JP2002003894A - 引火点を抑制した洗浄剤組成物、洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤組成物とその洗浄剤組成物に適した洗浄
方法および洗浄装置を提供する。 【解決手段】 メチルパーフルオロブチルエーテル、メ
チルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混
合物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物に両末端
基が同一の分子構造であるグリコールエーテルジアルキ
ルエーテルを加え、さらに酸化防止剤等の添加剤を必要
に応じて併用した洗浄剤組成物とその洗浄剤組成物に適
した洗浄方法および洗浄装置を利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に使用される種々の加工油類やグ
リース類やワックス類、電気電子部品のハンダ付け時に
使用されるフラックス類、基板製造時に使用されるスク
リーンに付着したインキやペースト類および樹脂吐出装
置のミキシング部に付着した樹脂類を洗浄するのに好適
な洗浄剤組成物とその洗浄剤組成物に適した洗浄方法お
よび洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、ロジンを主成分としたフラック
スでハンダ付け面を予め処理することが通常行われてい
る。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に
基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着さ
せた後、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスと
ハンダの粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性
の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除
去する必要がある。

【０００３】また、近年、スクリーン印刷法が電子工業
分野をはじめとして広く活用されている。これは絹、ナ
イロン，テトロン（登録商標）などの繊維、あるいはス
テンレスの針金などで織った布地（スクリーン）を枠に
張って四周を固定し、その上にポリビニルアルコール、
酢酸ビニルエマルジョン、アクリルモノマー等の主剤と
ジアゾニウム塩類や重クロム酸塩等の感光剤を撹拌混合
したものを塗布し、光化学的方法で乳剤膜を作って必要
な画線以外の目をふさぎ、パターンを形成したスクリー
ンと、スキージと呼ばれるウレタン製ゴムを取り付けた
道具を使い、印刷を行うものである。印刷を終えたスク
リーンとスキージは保管または再使用のため、スクリー
ンおよびスキージに付着したインキ、ペーストを洗浄、
除去する必要がある。

【０００４】また、各種電気・電子部品等をエポキシ、
ウレタン、シリコーンおよびポリエステル等の樹脂で接
合、充填または封止するために樹脂吐出装置が広く使用
されている。この用途に使用される樹脂には常温付近で
架橋・硬化する２液タイプ（主剤と硬化剤）のものも多
く使われており，２液を自動的に比率計量、混合撹拌す
る工程で作業を中断する際、吐出装置内での樹脂の硬化
を防止するためにミキシング部やノズル部を洗浄する必
要がある。

【０００５】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボン類（以下ＨＣＦＣという）や２Ｈ、３Ｈ−パーフ
ルオロペンタン等のハイドロフルオロカーボン類（以下
ＨＦＣという）が提案されている。しかし、ＨＣＦＣ類
では僅かにオゾン層破壊能があるために日本では２０２
０年にその使用が禁止される予定である。ＨＦＣ類では
近年新たな問題として浮上してきた地球温暖化係数の高
いことが指摘されており、地球規模での環境汚染を抑制
するために、洗浄機の構造を密閉構造とする事で大気へ
の放出量を削減する等の対策が必要となり、洗浄剤用途
での使用が困難になる。さらに、ＨＦＣ類は地球環境保
護のためにその使用が制限される可能性も高い。

【０００６】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等の
オゾン層破壊能が全くなく、地球温暖化係数の低い不燃
性のフッ素系溶剤が提案されているが、塩素原子を含ま
ないために溶解能が低く単独では洗浄剤組成物として使
用できず、可燃性溶剤を組み合わせた洗浄剤組成物の技
術が開示されている。しかし、可燃性溶剤を組み合わせ
る場合にはＨＦＥの分子構造中に含まれるアルキル基の
炭素数が少なく引火点出現抑制効果が高いメチルパーフ
ルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチル
エーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なくとも
一種以上の化合物である必要がある。ＨＦＥ類の中でも
アルキル基の炭素数が多い、例えば、エチルパーフルオ
ロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエー
テルおよびこれらの混合物から選ばれる少なくとも一種
以上の化合物は、引火点出現抑制効果が低いために、こ
れらと可燃性溶剤を組み合わせた場合、引火点が出現し
てしまう問題がある。

【０００７】メチルパーフルオロブチルエーテル、メチ
ルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合
物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物と可燃性溶
剤を組み合わせた洗浄剤組成物の技術としては、特開平
１０−３６８９４号公報および特開平１０−２５１６９
２号公報等が開示されており、メチルパーフルオロブチ
ルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルお
よびこれらの混合物から選ばれる少なくとも一種以上の
化合物とグリコールエーテルジアルキルエーテル類の併
用についての記載がある。しかし、いずれも両末端基が
異なるグリコールエーテルジアルキルエーテル類を添加
しており、フラックス洗浄剤組成物として最も必要なフ
ラックス成分であるロジン溶解性が不十分であるため
に、汚れを充分に洗浄することができない。

【０００８】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤組成物では、洗浄が
可能であってもオゾン層破壊の問題により将来その使用
が禁止されていたり、引火の危険性があるために洗浄機
等の設備を防爆構造とするのに設備コストが上昇した
り、洗浄剤組成物としての洗浄力が不足している等、洗
浄剤組成物として使用する上で多くの問題を抱えている
のが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹
敵するような高い洗浄力を示し、かつ、蒸気洗浄時等の
高温下における酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火
危険性および地球温暖化係数が低く、オゾン層破壊の恐
れが全くない洗浄剤組成物とその洗浄剤組成物に適した
洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。

【００１０】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、メチルパーフルオロブチルエーテル、メ
チルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混
合物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物の引火点
を有さない特性および引火点出現抑制効果を生かし、引
火点の出現しない洗浄剤組成物を見出すべく鋭意検討を
重ねた結果、メチルパーフルオロブチルエーテル、メチ
ルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合
物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物に両末端基
が同一な分子構造であるグリコールエーテルジアルキル
エーテル類から選ばれる少なくとも一種以上の化合物を
加えることにより、あらゆる汚れを洗浄でき、また、酸
化防止剤等の添加により高温下で連続して使用できるこ
とを見出し，さらに、その洗浄剤組成物に適した洗浄方
法および洗浄装置を見出し、本発明を完成した。

