JP2001214192A - 引火性の低い洗浄剤組成物 - Google Patents

引火性の低い洗浄剤組成物

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JP2001214192A
JP2001214192A JP2000026960A JP2000026960A JP2001214192A JP 2001214192 A JP2001214192 A JP 2001214192A JP 2000026960 A JP2000026960 A JP 2000026960A JP 2000026960 A JP2000026960 A JP 2000026960A JP 2001214192 A JP2001214192 A JP 2001214192A
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glycol
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cleaning agent
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JP2000026960A
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Kenichi Kato
謙一 加藤
Shiyouji Matsumoto
省慈 松本
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Asahi Kasei Corp
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Asahi Kasei Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 あらゆる汚れに対して、高い洗浄力を示し、
かつ、蒸気洗浄時等の高温下における酸化劣化を防止し
つつ、低毒性で、被洗物に対する材質安定性が高く、し
かも引火性が低いうえ、オゾン層破壊の恐れが全くない
洗浄剤を提供する。 【解決手段】 塩素原子を含有しない含フッ素化合物に
グリコールエーテル類を特定の配合重量比で添加し、さ
らに酸化防止剤等を添加する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械部品、光
学機械部品等の加工時に種々の加工油類、グリース類、
ワックス類や電気電子部品のハンダ付け時に使用される
フラックス類を洗浄するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、または、グリース
類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終
的には除去する必要があり,溶剤による除去が一般的に
行われている。また、電子回路の接合方法としてはハン
ダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべ
き金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、ハンダ
濡れ性の改良の目的で、フラックスでハンダ付け面を予
め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法
としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等によ
り、フラックスを基板面に付着させた後、溶融ハンダを
供給する方法や予めフラックスとハンダの粉末を混合し
てペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給
した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラ
ックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるた
め、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。
【0003】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフル
オロエタン(以下CFC113という)やCFC113
とアルコールなどを混合した溶剤で洗浄していた。しか
しながら、CFC113はオゾン層破壊等の地球環境汚
染問題が指摘され、日本では1995年末にその生産が
全廃された。このCFC113の代替品として、3,3
−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロ
パンと1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタ
フルオロプロパンの混合物(以下HCFC225とい
う)や1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン(以下H
