JP2001200293A - 安定化された非引火性洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、高い洗浄力
を示し、かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化
を防止しつつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が
高く、しかも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが
全くない洗浄剤とその洗浄剤に適した洗浄方法および洗
浄装置を提供する。 【解決手段】 非塩素系フッ素化合物にグリコールエー
テル類及び酸化防止剤を加え、さらに安定剤等の添加剤
を必要に応じて併用した洗浄剤とその洗浄剤に適した洗
浄方法および洗浄装置を利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に使用される加工油類、グリース
類、ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用さ
れるフラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤とその洗
浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり、溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、ロジンを主成分としたフラック
スでハンダ付け面を予め処理することが通常行われてい
る。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に
基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着さ
せた後、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスと
ハンダの粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性
の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除
去する必要がある。

【０００３】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについても僅かにオ
ゾン層破壊能があるために日本では２０２０年にその使
用が禁止される予定である。

【０００４】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できず、特開平１０−３１６
５９８号公報、特開平１０−３６８９４号公報、特開平
１０−２１２４９８号公報および特開平１０−２５１６
９２号公報等のＨＦＣやＨＦＥに可燃性溶剤を組み合わ
せた洗浄剤の技術が開示されている。

【０００５】しかし、特開平１０−３１６５９８号公報
には環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗
浄剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を
有し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。ま
た、特開平１０−３６８９４号公報、特開平１０−２１
２４９８号公報および特開平１０−２５１６９２号公報
にはＨＦＥとグリコールエーテルの併用についての記載
があるが、このような洗浄剤は、連続的に加熱して洗浄
する場合にはグリコールエーテルの分解或いは酸化によ
り、洗浄剤が劣化したり過酸化物が生成することがあ
り、安全基準を満たさないおそれがある。このため、ヒ
ーター等で洗浄剤を加熱して洗浄する方法に適していな
い。

【０００６】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、酸化
分解等により非常に引火性、燃焼性の高い過酸化物が生
成される等、洗浄剤として使用する上で多くの問題を抱
えているのが現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、あらゆるタ
イプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような
高い洗浄力を示し、かつ、高温下における洗浄や蒸気洗
浄時における酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火性
が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤とその洗
浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置を提供することを
課題とする。

【０００８】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、非塩素系フッ素化合物の引火点を有さな
い特性を生かし、引火点の出現しない洗浄剤を見出すべ
く鋭意検討を重ねた結果、非塩素系フッ素化合物にグリ
コールエーテルと酸化防止剤を加えることにより、酸化
劣化を防止しつつ、あらゆる汚れを洗浄できる事を見出
し、さらに、その洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装
置を見出し、本発明を完成した。

【０００９】すなわち、発明の第一は、（ａ）非塩素系
フッ素化合物、（ｂ）グリコールエーテル類、（ｃ）酸
化防止剤を含有する非引火性洗浄剤である。発明の第二
は、（ｃ）酸化防止剤がフェノール系酸化防止剤、アミ
ン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤およびイオウ系酸化
防止剤の群から選ばれる一種又は二種以上の組み合わせ
を含有する発明の第一に記載の洗浄剤である。発明の第
三は、（ｃ）酸化防止剤がフェノール系酸化防止剤また
はアミン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上とリン
系酸化防止剤またはイオウ系酸化防止剤の群から選ばれ
る一種以上の組み合わせである発明の第一または第二に
記載洗浄剤である。

【００１０】発明の第四は、（ｃ）酸化防止剤の融点が
１２０℃以下である発明の第一〜第三のいずれかに記載
の洗浄剤である。発明の第五は、（ｄ）ベンゾフェノン
類、フェニルサリシレート類及びベンゾトリアゾ−ル類
よりなる紫外線吸収剤の群から選ばれる少なくとも一種
以上を含有する発明の第一〜第四のいずれかに記載の洗
浄剤である。発明の第六は、（ｅ）１．０１３×１０⁵
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有
する発明の第一〜第五のいずれかに記載の洗浄剤であ
る。

【００１１】発明の第七は発明の第一〜六のいずれかに
記載の洗浄剤で被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも
１種の非塩素系フッ素化合物（ａ）からなる組成物でリ
ンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄
方法である。発明の第八は組成物（ｆ）、酸化防止剤
（ｃ）、紫外線吸収剤（ｄ）および添加成分（ｅ）から
なる群から選ばれる少なくとも一種の成分または化合物
を含有するものである発明の第七記載の洗浄方法であ
る。

【００１２】発明の第九は（Ａ）発明の第一〜六のいず
れかに記載の洗浄剤により被洗物を洗浄するための洗浄
槽、（Ｂ）組成物（ｆ）によりリンスするためのリンス
槽、引火点を有さない組成物（ｆ）に含有される少なく
とも一種の成分または化合物の蒸気を発生させるための
蒸気発生槽、該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄
するための蒸気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した
後、得られた凝縮液から水分を除去するための水分離
槽、及び水分を除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻
す機構を有する洗浄装置である。

【００１３】発明の第十は発明の第一〜六のいずれかに
記載の洗浄剤を構成する少なくとも一種の成分または化
合物の蒸気を発生させるための加熱機構を有する発明の
第九の洗浄槽（Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽
（Ａ）から発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾー
ン、水分離槽（Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗
浄槽（Ａ）に戻す機構を有する洗浄装置。発明の第十一
は発明の第十において、リンス槽（Ｂ）の代わりに、該
凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワーリンスする機構
を有する洗浄装置である。以下、本発明を詳細に説明す
る。本明細書において、洗浄とは被洗物に付着している
汚れを次工程に影響のないレベルまで除去することであ
る。また、リンスとは被洗物に付着している汚れ成分を
含む洗浄剤を汚れ成分の含まれない溶剤に置換すること
である。さらに、蒸気洗浄とは被洗物表面にわずかに残
留する汚れ成分を、被洗物と該被洗物が晒されている蒸
気との温度差によって該被洗物表面で凝縮する蒸気成分
からなる液体で除去することである。