【００１１】すなわち、発明の第一は、（ａ）メチルパ
ーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブ
チルエーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なく
とも一種以上の化合物と（ｂ）両末端基が同一の分子構
造であるグリコールエーテルジアルキルエーテル類から
選ばれる一種以上の化合物を含有することを特徴とする
引火点を抑制した洗浄剤組成物である。発明の第二は
（ｃ）グリコールエーテルモノアルキルエーテル類から
選ばれる少なくとも一種以上の化合物を含有することを
特徴とする発明の第一に記載の洗浄剤組成物である。

【００１２】発明の第三は、（ｄ）グリコールエーテル
アセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル類か
らなる群から選ばれる一種以上の化合物を含有する発明
の第一または第二に記載の洗浄剤組成物である。発明の
第四は、（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の添加成分を含有する発明の第一〜三
に記載の洗浄剤組成物である。発目の第五は（ｆ）フェ
ノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化
防止剤、イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤よりな
る群から選ばれる少なくとも一種以上の化合物とを含有
する発明の第一〜四記載の洗浄剤組成物である。

【００１３】発明の第六は、発明の第一〜五のいずれか
に記載の洗浄剤組成物で被洗物を洗浄した後、（ｇ）少
なくとも１種の化合物（ａ）を含有する組成物でリンス
および／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方
法。発明の第七は、組成物（ｇ）が、添加成分（ｅ）お
よび安定剤（ｆ）よりなる群から選ばれる少なくとも一
種の成分または安定剤を含有するものである発明の第六
に記載の洗浄方法である。

【００１４】発明の第八は、（Ａ）発明の第一〜五のい
ずれかに記載の洗浄剤組成物により被洗物を洗浄するた
めの洗浄槽、（Ｂ）組成物（ｇ）によりリンスするため
のリンス槽、引火点を有さない組成物（ｇ）に含有され
る少なくとも一種の成分または化合物の蒸気を発生させ
るための蒸気発生槽、該蒸気発生槽から発生した蒸気で
蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を
凝縮した後、得られた凝縮液から水分を除去するための
水分離槽、及び水分を除去された凝縮液をリンス槽
（Ｂ）に戻す機構を有する洗浄装置。

【００１５】発明の第九は、発明の第一〜五のいずれか
に記載の洗浄剤組成物を構成する少なくとも一種の成分
または化合物の蒸気を発生させるための加熱機構を有す
る発明の第八の洗浄槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）
該洗浄槽（Ａ）から発生した蒸気で蒸気洗浄するための
蒸気ゾーン、水分離槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮
液を該洗浄槽（Ａ）に戻す機構を有する洗浄装置。発明
の第十は、発明の第九において、リンス槽（Ｂ）の代わ
りに、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワーリンス
する機構を有する洗浄装置。 以下、本発明を詳細に説
明する。

【００１６】本明細書において、洗浄とは被洗物に付着
している汚れを次工程に影響のないレベルまで除去する
ことである。また、リンスとは被洗物に付着している汚
れ成分を含む洗浄剤組成物を汚れ成分の含まれない溶剤
に置換することである。さらに、蒸気洗浄とは被洗物表
面にわずかに残留する汚れ成分を、被洗物と蒸気との温
度差によって被洗物表面で凝縮する液体で除去すること
である。本発明の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）に
は、（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテル、メチル
パーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物
から選ばれる少なくとも一種以上の化合物が必要であ
る。これにより低毒性で、引火危険性および温暖化係数
が低く、オゾン層破壊の全くない洗浄剤組成物とする事
がはじめて可能となる。

【００１７】本発明の洗浄剤組成物においては、洗浄剤
組成物に引火点を生ぜず、加工油類、グリース類、ワッ
クス類やフラックス類等のあらゆる汚れに対する洗浄力
の向上を目的に（ｂ）両末端基が同一の分子構造である
グリコールエーテルジアルキルエーテル類から選ばれる
化合物の一種、または二種以上の組み合わせを使用する
必要がある。本発明の洗浄剤組成物で使用する（ｂ）両
末端基が同一の分子構造であるグリコールエーテルジア
ルキルエーテル類とは、２個の水酸基が２個の相異なる
炭素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物に
おいて、２個の水酸基の水素のいずれもが同一の炭化水
素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換さ
れている化合物である。例えば、（ｂ）下記一般式
（１）で表される両末端基が同一の分子構造であるグリ
コールエーテルジアルキルエーテル類を挙げることがで
きる。

【００１８】

【化１】

【００１９】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜４のアルキル基
又はアルケニル基、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は水素またはメチル
基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜３の整数を示す）

【００２０】具体的にはエチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリ
コールジ−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール
ジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールジ−ｉ−
ブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテ
ル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレ
ングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレング
リコールジ−ｉ−プロピルエーテル、ジエチレングリコ
ールジ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジ
−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールジ−ｉ−
ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｉ−ブチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルジ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール
ジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−プロピルエー
テル、ジプロピレングリコールジ−ｉ−プロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、
ジプロピレングリコールジ−ｉ−ブチルエーテル、トリ
エチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレング
リコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジ
−ｎ−プロピルエーテル、トリエチレングリコールジ−
ｉ−プロピルエーテル、トリエチレングリコールジ−ｎ
−ブチルエーテル、トリエチレングリコールジ−ｉ−ブ
チルエーテルトリプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジエチルエーテル、トリ
プロピレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、トリ
プロピレングリコールジ−ｉ−プロピルエーテル、トリ
プロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールジ−ｉ−ブチルエーテル等を挙げる
ことができる。この中で特にロジン溶解性に優れるジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテルが好ましい。

【００２１】本発明の洗浄剤組成物においては、あらゆ
る汚れに対する洗浄力の向上を目的に（ｃ）グリコール
エーテルモノアルキルエーテル類から選ばれる一種以上
の化合物を使用することができる。例えば、（ｃ）下記
一般式（２）で表されるグリコールエーテルモノアルキ
ルエーテル類を挙げることができる。

【００２２】

【化２】

【００２３】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜４のアルキル基
又はアルケニル基、Ｒ²は水素又は炭素数１〜４のアル
キル基又はアルケニル基、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は水素または
メチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜３の整数を示
す）

