JP2001172685A - 非引火性の洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２
２５に匹敵する高い洗浄力を示し、かつ、高温下におけ
る酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火性が低く、オ
ゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供する。 【解決手段】 非塩素系フッ素化合物にグリコールエー
テルアセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル
類からなる群から選ばれる一種以上の化合物を加え、さ
らに一種類のグリコールエーテル化合物を単独添加、ま
たはグリコールエーテルモノアルキルエーテル類とグリ
コールエーテルジアルキルエーテル類を併用添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、
ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用される
フラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり，溶剤による除去が一般的に
行われている。

【０００３】また、電子回路の接合方法としてはハンダ
付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべき
金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ濡
れ性の改良の目的で、ロジンを主成分としたフラックス
でハンダ付け面を予め処理することが通常行われてい
る。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に
基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着さ
せた後、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスと
ハンダの粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ
付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、
いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性
の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除
去する必要がある。

【０００４】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン（以下ＣＦＣ１１３という）やＣＦＣ１１３
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、ＣＦＣ１１３はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では１９９５年末にその生産が
全廃された。このＣＦＣ１１３の代替品として、３，３
−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロ
パンと１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタ
フルオロプロパンの混合物（以下ＨＣＦＣ２２５とい
う）や１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン（以下Ｈ
ＣＦＣ１４１ｂという）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについても僅かにオ
ゾン層破壊能があるために日本では２０２０年にその使
用が禁止される予定である。

【０００５】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類（以下ＨＦＣという）やハ
イドロフルオロエーテル類（以下ＨＦＥという）等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できず、特開平１０−３１６
５９８号公報、特開平１０−３６８９４号公報、特開平
１０−２１２４９８号公報および特開平１０−２５１６
９２号公報等のＨＦＣやＨＦＥに可燃性溶剤を組み合わ
せた洗浄剤の技術が開示されている。

【０００６】また、特開平１０−３１６５９８号公報に
は環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗浄
剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を有
し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。また、
特開平１０−３６８９４号公報、特開平１０−２１２４
９８号公報および特開平１０−２５１６９２号公報には
ＨＦＣやＨＦＥと二塩基酸エステルやグリコールエーテ
ル類の併用についての記載がある。しかし、例えば，フ
ラックス洗浄剤としては、フラックス成分であるロジン
やイオン性残渣の原因となるアミンの塩酸塩や有機酸等
の汚れおよびハンダ付け工程によって生成され、白色残
渣の原因となる重合ロジンやロジンの金属塩等の汚れの
全てを洗浄する必要があるが、前記洗浄剤では二塩基酸
エステルやグリコールエーテル類を単独で使用していた
り、グリコールエーテル類を併用していてもグリコール
エーテルモノアルキルエーテル類の併用やグリコールエ
ーテルジアルキルエーテル類の併用であるために、全て
の汚れを充分に洗浄することができない。

【０００７】以上のごとく、ＣＦＣ１１３の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄が可能で
あってもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁止
されていたり、引火の危険性があるために洗浄機等の設
備を防爆構造とするのに設備コストが上昇したり、洗浄
剤としての洗浄力が不足している等、洗浄剤として使用
する上で多くの問題を抱えているのが現状である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹
敵するような高い洗浄力を示し、かつ、蒸気洗浄時等の
高温下における酸化劣化を防止しつつ、低毒性で、引火
性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供
することを課題とする。

【０００９】

【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、非塩素系フッ素化合物の引火点を有さな
い特性を生かし、引火点の出現しない洗浄剤を見出すべ
く鋭意検討を重ねた結果、非塩素系フッ素化合物にグリ
コールエーテルアセテート類およびヒドロキシカルボン
酸エステル類からなる群から選ばれる一種以上の化合物
を加えることにより、あらゆる汚れを洗浄できる事を見
出し、さらに一種類のグリコールエーテル化合物による
単独添加、またはグリコールエーテルモノアルキルエー
テル類とグリコールエーテルジアルキルエーテル類の併
用添加により、より高い洗浄効果が得られることを見出
すとともに、酸化防止剤等の添加により高温下で連続し
て使用できることを見出し、本発明を完成した。

