破壊能があるために日本では２０２０年にその使
用が禁止される予定である。

【０００６】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できず、特開平１０−３１６
５９８号公報、特開平１０−３６８９４号公報、特開平
１０−２１２４９８号公報および特開平１０−２５１６
９２号公報等のＨＦＣやＨＦＥに可燃性溶剤を組み合わ
せた洗浄剤の技術が開示されている。

【０００７】しかし、特開平１０−３１６５９８号公報
には環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗
浄剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を
有し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。ま
た、特開平１０−３６８９４号公報、特開平１０−２１
２４９８号公報および特開平１０−２５１６９２号公報
にはＨＦＣやＨＦＥとグリコールエーテル類の併用につ
いての記載がある。しかし、例えば，フラックス洗浄剤
としては、フラックス成分であるロジンやイオン性残渣
の原因となるアミンの塩酸塩や有機酸等の汚れおよびハ
ンダ付け工程によって生成され、白色残渣の原因となる
重合ロジンやロジンの金属塩等の汚れの全てを洗浄する
必要があるが、前記洗浄剤ではグリコールエーテル類を
単独で使用していたり、グリコールエーテル類を併用し
ていてもグリコールエーテルモノアルキルエーテル類の
併用やグリコールエーテルジアルキルエーテル類の併用
であるために、全ての汚れを充分に洗浄することができ
ない。

【０００８】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、洗浄
剤としての洗浄力が不足している等、洗浄剤として使用
する上で多くの問題を抱えているのが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹
敵するような高い洗浄力を示し、かつ、蒸気洗浄時等の
高温下における酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火
性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤とその
洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置を提供すること
を課題とする。

【００１０】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、非塩素系フッ素化合物の引火点を有さな
い特性を生かし、引火点の出現しない洗浄剤を見出すべ
く鋭意検討を重ねた結果、非塩素系フッ素化合物にグリ
コールエーテルモノアルキルエーテルとグリコールエー
テルジアルキルエーテルを加えることにより、あらゆる
汚れを洗浄でき、また、酸化防止剤等の添加により高温
下で連続して使用できることを見出し，さらに、その洗
浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置を見出し、本発明
を完成した。

【００１１】すなわち、発明の第一は、（ａ）非塩素系
フッ素化合物と（ｂ）グリコールエーテルモノアルキル
エーテル類と（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエー
テル類を含有する引火点を有さない洗浄剤である。発明
の第二は、（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエー
テルが親水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル
類から選ばれる一種以上の化合物と（ｃ）グリコールエ
ーテルジアルキルエーテルが疎水性グリコールエーテル
ジアルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合物の
組み合わせである発明の第一に記載の洗浄剤である。

【００１２】発明の第三は、（ｂ）グリコールエーテル
モノアルキルエーテルが疎水性グリコールエーテルモノ
アルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合物と
（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテルが親水性
グリコールエーテルジアルキルエーテル類から選ばれる
一種以上の化合物の組み合わせである発明の第一に記載
の洗浄剤である。発明の第四は、（ｂ）グリコールエー
テルモノアルキルエーテル類および（ｃ）グリコールエ
ーテルジアルキルエーテル類がともに親水性である発明
の第一に記載の洗浄剤である。

【００１３】発明の第五は、（ｂ）グリコールエーテル
モノアルキルエーテル類および（ｃ）グリコールエーテ
ルジアルキルエーテル類がともに疎水性である発明の第
一に記載の洗浄剤である。発明の第六は（ｄ）１．０１
３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加
成分を含有する発明の第一〜五に記載の洗浄剤である。
発明の第七は（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系
酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤お
よび紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも一
種以上の化合物を含有する発明の第一〜六に記載の洗浄
剤である。

【００１４】発明の第八は発明の第一〜七のいずれかに
記載の洗浄剤で被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも
１種の非塩素系フッ素化合物（ａ）からなる組成物でリ
ンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄
方法である。発明の第九は組成物（ｆ）、添加成分
（ｄ）および化合物（ｅ）からなる群から選ばれる少な
くとも一種の成分または化合物を含有するものである発
明の第八記載の洗浄方法である。

【００１５】発明の第十は（Ａ）発明の第一〜七のいず
れかに記載の洗浄剤により被洗物を洗浄するための洗浄
槽、（Ｂ）組成物（ｆ）によりリンスするためのリンス
槽、引火点を有さない組成物（ｆ）に含有される少なく
とも一種の成分または化合物の蒸気を発生させるための
蒸気発生槽、該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄
するための蒸気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した
後、得られた凝縮液から水分を除去するための水分離
槽、及び水分を除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻
す機構を有する洗浄装置である。

【００１６】発明の第十一は発明の第一〜七のいずれか
に記載の洗浄剤を構成する少なくとも一種の成分または
化合物の蒸気を発生させるための加熱機構を有する発明
の第十の洗浄槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄
槽（Ａ）から発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾ
ーン、水分離槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該
洗浄槽（Ａ）に戻す機構を有する洗浄装置。発明の第十
二は発明の第十一において、リンス槽（Ｂ）の代わり
に、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワーリンスす
る機構を有する洗浄装置である。