【００２４】具体例としては、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、
エチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、エチ
レングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレング
リコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピル
エーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエー
テル、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジエチレングリコール
モノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
−ｉ−ブチルエーテルジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トリエチレン
グリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、トリエチレン
グリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレング
リコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、トリプロピレング
リコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ
−ｎ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモ
ノ−ｉ−プロピルエーテル、トリプロピレングリコール
モノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール
モノ−ｉ−ブチルエーテル、３−メトキシブタノール、
３−メチル−３−メトキシブタノール等を挙げることが
できる。この中で特に人体における代謝系で毒性の指摘
されているアルコキシ酢酸を生成しないジプロピレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール
モノ−ｎ−ブチルエーテル、３−メチル−３−メトキシ
ブタノールが好ましい。

【００２５】化合物（ｂ）や化合物（ｃ）のグリコール
エーテル類の蒸気圧は、洗浄剤組成物が引火点を有さな
い範囲であれば特に制限はないが、２０℃における蒸気
圧が１．３３×１０³Ｐａ未満が好ましく、より好まし
くは６．６６×１０²Ｐａ以下であり、さらに１．３３
×１０²Ｐａ以下が好ましい。本発明の洗浄剤組成物に
おいては、あらゆる汚れに対する洗浄力の向上を目的に
（ｄ）グリコールエーテルアセテート類およびヒドロキ
シカルボン酸エステル類からなる群から選ばれる一種以
上の化合物を使用することができる。本発明の洗浄剤組
成物に使用するグリコールエーテルアセテート類とは、
水酸基を有するグリコールエーテル類をアセテート化し
た化合物である。ここで言うグリコールエーテル類とは
２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に結合している
脂肪族あるいは脂環式化合物において、その２個の水酸
基のうちいずれか１個の水酸基の水素が炭化水素残基ま
たはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換されている
化合物である。例えば、下記一般式（３）で特定される
グリコールエーテルアセテート類を挙げることができ
る。

【００２６】

【化３】

【００２７】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１
〜４の整数を示す）

【００２８】グリコールエーテルアセテート類の具体例
としては、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコールおよびトリプロピレングリコー
ル等に対応するモノアルキルエーテルのアセテート、３
−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メトキシ−３
−メチル−１−ブチルアセテート等を挙げることができ
る。

【００２９】また、本発明の洗浄剤組成物に使用するヒ
ドロキシカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエス
テル化合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エ
ステル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコー
ルモノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリン
ジエステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を
挙げることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン
酸エステル類としては下記一般式（４）で特定される乳
酸エステル類を挙げることができる。

【００３０】

【化４】

【００３１】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す） 乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることがで
きる。成分（ｄ）は、グリコールエーテルアセテート類
またはヒドロキシカルボン酸エステル類の中から選ばれ
た、１種又は２種以上を組み合わせることができる。

【００３２】本発明における洗浄剤組成物は、上記成分
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を含有する引火点を有さない洗
浄剤組成物である。ここでいう、「引火点を有さない」
とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６５等の一般的な引火点評価試験
により、洗浄剤組成物に引火点なしと認められることを
意味する。本発明の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）に
は、１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１
００℃で、請求項１〜３に記載の成分（ａ）、成分
（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｄ）とは異なる化合物
である、成分（ｅ）を洗浄力改良剤、安定剤、融点降下
剤等の添加成分として使用できる。

【００３３】成分（ｅ）を以下、溶剤の種類ごとに例示
する。炭化水素類としては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサ
ン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、２−メチルペン
タン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メ
チルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチル
ペンタン、イソオクタン等が挙げられる。アルコール類
としてはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、
イソプロパノール等を挙げることができる。ケトン類と
してはアセトン，メチルエチルケトンを挙げることがで
きる。エステル類としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸イソブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン
酸メチル、プロピオン酸エチル等を挙げることができ
る。

【００３４】成分（ｅ）は、上記例示された化合物のな
かから選ばれた、１種又は２種以上を組み合わせること
ができる。成分（ｅ）は１．０１３×１０⁵Ｐａにおけ
る沸点が２０℃〜１００℃であり、かつ、使用中の組成
変動を少なくするために併用する（ａ）メチルパーフル
オロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエ
ーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なくとも一
種以上の化合物沸点の±４０℃の範囲に入ることが好ま
しく、さらに好ましくは±３０℃である。また、成分
（ｅ）は、併用する（ａ）メチルパーフルオロブチルエ
ーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよび
これらの混合物から選ばれる少なくとも一種以上の化合
物と共沸組成物あるいはそれに近似する組成の共沸様組
成物であることが好ましい。

【００３５】また、洗浄剤組成物および組成物（ｇ）の
酸化劣化を防ぐ目的で成分（ｆ）を添加することができ
る。成分（ｆ）としては、例えば、以下に示す種類ごと
に例示することができる。フェノール系酸化防止剤とし
ては、１−オキシ−３−メチル−４−イソプロピルベン
ゼン、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシ
アニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノ
ール、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−
ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
等の化合物を挙げることができる。

【００３６】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフ
ェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤としては、
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、
ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステ
ル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エス
テル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エ
ステル等の化合物を挙げることができる。

【００３７】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３８】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
組成物を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、
フェノール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群
から選ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤お
よびリン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用
することによって、長期間洗浄剤組成物の酸化分解を抑
制することが可能となる。

【００３９】また、本発明の洗浄剤組成物はあらゆる汚
れに対して優れた洗浄性を示すが，特にフラックスなど
の樹脂類の洗浄に適している。本発明の洗浄剤組成物
は、上述した（ａ）〜（ｆ）各成分を定法に従って混合
し均一化して得られる。各成分の重量割合については、
本発明の洗浄剤組成物の特徴である、高洗浄性、低毒
性、低引火性が損なわれない範囲であれば、特に制限は
ないが、成分（ａ）／成分（ｂ）の重量割合の範囲が９
５／５〜４０／６０であることがより好ましい。成分
（ｂ）の重量割合が５より大きいときに、各種汚れに対
するより好ましい溶解力改善効果が得られ、６０より小
さいときにより好ましい低引火性を達成できる。成分
（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の重
量割合の範囲が９５／５〜４０／６０であることがより
好ましい。｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の
重量割合が５より大きいときに、各種汚れに対するより
好ましい溶解力改善効果が得られ、６０より小さいとき
により好ましい低引火性を達成できる。洗浄剤組成物の
洗浄性と低引火性のバランスを考慮した、さらに好まし
い成分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合
の範囲は９０／１０〜５０／５０であり、いっそう好ま
しくは８０／２０〜６０／４０である。