CFC141bという)等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが提案されているが、これらについてもオゾン層
破壊能があるために日本では2020年にその使用が禁
止される予定である。
【0004】さらに、近年では塩素原子を全く含まない
ハイドロフルオロカーボン類(以下HFCという)やハ
イドロフルオロエーテル類(以下HFEという)等のオ
ゾン層破壊能が全くなく、不燃性のフッ素系溶剤が提案
されているが、塩素原子を含まないために溶解能が低く
単独では洗浄剤として使用できない。また、特開平10
−316598号公報、特開平10−212498号公
報および特開平10−251692号公報等のHFCや
HFEに可燃性溶剤を組み合わせた洗浄剤の技術が開示
されている。
【0005】しかし、特開平10−316598号公報
には環状のフッ素化炭化水素とエタノールを併用した洗
浄剤が提案されているが、このような洗浄剤は引火点を
有し、不燃性溶剤として取り扱うことができない。ま
た、特開平10−212498号公報および特開平10
−251692号公報にはHFCやHFEとグリコール
エーテル類の併用についての記載がある。しかし、これ
らの洗浄剤は、(a)HFCやHFEと(b)グリコー
ルエーテルジアルキルエーテル類の配合重量比(a)/
(b)が、30/70〜70/30での併用や、(a)
HFCやHFEと(c)グリコールエーテルモノアルキ
ルエーテル類の配合重量比(a)/(c)が、15/8
5〜85/15での併用であり、グリコールエーテル類
の種類によっては、樹脂やゴムを膨潤する等、材質への
影響が大きいものがあり、被洗物の材質によっては上記
配合重量比の範囲の洗浄剤は使用できない場合がある。
【0006】以上のごとく、CFC113の代替品とし
て、これまで提案されてきた洗浄剤では、洗浄能力に優
れていてもオゾン層破壊の問題により将来その使用が禁
止されていたり、引火の危険性があるために、使用に当
たっては洗浄機等の設備を防爆構造とするのに設備コス
トが上昇したり、材質への影響が大きい等、洗浄剤とし
て使用する上で多くの問題を抱えているのが現状であ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄におけ
るあらゆる汚れに対して高い洗浄力を示し、かつ蒸気洗
浄時等の高温下における酸化劣化を防止しつつ、低毒性
で、被洗物に対する材質安定性が高く、引火性が低く、
オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供することを
課題とする。
【0008】
【課題を達成するための手段】本発明者は、上記課題を
達成するため、塩素原子を含有しない含フッ素化合物の
引火点を有さない特性を生かし、引火点の出現しない洗
浄剤を見出すべく鋭意検討を重ねた結果、塩素原子を含
有しない含フッ素化合物にグリコールエーテル類を特定
の配合重量比で加えることにより、あらゆる材質への影
響が少なく、かつ良好な洗浄性を持ち、さらに酸化防止
剤等の添加により高温下で連続して使用できることを見
出し,本発明を完成した。
【0009】すなわち、発明の第一は、(a)塩素原子
を含有しない含フッ素化合物と(b)グリコールエーテ
ルジアルキルエーテル類から選ばれる化合物を少なくと
も1種含有し、かつ成分(a)の成分(b)に対する配
合重量比(a)/(b)が70/30<(a)/(b)
≦99/1である引火性の低い洗浄剤組成物である。発
明の第二は、(a)塩素原子を含有しない含フッ素化合
物と(c)グリコールエーテルモノアルキルエーテル類
から選ばれる化合物を少なくとも1種含有し、かつ成分
(a)の成分(c)に対する配合重量比(a)/(c)
が85/15<(a)/(c)≦99/1である引火性
の低い洗浄剤組成物である。
【0010】発明の第三は、(d)グリコールエーテル
アセテート類およびヒドロキシカルボン酸エステル類よ
りなる群から選ばれる化合物を少なくとも1種含有し、
かつ成分(a)の成分(b)と成分(d)に対する配合
重量比(a)/{(b)+(d)}が70/30<
(a)/{(b)+(d)}≦99/1である発明の第
一に記載の洗浄剤組成物である。発明の第四は、(d)
グリコールエーテルアセテート類およびヒドロキシカル
ボン酸エステル類よりなる群から選ばれる化合物を少な
くとも1種含有し、かつ成分(a)の成分(c)と成分
(d)に対する配合重量比(a)/{(c)+(d)}
が85/15<(a)/{(c)+(d)}≦99/1
である発明の第二に記載の洗浄剤組成物である。
【0011】発明の第五は、(e)1.013×105
Paにおける沸点が20℃〜100℃の添加成分を含有
する発明の第一〜四に記載の洗浄剤組成物である。発明
の第六は、(f)フェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤およ
び紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる化合物を少なく
とも一種含有する発明の第一〜五に記載の洗浄剤組成物
