CA2434183C - Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion - Google Patents

Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion Download PDF

Info

Publication number
CA2434183C
CA2434183C CA002434183A CA2434183A CA2434183C CA 2434183 C CA2434183 C CA 2434183C CA 002434183 A CA002434183 A CA 002434183A CA 2434183 A CA2434183 A CA 2434183A CA 2434183 C CA2434183 C CA 2434183C
Authority
CA
Canada
Prior art keywords
organic solvent
cleaning
mixture
parts
mfc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CA002434183A
Other languages
English (en)
Other versions
CA2434183A1 (fr
Inventor
Pascal Michaud
Jean-Claude Lheureux
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arkema France SA
Original Assignee
Arkema France SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arkema France SA filed Critical Arkema France SA
Publication of CA2434183A1 publication Critical patent/CA2434183A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of CA2434183C publication Critical patent/CA2434183C/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/43Solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/02Anionic compounds
    • C11D1/12Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
    • C11D1/123Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from carboxylic acids, e.g. sulfosuccinates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D17/00Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties
    • C11D17/0008Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties aqueous liquid non soap compositions
    • C11D17/0017Multi-phase liquid compositions
    • C11D17/0021Aqueous microemulsions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5036Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/5068Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
    • C11D7/5077Mixtures of only oxygen-containing solvents
    • C11D7/5081Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10Objects to be cleaned
    • C11D2111/14Hard surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/40Specific cleaning or washing processes
    • C11D2111/44Multi-step processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S134/00Cleaning and liquid contact with solids
    • Y10S134/902Semiconductor wafer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

L'invention concerne un procédé de nettoyage d'une surface solide qui compre nd les étapes suivantes: a) nettoyage de ladite surface solide au moyen d'une composition de nettoyage de type microémulsion, e) égouttage de ladite surfa ce nettoyée, f) rinçage de ladite surface égouttée avec un solvant organique ou un mélange de solvants organiques de bas point d'ébullition, et g) séchage d e ladite surface rincée avec le solvant organique ou le mélange de solvants organiques utilisé en c).

Description

PROCEDE DE NETTOYAGE D' UNE SURFACE SOLIDE PAR
ELIMINATION DE SALISSURES ORGANIQUES ET/OU
MINERALES AU MOYEN b'UNE MICROEMULSION.
-------------La présente invention concerne un procédé de nettoyage, plus précisénient elle concerne un procédé d'éliniination de salissures organiques et/ou minérales d'une surface solide (ou substrat).
Dans les industries électrique, électronique, optique et mécanique notamment, il est nécessaire d'éliminer totalement les salissures minérales et/ou organiques des pièces ou matériaux produits finis ou devant subir des étapes ultérieures de transformation.
Traditionnellement, ces surfaces étaient nettoyées avec du 1,1,1-trichloroéthane, solvant très polyvalent, mais qui a été condamné par le protocole de Montréal en raison de son impact sur la couche d'ozone.
Il est connu également d'utiliser des cornpositions de nettoyage se présentant sous la forme de microémulsions stables à tenipérature anibiante telles que décrites clans la demande de brevet FR 2 795 088 qui présentent l'avantage d'éliminer à la fois les saIissures organiques et minérales car elles conibinent une partie solvant et une partie minérale.
Cependant, il est nécessaire d'effectuer un rinçage à l'eau de la surface traitée avec lesdites compositions type microémulsion et, dans les domaines techniques précités, les surfaces doivent être, non seulement exemptes de toutes salissures minérales et/ou organiques mais égalenient complètement débarrassées d'eau.
On a maintenant trouvé un procédé de nettoyage, permettant d'éliminer toutes salissures organiques et/ou minérales et les traces d'eau d'une surface solide (ou substrat) caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes a) nettoyage de ladite surface solide au nioyen d'une composition de nettoyage de type microémulsion, b) égouttage de ladite surface nettoyée, c) rinçage de ladite surface égouttée avec un solvant organique ou un mélange de solvants organiques de bas point d'ébullition au plus égal à 90 C, et d) séchage de ladite surface rincée en exposant ladite surface à la vapeur produite par le chauffage du solvant organique ou du mélange de solvants organiques utilisé en c).

la La coniposition de nettoyage de type microémulsion utilisée selon l'invention présente l'avantage de pouvoir éliminer efficacement de la surface solide à riettoyer toutes safissures orgariiques et/ou minérales.