【００１７】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において、洗浄とは被洗物に付着している汚れを次工程
に影響のないレベルまで除去することである。また、リ
ンスとは被洗物に付着している汚れ成分を含む洗浄剤を
汚れ成分の含まれない溶剤に置換することである。さら
に、蒸気洗浄とは被洗物表面にわずかに残留する汚れ成
分を、被洗物と該被洗物が晒されている蒸気との温度差
によって該被洗物表面で凝縮する蒸気成分からなる液体
で除去することである。

【００１８】本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）に使用
する（ａ）非塩素系フッ素化合物とは、炭化水素類やエ
ーテル類の水素原子の一部がフッ素原子のみで置換さ
れ、塩素原子を含まないフッ素化合物であり、例えば、
下記一般式（１）で特定される環状ＨＦＣ、（２）で特
定される鎖状ＨＦＣ、又は（３）で特定されるＨＦＥ
の、塩素原子を含まない、炭素原子、水素原子、酸素原
子、フッ素原子からなる化合物、及びこれらの中から選
ばれる２種以上の化合物等を挙げられる。

【００１９】ＣｎＨ２ｎ−ｍＦｍ（１）（式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す）ＣｘＨ２ｘ＋２−ｙＦｙ（２）（式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す）ＣｓＦ２ｓ＋１ＯＲ（３）（式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）

【００２０】環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，
４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。

【００２１】鎖状ＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフル
オロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタン、１
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、
２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ
−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−パーフル
オロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，４
Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオ
ロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン、２
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロヘキサン等を挙げることができる。ＨＦＥの具体
例としてはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチル
パーフルオロイソブチルエーテル、メチルパーフルオロ
ペンチルエーテル、メチルパーフルオロシクロヘキシル
エーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチル
パーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオロ
ペンチルエーテル等を挙げることができる。

【００２２】本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）におい
ては、これら（ａ）非塩素系フッ素化合物の中から選ば
れる１種又は２種以上の化合物を組み合わて用いること
ができるが、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エ
ステル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤に対す
る溶解性が高く地球温暖化係数の低い環状ＨＦＣまたは
ＨＦＥを挙げることができる。より好ましくは、４Ｈ，
５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパー
フルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチ
ルエーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテ
ルとエチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物を
挙げることができる。さらに好ましくはメチルパーフル
オロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエ
ーテルの混合物を挙げることができる。

【００２３】本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れ
に対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテル類と（ｃ）グリコールエーテル
ジアルキルエーテル類を併用する必要がある。本発明の
洗浄剤で使用する（ｂ）グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテル類とは、２個の水酸基が２個の相異なる炭素
原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物におい
て、該水酸基の１個の水素が炭化水素残基またはエーテ
ル結合を含む炭化水素残基に置換されている化合物であ
り、（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテル類と
は２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合してい
る脂肪族あるいは脂環式化合物において、２個の水酸基
の水素のいずれもが炭化水素残基またはエーテル結合を
含む炭化水素残基に置換されている化合物である。例え
ば、下記一般式（４）で特定される（ｂ）グリコールエ
ーテルモノアルキルエーテル類および下記一般式（５）
で特定される（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエー
テル類を挙げることができる。

【００２４】

【化１】

【００２５】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ²、Ｒ³,Ｒ
⁴は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜
４の整数を示す）

【００２６】

【化２】

【００２７】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ²は炭素数
１〜４のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵
は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜４
の整数を示す）また、本発明の洗浄剤に使用する親水性グリコールエー
テルモノアルキルエーテル類および親水性グリコールエ
ーテルジアルキルエーテル類とは、３０℃において、水
と任意の割合で溶解できるグリコールエーテル類であ
り、疎水性グリコールエーテルモノアルキルエーテル類
および疎水性グリコールエーテルジアルキルエーテル類
とは、３０℃において、グリコールエーテル類／水の重
量割合が１／１以上であれば相分離し、１／１未満であ
れば相分離せずに溶解できるグリコールエーテル類であ
る。

【００２８】（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエ
ーテル類において、例えば、親水性グリコールエーテル
モノアルキルエーテルの具体例としては、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロ
ピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブ
タノール、３−メチル−３−メトキシブタノール等を挙
げることができ、疎水性グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテルの具体例としては、エチレングリコールモノ
−ｎ−ヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノ−
ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ
−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ
−ブチルエーテル等を挙げることができる。

【００２９】また、（ｃ）グリコールエーテルジアルキ
ルエーテル類において、例えば、親水性グリコールエー
テルジアルキルエーテルの具体例としては、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル等を挙げることができ、疎水性グリコー
ルエーテルジアルキルエーテルとしては、ジエチレング
リコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールジメチルエーテル等を挙げることができる。