【００４０】成分（ｂ）／｛成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝
の重量割合の範囲は９０／１０〜１０／９０であること
がより好ましい。成分（ｃ）の重量割合が１０より大き
いときに、より好ましいロジン溶解性が得られ、９０よ
り小さいときに、重合ロジンやロジンの金属塩に対する
より好ましい洗浄性が得られる。洗浄剤組成物のロジン
に対する溶解性と重合ロジン等の白色残渣の原因となる
汚れに対する洗浄性のバランスを考慮した、さらに好ま
しい成分（ｂ）／｛成分（ｃ）＋成分（ｄ）｝の重量割
合の範囲は８０／２０〜２０／８０であり、いっそう好
ましくは７０／３０〜３０／７０である。

【００４１】成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）｝／（ｅ）の重量割合の範囲が
９０／１０〜９９．９／０．１あることがより好まし
い。（ｅ）の重量割合が１０よい小さいときにより好ま
しい低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定
剤としてのより好ましい効果が得られる。さらに好まし
い重量割合の範囲は９３／７〜９９／１である。 成分
（ｆ）を添加する場合には｛（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋
（ｄ）＋（ｅ）｝に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より
好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。

【００４２】本発明の洗浄剤組成物の融点は１５℃以下
が好ましいが、冬期使用することも考慮すると１０℃以
下がより好ましく，さらに好ましくは５℃以下である。
組成物（ｇ）は、上述した（ａ）、（ｅ）、（ｆ）各成
分を定法に従って混合し均一化して得られる。各成分の
重量割合については、組成物（ｇ）の特徴である、低毒
性、低引火性が損なわれない範囲であれば、特に制限は
ないが、成分（ｅ）を添加する場合には（ａ）／（ｅ）
の重量割合の範囲が９０／１０〜９９．９／０．１ある
ことがより好ましい。（ｅ）の重量割合が１０よい小さ
いときにより好ましい低引火性を達成でき、０．１より
大きいときに安定剤としてのより好ましい効果が得られ
る。さらに好ましい重量割合の範囲は９３／７〜９９／
１である。

【００４３】成分（ｆ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｅ）｝に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より好ましく
は１０〜１０００ｐｐｍである。本発明の洗浄剤組成物
および組成物（ｇ）には、必要に応じて各種助剤、例え
ば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて添加
しても良い。以下に本発明の洗浄剤組成物および組成物
（ｇ）に添加できる添加剤の具体例を例示する。

【００４４】界面活性剤としては、アニオン系界面活性
剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び
両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系界面活性
剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデシルベン
ゼンスルホン酸等のアルカリ金属類、アルカノールアミ
ン類およびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界面活
性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノール、
炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコール
のエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサイド
ポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が挙げ
られる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、アミノ
酸型等が挙げられる。

【００４５】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００４６】本発明の洗浄剤組成物及び組成物（ｇ）
は、以下に示す洗浄方法及び洗浄装置を利用することに
よって、最も効果的な洗浄を行うことができる。本発明
の洗浄方法は、被洗物に付着したあらゆるタイプの汚れ
を（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパ
ーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物か
ら選ばれる少なくとも一種以上の化合物に（ｂ）両末端
基が同一の分子構造であるグリコールエーテルジアルキ
ルエーテル類を含有し、必要に応じて（ｃ）グリコール
エーテルモノアルキルエーテル類、（ｄ）グリコールエ
ーテルアセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステ
ル類からなる群から選ばれる少なくとも一種以上の化合
物、（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０
℃〜１００℃の添加成分および（ｆ）フェノール系酸化
防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオ
ウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤を添加することによ
って、優れた洗浄性を示し、かつ、引火点を有さない洗
浄剤組成物で洗浄したのち、汚れ成分等を発明の第六に
記載の（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテル、メチ
ルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合
物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物単体または
発明の第七に記載の（ａ）メチルパーフルオロブチルエ
ーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよび
これらの混合物から選ばれる少なくとも一種以上の化合
物と（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０
℃〜１００℃の添加成分からなる引火点を有さない組成
物（ｇ）で被洗物をリンスおよび／または蒸気洗浄する
ことを特徴としている。特に組成物（ｇ）については汚
れ成分に応じて、（ｅ）１．０１３×１０ ⁵Ｐａにおけ
る沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を添加することに
より、リンス性がより向上する。洗浄工程及びリンス工
程には洗浄性、リンス性を向上することを目的とした手
拭き、浸漬、スプレー、シャワー等の物理的な方法を組
み合わせることにより、効果的な洗浄が可能となる。本
発明の洗浄方法は本発明の洗浄剤組成物を使用する上
で、洗浄性及び乾燥性に優れ、被洗物の材質に対する影
響も少なく、最も適した洗浄方法と言える。

【００４７】本発明の洗浄方法を実施する装置として
は、これまでトリクロロエタン，ＣＦＣ１１３等の塩素
系洗浄剤組成物で使用されていた３槽式洗浄機等の一般
的な洗浄機であれば使用することが可能であり、洗浄装
置を限定するものではないが、具体的な洗浄装置の事例
として、図１に示した本発明の第八に記載の洗浄装置、
図２に示した本発明の第九に記載の洗浄装置および図３
に示した本発明の第十に記載の洗浄装置を挙げることが
できる。

【００４８】以下に本発明の洗浄方法及び洗浄装置を添
付図面によって具体的に説明する。図１に示す洗浄装置
は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１、組
成物（ｇ）を入れるリンス槽（Ｂ）２及び蒸気発生槽
３、組成物（ｇ）の蒸気に満たされる蒸気ゾーン４、蒸
発した組成物（ｇ）を冷却管９によって凝縮し、凝縮し
た液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分
離槽（Ｃ）５からなる。実際の洗浄においては被洗物を
専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽
（Ａ）１、リンス槽（Ｂ）２、蒸気ゾーン４の順に通過
させながら洗浄を完了させる。