-----___. _ _ _ _ _ _ __ ------ --~
f f ~
f ~
/

~
/ - -
2 Cette composition de nettoyage de type microémulsion est décrite dans la demande de brevet FR 2 795 088.
Elle comprend notamment :
(A) 30 à 70 parties en poids, en particulier 35 à 60 parties en poids, d'eau ;
(B) 20 à 60 parties en poids, en particulier 25' à 55 parties en poids, d'au moins un solvant organique liquide à la température ambiante et (C) 5 à 30 parties en poids, en particulier 10 à 25 parties en poids, d'au moins un agent tensio-actif de formule (I) Rl-O.-C-CH2- CH-C-.O-RZ M p Il l o ll SOg dans laquelle :
- R' et R" représentent chacun indépendamment un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C5 CZO ;
- M est un cation choisi parmi Na", Ko et NR4 les R représentant chacun indépendamment hydrogène ou un radical alkyle en C1-C4 ;
(A) + (B) + (C) représentant 100 parties en poids.
. L'étape a) de nettoyage peut être réalisée dans une cuve , à
immersion ou un bain à douche en combinaison avec des ondes ultrasoniques, des vibrations ou des secousses mécaniques.
La composition de nettoyage de type microémulsion sera utilisée à une température allant de la température ambiante (environ 20 C) à
60 C et, de préférence, à une température comprise entre 20 C et 40 C.
La durée de nettoyage de la surface solide - étape a) - est fonction du type de salissure et de son adhérence à la surface solide.
Cetté durée de nettoyage ne dépasse pas 5 minutes et, de préférence, est comprise entre 1 et 3 minutes.
Le ou les solvants organiques (B) contenu(s) dans la composition de nettoyage de type microémulsion utilisée dans l'étape a) sont choisis de préférence parmi les hydrocarbures aliphatiques, les monoéthers des aikylène glycols et les monoéthers des dialkylène glycols.
3 PCT/FR02/00035 Les hydrocarbures aliphatiques peuvent être des hydrocarbures linéaires, ramifiés, cycliques ou leurs combinaisons. Ils contiennent notamment de 3 à 24 atomes de carbone, de préférence 6 à 24 atomes de carbone. Des exemples d'hydrocarbures aliphatiques disponibles dans le commerce sont :
- les NORPARTM 12, 13 et 15 (solvants paraffiniques normaux disponibles auprès de la Société "EXXON CORPORATION") ;
- les iSOPARTM G, H, K, L, M, V (solvants isoparaffiniques disponibles auprès de la Société "EXXON CORPORATION") ;
- les solvants SHELLSOLTM (disponibles auprès de la Société "SHELL
CHEMICAL COMPANY") ;
- les PETROSOLVTM de CEPSA D-15/20, D-19/22, D-20/26, D-24/27, D-28/31 (solvants paraffiniques et isoparaffiniques disponibles aurpès de la Société "CEPSA") ;
-. les solvants hydrocarbonés EXXSOLTM commercialisés par la Société
"EXXON CORPORATION" ;
- les coupes kérosènes telles que les KETRUL 211, 212, D80, D85, commercialisées par la Société TOTALFINAELF.
Les monoéthers des alkylènes glycois peuvent être notamment les monoéthers du propylène glycol en C4-C25, tels que l'éther monométhylique du propylène glycol (PM), l'éther monoéthylique du propylène glycol (PE); l'éther mono-n-propylique du propylène glycol (PNP), l'éther mono-tert.-butylique du propylène glycol (PTB), l'éther mono-n-butylique.du propylène glycol (PNB) et l'éther mono-hexylique du propylène glycol ;
Les monoéthers des dialkylène glycols peuvent être par exemple l'éther monométhylique du dipropylène glycol (DPM), l'éther mono-n-propylique du dipropylène glycol (DPNP), l'éther mono-tert.-butylique du dipropylène glycol (DPTB), l'éther mono-n-butylique du dipropylène glycol (DPNB) et l'éter monohexylique du dipropylène glycol ; et l'éther n-butylique du diéthylène glycol (Butyl Diglycol Ether - BDG), l'éther hexylique du diéthylène glycol et l'éther octylique du diéthylène glycol.