【００３０】本発明における洗浄剤は、上記成分
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を含有する引火点を有さない洗
浄剤である。ここでいう、「引火点を有さない」とは、
ＪＩＳＫ２２６５等の一般的な引火点評価試験によ
り、洗浄剤に引火点なしと認められることを意味する。
また、本発明においては、その洗浄目的に応じて、各種
汚れに対するより好ましい（ｂ）グリコールエーテルモ
ノアルキルエーテル類と（ｃ）グリコールエーテルジア
ルキルエーテル類との組み合わせを選ぶことができる。
例えば、成分（ｂ）、（ｃ）のうちいずれか一方が親水
性、他方が疎水性の組み合わせは、各種フラックス洗浄
や基板表面に塗布される各種ソルダーレジストインキ等
の熱硬化性インキやＵＶ硬化性インキ等の洗浄に特に適
しており，両成分が共に親水性の組み合わせは、各種フ
ラックス洗浄や各種電気および電子部品の接着や封止等
に使用されるエポキシやウレタン系の２液性樹脂の混合
吐出機（ディスペンサー）ミキサー部やノズル部の洗浄
に特に適している。また、両成分が共に疎水性の組み合
わせは、極性の低い精密機械部品、光学機械部品等の加
工時に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引
抜き油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリー
ス類、ワックス類等の洗浄に特に適している。

【００３１】特に引火点を有さない洗浄剤組成とするた
めには、グリコールエーテル類の蒸気圧が２０℃におい
て１．３３×１０³Ｐａ未満が好ましく、より好ましく
は６．６６×１０²Ｐａ以下であり、さらに１．３３×
１０²Ｐａ以下が好ましい。本発明の洗浄剤および組成
物（ｆ）には、１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃で、請求項１記載の成分（ａ）、成分
（ｂ）および成分（ｃ）とは異なる化合物である、成分
（ｄ）から選ばれる化合物の一種、または二種以上の組
み合わせを洗浄力改良剤、安定剤、融点降下剤等の添加
成分として使用できる。

【００３２】成分（ｄ）を以下、溶剤の種類ごとに例示
する。炭化水素類としては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサ
ン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、２−メチルペン
タン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メ
チルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチル
ペンタン、イソオクタン等が挙げられる。アルコール類
としてはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、
イソプロパノール等を挙げることができる。

【００３３】ケトン類としてはアセトン，メチルエチル
ケトンを挙げることができる。エステル類としてはギ酸
エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、酢酸メチル、
酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
等を挙げることができる。成分（ｄ）は１．０１３×１
０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃であり、か
つ、使用中の組成変動を少なくするために併用する
（ａ）非塩素系フッ素化合物の沸点の±４０℃の範囲に
入ることが好ましく、さらに好ましくは±３０℃であ
る。

【００３４】また、成分（ｄ）は、併用する（ａ）非塩
素系フッ素化合物と共沸組成物あるいはそれに近似する
組成の共沸様組成物であることが好ましい。また、洗浄
剤および組成物（ｆ）の酸化劣化を防ぐ目的で成分
（ｅ）を添加することができる。成分（ｅ）としては、
例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メ
チル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−
６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサン
ジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができ
る。

【００３５】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフ
ェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤としては、
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、
ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステ
ル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エス
テル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エ
ステル等の化合物を挙げることができる。

【００３６】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３７】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびリ
ン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用するこ
とによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが
可能となる。

【００３８】また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対
して優れた洗浄性を示すが，特にフラックスなどの樹脂
類の洗浄に適している。本発明の洗浄剤は、上述した
（ａ）〜（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化して
得られる。各成分の重量割合については、本発明の洗浄
剤の特徴である、高洗浄性、低毒性、低引火性が損なわ
れない範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）／
｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合の範囲が９５／
５〜４０／６０であることがより好ましい。｛成分
（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合が５より大きいとき
に、各種汚れに対するより好ましい溶解力改善効果が得
られ、６０より小さいときにより好ましい低引火性を達
成できる。洗浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを考慮
した、さらに好ましい成分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分
（ｃ）｝の重量割合の範囲は９０／１０〜５０／５０で
あり、いっそう好ましくは８０／２０〜６０／４０であ
る。

【００３９】成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合の範囲
は９０／１０〜１０／９０であることがより好ましい。
成分（ｃ）の重量割合が１０より大きいときに、より好
ましいロジン溶解性が得られ、９０より小さいときに、
重合ロジンやロジンの金属塩に対するより好ましい洗浄
性が得られる。洗浄剤のロジンに対する溶解性と重合ロ
ジン等の白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバ
ランスを考慮した、さらに好ましい成分（ｂ）／成分
（ｃ）の重量割合の範囲は８０／２０〜２０／８０であ
り、いっそう好ましくは７０／３０〜３０／７０であ
る。

【００４０】洗浄剤に成分（ｄ）を添加する場合には
｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）の重量割合の範囲
が９０／１０〜９９．９／０．１あることがより好まし
い。（ｄ）の重量割合が１０よい小さいときにより好ま
しい低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定
剤、融点降下剤としてのより好ましい効果が得られる。
さらに好ましい重量割合の範囲は９３／７〜９９／１で
ある。洗浄剤に成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）
＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００ｐ
ｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。