【００１４】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）に使用す
る（ａ）非塩素系フッ素化合物とは、炭化水素類やエー
テル類の水素原子の一部がフッ素原子のみで置換され、
塩素原子を含まないフッ素化合物であり、例えば、下記
一般式（１）で特定される環状ＨＦＣ、（２）で特定さ
れる鎖状ＨＦＣ、又は（３）で特定されるＨＦＥの、塩
素原子を含まない、炭素原子、水素原子、酸素原子、フ
ッ素原子からなる化合物、及びこれらの中から選ばれる
２種以上の化合物の組み合わせ等を挙げることができ
る。

【００１５】 Ｃ_nＨ_2n-mＦ_m （１） （式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す） Ｃ_xＨ_2x+2-yＦ_y （２） （式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦１２の整数を示す） Ｃ_sＦ_2s+1ＯＲ （３） （式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）

【００１６】環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，
４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。

【００１７】鎖状ＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフル
オロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタン、１
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、
２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ
−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−パーフル
オロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，４
Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，
２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオ
ロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキサン、２
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロヘキサン等を挙げることができる。 ＨＦＥの具
体例としてはメチルパーフルオロブチルエーテル、メチ
ルパーフルオロイソブチルエーテル、メチルパーフルオ
ロペンチルエーテル、メチルパーフルオロシクロヘキシ
ルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチ
ルパーフルオロイソブチルエーテル、エチルパーフルオ
ロペンチルエーテル等を挙げることができる。

【００１８】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）において
は、これら（ａ）非塩素系フッ素化合物の中から選ばれ
る１種又は２種以上の化合物を組み合わて用いることが
できるが、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エス
テル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤に対する
溶解性が高く地球温暖化係数の低い環状ＨＦＣまたはＨ
ＦＥを挙げることができる。より好ましくは、４Ｈ，５
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチル
エーテルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテル
とエチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物を挙
げることができる。さらに好ましくはメチルパーフルオ
ロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエー
テルおよびその混合物を挙げることができる。

【００１９】本発明の洗浄剤においては、洗浄剤に引火
点を生ぜず、加工油類、グリース類、ワックス類やフラ
ックス類等のあらゆる汚れに対する洗浄力の向上を目的
に（ｂ）グリコールエーテル類から選ばれる化合物の一
種、または二種以上の組み合わせを使用する必要があ
る。例えば、下記一般式（４）で特定されるグリコール
エーテル類を挙げることができる。

【００２０】 （式中、Ｒ¹ は炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル
基又はシクロアルキル基、Ｒ² は水素又は炭素数１〜４
のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ³ 、Ｒ⁴ ,Ｒ⁵ は水
素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜３の整
数を示す）

【００２１】具体的には、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジプロピレン
グリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール、３−
メチル−３−メトキシブタノール等が挙げられる。この
中で特に人体における代謝系で毒性の指摘されているア
ルコキシ酢酸を生成しないジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プ
ロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブ
チルエーテルおよびジプロピレングリコールジメチルエ
ーテル、３−メトキシブタノールおよび３−メチル−３
−メトキシブタノールが好ましい。

【００２２】(b)グリコールエーテル類の蒸気圧は、洗
浄剤が引火点を有さない範囲であれば特に制限はない
が、２０℃、１．０１３×１０⁵ Ｐａにおける蒸気圧
が１．３３×１０³ Ｐａ未満が好ましく、より好まし
くは６．６６×１０² Ｐａ以下であり、さらに１．３３
×１０² Ｐａ以下が好ましい。

【００２３】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）には、
(b)グリコールエーテル類の酸化を防止する目的で,
（ｃ）酸化防止剤を使用する。その具体例及び融点を以
下に示す。フェノール系酸化防止剤としては、１−オキ
シ−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン（１１２
℃）、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール
（２０℃で液体）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール
（３７℃）、ブチルヒドロキシアニソール（５７〜６３
℃）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（６９
〜７１℃）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェ
ノール（４４〜４５℃）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシメチルフェノール（１４１℃）、トリエチ
レングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（７６
〜７９℃）、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］（１０４〜１０８℃）、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート（５０〜５２℃）等の化合物を挙
げることができる。

【００２４】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン（１３０℃）、４−アミノ
−ｐ−ジフェニルアミン（７４℃）、ｐ、ｐ’−ジオク
チルジフェニルアミン（８０〜１００℃）等の化合物を
挙げることができる。リン系酸化防止剤としては、フェ
ニルイソデシルホスファイト（２０℃で液体）、ジフェ
ニルジイソオクチルホスファイト（２０℃で液体）、ジ
フェニルジイソデシルホスファイト（２０℃で液体）、
トリフェニルホスファイト（２０℃で液体）、トリスノ
ニルフェニルホスファイト（２０℃で液体）、ビス
（２，４−ジ−ｔブチルフェニル）ペンタエリストール
ジホスファイト（２０℃で液体）等の化合物を挙げるこ
とができる。

【００２５】イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル
−３、３’−チオジプロピオン酸エステル（３４〜４２
℃）、ジトリデシル−３、３’−チオジプロピオン酸エ
ステル（２０℃で液体）、ジミリスチル−３、３’−チ
オジプロピオン酸エステル（４９〜５５℃）、ジステア
リル−３、３’−チオジプロピオン酸エステル（６３〜
６９℃）等の化合物を挙げることができる。

【００２６】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびイ
オウ系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用する
ことによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制すること
が可能となる。さらに、酸化防止剤の融点は、洗浄した
後被洗物表面に発生するシミを抑制するために１２０℃
以下が好ましく、さらに蒸気洗浄における洗浄温度より
低いことが好ましい。