である。以下、本発明を詳細に説明する。
【0012】本発明の洗浄剤に使用する(a)塩素原子
を含有しない含フッ素化合物とは、炭化水素類やエーテ
ル類の水素原子の一部がフッ素原子のみで置換され、塩
素原子を含まないフッ素化合物であり、例えば、下記一
般式(1)で特定される環状HFC、(2)で特定され
る鎖状HFC、又は(3)で特定されるHFEの、塩素
原子を含まない、炭素原子、水素原子、酸素原子、フッ
素原子からなる化合物、及びこれらの中から選ばれる2
種以上の化合物の組み合わせ等を挙げられる。
【0013】Cn2n-mm (1) (式中、4≦n≦6、5≦m≦2n−1の整数を示す) Cx2x+2-yy (2) (式中、4≦x≦6、6≦y≦2x+1の整数を示す) Cs2s+1OR (3) (式中、4≦s≦6、Rは炭素数1〜3のアルキル基)
【0014】環状HFCの具体例としては3H,4H,
4H−パーフルオロシクロブタン、4H,5H,5H−
パーフルオロシクロペンタン、5H,6H,6H−ノナ
フルオロシクロヘキサン等を挙げることができる。鎖状
HFCの具体例としては1H,2H,3H,4H−パー
フルオロブタン、1H,2H−パーフルオロブタン、1
H,3H−パーフルオロブタン、2H,3H−パーフル
オロブタン、4H,4H−パーフルオロブタン、1H,
1H,3H−パーフルオロブタン、1H,1H,4H−
パーフルオロブタン、1H,2H,3H−パーフルオロ
ブタン、1H,2H−パーフルオロペンタン、1H,4
H−パーフルオロペンタン、2H,3H−パーフルオロ
ペンタン、2H,4H−パーフルオロペンタン、2H,
5H−パーフルオロペンタン、1H,2H,3H−パー
フルオロペンタン、1H,3H,5H−パーフルオロペ
ンタン、1H,5H,5H−パーフルオロペンタン、2
H,2H,4H−パーフルオロペンタン、1H,2H,
4H,5H−パーフルオロペンタン、1H,4H,5
H,5H,5H−パーフルオロペンタン、1H,2H−
パーフルオロヘキサン、2H,3H−パーフルオロヘキ
サン、2H,4H−パーフルオロヘキサン、2H,5H
−パーフルオロヘキサン、3H,4H−パーフルオロヘ
キサン等を挙げることができる。
【0015】HFEの具体例としてはメチルパーフルオ
ロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチルエー
テル、メチルパーフルオロペンチルエーテル、メチルパ
ーフルオロシクロヘキシルエーテル、エチルパーフルオ
ロブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエー
テル、エチルパーフルオロペンチルエーテル等を挙げる
ことができる。
【0016】本発明の洗浄剤においては、これら(a)
塩素原子を含有しない含フッ素化合物の中から選ばれる
1種又は2種以上の化合物を組み合わせて用いることが
できるが、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エス
テル類、グリコールエーテル類等の高極性溶剤に対する
溶解性が高く地球温暖化係数の低い環状HFCまたはH
FEを挙げることができる。より好ましくは、4H,5
H,5H−パーフルオロシクロペンタン、メチルパーフ
ルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチル
エーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、エチル
パーフルオロイソブチルエーテル、およびこれらの混合
物を挙げることができる。さらに好ましくはメチルパー
フルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロイソブチ
ルエーテルおよびこれらの混合物(商品名:HFE71
00、住友スリーエム(株)製)、エチルパーフルオロ
ブチルエーテル、エチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルおよびこれらの混合物(商品名:HFE7200、住
友スリーエム(株)製)を挙げることができる。
【0017】本発明の洗浄剤においては、あらゆる汚れ
に対する洗浄力の向上を目的に、成分(a)と共に、
(b)グリコールエーテルジアルキルエーテル類から選
ばれる化合物を少なくとも1種、または(c)グリコー
ルエーテルモノアルキルエーテル類から選ばれる化合物
を少なくとも1種、併用する必要がある。本発明の洗浄
剤で使用する(b)グリコールエーテルジアルキルエー
テル類とは、2個の水酸基が2個の相異なる炭素原子に
結合している脂肪族あるいは脂環式化合物において、該
2個の水酸基の水素がいずれも炭化水素残基またはエー
テル結合を含む炭化水素残基に置換されている化合物で
ある。(c)グリコールエーテルモノアルキルエーテル
類とは、2個の水酸基が2個の相異なる炭素原子に結合
している脂肪族あるいは脂環式化合物において、該2個
の水酸基のうち、いずれか1個の水酸基の水素が炭化水
素残基またはエーテル結合を含む炭化水素残基と置換し