【００４１】また、組成物（ｆ）は上述した成分（ａ）
単独、または（ａ）、（ｄ）及び（ｅ）の各成分を定法
に従って混合し均一化して得られる。組成物（ｆ）にお
いて、成分（ａ）に成分（ｄ）を添加する場合には
（ａ）／（ｄ）の重量割合の範囲が９０／１０〜９９．
９／０．１あることがより好ましい。（ｄ）の重量割合
が１０よい小さいときにより好ましい低引火性を達成で
き、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤として
のより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量割
合の範囲は９３／７〜９９／１である。

【００４２】組成物（ｆ）において成分（ｅ）を添加す
る場合には｛（ａ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００
ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）には、必要に応じて
各種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必
要に応じて添加しても良い。本発明の洗浄剤および組成
物（ｆ）の融点は１５℃以下が好ましいが、冬期使用す
ることも考慮すると１０℃以下がより好ましく，さらに
好ましくは５℃以下である。

【００４３】以下に本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）
に添加できる各種助剤の具体例を例示する。界面活性剤
としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を添加し
ても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数が６
〜２０の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアル
カリ金属類、アルカノールアミン類およびアミン塩等が
挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、第４級ア
ンモニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤と
しては、アルキルフェノール、炭素数が８〜１８の直鎖
または分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付
加物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイ
ドのブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性剤
としては，ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。

【００４４】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００４５】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）は、以下
に示す洗浄方法及び洗浄装置を利用することによって、
最も効果的な洗浄を行うことができる。本発明の洗浄方
法は、被洗物に付着したあらゆるタイプの汚れを（ａ）
非塩素系フッ素化合物に（ｂ）グリコールエーテルモノ
アルキルエーテル類と（ｃ）グリコールエーテルジアル
キルエーテル類を含有し、必要に応じて（ｄ）１．０１
３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加
成分や（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防
止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫
外線吸収剤を添加することによって、優れた洗浄性を示
し、かつ、引火点を有さない洗浄剤で洗浄したのち、汚
れ成分等を発明の第八に記載の組成物（ｆ）または発明
の第九に記載の組成物（ｆ）で被洗物をリンスおよび／
または蒸気洗浄することを特徴としている。

【００４６】組成物（ｆ）は少なくとも１種の成分(ａ)
を含有する組成であれば、いかなる組成でもよいが、必
要に応じて組成を使い分けることができ、例えば、被洗
物表面での洗浄剤成分の残留やシミの抑制を重視する場
合には揮発性の高い成分（ａ）のみからなる組成が好ま
しく、イオン性残渣洗浄性を重視する場合には成分
（ａ）に（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の添加成分を添加することが好まし
い。洗浄工程及びリンス工程には洗浄性、リンス性を向
上することを目的とした手拭き、浸漬、スプレー、シャ
ワー等の物理的な方法を組み合わせることにより、効果
的な洗浄が可能となる。本発明の洗浄方法は本発明の洗
浄剤を使用する上で、洗浄性及び乾燥性に優れ、被洗物
の材質に対する影響も少なく、最も適した洗浄方法と言
える。

【００４７】本発明の洗浄方法を実施する装置として
は、これまでトリクロロエタン，ＣＦＣ１１３等の塩素
系洗浄剤で使用されていた３槽式洗浄機等の一般的な洗
浄機であれば使用することが可能であり、特に限定され
るものではないが、具体的な洗浄装置の事例として、図
１に示した本発明の第十に記載の洗浄装置、図２に示し
た本発明の第十一に記載の洗浄装置および図３に示した
本発明の第十二に記載の洗浄装置を挙げることができ
る。

【００４８】以下に本発明の洗浄方法及び洗浄装置を添
付図面によって具体的に説明する。図１に示す洗浄装置
は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１、組
成物（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）２及び蒸気発生槽
３、組成物（ｆ）の蒸気に満たされる蒸気ゾーン４、蒸
発した組成物（ｆ）を冷却管９によって凝縮し、凝縮し
た液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分
離槽（Ｃ）５からなる。実際の洗浄においては被洗物を
専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽
（Ａ）１、リンス槽（Ｂ）２、蒸気ゾーン４の順に通過
させながら洗浄を完了させる。

【００４９】洗浄槽（Ａ）１では、本発明の洗浄剤をヒ
ーター７で加熱昇温し、一定温度にコントロールしなが
ら被洗物に付着した汚れを超音波振動子８により発生し
たキャビテーションで洗浄除去する。この時，物理的な
力としては超音波以外に揺動や洗浄剤の液中噴流等のこ
れまでの洗浄機に採用されているいかなる方法を使用し
ても良い。本洗浄装置においては被洗物を洗浄槽（Ａ）
１からリンス槽（Ｂ）２に移動する時、洗浄剤成分が被
洗物表面に付着していることにより、被洗物表面での乾
燥による汚れ成分の固着を防止しつつ、リンス槽（Ｂ）
２へ移動することが可能となる。