La composition utilisable selon l'invention peut en outre contenir - au moins un agent séquestrant, tel que l'acide éthylène diamine tétra acétique (EDTA) et ses sels, à raison notament de 0,01 à 0,1 partie en poids pour 100 parties en poids de (A) +(B) +(C) ; et/ou - au moins un agent anti-corrosion choisi notamment parmi les acide organiques de type RCOOH, R étant un radical hydrocarboné en C4-
4 C24, et les amines, à raison notamment de 0,01 à 0,5 partie en poids pour 100 parties en poids de (A) + (B) + (C) ; et/ou - au moins un additif, dans les quantités usuelles, choisi parmi les désinfectants, les fongicides (sels d'ammonium quaternaires) et les biocides (peroxydes organiques, peroxyde d'hydrogène, composés à
halogène actif, sels inorganiques phénoliques, sels d'ammonium quaternaires, dérivés organométalliques, dérivés organosoufrés) et/ou - au môins un parfum.
La surface solide nettoyée est soumise à une étape b) d'égouttage qui consiste à retirer ladite surface solide nettoyée de la composition de nettoyage et de l'égoutter à température ambiante pendant une durée allant de 30 secondes à 1 minute.
Ensuite, la surface solide égouttée est soumise à une étape de rinçage c) qui s'effectue avec un solvant organique ou un mélange de solvants organiques, inertes, de préférence non-inflammables et de bas point d'ébullition.
Cette étape de rinçage s'effectue à une température inférieure de 10 à 15 C, de préférence inférieure de 5 C du point d'ébullition du solvant organique ou du composé le plus volatile du mélange de solvants organiques utilisés pour ladite étape de rinçage.
S'agissant des mél'anges de solvants organiques, on utilisera tout particulièrement des mélanges azéotropiques ou quasi azéotropiques.
Par solvant organique ou mélange de solvants organiques de bas point d'ébullition, on désigne présentement un solvant organique ou un mélange de solvants organiques ayant une température d'ébullition au plus égal à 90 C et, de préférence, comprise entre 25 C et 70 C.
Le solvant organique ou le mélange de solvants organiques peuvent être notamment choisis parmi - les "alcools aliphatiques tels que le méthanol, l'éthanol, l'isopropanol, le butanoi ; -- les esters aliphatiques tels que l'acétate d'éthyle, de butyle ; ie formiate de méthyle ;
- les hydrocarbures saturés linéaires, ramifiés ou cycliques qui contiennent de 5 à 7 atomes de carbone, tels que : le pentane, l'hexane, l'heptane, le cyclopentane, le cyclohexane ;
- les cétones aliphatiques tels que l'acétone, la méthyléthylcétone - les éthers aliphatiques tels que le tétrahydrofurane (THF), le diéthyléther, le dipropyléther, le dibutyléther ;
- les acétals tels que le diméthoxyméthane (méthylaf) - les hydrocarbures aliphatiques halogènes tels que le chlorure de
5 méthylène, le trichloroéthylène, les perfluoroalcanes CõF2ri+2 avec n allant de 4 à 8, les hydrofluorocarbones (HFC) tels que le 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-décafluoropentane (4310 mee), le 1,1,1,3,3-pentaflùorobutane (365 mfc) ;
- les hydrofluorochiorocarbones (HCFC) tels que le 1,1-dichloro-1-fluoroéthane (141 b), les hydrofluoroéthers tels que le perfluorométhyléther (C4F9OCH3) ;
ou le mélange d'au moins deux des composés précités.
De préférence, on utilisera des mélanges azéotropiques ou quasi azéotropiques d'au moins deux des composés précités.
A titre d'illustration de tels mélanges azéotropiques ou quasi azéotropiques utilisables selon la présente invention comme solvant de rinçage, on citera :