【００４９】洗浄槽（Ａ）１では、本発明の洗浄剤組成
物をヒーター７で加熱昇温し、一定温度にコントロール
しながら被洗物に付着した汚れを超音波振動子８により
発生したキャビテーションで洗浄除去する。この時，物
理的な力としては超音波以外に揺動や洗浄剤組成物の液
中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されているいかなる
方法を使用しても良い。本洗浄装置においては被洗物を
洗浄槽（Ａ）１からリンス槽（Ｂ）２に移動する時、洗
浄剤組成物成分が被洗物表面に付着していることによ
り、被洗物表面での乾燥による汚れ成分の固着を防止し
つつ、リンス槽（Ｂ）２へ移動することが可能となる。

【００５０】リンス槽（Ｂ）２では、被洗物に付着して
いる洗浄剤組成物中に溶解している汚れ成分を組成物
（ｇ）で除去する。組成物（ｇ）は、リンス槽（Ｂ）２
からオーバーフロー配管１１、１６、１２を通って蒸気
発生槽３に入り、蒸気発生槽３のヒーター６で加熱沸騰
され、その組成の一部または全部が蒸気となって矢印１
３のように冷却管９で凝縮された後、配管１４から水分
離槽（Ｃ）５に集まり水と分離された上で、配管１５を
通ってリンス槽（Ｂ）２に戻る。この組成物（ｇ）を洗
浄装置内で液体や気体に状態変化させながら循環するこ
とによって、リンス槽（Ｂ）２に持ち込まれた洗浄剤組
成物成分や汚れ成分を連続的に蒸気発生槽３に蓄積し，
リンス槽（Ｂ）２の清浄度の維持や蒸気ゾーン４におけ
る蒸気洗浄が可能となる。

【００５１】蒸気発生槽３で発生した蒸気に満たされた
蒸気ゾーン４で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝
縮することによりできた液中に汚れ成分が全く含まれな
いので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。
さらに、洗浄効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）２
の冷却管１０で組成物（ｇ）温度を低温に保ち、浸漬す
る被洗物温度を低く抑制することによって，蒸気温度と
の温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。

【００５２】本発明の洗浄装置では、洗浄剤組成物と組
成物（ｇ）の２種類の液を使用するために独立した浸漬
槽構造となっているが、各槽上部の空間を蒸気ゾーンと
して共通に使用することにより，洗浄剤組成物からの非
塩素系フッ素化合物の蒸発ロスを抑制し、結果として洗
浄剤組成物の組成変動を減少し、長期連続使用すること
が可能となる。

【００５３】次に図２に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１７、組成物（ｇ）を入
れるリンス槽（Ｂ）１８、洗浄剤組成物の蒸気に満たさ
れる蒸気ゾーン（Ｄ）１９、蒸発した洗浄剤組成物を冷
却管２３によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着し
た水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）２０からな
る。実際の洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等
に入れて、洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）１７、リンス槽
（Ｂ）１８、蒸気ゾーン（Ｄ）１９の順に通過させなが
ら洗浄を完了させる。リンス槽（Ｂ）数については精密
洗浄等の高い清浄度が求められる場合には必要に応じて
２槽以上に増やしても良い。

【００５４】洗浄槽（Ａ）１７では、本発明の洗浄剤組
成物をヒーター２１で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着
した汚れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては
揺動や洗浄剤組成物の液中噴流等のこれまでの洗浄機に
採用されている物理的な力であればいかなる方法を使用
しても良い。本洗浄装置では被洗物を洗浄槽（Ａ）１７
からリンス槽（Ｂ）１８に移動する時、洗浄剤組成物成
分が被洗物表面に付着することにより、被洗物表面での
乾燥による汚れ成分の固着を防止しつつ，リンス槽
（Ｂ）１８へ移動することが可能となる。

【００５５】リンス槽（Ｂ）１８では、本発明の組成物
（ｇ）で被洗物に付着している洗浄剤組成物中に溶解し
ている汚れ成分を除去する。洗浄剤組成物は、洗浄槽
（Ａ）１７のヒーター２１で加熱沸騰され、その組成の
一部または全部が蒸気となって矢印２５のように蒸気ゾ
ーン（Ｄ）１９を満たした後、冷却管２３で凝縮された
後、配管２６から水分離槽（Ｃ）２０に集まり水と分離
された上で、配管２７を通って、一旦リンス槽（Ｂ）１
８に戻された後、該リンス槽（Ｂ）１８からオーバーフ
ローして矢印２８のように最終的に洗浄槽（Ａ）１７に
戻される。

【００５６】このように図２に示す洗浄装置は図１に示
した洗浄装置と異なり、洗浄剤組成物と組成物（ｇ）が
洗浄槽（Ａ）１７において混合することを特徴とし、洗
浄剤組成物と組成物（ｇ）に含まれる（ａ）メチルパー
フルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチ
ルエーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なくと
も一種以上の化合物と（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａに
おける沸点が２０℃〜１００℃は同一成分とすることが
好ましい。

【００５７】この洗浄剤組成物と組成物（ｇ）に含まれ
る（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテル、メチルパ
ーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合物か
ら選ばれる少なくとも一種以上の化合物と（ｅ）１．０
１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃が洗
浄装置内で循環させ、かつ、リンス槽（Ｂ）１８内の組
成物の一部を洗浄槽（Ａ）１７にオーバーフローするこ
とによって、蒸気ゾーン（Ｄ）１９における蒸気洗浄が
可能となるのみならず、被洗物によりリンス槽（Ｂ）１
８に持ち込まれた洗浄剤組成物中の（ｂ）両末端基が同
一の分子構造であるグリコールエーテルジアルキルエー
テル類から選ばれる少なくとも一種以上の化合物、
（ｃ）グリコールエーテルモノアルキルエーテル類から
選ばれる少なくとも一種以上の化合物、（ｄ）グリコー
ルエーテルアセテート類およびヒドロキシカルボン酸エ
ステル類からなる群から及び（ｅ）フェノール系酸化防
止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ
系酸化防止剤および紫外線吸収剤を連続的に洗浄槽
（Ａ）１７に戻すことが可能となり、洗浄槽（Ａ）１７
内の洗浄剤組成物、及びリンス槽（Ｂ）１８内の組成物
（ｇ）の組成を一定に保つことができる。

【００５８】洗浄槽（Ａ）１７で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）１９で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が
全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として
有効である。さらに、洗浄効果を高めるためには、リン
ス槽（Ｂ）１８の冷却管２４で組成物（ｇ）温度を低温
に保ち、被洗物温度を低くすることによって、蒸気温度
との温度差を広げ凝縮量を増やすことが効果的である。