【００５０】リンス槽（Ｂ）２では、被洗物に付着して
いる洗浄剤中に溶解している汚れ成分を本発明の組成物
（ｆ）で除去する。組成物（ｆ）は、リンス槽（Ｂ）２
からオーバーフロー配管１１、１６、１２を通って蒸気
発生槽３に入り、蒸気発生槽３のヒーター６で加熱沸騰
され、その組成の一部または全部が蒸気となって矢印１
３のように蒸気ゾーン４を満たした後、冷却管９で凝縮
された後、配管１４から水分離槽（Ｃ）５に集まり水と
分離された上で、配管１５を通ってリンス槽（Ｂ）２に
戻る。この組成物（ｆ）を洗浄装置内で液体や気体に状
態変化させながら循環することによって、リンス槽
（Ｂ）２に持ち込まれた洗浄剤成分や汚れ成分を連続的
に蒸気発生槽３に蓄積し，リンス槽（Ｂ）２の清浄度の
維持や蒸気ゾーン４における蒸気洗浄が可能となる。

【００５１】蒸気発生槽３で発生した蒸気に満たされた
蒸気ゾーン４で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝
縮することによりできた液中に汚れ成分が全く含まれな
いので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。
さらに、洗浄効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）２
の冷却管１０で組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、浸漬
する被洗物温度を低く抑制することによって，蒸気温度
との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。

【００５２】本発明の洗浄装置では、洗浄剤と組成物
（ｆ）の２種類の液を使用するために独立した浸漬槽構
造となっているが、各槽上部の空間を蒸気ゾーンとして
共通に使用することにより，洗浄剤からの非塩素系フッ
素化合物の蒸発ロスを抑制し、結果として洗浄剤の組成
変動を減少し、長期連続使用することが可能となる。次
に図２に示す洗浄装置は、主な構造として洗浄液を入れ
る洗浄槽（Ａ）１７、組成物（ｆ）を入れるリンス槽
（Ｂ）１８、洗浄剤の蒸気に満たされる蒸気ゾーン
（Ｄ）１９、蒸発した洗浄剤を冷却管２３によって凝縮
し、凝縮した液と冷却管に付着した水とを静置分離する
ための水分離槽（Ｃ）２０からなる。実際の洗浄におい
ては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内
を洗浄槽（Ａ）１７、リンス槽（Ｂ）１８、蒸気ゾーン
（Ｄ）１９の順に通過させながら洗浄を完了させる。リ
ンス槽数については精密洗浄等の高い清浄度が求められ
る場合には必要に応じて２槽以上に増やしても良い。

【００５３】洗浄槽（Ａ）１７では、本発明の洗浄剤を
ヒーター２１で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であればいかなる方法を使用しても良い。
本洗浄装置では、被洗物を洗浄槽（Ａ）１７からリンス
槽（Ｂ）１８に移動する時、洗浄剤成分が被洗物表面に
付着することにより、被洗物表面での乾燥による汚れ成
分の固着を防止しつつ，リンス槽（Ｂ）１８へ移動する
ことが可能となる。

【００５４】リンス槽（Ｂ）１８では、本発明の組成物
（ｆ）で被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している
汚れ成分を除去する。洗浄剤は、洗浄槽（Ａ）１７のヒ
ーター２１で加熱沸騰され、その組成の一部または全部
が蒸気となって矢印２５のように蒸気ゾーン（Ｄ）１９
を満たした後、冷却管２３で凝縮された後、配管２６か
ら水分離槽（Ｃ）２０に集まり水と分離された上で、配
管２７を通って、一旦リンス槽（Ｂ）１８に戻された
後、該リンス槽（Ｂ）１８からオーバーフローして矢印
２８のように最終的に洗浄槽（Ａ）１７に戻される。

【００５５】このように図２に示す洗浄装置は図１に示
した洗浄装置と異なり、洗浄剤と組成物（ｆ）が洗浄槽
（Ａ）１７において混合することを特徴とし、洗浄剤と
組成物（ｆ）に含まれる（ａ）非塩素系フッ素化合物と
（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の添加成分は同一成分とすることが好ましい。
この洗浄剤と組成物（ｆ）に含まれる（ａ）非塩素系フ
ッ素化合物と（ｄ）１．０１３×１０５Ｐａにおける沸
点が２０℃〜１００℃の添加成分を洗浄装置内で循環さ
せ、且つ、リンス槽（Ｂ）１８内の組成物の一部を洗浄
槽（Ａ）１７にオーバーフローさせることによって、蒸
気ゾーン（Ｄ）１９における蒸気洗浄が可能となるのみ
ならず、被洗物によりリンス槽（Ｂ）１８に持ち込まれ
た洗浄剤中の（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエ
ーテル類、（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテ
ル類及び（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化
防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤および
紫外線吸収剤を連続的に洗浄槽（Ａ）１７に戻すことが
可能となり、洗浄槽（Ａ）１７内の洗浄剤、及びリンス
槽（Ｂ）１８内の組成物（ｆ）の組成を一定に保つこと
ができる。

【００５６】洗浄槽（Ａ）１７で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）１９で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で蒸気が凝縮したことによりできた液中に汚れ成分が
全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として
有効である。さらに、洗浄効果を高めるためには、リン
ス槽（Ｂ）１８の冷却管２４で組成物（ｆ）の温度を低
温に保ち、被洗物温度を低くすることによって、蒸気温
度との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的であ
る。