ている化合物である。例えば、下記一般式(4)で特定
されるグリコールエーテルジアルキルエーテル類および
下記一般式(5)で特定されるグリコールエーテルモノ
アルキルエーテル類を挙げることができる。
【0018】
【化1】
【0019】(式中、R1、R5は炭素数1〜6のアルキ
ル基、アルケニル基又はシクロアルキル基、 R2 、R3
、R4 は水素またはメチル基、aは0〜1の整数、b
は1〜4の整数を示す。)
【0020】
【化2】
【0021】(式中、R6 は炭素数1〜6のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基、 R7 、R
8 、R9 は水素またはメチル基、cは0〜1の整数、
dは1〜4の整数を示す。) (b)グリコールエーテルジアルキルエーテルの具体例
としては、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル等を挙げることができる。
【0022】また、(c)グリコールエーテルモノアル
キルエーテル類の具体例としては、エチレングリコール
モノ−n−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエー
テル、ジエチレングリコールモノ−i−プロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−i−ブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコ
ールモノ−i−プロピルエーテル、プロピレングリコー
ルモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノ−i−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プ
ロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−i−プ
ロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−i−ブチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テル、3−メトキシブタノール、3−メチル−3−メト
キシブタノール等を挙げることができる。
【0023】各成分の配合重量割合については、成分
(a)の成分(b)に対する配合重量比(a)/(b)
が70/30<(a)/(b)≦99/1の時に、フラ
ックスに対する優れた溶解性、優れた材質安定性および
低引火性を両立できる。ここでいう「優れた材質安定
性」とは、金属や樹脂、ゴム等の試験片を洗浄液中に浸
漬した後、洗浄液から引き上げ乾燥させた時に、該試験
片において、浸漬前後で腐食や膨潤等の外観変化がほと
んどなく、また重量変化が少ないことを意味する。
【0024】フラックスに対する優れた溶解性、材質安
定性および低引火性のバランスを考慮した、より好まし
い成分(a)の成分(b)に対する配合重量比(a)/
(b)は80/20<(a)/(b)≦99/1であ
り、さらに好ましくは90/10<(a)/(b)≦9
9/1である。また、成分(a)の成分(c)に対する
配合重量比(a)/(c)が85/15<(a)/
(c)≦99/1の時に、フラックスに対する優れた溶
解性と優れた材質安定性、低引火性を両立できる。フラ
ックスに対する溶解性と材質安定性、低引火性のバラン
スを考慮した、より好ましい成分(a)の成分(c)に
対する配合重量比(a)/(c)は、90/10<
(a)/(c)≦99/1である。
【0025】本発明における洗浄剤は、上記成分(a)
と成分(b)または成分(c)を所定の割合で含有する
引火性の低い洗浄剤である。ここでいう、「引火性の低
い」とは、JIS K 2265等の一般的な引火点評価
試験により、洗浄剤に引火点なしと認められることを意
味する。本発明の洗浄剤においては、洗浄力の向上を目
的に(d)グリコールエーテルアセテート類およびヒド
ロキシカルボン酸エステル類よりなる群から選ばれる化
合物を少なくとも1種併用することができる。本発明の
洗浄剤に使用するグリコールエーテルアセテート類と
は、(c)グリコールエーテルモノアルキルエーテル類
から選ばれる化合物をアセテート化した化合物である。
例えば、下記一般式(6)で特定されるグリコールエー
テルアセテート類を挙げることができる。
【0026】
【化3】
【0027】(式中、R10は炭素数1〜6のアルキル
基、アルケニル基、またはシクロアルキル基、R11、R
12、R13は水素またはメチル基、eは0〜1の整数、f
は1〜4の整数を表す。) (d)グリコールエーテルアセテート類の具体例として
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコールおよびトリプロピレングリコール等のモ
ノアルキルエーテルのアセテート、3−メトキシ−1−
ブチルアセテート、3−メトキシ−3−メチル−1−ブ
チルアセテート等を挙げることができる。
【0028】また、本発明の洗浄剤に使用する(d)ヒ