【００５９】次に図３に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）２９、洗浄剤組成物の蒸
気に満たされる蒸気ゾーン（Ｄ）３０、蒸発した洗浄剤
組成物を冷却管３４によって凝縮し、凝縮した液と冷却
管に付着した水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）
３１，水分離槽（Ｃ）３１で静置分離された凝縮液をシ
ャワーリンスするためのポンプ３３とからなる。実際の
洗浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、
洗浄装置内を洗浄槽（Ａ）２９、蒸気ゾーン（Ｄ）３０
の順に移動しながら洗浄を完了させる。

【００６０】洗浄槽（Ａ）２９では、本発明の洗浄剤組
成物をヒーター３２で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着
した汚れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては
揺動や洗浄剤組成物の液中噴流等のこれまでの洗浄機に
採用されている物理的な力であれば、いかなる方法を使
用しても良い。蒸気ゾーン（Ｄ）３０では、主に本発明
の洗浄剤組成物に含まれる（ａ）メチルパーフルオロブ
チルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエーテル
およびこれらの混合物から選ばれる少なくとも一種以上
の化合物や（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点
が２０℃〜１００℃の添加成分等の蒸気圧の高い成分の
蒸気を冷却管３４で凝縮させ水分離槽（Ｃ）３１に集め
た後、これら凝縮液をポンプ３３で配管３８、３９に送
液し、シャワーノズル４０，４１から被洗物にシャワー
することによって，被洗物に付着している洗浄剤組成物
中に溶解している汚れ成分をリンスする。凝縮液は、水
分離槽（Ｃ）３１に集められた後、配管３７およびポン
プ３３から洗浄槽（Ａ）２９に入りヒーター３２で加熱
沸騰され、蒸気となって矢印３５のように冷却管３４で
凝縮された後、配管３６から水分離槽（Ｃ）３１に戻
る。

【００６１】洗浄槽（Ａ）２９で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）３０で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で凝縮する液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗
浄工程最後の仕上げ洗浄として有効である。本発明の洗
浄装置では、洗浄剤組成物に含まれる（ａ）メチルパー
フルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチ
ルエーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なくと
も一種以上の化合物や（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａに
おける沸点が２０℃〜１００℃等の蒸気圧の高い成分が
主に洗浄装置内で液体や気体に状態変化させながら循環
することによって、被洗物に付着しているわずかに残留
している可能性の有る汚れ成分を組成物（ｇ）、及びリ
ンス槽（Ｂ）を使用せずにリンス及び蒸気洗浄が可能で
ある。

【００６２】前記図１〜３に示した各洗浄装置はその目
的や用途によって使い分けることができ、高清浄度が求
められるような精密洗浄等では、洗浄槽（）図１や図２
に示した組成物（ｇ）を使用し、かつ、浸漬槽を設けた
洗浄装置がより好ましい。

【００６３】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤組成物の各種物性は以下の
ようにして測定、評価した。 ［実施例１〜１０及び比較例１〜８］ （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり（２）地球温暖化係数（１００年積算）

【００６４】地球温暖化係数とは二酸化炭素を基準とし
て、二酸化炭素の温暖化係数を「１」とした場合の相対
値を表し、洗浄剤組成物中の２０重量％以上の溶剤につ
いて評価する。評価は以下の基準による。 ○：５００未満 ×：５００以上

【００６５】（３）ロジン溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを４０℃の洗浄剤組成物５０ｍｌで２分間揺動
洗浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチルエ
ーテルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム
（株）製）でリンスした後、エアーブローして乾燥す
る。溶解性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以
下の計算式で計算する。 ロジン溶解性（％）＝｛（試験前重量−試験後重量）／
試験前重量｝×１００ 評価は以下の基準による。 ◎：４０％以上 ○：２０％以上〜４０％未満 ×：２０％以下 試験に用いたフラックスの商品名：ＣＦＲ−２２５
（（株）タムラ製作所製）

【００６６】（４）基板洗浄性試験 重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因と
なる汚れに対する洗浄剤組成物の洗浄性を、以下の操作
により測定した。ガラスエポキシ製プリント基板（３５
×４８ｍｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２
５０℃でハンダ付けして作成した試験片を４０℃の洗浄
剤組成物５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００回／分）
し、メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパ
ーフルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦ
Ｅ７１００、住友スリーエム（株）製）でリンスおよび
蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は基板表面の外観を目視
評価する。評価は以下の基準による。 ◎：基板面及びハンダ面のいずれにも白色残渣なし ○：ハンダ面に白色残渣なし ×：白色残渣あり 試験に用いたフラックスの商品名：ＣＦＲ−２２５
（（株）タムラ製作所製）

【００６７】

【実施例１〜１０】表１に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤組成物を得た。各洗浄剤組成物につい
て、評価試験を行ない、結果を表１にまとめた。（ａ）
メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオ
ロイソブチルエーテルの混合物、（ｂ）両末端基が同一
の分子構造であるグリコールエーテルジアルキルエーテ
ルにより引火点を消去した上で、優れたフラックス洗浄
性が確認された。また、（ｃ）グリコールエーテルモノ
アルキルエーテル、（ｄ）グリコールエーテルアセテー
ト類およびヒドロキシカルボン酸エステル類および
（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の成分を添加することによって、さらに優れた
洗浄性が得られた。

【００６８】

【比較例１】表１に記載の溶剤について実施例と同じ評
価試験を行った。結果を表１にまとめた。（ａ）メチル
パーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソ
ブチルエーテルの混合物単独ではロジン溶解性及び基板
洗浄性のいずれも不十分であった。

【００６９】

【比較例２〜３】表１に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤組成物を得た。この洗浄剤組成物について実施例と
同じ評価試験を行った。結果を表１にまとめた。（ａ）
メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオ
ロイソブチルエーテルの混合物に成分（ｃ）として、ジ
エチレングリコールメチルプロピルエーテルの単独添加
あるいはジプロピレングリコールメチルエチルエーテル
とジプロピレングリコールエチルプロピルエーテルを併
用して添加しただけではフラックス洗浄性が不充分であ
った。