【００２７】本発明における洗浄剤は、上記成分
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を含有する非引火性洗浄剤であ
る。ここでいう、「非引火性」とは、ＪＩＳ Ｋ ２２６
５等の一般的な引火点評価試験により、洗浄剤に引火点
なしと認められることを意味する。

【００２８】本発明の洗浄剤においては、（ｃ）酸化防
止剤との併用による一層の酸化安定性の向上を目的に
（ｄ）紫外線吸収剤を添加してもよい。その例として
は、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシ−４’−クロロベンゾフェノン、２、２’−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒド
ロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，
４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ドデシル−２−
ヒドロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、フェ
ニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレー
ト、４−オクチルフェニルサリシレート、ビスフェノー
ルＡ−ジ−サリシレート等のフェニルサリシレート類お
よび２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾ−ル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス
（α、α’−ジジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−
ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）
ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げる
ことができる。

【００２９】本発明の洗浄剤には、（ｅ）１．０１３×
１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃で、成分
（ａ）及び成分（ｂ）とは異なる化合物である、添加成
分を洗浄力向上補助剤、安定剤及び融点降下剤等として
使用できる。（ｅ）添加成分を以下、溶剤の種類ごとに
例示する。炭化水素類としては、ｎ−ヘキサン、イソヘ
キサン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、２−メチル
ペンタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２
−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメ
チルペンタン、イソオクタン等が挙げられる。

【００３０】アルコール類としてはメタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等を挙げる
ことができる。ケトン類としてはアセトン，メチルエチ
ルケトンを挙げることができる。エステル類としてはギ
酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル等を挙げることができる。

【００３１】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）において
は、これら（ｅ）添加成分の中から選ばれる１種又は２
種以上の化合物を組み合わせて用いることができる。
（ｅ）添加成分は沸点が２０℃〜１００℃であり、か
つ、使用中の組成変動を少なくするために、併用する
（ａ）非塩素系フッ素化合物の沸点の±３０℃の範囲に
入ることが好ましく、さらに好ましくは±４０℃であ
る。また、（ｅ）添加成分は、併用する（ａ）非塩素系
フッ素化合物と共沸組成物あるいはそれに近似する組成
の共沸様組成物であることが好ましい。

【００３２】本発明の洗浄剤は、上述した（ａ）〜
（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化して得られ
る。各成分の重量割合については、本発明の洗浄剤の特
徴である、高洗浄性、低酸化劣化性、低毒性、低引火性
が損なわれない範囲であれば、特に制限はないが、
（ａ）非塩素系フッ素化合物と（ｂ）グリコールエーテ
ル類の重量割合の範囲が９５／５〜２０／８０であるこ
とがより好ましい。成分（ｂ）の重量割合が５より大き
いときに、各種汚れに対するより好ましい溶解力改善効
果が得られ、８０より小さいときにより好ましい低引火
性を達成できる。洗浄剤の洗浄性と低引火性のバランス
を考慮した、さらに好ましい成分（ａ）と（ｂ）の重量
割合の範囲は９０／１０〜５０／５０であり、いっそう
好ましくは８０／２０〜６０／４０である。（ｃ）酸化
防止剤および（ｄ）紫外線吸収剤の洗浄剤への添加量は
｛（ａ）＋（ｂ）｝に対して、好ましくは１〜１０００
ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。

【００３３】洗浄剤に（ｅ）添加成分を添加する場合に
は｛（ａ）＋（ｂ）｝／（ｅ）の重量割合の範囲が９０
／１０〜９９．９／０．１であることがより好ましい。
成分（ｅ）の重量割合が１０よい小さいときにより好ま
しい低引火性を達成でき、０．１より大きいときに洗浄
力向上補助剤、安定剤、融点降下剤としてのより好まし
い効果が得られる。さらに好ましい重量割合の範囲は９
３／７〜９９／１である。

【００３４】また、組成物（ｆ）は上述した成分（ａ）
単独、または（ａ）、（ｄ）及び（ｅ）の各成分を定法
に従って混合し均一化して得られる。組成物（ｆ）にお
いて、成分（ａ）に成分（ｄ）を添加する場合には
（ａ）／（ｄ）の重量割合の範囲が９０／１０〜９９．
９／０．１あることがより好ましい。（ｄ）の重量割合
が１０よい小さいときにより好ましい低引火性を達成で
き、０．１より大きいときに安定剤、融点降下剤として
のより好ましい効果が得られる。さらに好ましい重量割
合の範囲は９３／７〜９９／１である。

【００３５】組成物（ｆ）において成分（ｅ）を添加す
る場合には｛（ａ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００
ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。
本発明の洗浄剤および組成物（ｆ）には、必要に応じて
各種助剤、例えば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必
要に応じて添加しても良い。本発明の洗浄剤及び組成物
（ｆ）の融点は１５℃以下が好ましいが、冬期使用する
ことも考慮すると１０℃以下がより好ましく，さらに好
ましくは５℃以下である。本発明の洗浄剤及び組成物
（ｆ）には、必要に応じて各種助剤、例えば，界面活性
剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて添加しても良い。

【００３６】以下に本発明の洗浄剤に添加できる添加剤
の具体例を例示する。界面活性剤としては、アニオン系
界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活
性剤及び両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系
界面活性剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属、アルカノー
ルアミンおよびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界
面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられ
る。ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノー
ル、炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコ
ールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサ
イドポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が
挙げられる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、ア
ミノ酸型等が挙げられる。

【００３７】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００３８】本発明の洗浄剤及び組成物（ｆ）は、以下
に示す洗浄方法及び洗浄装置を利用することによって、
最も効果的な洗浄を行うことができる。本発明の洗浄方
法は、被洗物に付着したあらゆるタイプの汚れを（ａ）
非塩素系フッ素化合物に（ｂ）グリコールエーテル類と
（ｃ）酸化防止剤を含有し、必要に応じて（ｄ）紫外線
吸収剤や（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が
２０℃〜１００℃の添加成分を添加することによって、
優れた洗浄性を示し、かつ、引火点を有さない洗浄剤で
洗浄したのち、引火点を有さない組成物（ｆ）で被洗物
をリンスおよび／または蒸気洗浄することを特徴として
いる。