【００５７】次に図３に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）２９、洗浄剤の蒸気に満
たされる蒸気ゾーン（Ｄ）３０、蒸発した洗浄剤を冷却
管３４によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した
水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）３１，水分離
槽（Ｃ）３１で静置分離された凝縮液をシャワーリンス
するためのポンプ３３とからなる。実際の洗浄において
は被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を
洗浄槽（Ａ）２９、蒸気ゾーン（Ｄ）３０の順に通過さ
せながら洗浄を完了させる。

【００５８】洗浄槽（Ａ）２９では、本発明の洗浄剤を
ヒーター３２で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であれば、いかなる方法を使用しても良
い。蒸気ゾーン（Ｄ）３０では、主に本発明の洗浄剤に
含まれる（ａ）非塩素系フッ素化合物や（ｄ）１．０１
３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加
成分等の蒸気圧の高い成分の蒸気を冷却管３４で凝縮さ
せ水分離槽（Ｃ）３１に集めた後、これら凝縮液をポン
プ３３で配管３８、３９に送液し、シャワーノズル４
０，４１から被洗物にシャワーすることによって，被洗
物に付着している洗浄剤中に溶解している汚れ成分を除
去する。凝縮液は、水分離槽（Ｃ）３１に集められた
後、配管３７およびポンプ３３から洗浄槽（Ａ）２９に
入りヒーター３２で加熱沸騰され、その組成の一部また
は全部が蒸気となって矢印３５のように冷却管３４で凝
縮された後、配管３６から水分離槽（Ｃ）３１に戻る。

【００５９】洗浄槽（Ａ）２９で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）３０で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が
全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として
有効である。本発明の洗浄装置では、洗浄剤に含まれる
（ａ）非塩素系フッ素化合物や（ｄ）１．０１３×１０
⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃等の蒸気圧の高
い成分が主に洗浄装置内で液体や気体に状態変化させな
がら循環することによって、被洗物に付着しているわず
かに残留している可能性の有る汚れ成分を組成物
（ｆ）、及びリンス槽（Ｂ）を使用せずにリンス及び蒸
気洗浄が可能である。

【００６０】前記図１〜３に示した各洗浄装置はその目
的や用途によって使い分けることができ、高清浄度が求
められるような精密洗浄等では、洗浄槽（Ａ）またはリ
ンス槽（Ｂ）を1槽または2槽以上にした洗浄装置がより
好ましい。

【００６１】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。［実施例１〜１０及び比較例１〜８］（１）引火点ＪＩＳＫ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり

【００６２】（２）融点測定サンプルビンに洗浄剤５ｍｌを入れ、１５℃にコントロ
ールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目視評価
した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００６３】（３）ロジン溶解性試験フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを洗浄剤５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回
／分）し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメ
チルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品
名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム（株）製）でリン
スした後、エアーブローして乾燥する。溶解性は試験の
前後にペレットの重量を測定し、以下の計算式で計算す
る。ロジン溶解性（％）＝｛（試験前重量−試験後重
量）／試験前重量｝×１００評価は以下の基準による。 ○：４０％以上 ×：４０％以下試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ
−６４ＮＤ（（株）弘輝製）

【００６４】（４）基板洗浄性試験重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因と
なる汚れに対する洗浄剤の洗浄性を、以下の操作により
測定した。ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×
４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５
０℃でハンダ付けして作成した試験片を４０℃の洗浄剤
５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）し、メチル
パーフルオロブチルエーテルおよびメチルパーフルオロ
イソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦＥ７１０
０、住友スリーエム（株）製）でリンスおよび蒸気洗浄
して乾燥する。洗浄性は基板表面の外観を目視評価す
る。評価は以下の基準による。 ○：白色残渣なし ×：白色残渣あり試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００６５】

【実施例１〜１０】表１に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験
を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）非塩素系フッ
素化合物、（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエー
テルおよび（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテ
ルにより引火点を消去した上で、ロジン、重合ロジン、
ロジンの金属塩、アミンの塩酸塩および有機酸等のフラ
ックス成分およびフラックス塗布工程において生成され
たあらゆる汚れを洗浄できることが確認された。また、
１．０１３×１０５Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００
℃の成分を添加することによって、成分（ｂ）や成分
（ｃ）の添加量を抑制した上で、優れた洗浄性が得られ
るとともに、融点が改善された。

【００６６】

【比較例１〜３】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。成分
（ａ）として用いた４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシ
クロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテルとメ
チルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物および２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン単独ではロジン溶解性
および基板洗浄性のいずれも不充分であった。

【００６７】

【比較例４】表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化
合物に成分（ｃ）としてトリエチレングリコールジメチ
ルエーテルを添加しただけでは基板洗浄性が不充分であ
った。

【００６８】

【比較例５〜６】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ
素化合物に成分（ｂ）として、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテルの単独添加あるいはグリコールエー
テルモノアルキルエーテル類の併用ではロジン溶解性が
不充分であった。