【００７０】

【比較例４】表１に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
組成物を得た。この洗浄剤組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表１にまとめた。エチルパー
フルオロブチルエーテルとエチルパーフルオロイソブチ
ルエーテルの混合物に成分（ｂ）としてジエチレングリ
コールジエチルエーテルを添加した組成では引火点が確
認された。

【００７１】

【比較例５】表１に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
組成物を得た。この洗浄剤組成物について実施例と同じ
評価試験を行った。結果を表１にまとめた。２Ｈ，３Ｈ
−パーフルオロペンタンに成分（ｂ）としてジエチレン
グリコールジブチルエーテルを添加した組成では地球温
暖化係数が５００を越えた。

【００７２】［実施例１１〜１２及び比較例６］ （５）実機洗浄試験１ 図１に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１に所定の組成の洗
浄剤組成物を入れ、リンス槽（Ｂ）２、蒸気発生槽３お
よび水分離槽（Ｃ）５に所定の組成の組成物（ｇ）を入
れ、重合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原
因となる汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び
洗浄条件により測定した。操作

【００７３】・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５×４８ｍｍ）をフ
ラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付
けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、
組成物（ｇ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。
洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉ
ｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタ
ルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評価
は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＣＦＲ−２２５
（（株）タムラ製作所製）

【００７４】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０×２０ｍｍ）に下
記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して
作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物
（ｇ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は
目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７５】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１ ：４０℃、２分間超音波洗浄（出
力：１１０ｗ、周波数：２８ｋＨｚ）リンス槽（Ｂ）２
：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回／分）蒸気ゾーン
４：２分間静置

【００７６】

【実施例１１】表２に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）を得た。洗浄剤組
成物および組成物（ｇ）を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物、（ｂ）両末端基が同一の分子構造であるグ
リコールエーテルジアルキルエーテルを含有する引火点
を有さない洗浄剤組成物と（ａ）メチルパーフルオロブ
チルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテル
の混合物単独で引火点を有さない組成物（ｇ）で洗浄す
ることにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が
確認された。

【００７７】

【実施例１２】表２に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）を得た。洗浄剤組
成物および組成物（ｇ）を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物、（ｂ）両末端基が同一の分子構造であるグ
リコールエーテルジアルキルエーテルと（ｃ）グリコー
ルエーテルモノアルキルエーテルとを併用した引火点を
有さない洗浄剤組成物と（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物と（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の成分とを併用した引火点を有さない
組成物（ｇ）で洗浄することにより、フラックス及び油
に対する優れた洗浄が確認された。

【００７８】

【比較例６】表２に記載の洗浄剤組成物および組成物
（ｇ）について実施例１１，１２と同じ評価試験を行っ
た。結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性が
いずれも不充分であった。

【００７９】［実施例１３〜１４及び比較例７］ （６）実機洗浄試験２ 図２に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１７に所定の組成の
洗浄剤組成物を入れ、リンス槽（Ｂ）１８および水分離
槽（Ｃ）２０に所定の組成の組成物（ｇ）を入れ、重合
ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる
汚れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件
により測定した。

【００８０】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５×４８ｍｍ）をフ
ラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付
けして作成した試験片を洗浄し、組成物（ｇ）でリンス
した後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン性残渣
（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメーター
（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定し、
その測定値を「β」とする。評価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＣＦＲ−２２５
（（株）タムラ製作所製）

【００８１】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０×２０ｍ）に下記
金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して作
成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組成物
（ｇ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は
目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００８２】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 リンス槽（Ｂ）１８ ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０
回／分） 蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間静置

【００８３】

【実施例１３】表２に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）を得た。洗浄剤組
成物および組成物（ｇ）を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物、（ｂ）両末端基が同一の分子構造であるグ
リコールエーテルジアルキルエーテルを含有する引火点
を有さない洗浄剤組成物と（ａ）メチルパーフルオロブ
チルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテル
の混合物単独で引火点を有さない組成物（ｇ）で洗浄す
ることにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が
確認された。

【００８４】

【実施例１４】表２に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤組成物および組成物（ｇ）を得た。洗浄剤組
成物および組成物（ｇ）を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物、（ｂ）両末端基が同一の分子構造であるグ
リコールエーテルジアルキルエーテルと（ｃ）グリコー
ルエーテルモノアルキルエーテルとを併用した引火点を
有さない洗浄剤組成物と（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物と（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の成分とを併用した引火点を有さない
組成物（ｇ）で洗浄することにより、フラックス及び油
に対する優れた洗浄が確認された。

【００８５】

【比較例７】表２に記載の洗浄剤組成物および組成物
（ｇ）について実施例１３、１４と同じ評価試験を行っ
た。結果を表２にまとめた。（ａ）メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性が
いずれも不充分であった。

【００８６】［実施例１５及び比較例８］ （７）実機洗浄試験３ 図３に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）２９及び水分離槽
（Ｃ）３１に所定の組成の洗浄剤組成物を入れ、１時間
空運転を行い水分離槽（Ｃ）３１の洗浄剤組成物に含ま
れる蒸気圧の低い成分の濃度を低下させた上で、重合ロ
ジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚
れに対する洗浄性について、以下の操作及び洗浄条件に
より測定した。

【００８７】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５×４８ｍｍ）をフ
ラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハンダ付
けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、
洗浄剤組成物の凝縮液ででリンスした後、蒸気洗浄して
乾燥する。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ
／ｓｑｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アル
ファメタルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とす
る。評価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＣＦＲ−２２５
（（株）タムラ製作所製）

【００８８】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０×２０ｍｍ）に下
記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱して
作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、洗浄剤
組成物の凝縮液でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。
洗浄性は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００８９】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間シャワーリンス（５Ｌ／
分）後，２分間静置

【００９０】

【実施例１５】表２に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤組成物を得た。洗浄剤組成物を用いて上記評
価試験を行ない、結果を表２にまとめた。（ａ）メチル
パーフルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソ
ブチルエーテルの混合物、（ｂ）両末端基が同一の分子
構造であるグリコールエーテルジアルキルエーテルを含
有する引火点を有さない洗浄剤組成物とその洗浄剤組成
物の凝縮液で洗浄することにより、フラックス及び油に
対する優れた洗浄が確認された。

【００９１】

【比較例８】表２に記載の洗浄剤組成物について実施例
１５と同じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。
（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパー
フルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラック
ス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。