【００１０】すなわち、発明の第一は、（ａ）非塩素系
フッ素化合物と（ｂ）グリコールエーテルアセテート類
およびヒドロキシカルボン酸エステル類からなる群から
選ばれる一種以上の化合物とを含有する非引火性の洗浄
剤組成物。発明の第二は、（ｃ）グリコールエーテル類
を含有する発明の第一に記載の洗浄剤。発明の第三は、
（ｃ）グリコールエーテル類がグリコールエーテルモノ
アルキルエーテル類から選ばれる一種以上の化合物とグ
リコールエーテルジアルキルエーテル類から選ばれる一
種以上の化合物の組み合わせである発明の第二に記載の
洗浄剤。

【００１１】発明の第四は、（ｂ）グリコールエーテル
アセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル類か
らなる群から選ばれる一種以上の化合物、および（ｃ）
グリコールエーテル類のうち少なくとも一種以上の化合
物が、ブチル基またはイソブチル基を分子構造中に含む
ことを特徴とする発明の第一〜三に記載の洗浄剤。発明
の第五は、（ｄ）１．０１３×１０５Ｐａにおける沸点
が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する発明の第一〜
四に記載の洗浄剤。発明の第六は、（ｅ）フェノール系
酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、
イオウ系酸化防止剤および紫外線吸収剤からなる群から
選ばれる少なくとも一種以上の化合物を含有する発明の
第一〜五に記載の洗浄剤。

【００１２】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
洗浄剤に使用する（ａ）非塩素系フッ素化合物とは、炭
化水素類やエーテル類の水素原子の一部がフッ素原子の
みで置換され、塩素原子を含まないフッ素化合物であ
り、例えば、下記一般式（１）で特定される環状ＨＦ
Ｃ、（２）で特定される鎖状ＨＦＣ、又は（３）で特定
されるＨＦＥの、塩素原子を含まない、炭素原子、水素
原子、酸素原子、フッ素原子からなる化合物、及びこれ
らの中から選ばれる２種以上の化合物の組み合わせ等を
挙げられる。

【００１３】 Ｃ_nＨ_2n-mＦ_m （１） （式中、４≦ｎ≦６、５≦ｍ≦２ｎ−１の整数を示す） Ｃ_xＨ_2x+2-yＦ_y （２） （式中、４≦ｘ≦６、６≦ｙ≦２ｘ＋１の整数を示す） Ｃ_sＦ_2s+1ＯＲ （３） （式中、４≦ｓ≦６、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）

【００１４】環状ＨＦＣの具体例としては３Ｈ，４Ｈ，
４Ｈ−パーフルオロシクロブタン、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロシクロペンタン、５Ｈ，６Ｈ，６Ｈ−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。

【００１５】鎖状のＨＦＣの具体例としては１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、
２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、４Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタ
ン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロブタン、１Ｈ，１Ｈ，４Ｈ−パ
ーフルオロブタン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、１Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−
パーフルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペン
タン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン、１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−
パーフルオロペンタン、１Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオ
ロペンタン、２Ｈ，２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、１Ｈ，２Ｈ，４Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタン、
１Ｈ，４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンタ
ン、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン、２Ｈ，３Ｈ−
パーフルオロヘキサン、２Ｈ，４Ｈ−パーフルオロヘキ
サン、２Ｈ，５Ｈ−パーフルオロヘキサン、３Ｈ，４Ｈ
−パーフルオロヘキサン等を挙げることができる。

【００１６】ＨＦＥの具体例としてはメチルパーフルオ
ロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエー
テル、メチルパーフルオロペンチルエーテル、メチルパ
ーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフルオ
ロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエー
テル、エチルパーフルオロペンチルエーテル等を挙げる
ことができる。