【００６９】

【比較例７〜８】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ
素化合物に成分（ｃ）としてグリコールエーテルジアル
キルエーテル類の併用では基板洗浄性が不充分であっ
た。

【００７０】［実施例１１〜１２及び比較例９］（５）実機洗浄試験１図１に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１に所定の組成の洗
浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）２、蒸気発生槽３および水
分離槽（Ｃ）５に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重
合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因とな
る汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条
件により測定した。操作

【００７１】・フラックス洗浄性評価ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評
価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７２】・脱脂洗浄性評価３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に
下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱し
て作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成
物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性
は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７３】洗浄条件洗浄槽（Ａ）１：４０℃、２分間超音波洗浄（出
力：１１０ｗ、周波数：２８ｋＨｚ）リンス槽（Ｂ）２：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回
／分）蒸気ゾーン４：２分間静置

【００７４】

【実施例１１、１２】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合物、
（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエーテルおよび
（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテルを含有す
る引火点を有さない洗浄剤と（ａ）非塩素系フッ素化合
物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）で洗浄すること
により、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認さ
れた。また、組成物（ｆ）に（ｄ）１．０１３×１０５
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分を添加する
ことによって、イオン性残渣量が低減された。

【００７５】

【比較例９】表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）につ
いて実施例１１、１２と同じ評価試験を行った。結果を
表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチル
エーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混
合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいずれ
も不充分であった。

【００７６】［実施例１３〜１４及び比較例１０］（６）実機洗浄試験２図２に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１７に所定の組成の
洗浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）１８および水分離槽
（Ｃ）２０に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重合ロ
ジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚
れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件に
より測定した。

【００７７】操作・フラックス洗浄性評価ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評
価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７８】・脱脂洗浄性評価３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２０ｍｍ）
に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱
して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組
成物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄
性は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７９】洗浄条件洗浄槽（Ａ）１７：２分間沸騰洗浄リンス槽（Ｂ）１８：１５℃、２分間浸漬揺動（２０
回／分）蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間静置

【００８０】

【実施例１３、１４】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合物、
（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエーテルおよび
（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテルを含有す
る引火点を有さない洗浄剤、（ａ）非塩素系フッ素化合
物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）および該洗浄剤
を沸騰することによって発生する蒸気および凝縮液で洗
浄することにより、フラックス及び油に対する優れた洗
浄が確認された。また、洗浄剤および組成物（ｆ）に
（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の成分を添加することによって、イオン性残渣
量が低減された。

【００８１】

【比較例１０】表３に記載の洗浄剤及び組成物（ｆ）に
ついて実施例１３，１４と同じ評価試験を行った。結果
を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいず
れも不充分であった。

【００８２】［実施例１５及び比較例１１］（７）実機洗浄試験３図３に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）２９及び水分離槽
（Ｃ）３１に所定の組成の洗浄剤を入れ、洗浄槽（Ａ）
の洗浄剤をヒーター３２により加熱沸騰させ、１時間空
運転を行い水分離槽（Ｃ）３１の洗浄剤に含まれる成分
（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｅ）の中
で蒸気圧の低い成分の濃度を低下させた上で、重合ロジ
ン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れ
に対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件によ
り測定した。

【００８３】操作・フラックス洗浄性評価ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、該洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液で
リンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン
性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメー
ター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定
し、その測定値を「β」とする。評価は以下の基準によ
る。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００８４】・脱脂洗浄性評価３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２０ｍｍ）
に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱
して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、該
洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液でリンス
した後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価す
る。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００８５】洗浄条件洗浄槽（Ａ）１７：２分間沸騰洗浄蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間シャワーリンス（５Ｌ／
分）後，２分間静置

【００８６】

【実施例１５】表３に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤を得た。洗浄剤を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合
物、（ｂ）グリコールエーテルモノアルキルエーテルお
よび（ｃ）グリコールエーテルジアルキルエーテルを含
有する引火点を有さない洗浄剤と該洗浄剤を沸騰するこ
とによって発生する蒸気および凝縮液で洗浄することに
より、フラックス及び油に対する優れた洗浄が確認され
た。また、該洗浄剤を沸騰することによって発生する蒸
気および凝縮液中には成分（ｂ）および成分（ｃ）をほ
とんど含まず、該凝縮液でシャワーリンスすることによ
って充分なリンス性が得られた。

【００８７】

【比較例１１】表３に記載の洗浄剤について実施例１５
と同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分
（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパー
フルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラック
ス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。