【００９２】

【表１】

【００９３】

【表２】

【００９４】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、優れた洗浄性
を有するとともに引火点がなく安全である。すなわち、
引火点を有さないものの、フラックス等の汚れに対する
溶解性に劣るメチルパーフルオロブチルエーテル、メチ
ルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれらの混合
物から選ばれる少なくとも一種以上の化合物単体に、両
末端基が同一の分子構造であるグリコールエーテルジア
ルキルエーテルを添加することによって、引火点出現抑
制効果が高く、かつ、引火点を有さないというメチルパ
ーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブ
チルエーテルおよびこれらの混合物から選ばれる少なく
とも一種以上の化合物の特性をそのままに、例えば，フ
ラックス洗浄において、高いロジン溶解性を有するとと
もに基板表面に残留する重合ロジン、ロジンの金属塩お
よびイオン性物質に対する優れた洗浄性を有する洗浄剤
組成物を提供できる。洗浄剤組成物が引火点を有さない
ので、引火の危険性が低減され、洗浄機等の設備上、引
火，爆発等を防ぐための防爆構造とする必要がなく、か
つ、既存の洗浄設備をそのまま使用できるため低コスト
の洗浄システムを確立することが可能となる。また、
１．０１３×１０⁵Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１００
℃の添加成分により、蒸気洗浄時の気相での金属安定性
の向上、洗浄剤組成物の凝固防止等が可能となる。

【００９５】本発明の組成物によれば、引火の危険を全
く心配せずにあらゆるタイプの汚れを容易に被洗物表面
から溶解洗浄する事ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄剤組成物および洗浄方法を利用し
た洗浄装置の一例である。

【図２】本発明の洗浄剤組成物および洗浄方法を利用し
た洗浄装置の一例である。

【図３】本発明の洗浄剤組成物および洗浄方法を利用し
た洗浄装置の一例である。

【符号の説明】

１ 洗浄槽（Ａ） ２ リンス槽（Ｂ） ３ 蒸気発生槽 ４ 蒸気ゾーン ５ 水分離槽（Ｃ） ６ ヒーター ７ ヒーター ８ 超音波振動子 ９ 冷却管 １０冷却管 １１オーバーフロー配管 １２オーバーフロー配管 １３蒸気の流れ １４凝縮液用配管 １５水分離後の凝縮液用配管 １６オーバーフロー液用配管 １７洗浄槽（Ａ） １８リンス槽（Ｂ） １９蒸気ゾーン（Ｄ） ２０水分離槽（Ｃ） ２１ヒーター ２２超音波振動子 ２３冷却管 ２４冷却管 ２５蒸気の流れ ２６凝縮液用配管 ２７水分離後の凝縮液用配管 ２８組成物（ｇ）の流れ ２９洗浄槽（Ａ） ３０蒸気ゾーン（Ｄ） ３１水分離槽（Ｃ） ３２ヒーター ３３ポンプ ３４冷却管 ３５蒸気の流れ ３６凝縮液用配管 ３７水分離後の凝縮液配管 ３８シャワー用の凝縮液配管 ３９シャワー用の凝縮液配管 ４０シャワーノズル ４１シャワーノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 7/28 Ｃ１１Ｄ 7/28 7/32 7/32 7/34 7/34 7/36 7/36 Ｃ２３Ｇ 5/032 Ｃ２３Ｇ 5/032 5/04 5/04 Ｆターム(参考） 3B201 AA46 AB01 AB38 AB45 BB04 BB05 BB13 BB21 BB82 BB83 BB92 BB94 BB95 CB15 CC01 CC12 CC21 CD22 4H003 BA12 DA14 DA15 DA16 DB02 DB03 EB03 EB13 EB21 EB23 ED03 ED28 ED29 ED30 ED32 FA01 FA15 FA45 4K053 QA05 QA07 RA04 RA41 RA48 RA52 RA57 RA61 RA64 SA06 SA08 SA18 TA13 TA17 TA19 XA11 YA03 YA05 YA10 ZA10

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）メチルパーフルオロブチルエーテ
   ル、メチルパーフルオロイソブチルエーテルおよびこれ
   らの混合物から選ばれる化合物と（ｂ）両末端基が同一
   の分子構造であるグリコールエーテルジアルキルエーテ
   ル類から選ばれる少なくとも一種以上の化合物を含有す
   ることを特徴とする引火点を抑制した洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 （ｃ）グリコールエーテルモノアルキル
   エーテル類から選ばれる少なくとも一種以上の化合物を
   含有する請求項１記載の洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 （ｄ）グリコールエーテルアセテート類
   およびヒドロキシカルボン酸エステル類からなる群から
   選ばれる一種以上の化合物を含有する請求項１または２
   記載の洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 （ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
   沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
   〜３記載の洗浄剤組成物。
5. 【請求項５】 （ｆ）フェノール系酸化防止剤、アミン
   系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
   および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
   一種以上の化合物とを含有する請求項１〜４記載の洗浄
   剤組成物。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄剤
   組成物で被洗物を洗浄した後、（ｇ）少なくとも１種の
   化合物（ａ）を含有する組成物でリンスおよび／または
   蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法。
7. 【請求項７】 組成物（ｇ）が、添加成分（ｅ）および
   化合物（ｆ）よりなる群から選ばれる少なくとも一種の
   成分または化合物を含有するものである請求項６記載の
   洗浄方法。
8. 【請求項８】 （Ａ）請求項１〜５のいずれかに記載の
   洗浄剤組成物により被洗物を洗浄するための洗浄槽、
   （Ｂ）組成物（ｇ）によりリンスするためのリンス槽、
   引火点を有さない組成物（ｇ）に含有される少なくとも
   一種の成分または化合物の蒸気を発生させるための蒸気
   発生槽、該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄する
   ための蒸気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した後、
   得られた凝縮液から水分を除去するための水分離槽、及
   び水分を除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻す機構
   を有する洗浄装置。
9. 【請求項９】 請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄剤
   組成物を構成する少なくとも一種の成分または化合物の
   蒸気を発生させるための加熱機構を有する請求項８の洗
   浄槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽（Ａ）か
   ら発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、水分
   離槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗浄槽
   （Ａ）に戻す機構を有する洗浄装置。
10. 【請求項１０】 請求項９において、リンス槽（Ｂ）の
    代わりに、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワーリ
    ンスする機構を有する洗浄装置。