ドロキシカルボン酸エステル類とは水酸基を有するエス
テル化合物であり、例えば、乳酸エステル、リンゴ酸エ
ステル、酒石酸エステル、クエン酸エステル、グリコー
ルモノエステル、グリセリンモノエステル、グリセリン
ジエステル、リシノール酸エステルおよびヒマシ油等を
挙げることができる。特に好ましいヒドロキシカルボン
酸エステル類としては下記一般式(7)で特定される乳
酸エステル類を挙げることができる。
【0029】
【化4】
【0030】(式中、R14は炭素数1〜6のアルキル
基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。) 乳酸エステル類の具体例としては乳酸メチル、乳酸エチ
ル、乳酸ブチルおよび乳酸ペンチル等を挙げることがで
きる。
【0031】成分(d)を成分(a)、(b)と併用添
加する場合の、成分(a)の{成分(b)+成分
(d)}に対する配合重量比(a)/{(b)+
(d)}は、70/30<(a)/{(b)+(d)}
≦99/1であり、この時に、フラックスに対する優れ
た溶解性と優れた材質安定性、低引火性を両立できる。
フラックスに対する溶解性と材質安定性、低引火性のバ
ランスを考慮した、より好ましい成分(a)の{成分
(b)+成分(d)}に対する配合重量比(a)/
{(b)+(d)}は、80/20<(a)/{(b)
+(d)}≦99/1であり、さらに好ましくは90/
10<(a)/{(b)+(d)}≦99/1である。
【0032】または、成分(d)を成分(a)、(c)
と併用添加する場合の、成分(a)の{成分(c)+成
分(d)}に対する配合重量比(a)/{(c)+
(d)}は、85/15<(a)/{(c)+(d)}
≦99/1であり、この時に、フラックスに対する優れ
た溶解性と優れた材質安定性、低引火性を両立できる。
フラックスに対する溶解性と材質安定性、低引火性のバ
ランスを考慮した、より好ましい成分(a)の{成分
(c)+成分(d)}に対する配合重量比(a)/
{(c)+(d)}は、90/10<(a)/{(c)
+(d)}≦99/1である。
【0033】成分(b)、成分(c)および成分(d)
の蒸気圧は、特に引火点を有さない洗浄剤組成とするた
めに、20℃において、蒸気圧が1.33×103Pa
未満が好ましく、より好ましくは6.66×102Pa
以下であり、さらに1.33×102Pa以下が好まし
い。本発明の洗浄剤には、1.013×105Paにお
ける沸点が20℃〜100℃で、請求項1〜4記載の成
分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(d)と
は異なる化合物である、成分(e)を洗浄力改良剤、安
定剤、融点降下剤等の添加成分として添加し、成分
(b)、成分(c)および成分(d)の添加量の抑制、
洗浄性の向上、蒸気洗浄時の気相での金属安定性の向上
および冷却時の洗浄剤の凝固防止等を図ることもでき
る。
【0034】成分(e)としては、例えば、以下に示す
溶剤の種類ごとに例示することができる。炭化水素類と
しては、n−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサ
ン、シクロヘキセン、2−メチルペンタン、2,3−ジ
メチルブタン、n−ヘプタン、2−メチルヘキサン、3
−メチルヘキサン、2,4−ジメチルペンタン、イソオ
クタン等が挙げられる。アルコール類としてはメタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール
等を挙げることができる。ケトン類としてはアセトン,
メチルエチルケトンを挙げることができる。エステル類
としてはギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソブチル、
酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等を挙げることができる。成分(e)は、
上記例示された化合物のなかから選ばれた、1種又は2
種以上を組み合わせることができる。
【0035】成分(e)は沸点が20℃〜100℃であ
り、かつ、使用中の組成変動を少なくするために併用す
る(a)塩素原子を含有しない含フッ素化合物の沸点の
±40℃の範囲に入ることが好ましく、さらに好ましく
は±30℃である。また、成分(e)は、併用する
(a)塩素原子を含有しない含フッ素化合物と共沸組成
物あるいはそれに近似する組成の共沸様組成物であるこ
とが好ましい。成分(e)を添加する場合には{(a)
+(b)+(d)}/(e)、または{(a)+(c)
+(d)}/(e)の配合重量割合の範囲が95/5<
{(a)+(b)+(d)}/(e)、または{(a)
+(c)+(d)}/(e)<99.9/0.1である
ことがより好ましい。(e)の重量割合が5より小さい
ときにより好ましい低引火性を達成でき、0.1より大
きいときに安定剤、融点降下剤としてより好ましい効果
が得られる。さらに好ましい重量割合の範囲は97/3
<{(a)+(b)+(d)}/(e)、または
{(a)+(c)+(d)}/(e)<99.9/0.