【００３９】組成物（ｆ）は少なくとも１種の成分(ａ)
を含有する組成であれば、いかなる組成でもの組成よい
が、は必要に応じて組成を使い分けることができ、例え
ば、被洗物表面での洗浄剤成分の残留やシミの抑制を重
視する場合には揮発性の高い成分（ａ）のみからなる組
成が好ましく、イオン性残渣洗浄性を重視する場合には
成分（ａ）に（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸
点が２０℃〜１００℃の添加成分を添加することが好ま
しい。洗浄工程及びリンス工程には洗浄性、リンス性を
向上することを目的とした手拭き、浸漬、スプレー、シ
ャワー等の物理的な方法を組み合わせることにより、効
果的な洗浄が可能となる。本発明の洗浄方法は本発明の
洗浄剤を使用する上で、洗浄性及び乾燥性に優れ、被洗
物の材質に対する影響も少なく、最も適した洗浄方法と
言える。

【００４０】本発明の洗浄方法を実施する装置として
は、これまでトリクロロエタン，ＣＦＣ１１３等の塩素
系洗浄剤で使用されていた３槽式洗浄機等の一般的な洗
浄機であれば使用することが可能であり、洗浄装置を限
定するものではないが、具体的な洗浄装置の事例とし
て、図１に示した本発明の第九に記載の洗浄装置、図２
に示した本発明の第十に記載の洗浄装置および図３に示
した本発明の第十一に記載の洗浄装置を挙げることがで
きる。

【００４１】以下に本発明の洗浄方法及び洗浄装置を添
付図面によって具体的に説明する。図１に示す洗浄装置
は、主な構造として洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１、組
成物（ｆ）を入れるリンス槽（Ｂ）２及び蒸気発生槽
３、組成物（ｆ）の蒸気に満たされる蒸気ゾーン４、蒸
発した組成物（ｆ）を冷却管９によって凝縮し、凝縮し
た液と冷却管に付着した水とを静置分離するための水分
離槽（Ｃ）５からなる。実際の洗浄においては被洗物を
専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を洗浄槽
（Ａ）１、リンス槽（Ｂ）２、蒸気ゾーン４の順に通過
させながら洗浄を完了させる。

【００４２】洗浄槽（Ａ）１では、本発明の洗浄剤をヒ
ーター７で加熱昇温し、一定温度にコントロールしなが
ら被洗物に付着した汚れを超音波振動子８により発生し
たキャビテーションで洗浄除去する。この時，物理的な
力としては超音波以外に揺動や洗浄剤の液中噴流等のこ
れまでの洗浄機に採用されているいかなる方法を使用し
ても良い。本洗浄装置においては被洗物を洗浄槽（Ａ）
１からリンス槽（Ｂ）２に移動する時、洗浄剤成分が被
洗物表面に付着していることにより、被洗物表面での乾
燥による汚れ成分の固着を防止しつつ、リンス槽（Ｂ）
２へ移動することが可能となる。

【００４３】リンス槽（Ｂ）２では、被洗物に付着して
いる洗浄剤中に溶解している汚れ成分を本発明の組成物
（ｆ）で除去する。組成物（ｆ）は、リンス槽（Ｂ）２
からオーバーフロー配管１１、１６、１２を通って蒸気
発生槽３に入り、蒸気発生槽３のヒーター６で加熱沸騰
され、その組成の一部または全部が蒸気となって矢印１
３のように冷却管９で凝縮された後、配管１４から水分
離槽（Ｃ）５に集まり水と分離された上で、配管１５を
通ってリンス槽（Ｂ）２に戻る。

【００４４】この組成物（ｆ）を洗浄装置内で液体や気
体に状態変化させながら循環することによって、リンス
槽（Ｂ）２に持ち込まれた洗浄剤成分や汚れ成分を連続
的に蒸気発生槽３に蓄積し，リンス槽（Ｂ）２の清浄度
の維持や蒸気ゾーン４における蒸気洗浄が可能となる。
蒸気発生槽３で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン４
で行う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮することに
よりできた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄
工程最後の仕上げ洗浄として有効である。さらに、洗浄
効果を高めるためには、リンス槽（Ｂ）２の冷却管１０
で組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、浸漬する被洗物温
度を低く抑制することによって，蒸気温度との温度差を
広げ凝縮量を増やすことが効果的である。

【００４５】本発明の洗浄装置では、洗浄剤と組成物
（ｆ）の２種類の液を使用するために独立した浸漬槽構
造となっているが、各槽上部の空間を蒸気ゾーンとして
共通に使用することにより，洗浄剤からの非塩素系フッ
素化合物の蒸発ロスを抑制し、結果として洗浄剤の組成
変動を減少し、長期連続使用することが可能となる。

【００４６】次に図２に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）１７、組成物（ｆ）を入
れるリンス槽（Ｂ）１８、洗浄剤の蒸気に満たされる蒸
気ゾーン（Ｄ）１９、蒸発した洗浄剤を冷却管２３によ
って凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した水とを静置
分離するための水分離槽（Ｃ）２０からなる。実際の洗
浄においては被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗
浄装置内を洗浄槽（Ａ）１７、リンス槽（Ｂ）１８、蒸
気ゾーン（Ｄ）１９の順に通過させながら洗浄を完了さ
せる。リンス槽数については精密洗浄等の高い清浄度が
求められる場合には必要に応じて２槽以上に増やしても
良い。

【００４７】洗浄槽（Ａ）１７では、本発明の洗浄剤を
ヒーター２１で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であればいかなる方法を使用しても良い。
本洗浄装置では、被洗物を洗浄槽（Ａ）１７からリンス
槽（Ｂ）１８に移動する時、洗浄剤成分が被洗物表面に
付着することにより、被洗物表面での乾燥による汚れ成
分の固着を防止しつつ，リンス槽（Ｂ）１８へ移動する
ことが可能となる。