【００１７】本発明の洗浄剤においては、これら（ａ）
非塩素系フッ素化合物の中から選ばれる１種又は２種以
上の化合物を組み合わて用いることができるが、好まし
くは、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコー
ルエーテル類等の高極性溶剤に対する溶解性が高く地球
温暖化係数の低い環状ＨＦＣまたはＨＦＥを挙げること
ができる。より好ましくは、４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフ
ルオロシクロペンタン、メチルパーフルオロブチルエー
テルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合
物、エチルパーフルオロブチルエーテルとエチルパーフ
ルオロイソブチルエーテルの混合物を挙げることがで
き、さらに好ましくはメチルパーフルオロブチルエーテ
ルとメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物を
挙げることができる。

【００１８】本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れ
に対する洗浄力の向上を目的に（ｂ）グリコールエーテ
ルアセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル類
からなる群から選ばれる一種以上の化合物を使用する必
要がある。本発明の洗浄剤に使用するグリコールエーテ
ルアセテート類とは、水酸基を有するグリコールエーテ
ル類をアセテート化した化合物である。ここで言うグリ
コールエーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭
素原子に結合している脂肪族あるいは脂環式化合物にお
いて、その２個の水酸基のうちいずれか１個の水酸基の
水素が炭化水素残基またはエーテル結合を含む炭化水素
残基に置換されている化合物である。例えば、下記一般
式（４）で特定されるグリコールエーテルアセテート類
を挙げることができる。

【００１９】

【化１】

【００２０】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１
〜４の整数を示す） グリコールエーテルアセテート類の具体例としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコールおよびトリプロピレングリコール等に対応する
モノアルキルエーテルのアセテート、３−メトキシ−１
−ブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチル−１−
ブチルアセテート等を挙げることができる。

【００２１】また、本発明の洗浄剤に使用するヒドロキ
シカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエステル化
合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エステ
ル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコールモ
ノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリンジエ
ステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を挙げ
ることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン酸エ
ステル類としては下記一般式（５）で特定される乳酸エ
ステル類を挙げることができる。

【００２２】

【化２】

【００２３】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す） 乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることがで
きる。成分（ｂ）は、グリコールエーテルアセテート類
またはヒドロキシカルボン酸エステル類の中から選ばれ
た、１種又は２種以上を組み合わせることができる。

【００２４】本発明の洗浄剤においては、洗浄力の向上
を目的に（ｃ）グリコールエーテル類を併用することが
できる。本発明の洗浄剤に使用する（ｃ）グリコールエ
ーテル類とは２個の水酸基が２個の相異なる炭素原子に
結合している脂肪族あるいは脂環式化合物において、該
水酸基のうち１個または２個の水酸基の水素が炭化水素
残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基に置換され
ている化合物である。これらのうち、１個の水酸基のみ
の水素が置換されたものが、グリコールエーテルモノア
ルキルエーテル類であり、２個の水酸基の水素のいずれ
もが置換されたものがグリコールエーテルジアルキルエ
ーテル類である。例えば、下記一般式（６）で特定され
るグリコールエーテルモノアルキルエーテル類および下
記一般式（７）で特定されるグリコールエーテルジアル
キルエーテル類を挙げることができる。

【００２５】

【化３】

【００２６】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ２、Ｒ３、
Ｒ４は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１
〜４の整数を示す）

【００２７】

【化４】

【００２８】（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、Ｒ２は炭素数
１〜４のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ
５は水素またはメチル基、ｎは０〜１の整数、ｍは１〜
４の整数を示す）

【００２９】グリコールエーテルモノアルキルエーテル
類の具体例としては、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、３−メトキシブタノール、３−メチル−
３−メトキシブタノール、エチレングリコールモノ−ｎ
−ヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−
ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プ
ロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−プ
ロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉ−ブチ
ルエーテル等を挙げることができる。また、グリコール
エーテルジアルキルエーテルの具体例としては、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブ
チルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル等を挙げることができる。