1である。
【0036】また、洗浄剤の酸化劣化を防ぐ目的で成分
(f)を添加することができる。成分(f)としては、
例えば、以下に示す種類ごとに例示することができる。
フェノール系酸化防止剤としては、1−オキシ−3−メ
チル−4−イソプロピルベンゼン、2,4−ジメチル−
6−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチルフ
ェノール、ブチルヒドロキシアニソール、2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル
−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシメチルフェノール、トリエチレングリコー
ル−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート、1,6−ヘキサン
ジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル
−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート等の化合物を挙げることができ
る。
【0037】アミン系酸化防止剤としては、ジフェニル
−p−フェニレン−ジアミン、4−アミノ−p−ジフェ
ニルアミン、p,p’−ジオクチルジフェニルアミン等
の化合物を挙げることができる。リン系酸化防止剤とし
ては、フェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルジ
イソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニル
フェニルホスファイト、ビス(2,4−ジ−tブチルフ
ェニル)ペンタエリストールジホスファイト等の化合物
を挙げることができる。
【0038】イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル
−3,3’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシ
ル−3,3’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリス
チル−3,3’−チオジプロピオン酸エステル、ジステ
アリル−3,3’−チオジプロピオン酸エステル等の化
合物を挙げることができる。紫外線吸収剤としては、4
−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シ−4’−クロロベンゾフェノン、2、2’−ヒドロキ
シ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−
ジメトキシベンゾフェノン、4−ドデシル−2−ヒドロ
キシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、フェニルサ
リシレート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、4
−オクチルフェニルサリシレート、ビスフェノールA−
ジ−サリシレート等のフェニルサリシレート類および2
−(5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾ−ル、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α、
α’−ジジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾ
トリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3−t
−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−
アミル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−4’−t−オクチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ−ル類を挙げるこ
とができる。
【0039】これら例示された化合物のなかで、フェノ
ール系酸化防止剤の添加効果が高く、特に2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾールが好ましい。また、洗浄剤
を連続して加熱使用する蒸気洗浄等の場合には、フェノ
ール系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤の群から選
ばれる少なくとも一種以上とリン系酸化防止剤およびリ
ン系酸化防止剤の群から選ばれる一種以上を併用するこ
とによって、長期間洗浄剤の酸化分解を抑制することが
可能となる。
【0040】成分(f)を添加する場合には{(a)+
(b)+(d)+(e)}、または{(a)+(c)+
(d)+(e)}に対して、1〜1000ppm、より