【００４８】リンス槽（Ｂ）１８では、本発明の組成物
（ｆ）で被洗物に付着している洗浄剤中に溶解している
汚れ成分を除去する。洗浄剤は、洗浄槽（Ａ）１７のヒ
ーター２１で加熱沸騰され、その組成の一部または全部
が蒸気となって矢印２５のように蒸気ゾーン（Ｄ）１９
を満たした後、冷却管２３で凝縮された後、配管２６か
ら水分離槽（Ｃ）２０に集まり水と分離された上で、配
管２７を通って、一旦リンス槽（Ｂ）１８に戻された
後、該リンス槽（Ｂ）１８からオーバーフローして矢印
２８のように最終的に洗浄槽（Ａ）１７に戻される。

【００４９】このように図２に示す洗浄装置は図１に示
した洗浄装置と異なり、洗浄剤と組成物（ｆ）が洗浄槽
（Ａ）１７において混合することを特徴とし、洗浄剤と
組成物（ｆ）に含まれる（ａ）非塩素系フッ素化合物と
（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜
１００℃の添加成分は同一成分とすることが好ましい。
この洗浄剤と組成物（ｆ）に含まれる（ａ）非塩素系フ
ッ素化合物と（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸
点が２０℃〜１００℃の添加成分を洗浄装置内で循環さ
せ、且つ、リンス槽（Ｂ）１８内の組成物の一部を洗浄
槽（Ａ）１７にオーバーフローさせることによって、蒸
気ゾーン（Ｄ）１９における蒸気洗浄が可能となるのみ
ならず、被洗物によりリンス槽（Ｂ）１８に持ち込まれ
た洗浄剤中の（ｂ）グリコールエーテル類、（ｃ）酸化
防止剤及び（ｄ）ベンゾフェノン類、フェニルサリシレ
ート類及びベンゾトリアゾ−ル類よりなる群から選ばれ
る少なくとも一種以上の紫外線吸収剤を連続的に洗浄槽
（Ａ）１７に戻すことが可能となり、洗浄槽（Ａ）１７
内の洗浄剤、及びリンス槽（Ｂ）１８内の組成物（ｆ）
の組成を一定に保つことができる。 洗浄槽（Ａ）１７
で発生した蒸気に満たされた蒸気ゾーン（Ｄ）１９で行
う蒸気洗浄は、被洗物表面で蒸気が凝縮したことにより
できた液中に汚れ成分が全く含まれないので、洗浄工程
最後の仕上げ洗浄として有効である。さらに、洗浄効果
を高めるためには、リンス槽（Ｂ）１８の冷却管２４で
組成物（ｆ）の温度を低温に保ち、被洗物温度を低くす
ることによって、蒸気温度との温度差を広げ凝縮量を増
やすことが効果的である。

【００５０】次に図３に示す洗浄装置は、主な構造とし
て洗浄液を入れる洗浄槽（Ａ）２９、洗浄剤の蒸気に満
たされる蒸気ゾーン（Ｄ）３０、蒸発した洗浄剤を冷却
管３４によって凝縮し、凝縮した液と冷却管に付着した
水とを静置分離するための水分離槽（Ｃ）３１，水分離
槽（Ｃ）３１で静置分離された凝縮液をシャワーリンス
するためのポンプ３３とからなる。実際の洗浄において
は被洗物を専用のジグやカゴ等に入れて、洗浄装置内を
洗浄槽（Ａ）２９、蒸気ゾーン（Ｄ）３０の順に通過さ
せながら洗浄を完了させる。

【００５１】洗浄槽（Ａ）２９では、本発明の洗浄剤を
ヒーター３２で加熱し、沸騰状態で被洗物に付着した汚
れを洗浄除去する。この時，物理的な力としては揺動や
洗浄剤の液中噴流等のこれまでの洗浄機に採用されてい
る物理的な力であれば、いかなる方法を使用しても良
い。蒸気ゾーン（Ｄ）３０では、主に本発明の洗浄剤に
含まれる（ａ）非塩素系フッ素化合物や（ｅ）１．０１
３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の添加
成分等の蒸気圧の高い成分の蒸気を冷却管３４で凝縮さ
せ水分離槽（Ｃ）３１に集めた後、これら凝縮液をポン
プ３３で配管３８、３９に送液し、シャワーノズル４
０，４１から被洗物にシャワーすることによって，被洗
物に付着している洗浄剤中に溶解している汚れ成分を除
去する。凝縮液は、水分離槽（Ｃ）３１に集められた
後、配管３７およびポンプ３３から洗浄槽（Ａ）２９に
入りヒーター３２で加熱沸騰され、その組成の一部また
は全部が蒸気となって矢印３５のように冷却管３４で凝
縮された後、配管３６から水分離槽（Ｃ）３１に戻る。

【００５２】洗浄槽（Ａ）２９で発生した蒸気に満たさ
れた蒸気ゾーン（Ｄ）３０で行う蒸気洗浄は、被洗物表
面で蒸気が凝縮することによりできた液中に汚れ成分が
全く含まれないので、洗浄工程最後の仕上げ洗浄として
有効である。本発明の洗浄装置では、洗浄剤に含まれる
（ａ）非塩素系フッ素化合物や（ｅ）１．０１３×１０
⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃等の蒸気圧の高
い成分が主に洗浄装置内で液体や気体に状態変化させな
がら循環することによって、被洗物に付着しているわず
かに残留している可能性の有る汚れ成分を組成物（ｆ）
及びリンス槽（Ｂ）を使用せずにリンス及び蒸気洗浄が
可能である。