【００３０】また、成分（ｂ）および成分（ｃ）の中で
分子構造にブチル基またはイソブチル基の少なくとも一
種以上の化合物を含む３−メトキシブチルアセテート、
３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、乳酸ブチ
ル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−ｎ−イソブチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテル、３−
メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノ
ールおよびジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテ
ル等は、フラックス洗浄において、単にロジン溶解性に
優れるだけでなく、イオン性物質および白色残渣原因物
質に対する洗浄性にも優れているので特に好ましい。

【００３１】また、成分（ｂ）および成分（ｃ）の蒸気
圧は、特に引火点を有さない洗浄剤組成とするために、
２０℃において１．３３×１０３Ｐａ未満が好ましく、
より好ましくは６．６６×１０２Ｐａ以下であり、さら
に１．３３×１０２Ｐａ以下が好ましい。

【００３２】本発明の洗浄剤には、１．０１３×１０５
Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃で、請求項１記載
の成分（ａ）、成分（ｂ）および成分（ｃ）とは異なる
化合物である、成分（ｄ）を洗浄力改良剤、安定剤、融
点降下剤等の添加成分として添加し、成分（ｂ）および
成分（ｃ）の添加量の抑制、洗浄性の向上、蒸気洗浄時
の気相での金属安定性の向上および洗浄剤の凝固防止等
を図ることもできる。

【００３３】成分（ｄ）としては、例えば、以下に示す
溶剤の種類ごとに例示することができる。炭化水素類と
しては、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサ
ン、シクロヘキセン、２−メチルペンタン、２，３−ジ
メチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３
−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、イソオ
クタン等が挙げられる。アルコール類としてはメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール
等を挙げることができる。ケトン類としてはアセトン，
メチルエチルケトンを挙げることができる。エステル類
としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、
酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等を挙げることができる。

【００３４】成分（ｄ）は、上記例示された化合物のな
かから選ばれた、１種又は２種以上を組み合わせること
ができる。成分（ｄ）は沸点が２０℃〜１００℃であ
り、かつ、使用中の組成変動を少なくするために併用す
る（ａ）非塩素系フッ素化合物の沸点の±４０℃の範囲
に入ることが好ましく、さらに好ましくは±３０℃であ
る。また、成分（ｄ）は、併用する（ａ）非塩素系フッ
素化合物と共沸組成物あるいはそれに近似する組成の共
沸様組成物であることが好ましい。

【００３５】また、洗浄剤の酸化劣化を防ぐ目的で成分
（ｅ）を添加することができる。成分（ｅ）としては、
例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
フェノール系酸化防止剤としては、１−オキシ−３−メ
チル−４−イソプロピルベンゼン、２，４−ジメチル−
６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキサン
ジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル
−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート等の化合物を挙げることができ
る。

【００３６】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェ
ニルアミン、ｐ，ｐ’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔブチルフ
ェニル）ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。イオウ系酸化防止剤としては、
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、
ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステ
ル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エス
テル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エ
ステル等の化合物を挙げることができる。

【００３７】紫外線吸収剤としては、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−クロ
ロベンゾフェノン、２、２’−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン、４−ドデシル−２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサリシレート、
４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフ
ェニルサリシレート、ビスフェノールＡ−ジ−サリシレ
ート等のフェニルサリシレート類および２−（５−メチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２
−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α’−ジジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げることができる。

【００３８】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上の化合物とリン系酸化防止剤
およびリン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上の化
合物を併用することによって、長期間洗浄剤の酸化分解
を抑制することが可能となる。本発明の洗浄剤は、上述
した（ａ）〜（ｅ）各成分を定法に従って混合し均一化
して得られる。