好ましくは10〜1000ppmである。本発明の洗浄
剤は、上述した(a)〜(f)各成分を定法に従って混
合し均一化して得られる。本発明の洗浄剤の融点は15
℃以下が好ましいが、冬期使用することも考慮すると1
0℃以下がより好ましく,さらに好ましくは5℃以下で
ある。
【0041】また、本発明の洗浄剤はあらゆる汚れに対
して優れた洗浄性を示すが,特にフラックスなどの樹脂
類の洗浄に適している。本発明の洗浄剤には、必要に応
じて各種助剤、例えば、界面活性剤、安定剤、消泡剤等
を必要に応じて添加しても良い。以下に本発明の洗浄剤
に添加できる添加剤の具体例を例示する。界面活性剤と
しては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面活性剤を添加し
ても良い。アニオン系界面活性剤としては、炭素数が6
〜20の脂肪酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のアル
カリ金属、アルカノールアミンおよびアミン塩等が挙げ
られる。カチオン系界面活性剤としては、第4級アンモ
ニウム塩等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤として
は、アルキルフェノール、炭素数が8〜18の直鎖また
は分岐の脂肪族アルコールのエチレンオキサイド付加
物、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイド
のブロックポリマー等が挙げられる。両性界面活性剤と
しては,ベタイン型、アミノ酸型等が挙げられる。
【0042】安定剤としてはニトロメタン、ニトロエタ
ン等のニトロアルカン類、ブチレンオキサイド等のエポ
キシド類、1,4−ジオキサン等のエーテル類、トリエ
タノールアミン等のアミン類、ベンゾトリアゾール類等
が挙げられる。消泡剤としては、自己乳化シリコーン、
シリコン、脂肪酸、高級アルコール、ポリプロピレング
リコールポリエチレングリコールおよびフッ素系界面活
性剤等が挙げられる。
【0043】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を具体
的に説明する。なお、洗浄剤の各種物性は以下のように
して測定、評価した。 (1)引火点 JIS K 2265に従い、測定温度80℃まではタ
グ密閉式、測定温度81℃以上はクリーブランド開放式
で引火点の測定を行った。評価は以下の基準による。 ○:引火点なし ×:引火点あり (2)融点測定 サンプルびんに洗浄剤0.005Lを入れ、15℃にコ
ントロールした恒温水槽に1時間浸漬した後、状態を目
視評価した。評価は以下の基準による。 ○:均一な液体 ×:完全に凝固
【0044】(3)フラックス溶解性試験 フラックスを加熱して、イソプロパノール等の溶剤成分
を蒸発乾固したのち、約0.2gのペレットを作成す
る。これを60℃の洗浄剤0.005Lで3分間揺動洗
浄(200回/分)し、メチルパーフルオロブチルエー
テルおよびメチルパーフルオロイソブチルエーテルの混
合物(商品名:HFE7100、住友スリーエム(株)
製)でリンスした後、エアーブローして乾燥する。溶解
性は試験の前後にペレットの重量を測定し、以下の計算
式で計算する。 フラックス溶解性(%)={(試験前重量−試験後重
量)/試験前重量}×100 評価は以下の基準による。 ○:20%以上 ×:20%未満 試験に用いたフラックスの商品名:ULF−210RN
I(タムラ化研(株)製)
【0045】(4)材質安定性試験 50℃の洗浄剤中に、エポキシ樹脂、ポリスチレン、シ
リコンゴム、バイトンの各試験片(25×50×2m
m)を5分浸漬後、洗浄剤から引き上げエアーブローし
て乾燥する。材質安定性は試験の前後に各試験片の重量
を測定し、以下の計算式で計算した重量変化率によって
評価する。 重量変化率(%)={(試験後重量−試験前重量)/試
験前重量}×100 評価は以下の基準による。 ○:いずれの材質についても、重量変化率±5%以下 ×:一種以上の材質について重量変化率±5%を越える
【0046】
【実施例1〜10】表1に記載の組成で各成分を混合
し、目的の洗浄剤を得た。各洗浄剤について、評価試験
を行ない、結果を表1にまとめた。(a)塩素原子を含
有しない含フッ素化合物、(b)グリコールエーテルジ
アルキルエーテルまたは(c)グリコールエーテルモノ
アルキルエーテルにより引火点を消去した上で、良好な
フラックス溶解性と優れた材質安定性が両立できること
が確認された。また、(e)1.013×105Paに
おける沸点が20℃〜100℃の成分を添加することに
よって、成分(b)若しくは成分(c)、及び成分
(d)の添加量を抑制した上で、優れた洗浄性が得られ
るとともに、融点が改善された。
【0047】
【比較例1〜4】表2に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表2にまとめた。メチルパーフルオロ
ブチルエーテルとメチルパーフルオロイソブチルエーテ
ルの混合物、エチルパーフルオロブチルエーテルとエチ