【００５３】前記図１〜３に示した各洗浄装置はその目
的や用途によって使い分けることができ、高清浄度が求
められるような精密洗浄等では、洗浄槽（Ａ）およびリ
ンス槽（Ｂ）を1槽または２槽以上にした洗浄装置がよ
り好ましい。

【００５４】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 ［実施例１〜１１及び比較例１〜４］ （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり

【００５５】（２）融点測定 サンプルビンに洗浄剤５ｍｌを入れ、１５℃にコントロ
ールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目視評価
した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００５６】（３）油溶解性試験 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２０ｍｍ）
に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分加熱し
サンプルとした。これを洗浄剤１０ｍｌで２分間揺動洗
浄（２００回／分）し、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオ
ロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン
（株）製）ですすぎ乾燥後、溶解性を目視評価する。評
価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：わずかに加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ダフニーマスタードロー５３
３ＷＤ（商品名、出光興光（株）製）を２５重量％含有
する液を調整し、試験用金属加工油とした。

【００５７】（４）フラックス溶解性試験 ガラスエポキシ製プリント基板をフラックスに片面浸漬
し風乾した後、２５０℃でハンダ付けして作成した試験
片を４０℃の洗浄剤５０ｍｌで２分間揺動洗浄（２００
回／分）する。溶解性はフラックスの残存状態を目視評
価する。評価は以下の基準による。 ○：フラックスの残留なし ×：フラックスの残留あり 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００５８】（５）酸化安定性試験 洗浄剤サンプル０．２Ｌを還流冷却器および酸素導入管
を備えた０．５Ｌ硬質ガラス製三角フラスコに入れる。
これに、よく磨き十分に洗浄後乾燥した軟鋼片（ＪＩＳ
−Ｇ−３１４１ＳＰＣＣ−Ｂ、２ｍｍ×６ｍｍ×２０ｍ
ｍ）１個をサンプル液中に浸し、他の軟鋼片（ＪＩＳ−
Ｇ−３１４１ＳＰＣＣ−Ｂ、２ｍｍ×６ｍｍ×２ｍｍ）
１個を酸素導入管に結び付け、サンプル液面上部の蒸気
相につるす。酸素導入管の先端は、サンプル液面下、三
角フラスコの底部から６ｍｍ以内に位置するように調節
し、水分を飽和させた常温の酸素気泡を毎分１０〜１２
個の割合で通じながら１５０ｗのつや消し電球で三角フ
ラスコ全体を加熱し、サンプル液蒸気が還流冷却管の半
分以下での高さの位置で凝縮するように冷却水の流量を
調節する。試験を１０日間続けた後サンプル液を室温ま
で冷却し、軟鋼片を２個とも取り出した後、サンプル液
のｐＨを次の方法により測定した。

【００５９】ｐＨ：サンプル液５ｍｌに蒸留水５０ｍｌ
を加えて約３分間激しく揺動し、水相のｐＨを測定す
る。評価は以下の基準による。 ○：ｐＨ５以上〜８以下 ×：ｐＨ１以上〜５未満

【００６０】

【実施例１〜１１】表１および２に記載の組成で各成分
を混合し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評
価試験を行ない、結果を表１および２にまとめた。
（ａ）非塩素系フッ素化合物、（ｂ）グリコールエーテ
ルおよび（ｃ）酸化防止剤の成分により引火点を消去
し、酸化分解を抑制した上で、油およびフラックス溶解
性に優れた洗浄剤が得られ、さらに、フェノール系酸化
防止剤とリン系酸化防止剤の併用およびフェノール系酸
化防止剤と（ｄ）紫外線吸収剤の併用により、（ｃ）酸
化防止剤の添加量を削減できることが確認された。ま
た、（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０
℃〜１００℃の添加成分を加えることにより,成分
（ｂ）の添加量を抑制した上で、洗浄性および融点降下
性を改善できた。

【００６１】

【比較例１、２】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。４Ｈ，５
Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチル
エーテルの混合物では油およびフラックス溶解性が不充
分であった。

【００６２】

【比較例３、４】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ
素化合物と（ｂ）グリコールエーテルだけでは酸化分解
した。

【００６３】［実施例１２〜１３及び比較例５］ （６）実機洗浄試験１ 図１に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１に所定の組成の洗
浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）２、蒸気発生槽３および水
分離槽（Ｃ）５に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重
合ロジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因とな
る汚れ及び加工油に対する洗浄性について、以下の操作
及び洗浄条件により測定した。

【００６４】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」する。評価
は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００６５】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２０ｍｍ）
に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱
して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組
成物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄
性は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００６６】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１ ：４０℃、２分間超音波洗浄（出力：
１１０ｗ、周波数：２８ｋＨｚ） リンス槽（Ｂ）２：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回／
分） 蒸気ゾーン４ ：２分間静置

【００６７】

【実施例１２、１３】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合物、
（ｂ）グリコールエーテル類および（ｃ）酸化防止剤を
含有する引火点を有さない洗浄剤と（ａ）非塩素系フッ
素化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）で洗浄す
ることにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄が
確認された。また、組成物（ｆ）に（ｅ）１．０１３×
１０ ⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分を添
加することによって、イオン性残渣量が低減された。

【００６８】

【比較例５】表３に記載の洗浄剤および組成物（ｆ）に
ついて実施例１２，１３と同じ評価試験を行った。結果
を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいず
れも不充分であった。

【００６９】［実施例１４〜１５及び比較例６］ （７）実機洗浄試験２ 図２に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）１７に所定の組成の
洗浄剤を入れ、リンス槽（Ｂ）１８および水分離槽
（Ｃ）２０に所定の組成の組成物（ｆ）を入れ、重合ロ
ジン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚
れおよび加工油に対する洗浄性について、以下の操作及
び洗浄条件により測定した。