【００３９】各成分の重量割合については、本発明の洗
浄剤の特徴である、高洗浄性、低毒性、低引火性が損な
われない範囲であれば、特に制限はないが、成分（ａ）
／成分（ｂ）の重量割合の範囲が９５／５〜４０／６０
であることがより好ましい。成分（ｂ）の重量割合が５
より大きいときに、各種汚れに対するより好ましい溶解
力改善効果が得られ、６０より小さいときにより好まし
い低引火性を達成できる。洗浄剤の洗浄性と低引火性の
バランスを考慮した、さらに好ましい成分（ａ）／成分
（ｂ）の重量割合の範囲は９０／１０〜５０／５０であ
り、いっそう好ましくは８０／２０〜６０／４０であ
る。

【００４０】成分（ｃ）をさらに添加する場合には、成
分（ａ）／｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合の範
囲が９５／５〜４０／６０であることがより好ましい。
｛成分（ｂ）＋成分（ｃ）｝の重量割合が５より大きい
ときに、各種汚れに対するより好ましい溶解力改善効果
が得られ、６０より小さいときにより好ましい低引火性
が達成される。洗浄剤の洗浄性と低引火性のバランスを
考慮した、さらに好ましい成分（ａ）／｛成分（ｂ）＋
成分（ｃ）｝の重量割合の範囲は９０／１０〜５０／５
０であり、いっそう好ましくは８０／２０〜６０／４０
である。

【００４１】成分（ｂ）／成分（ｃ）の重量割合の範囲
は９０／１０〜１０／９０であることがより好ましい。
成分（ｃ）の重量割合が１０より大きいときに、より好
ましいロジン溶解性が得られ、９０より小さいときに、
重合ロジンやロジンの金属塩に対するより好ましい洗浄
性が得られる。洗浄剤のロジンに対する溶解性と重合ロ
ジン等の白色残渣の原因となる汚れに対する洗浄性のバ
ランスを考慮した、さらに好ましい成分（ｂ）／成分
（ｃ）の重量割合の範囲は８０／２０〜２０／８０であ
る。

【００４２】成分（ｄ）を添加する場合には｛（ａ）＋
（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）の重量割合の範囲が９０／１
０〜９９．９／０．１であることがより好ましい。
（ｃ）の重量割合が１０よい小さいときにより好ましい
低引火性を達成でき、０．１より大きいときに安定剤、
融点降下剤としてのより好ましい効果が得られる。さら
に好ましい重量割合の範囲は９３／７〜９９／１であ
る。成分（ｅ）を添加する場合には｛（ａ）＋（ｂ）＋
（ｃ）＋（ｄ）｝に対して、１〜１０００ｐｐｍ、より
好ましくは１０〜１０００ｐｐｍである。

【００４３】本発明の洗浄剤の融点は１５℃以下が好ま
しいが、冬期使用することも考慮すると１０℃以下がよ
り好ましく，さらに好ましくは５℃以下である。また、
本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対して優れた洗浄性を
示すが、特にフラックスなどの樹脂類の洗浄に適してい
る。本発明の洗浄剤には、必要に応じて各種助剤、例え
ば，界面活性剤、安定剤、消泡剤等を必要に応じて添加
しても良い。

【００４４】以下に本発明の洗浄剤に添加できる添加剤
の具体例を例示する。界面活性剤としては、アニオン系
界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活
性剤及び両性界面活性剤を添加しても良い。アニオン系
界面活性剤としては、炭素数が６〜２０の脂肪酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸等のアルカリ金属、アルカノー
ルアミンおよびアミン塩等が挙げられる。カチオン系界
面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が挙げられ
る。ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノー
ル、炭素数が８〜１８の直鎖または分岐の脂肪族アルコ
ールのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレンオキサ
イドポリプロピレンオキサイドのブロックポリマー等が
挙げられる。両性界面活性剤としては，ベタイン型、ア
ミノ酸型等が挙げられる。