ルパーフルオロイソブチルエーテルの混合物、4H,5
H,5H−パーフルオロシクロペンタン、および2H,
3H−パーフルオロペンタン単独ではいずれもフラック
ス溶解性は不充分であった。
【0048】
【比較例5〜6】表2に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表2にまとめた。(a)塩素原子を含
有しない含フッ素化合物に成分(b)として用いたジエ
チレングリコールジエチルエーテルの単独添加、ジエチ
レングリコールジエチルエーテルとジプロピレングリコ
ールジメチルエーテルの併用添加の配合重量比(a)/
(b)が70/30以下ではいずれも材質安定性が不充
分であった。
【0049】
【比較例7〜9】表2に記載の組成で各成分を混合し洗
浄剤を得た。この洗浄剤について実施例と同じ評価試験
を行った。結果を表2にまとめた。(a)塩素原子を含
有しない含フッ素化合物に成分(c)として用いたジエ
チレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、またはジ
プロピレングリコールモノメチルエーテルの配合重量比
(a)/(c)が85/15以下では材質安定性がいず
れも不充分であった。
【0050】
【表1】
【0051】
【表2】
【0052】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、優れた洗浄性を有す
るとともに引火点がなく安全に使用できる。 すなわ
ち、引火点を有さないものの、フラックス等の汚れに対
する溶解性に劣る塩素原子を含有しない含フッ素化合物
単体に、グリコールエーテルジアルキルエーテル、また
はグリコールエーテルモノアルキルエーテルを併用する
ことによって、引火点を有さないという塩素原子を含有
しない含フッ素化合物の特性をそのままに、例えば、フ
ラックス洗浄において、優れたフラックス溶解性を有
し、材質への影響の少ない洗浄剤を提供できる。洗浄剤
が引火点を有さないので、引火の危険性が低減され、洗
浄機等の設備上、引火、爆発等を防ぐための防爆構造と
する必要がなく、かつ、既存の洗浄設備をそのまま使用
できるため低コストの洗浄システムを確立することが可
能となる。また、1.013×105Paにおいて沸点
が20℃〜100℃の添加成分により、蒸気洗浄時の気
相での金属安定性の向上、洗浄剤の凝固防止等が可能と
なる。本発明の組成物によれば、引火の危険を全く心配
せずにあらゆる汚れを容易に被洗物表面から溶解洗浄す
る事ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C11D 7/36 C11D 7/36 7/50 7/50

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)塩素原子を含有しない含フッ素化
    合物と(b)グリコールエーテルジアルキルエーテル類
    から選ばれる化合物を少なくとも1種含有し、かつ成分
    (a)の成分(b)に対する配合重量比(a)/(b)
    が70/30<(a)/(b)≦99/1である引火性
    の低い洗浄剤組成物。
  2. 【請求項2】 (a)塩素原子を含有しない含フッ素化
    合物と(c)グリコールエーテルモノアルキルエーテル
    類から選ばれる化合物を少なくとも1種含有し、かつ成
    分(a)の成分(c)に対する配合重量比(a)/
    (c)が85/15<(a)/(c)≦99/1である
    引火性の低い洗浄剤組成物。
  3. 【請求項3】 (d)グリコールエーテルアセテート類
    およびヒドロキシカルボン酸エステル類よりなる群から
    選ばれる化合物を少なくとも一種含有し、かつ成分
    (a)の成分(b)と成分(d)に対する配合重量比
    (a)/{(b)+(d)}が70/30<(a)/
    {(b)+(d)}≦99/1である請求項1の洗浄剤
    組成物。
  4. 【請求項4】 (d)グリコールエーテルアセテート類
    およびヒドロキシカルボン酸エステル類よりなる群から
    選ばれる化合物を少なくとも一種含有し、かつ成分
    (a)の成分(c)と成分(d)に対する配合重量比
    (a)/{(c)+(d)}が85/15<(a)/
    {(c)+(d)}≦99/1である請求項2の洗浄剤
    組成物。
  5. 【請求項5】 (e)1.013×105Paにおける
    沸点が20℃〜100℃の添加成分を含有する請求項1
    〜4の洗浄剤組成物。
  6. 【請求項6】 (f)フェノール系酸化防止剤、アミン
    系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤
    および紫外線吸収剤よりなる群から選ばれる少なくとも
    一種以上を含有する請求項1〜5の洗浄剤組成物。
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