【００７０】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、組成物（ｆ）でリンスした後、蒸気洗浄して乾燥す
る。洗浄性はイオン性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑ
ｉｎ）をオメガメーター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメ
タルズ社製）で測定し、その測定値を「β」とする。評
価は以下の基準による。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７１】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２０ｍｍ）
に下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱
して作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、組
成物（ｆ）でリンスした後蒸気洗浄して乾燥する。洗浄
性は目視評価する。評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７２】 洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 リンス槽（Ｂ）１８ ：１５℃、２分間浸漬揺動（２０回／分） 蒸気ゾーン（Ｄ）１９ ：２分間静置

【００７３】

【実施例１４、１５】表３に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤および組成物（ｆ）を得た。洗浄剤お
よび組成物（ｆ）を用いて上記評価試験を行ない、結果
を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合物、
（ｂ）グリコールエーテルおよび（ｃ）酸化防止剤を含
有する引火点を有さない洗浄剤、（ａ）非塩素系フッ素
化合物単独で引火点を有さない組成物（ｆ）および該洗
浄剤を沸騰することによって発生する蒸気および凝縮液
で洗浄することにより、フラックス及び油に対する優れ
た洗浄性が確認された。また、組成物（ｆ）に（ｅ）
１．０１３×１０⁵Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００
℃の成分を添加することによって、イオン性残渣量が低
減された。

【００７４】

【比較例６】表３に記載の洗浄剤および組成物（ｆ）に
ついて実施例１４，１５と同じ評価試験を行った。結果
を表３にまとめた。成分（ａ）メチルパーフルオロブチ
ルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの
混合物だけではフラックス及び油に対する洗浄性がいず
れも不充分であった。

【００７５】［実施例１６及び比較例７］ （８）実機洗浄試験３ 図３に示す洗浄装置の洗浄槽（Ａ）２９及び水分離槽
（Ｃ）３１に所定の組成の洗浄剤を入れ、洗浄槽（Ａ）
の洗浄剤をヒーター３２により加熱沸騰させ、１時間空
運転を行い水分離槽（Ｃ）３１の洗浄剤に含まれる成分
（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）および成分（ｄ）の中
で蒸気圧の低い成分の濃度を低下させた上で、重合ロジ
ン、およびロジン金属塩等、白色残渣の原因となる汚れ
および加工油に対する洗浄性について、以下の操作及び
洗浄条件により測定した。

【００７６】操作 ・フラックス洗浄性評価 ガラスエポキシ製プリント基板（３５ｍｍ×４８ｍｍ）
をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃でハン
ダ付けして作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄
し、該洗浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液で
リンスした後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性はイオン
性残渣（単位：μｇＮａＣｌ／ｓｑｉｎ）をオメガメー
ター（６００Ｒ−ＳＣ、アルファメタルズ社製）で測定
し、その測定値を「β」とする。評価は以下の基準によ
る。 ◎：β≦７ ○：７＜β≦１４ ×：β＞１４ 試験に用いたフラックスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００７７】・脱脂洗浄性評価 ３０メッシュのステンレス金網（１０ｍｍ×２ｍｍ）に
下記金属加工油を含浸させ、１００℃で３０分間加熱し
て作成した試験片を上記洗浄装置を用いて洗浄し、該洗
浄剤を沸騰することによって発生する凝縮液でリンスし
た後、蒸気洗浄して乾燥する。洗浄性は目視評価する。
評価は以下の基準による。 ○：加工油の残留なし △：一部に加工油の残留あり ×：加工油の残留あり 試験に用いた金属加工油：パークロロエチレン中に染料
（ズダン）０．１重量％、ユニカットＧＨ３５（商品
名、日本石油（株）製）を２５重量％含有する液を調整
し、試験用金属加工油とした。

【００７８】洗浄条件 洗浄槽（Ａ）１７ ：２分間沸騰洗浄 蒸気ゾーン（Ｄ）１９：２分間シャワーリンス（５Ｌ／
分）後，２分間静置

【００７９】

【実施例１６】表３に記載の組成で各成分を混合し、目
的の洗浄剤を得た。洗浄剤を用いて上記評価試験を行な
い、結果を表３にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化合
物、（ｂ）グリコールエーテルおよび（ｃ）酸化防止剤
を含有する引火点を有さない洗浄剤と該洗浄剤を沸騰す
ることによって発生する蒸気および凝縮液で洗浄するこ
とにより、フラックス及び油に対する優れた洗浄性が確
認された。また、該洗浄剤を沸騰することによって発生
する蒸気および凝縮液中には成分（ｂ）および成分
（ｃ）をほとんど含まず、該凝縮液でシャワーリンスす
ることによって充分なリンス性が得られた。

【００８０】

【比較例７】表３に記載の洗浄剤について実施例１６と
同じ評価試験を行った。結果を表３にまとめた。成分
（ａ）メチルパーフルオロブチルエーテルとメチルパー
フルオロイソブチルエーテルの混合物だけではフラック
ス及び油に対する洗浄性がいずれも不充分であった。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【表２】

【００８３】

【表３】

【００８４】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた油およびフラ
ックス溶解性を有するとともに、酸化分解を抑制でき、
かつ引火点がなく安全である。すなわち、引火点を有さ
ないものの、加工油やフラックス等の汚れに対する溶解
性に劣る（ａ）非塩素系フッ素化合物単体に、（ｂ）グ
リコールエーテルと酸化防止剤を併用することによっ
て、引火点を有さないという非塩素系フッ素化合物の特
性をそのままに、連続した加温洗浄や蒸気洗浄時におけ
るグリコールエーテルの酸化劣化を防止し、各種汚れに
対する優れた洗浄性を有する洗浄剤を提供できる。洗浄
剤が引火点を有さないので、引火の危険性が低減され、
洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防ぐための防爆構造
とする必要がなく、かつ、既存の洗浄設備をそのまま使
用できるため低コストの洗浄システムを確立することが
可能となる。また、（ｃ）フェノール系、アミン系、リ
ン系及びイオウ系酸化防止剤により、優れた洗浄剤安定
性が得られ、さらに（ｄ）紫外線吸収剤を併用すること
によって個々の添加では到底得ることのできない高度の
洗浄剤安定性を得られる。これらの相乗効果ゆえに少量
の添加剤量で十分な洗浄剤安定性が得られる。