【００４５】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、１，４−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。

【００４６】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 （１）引火点 ＪＩＳ Ｋ ２２６５に従い、測定温度８０℃まではタ
グ密閉式、測定温度８１℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○：引火点なし ×：引火点あり

【００４７】（２）融点測定 サンプルビンに洗浄剤０．００５Ｌを入れ、１５℃にコ
ントロールした恒温水槽に１時間浸漬した後、状態を目
視評価した。評価は以下の基準による。 ○：均一な液体 ×：完全に凝固

【００４８】（３）ロジン溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約０．２ｇのペレットを作成す
る。これを６０℃に加温した洗浄剤０．０５Ｌで４分間
揺動洗浄（２００回／分）し、メチルパーフルオロブチ
ルエーテルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物（商品名：ＨＦＥ７１００、住友スリーエム
（株）製）でリンスした後、エアーブローして乾燥す
る。溶解性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以
下の計算式で計算する。 ロジン溶解性（％）＝｛（試験前重量−試験後重量）／
試験前重量｝×１００ 評価は以下の基準による。 ○：４０％以上 ×：４０％以下 試験に用いたフッラクスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００４９】（４）基板洗浄性試験 ガラスエポキシ製プリント基板（０．０３５×０．０４
８ｍ）をフラックスに片面浸漬し風乾した後、２５０℃
でハンダ付けして作成した試験片を６０℃に加温した洗
浄剤０．０５Ｌで３分間揺動洗浄（２００回／分）し、
メチルパーフルオロブチルエーテルおよびメチルパーフ
ルオロイソブチルエーテルの混合物（商品名：ＨＦＥ７
１００、住友スリーエム（株）製）でリンスした後、蒸
気洗浄して乾燥する。洗浄性は基板表面の外観を目視評
価する。評価は以下の基準による。 ◎：白色残渣全くなし（白色残渣がなく、かつ、ハンダ
表面に光沢がある) ○：白色残渣なし（白色残渣はないが、ハンダ表面に光
沢がない） ×：白色残渣あり 試験に用いたフッラクスの商品名：ＪＳ−６４ＮＤ
（（株）弘輝製）

【００５０】

【実施例１〜１３】表１および表２に記載の組成で各成
分を混合し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、
評価試験を行ない、結果を表１および表２にまとめた。
（ａ）非塩素系フッ素化合物、（ｂ）グリコールエーテ
ルアセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステルか
らなる群から選ばれる一種以上の化合物を均一混合する
ことにより、引火点を消去した上で、ロジンや白色残渣
の原因となる重合ロジン、ロジンの金属塩、アミンの塩
酸塩および有機酸等、フラックス成分およびフラックス
塗布工程において生成されたあらゆる汚れを洗浄できる
ことが確認された。さらに一種類のグリコールエーテル
化合物を単独で添加したり、グリコールエーテルモノア
ルキルエーテル類とグリコールエーテルジアルキルエー
テル類を併用して添加することにより、より高い洗浄効
果の得られることが確認された。また、（ｄ）１．０１
３×１０５Ｐａにおける沸点が２０℃〜１００℃の成分
を添加することによって、成分（ｂ）や成分（ｃ）の添
加量を抑制した上で、優れた洗浄性が得られるととも
に、融点が改善された。

【００５１】

【比較例１〜３】表２に記載の溶剤について実施例と同
じ評価試験を行った。結果を表２にまとめた。成分
（ａ）として用いた４Ｈ，５Ｈ，５Ｈ−パーフルオロシ
クロペンタン、メチルパーフルオロブチルエーテルとメ
チルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物および２
Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン単独ではロジン溶解性
および基板洗浄性のいずれも不充分であった。

【００５２】

【比較例４】表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化
合物に成分（ｃ）としてトリエチレングリコールジメチ
ルエーテルを添加しただけでは、は基板洗浄性が不充分
であった。