【００８８】

【表１】

【００８９】

【表２】

【００９０】

【表３】

【００９１】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全である。すなわち、引火点
を有さないものの、フラックス等の汚れに対する溶解性
に劣る非塩素系フッ素化合物単体に、グリコールエーテ
ルモノアルキルエーテルとグリコールエーテルジアルキ
ルエーテルを併用することによって、引火点を有さない
という非塩素系フッ素化合物の特性をそのままに、例え
ば，フラックス洗浄において、高いロジン溶解性を有す
るとともに基板表面に残留する重合ロジン、ロジンの金
属塩およびイオン性物質に対する優れた洗浄性を有する
洗浄剤を提供できる。洗浄剤が引火点を有さないので、
引火の危険性が低減され、洗浄機等の設備上、引火，爆
発等を防ぐための防爆構造とする必要がなく、かつ、既
存の洗浄設備をそのまま使用できるため低コストの洗浄
システムを確立することが可能となる。また、１．０１
３×１０⁵Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１００℃の添加
成分により、蒸気洗浄時の気相での金属安定性の向上、
洗浄剤の凝固防止等が可能となる。本発明の組成物によ
れば、引火の危険を全く心配せずにあらゆるタイプの汚
れを容易に被洗物表面から溶解洗浄する事ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図２】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図３】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【符号の説明】

１洗浄槽（Ａ）２リンス槽（Ｂ）３蒸気発生槽４蒸気ゾーン５水分離槽（Ｃ）６ヒーター７ヒーター８超音波振動子９冷却管１０冷却管１１オーバーフロー配管１２オーバーフロー配管１３蒸気の流れ１４凝縮液用配管１５水分離後の凝縮液用配管１６オーバーフロー液用配管１７洗浄槽（Ａ）１８リンス槽（Ｂ）１９蒸気ゾーン（Ｄ）２０水分離槽（Ｃ）２１ヒーター２２超音波振動子２３冷却管２４冷却管２５蒸気の流れ２６凝縮液用配管２７水分離後の凝縮液用配管２８組成物（ｆ）の流れ２９洗浄槽（Ａ）３０蒸気ゾーン（Ｄ）３１水分離槽（Ｃ）３２ヒーター３３ポンプ３４冷却管３５蒸気の流れ３６凝縮液用配管３７水分離後の凝縮液配管３８シャワー用の凝縮液配管３９シャワー用の凝縮液配管４０シャワーノズル４１シャワーノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ１１Ｄ 7/26 Ｃ１１Ｄ 7/26 7/28 7/28 7/30 7/30 7/60 7/60 Ｆターム(参考） 3B201 AA46 AB45 BB02 BB04 BB05 BB12 BB13 BB14 BB82 BB83 BB94 BB95 CB15 CC01 CD22 4H003 DA14 DA15 DA16 DB02 DB03 EB03 ED26 ED28 ED29 ED30 FA01 FA03 FA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）非塩素系フッ素化合物と（ｂ）グ
リコールエーテルモノアルキルエーテル類と（ｃ）グリ
コールエーテルジアルキルエーテル類を含有する引火点
を有さない洗浄剤。
【請求項２】（ｂ）グリコールエーテルモノアルキル
エーテルが親水性グリコールエーテルモノアルキルエー
テル類から選ばれる一種以上の化合物と（ｃ）グリコー
ルエーテルジアルキルエーテルが疎水性グリコールエー
テルジアルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合
物の組み合わせである請求項１記載の洗浄剤。
【請求項３】（ｂ）グリコールエーテルモノアルキル
エーテルが疎水性グリコールエーテルモノアルキルエー
テル類から選ばれる一種以上の化合物と（ｃ）グリコー
ルエーテルジアルキルエーテルが親水性グリコールエー
テルジアルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合
物の組み合わせである請求項１記載の洗浄剤。
【請求項４】（ｂ）グリコールエーテルモノアルキル
エーテル類および（ｃ）グリコールエーテルジアルキル
エーテル類がともに親水性である請求項１記載の洗浄
剤。
【請求項５】（ｂ）グリコールエーテルモノアルキル
エーテル類および（ｃ）グリコールエーテルジアルキル
エーテル類がともに疎水性である請求項１記載の洗浄
剤。
【請求項６】（ｄ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
〜５記載の洗浄剤。
【請求項７】（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン
系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
一種以上の化合物を含有する請求項１〜６記載の洗浄
剤。
【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の洗浄剤
で被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも１種の（ａ）
非塩素系フッ素化合物を含有する組成物でリンスおよび
／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【請求項９】組成物（ｆ）が、添加成分（ｄ）および
化合物（ｅ）よりなる群から選ばれる少なくとも一種の
成分または化合物を含有するものである請求項８記載の
洗浄方法。
【請求項１０】（Ａ）請求項１〜７のいずれかに記載
の洗浄剤により被洗物を洗浄するための洗浄槽、（Ｂ）
組成物（ｆ）によりリンスするためのリンス槽、引火点
を有さない組成物（ｆ）に含有される少なくとも一種の
成分または化合物の蒸気を発生させるための蒸気発生
槽、該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄するため
の蒸気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した後、得ら
れた凝縮液から水分を除去するための水分離槽、及び水
分を除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻す機構を有
する洗浄装置。
【請求項１１】請求項１〜７のいずれかに記載の洗浄
剤を構成する少なくとも一種の成分または化合物の蒸気
を発生させるための加熱機構を有する請求項１０の洗浄
槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽（Ａ）から
発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、水分離
槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗浄槽（Ａ）
に戻す機構を有する洗浄装置。
【請求項１２】請求項１１において、リンス槽（Ｂ）
の代わりに、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワー
リンスする機構を有する洗浄装置。