【００８５】さらに（ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにお
いて沸点が２０℃〜１００℃の添加成分により、洗浄性
の改善、蒸気洗浄時の気相での金属安定性の向上及び洗
浄剤の凝固防止等が可能となる。本発明の組成物とその
洗浄剤に適した洗浄方法および洗浄装置によれば、酸化
分解及び引火の危険を全く心配せずにあらゆるタイプの
汚れを容易に被洗物表面から溶解洗浄する事ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図２】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【図３】本発明の洗浄剤および洗浄方法を利用した洗浄
装置の一例である。

【符号の説明】

１ 洗浄槽（Ａ） ２ リンス槽（Ｂ） ３ 蒸気発生槽 ４ 蒸気ゾーン ５ 水分離槽（Ｃ） ６ ヒーター ７ ヒーター ８ 超音波振動子 ９ 冷却管 １０冷却管 １１オーバーフロー配管 １２オーバーフロー配管 １３蒸気の流れ １４凝縮液用配管 １５水分離後の凝縮液用配管 １６オーバーフロー液用配管 １７洗浄槽（Ａ） １８リンス槽（Ｂ） １９蒸気ゾーン（Ｄ） ２０水分離槽（Ｃ） ２１ヒーター ２２超音波振動子 ２３冷却管 ２４冷却管 ２５蒸気の流れ ２６凝縮液用配管 ２７水分離後の凝縮液用配管 ２８組成物（ｆ）の流れ ２９洗浄槽（Ａ） ３０蒸気ゾーン（Ｄ） ３１水分離槽（Ｃ） ３２ヒーター ３３ポンプ ３４冷却管 ３５蒸気の流れ ３６凝縮液用配管 ３７水分離後の凝縮液配管 ３８シャワー用の凝縮液配管 ３９シャワー用の凝縮液配管 ４０シャワーノズル ４１シャワーノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 7/32 Ｃ１１Ｄ 7/32 7/34 7/34 7/36 7/36 17/08 17/08 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｈ０５Ｋ 3/26 Ｅ Ａ Ｆターム(参考） 3B201 AA46 AB01 AB45 BB04 BB05 BB13 BB21 BB82 BB85 BB92 BB95 CB01 CC01 CC11 CC21 CD22 4H003 DA14 DA15 DA16 EB04 EB09 EB12 EB13 EB21 EB23 ED26 ED28 ED29 ED30 FA01 FA03 FA45 5E343 CC22 CC24 CC26 CC50 CC54 EE02 EE08 EE10 EE18 EE20 FF23 GG20

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）非塩素系フッ素化合物、（ｂ）グ
   リコールエーテル類、（ｃ）酸化防止剤を含有する非引
   火性洗浄剤。
2. 【請求項２】 （ｃ）酸化防止剤がフェノール系酸化防
   止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びイオ
   ウ系酸化防止剤の群から選ばれる一種又は二種以上の組
   み合わせである請求項１記載の洗浄剤。
3. 【請求項３】 （ｃ）酸化防止剤がフェノール系酸化防
   止剤またはアミン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以
   上とリン系酸化防止剤またはイオウ系酸化防止剤の群か
   ら選ばれる一種以上の組み合わせである請求項１または
   ２記載の洗浄剤。
4. 【請求項４】 （ｃ）酸化防止剤の融点が１２０℃以下
   である請求項１〜３記載の洗浄剤。
5. 【請求項５】 （ｄ）ベンゾフェノン類、フェニルサリ
   シレート類及びベンゾトリアゾ−ル類よりなる群から選
   ばれる少なくとも一種以上の紫外線吸収剤を含有する請
   求項１〜４記載の洗浄剤。
6. 【請求項６】 （ｅ）１．０１３×１０⁵Ｐａにおける
   沸点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１
   〜５記載の洗浄剤。
7. 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤で
   被洗物を洗浄した後、（ｆ）少なくとも１種の（ａ）非
   塩素系フッ素化合物を含有する組成物でリンスおよび／
   または蒸気洗浄することを特徴とする洗浄方法。
8. 【請求項８】 組成物（ｆ）が、酸化防止剤（ｃ）、紫
   外線吸収剤（ｄ）および添加成分（ｅ）よりなる群から
   選ばれる少なくとも一種の成分または化合物を含有する
   ものである請求項８記載の洗浄方法。
9. 【請求項９】 （Ａ）請求項１〜６のいずれかに記載の
   洗浄剤により被洗物を洗浄するための洗浄槽、（Ｂ）組
   成物（ｆ）によりリンスするためのリンス槽、引火点を
   有さない組成物（ｆ）に含有される少なくとも一種の成
   分または化合物の蒸気を発生させるための蒸気発生槽、
   該蒸気発生槽から発生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸
   気ゾーン、（Ｃ）発生した蒸気を凝縮した後、得られた
   凝縮液から水分を除去するための水分離槽、及び水分を
   除去された凝縮液をリンス槽（Ｂ）に戻す機構を有する
   洗浄装置。
10. 【請求項１０】 請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄
    剤を構成する少なくとも一種の成分または化合物の蒸気
    を発生させるための加熱機構を有する請求項９の洗浄槽
    （Ａ）、リンス槽（Ｂ）、（Ｄ）該洗浄槽（Ａ）から発
    生した蒸気で蒸気洗浄するための蒸気ゾーン、水分離槽
    （Ｃ）及び水分を除去された凝縮液を該洗浄槽（Ａ）に
    戻す機構を有する洗浄装置。
11. 【請求項１１】 請求項１０において、リンス槽（Ｂ）
    の代わりに、該凝縮液を蒸気ゾーン（Ｄ）内でシャワー
    リンスする機構を有する洗浄装置。