【００５３】

【比較例５】表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表２にまとめた。（ａ）非塩素系フッ素化
合物と成分（ｃ）として用いたグリコールエーテルモノ
アルキルエーテル類の併用ではロジン溶解性が不充分で
あった。

【００５４】

【比較例６〜７】表２に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表２にまとめた。非塩素系フッ素化合
物にグリコールエーテルジアルキルエーテル類の併用添
加では基板洗浄性が不充分であった。

【００５５】

【比較例８】表２に記載の組成で各成分を混合し洗浄剤
を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験を行
った。結果を表２にまとめた。非塩素系フッ素化合物に
グリコールエーテルアセテート類およびヒドロキシカル
ボン酸エステル類以外のエステル類として、コハク酸ジ
メチル、グルタル酸ジメチルおよびアジピン酸ジメチル
（商品名；ＤＢＥ、デュポン社製）の混合物を添加した
のでは、ロジン溶解性および基板洗浄性のいずれも不充
分であった。

【００５６】

【表１】

【００５７】

【表２】

【００５８】

【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全である。すなわち、引火点
を有さないものの、フラックス等の汚れに対する溶解性
に劣る非塩素系フッ素化合物単体に、グリコールエーテ
ルアセテート類あるいはヒドロキシカルボン酸エステル
類から選ばれる一種以上の化合物を併用することによっ
て、引火点を有さないという非塩素系フッ素化合物の特
性をそのままに、優れた洗浄を有し、さらにグリコール
エーテル類を添加することにより，基板表面に残留する
重合ロジン、ロジンの金属塩およびイオン性物質等に対
する優れたフラックス洗浄性を有する洗浄剤を提供でき
る。洗浄剤が引火点を有さないので、引火の危険性が低
減され、洗浄機等の設備上、引火，爆発等を防ぐための
防爆構造とする必要がなく、かつ、既存の洗浄設備をそ
のまま使用できるため低コストの洗浄システムを確立す
ることが可能となる。また、酸化防止剤や１．０１３×
１０５Ｐａにおいて沸点が２０℃〜１００℃の添加成分
により、蒸気洗浄時の金属安定性及び酸化劣化抑制効果
の向上、洗浄剤の凝固防止等が可能となる。本発明の組
成物によれば、引火の危険を全く心配せずにあらゆるタ
イプの汚れを容易に被洗物表面から溶解洗浄する事がで
きる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）非塩素系フッ素化合物と（ｂ）グ
   リコールエーテルアセテート類およびヒドロキシカルボ
   ン酸エステル類からなる群から選ばれる一種以上の化合
   物とを含有する非引火性の洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 （ｃ）グリコールエーテル類を含有する
   請求項１記載の洗浄剤。
3. 【請求項３】 （ｃ）グリコールエーテル類がグリコー
   ルエーテルモノアルキルエーテル類から選ばれる一種以
   上の化合物とグリコールエーテルジアルキルエーテル類
   から選ばれる一種以上の化合物の組み合わせである請求
   項２記載の洗浄剤。
4. 【請求項４】 （ｂ）グリコールエーテルアセテート類
   およびヒドロキシカルボン酸エステル類からなる群から
   選ばれる一種以上の化合物、および（ｃ）グリコールエ
   ーテル類のうち少なくとも一種以上の化合物が、ブチル
   基またはイソブチル基を分子構造中に含むことを特徴と
   する請求項１〜３に記載の洗浄剤。
5. 【請求項５】（ｄ）１．０１３×１０５Ｐａにおける沸
   点が２０℃〜１００℃の添加成分を含有する請求項１〜
   ４に記載の洗浄剤。
6. 【請求項６】（ｅ）フェノール系酸化防止剤、アミン系
   酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤お
   よび紫外線吸収剤からなる群から選ばれる少なくとも一
   種以上の化合物を含有する請求項１〜５に記載の洗浄
   剤。