- les azéotropes mentionnés dans la demande de brevet FR 2 781 499-Al tels que l'azéotrope binaire 4310 mee / 365 mfc (9/91), (les chiffres entre parenthèses indiquent les pourcentages ren poids respectivement des constituants de I'azéotrope), l'azéotrope ternaire 4310 mee / 365 mfc / CH3OH (12/83/5) ;
- les azéotropes mentionnés dans la demande de brevet FR 2 792 648 tels que l'azéotrope binaire 4310 mee / trichloroéthylène (89/11), l'azéotrope ternaire 4310 mee / trichloroéthylène / CH3OH
(84,5/9,5/6), l'azéotrope ternaire 4310 mee / trichloroéthylène f isopropanoi (88,2/9,6/2,2), l'azéotrope ternaire 4310 mee /
trichloroéthylène / méthylal (87/9/4) ;
- les azétropes mentionnés dans la demande de brevet FR 2 792 649 tels que l'azéotrope quaternaire 4310 mee / CH2CI2 / cyclopentane /
CH3OH (47,5/32,7/17/2,8) ;
- les azéotropes mentionnés dans la demande de brevet FR 2 792 647 tels que l'azéotrope quaternaire 365 mfc / CH2CI2 / CH3OH / 4310 mee (56,2/39,8/3,5/0,5) ;
- les azéotropes ou quasi azéotropes mentiorinés dans la demande de brevet FR 2 766 836 tels que le quasi azéotrope ternaire 365 mfc /
CH2CIZ / CH3OH (89/7/4) ;
6 - les azéotropes mentionnés dans la demande de brevet FR 2 759 090 tels que l'azéotrope binaire '4310 mee / CH2CI2 (50/50).
Parmi tous ces mélanges azéotropiques, on préfère tout particulièrement l'azéotrope ternaire 4310 mee / 365 mfc / CH3OH
5(12,83,5), l'azéotrope binaire .4310 mee / CH2CI2 (50/50), l'azéotrope binaire 365 mfc / CH2CI2 (56,6/43,4), l'azéotrope binaire 4310 mee /
365 mfc (9/91), le quasi azéotrope ternaire 365 mfc / CH2CI2 / CH3OH
(89/7/4), l'azéotrope binaire 141b / méthanol (96/4), l'azéotrope ternaire 365/CH2CI2 / CH3OH (57/39,5/3,5).
Selon la présente invention, l'étape de séchage d) est réalisée en exposant la surface solide rincée, à la vapeur produite par le chauffage du solvant organique ou du mélange de solvants organiques utilisés dans l'étape de rinçage c). Dans le cas d'un mélange de solvants non azêotropiques, la surface rincée sera séchée par la vapeur du composé le plus volatile.
La durée du séchage est d'au moins 20 secondes et, de préférence, comprise entre 30 secondes et 1 minute.
Le procédé selon la présente invention s'applique tout particulièrement pour l'élimination de salissures organiques et/ou minérales de surfaces solides de pièces métalliques, de céramiques, de verres, de matières plastiques, de circuits imprimés (pièces électroniques, pièces de semi-conducteurs).
Le procédé de la présente invention permet d'obtenir des surfaces solides propres, exemptes de toutes salissures organiques et/ou minérales ainsi que de traces d'eau. Les pièces nettoyées au moyen du procédé selon l'invention sont utilisables immédiatement pour d'autres opérations de traitement telles que par exemple, peinture, électrodéposition.
Le dispositif pour mettre en oruvre le procédé selon l'invention peut être constitué par la séquence des appareils suivants :
- Une première cuve dans laquelle s'effectue le nettoyage de la surface solide avec la composition type microémulsion. Cette cuve peut être munie de moyens de chauffage et de moyens permettant de produire des ultra-sons. La pièce (ou les pièces) à nettoyer, disposée sur un panier, est immergée dans un bain de la composition type microémulsion à une température et pendant une durée telles que définies précédemment.
7 - La pièce est ensuite retirée du bain puis égouttée, cie préférence au dessus d'un plan iricliné qui perniet le retour de la coniposition type microémulsion dans la cuve de nettoyage puis elle est dirigée vers le cycle de rinçage/séchage.
Les étapes de rinçage séchage sont de préférence réalisées dans une machine de commerce comprenant au moins deux cuves munies de nioyens de chauffage et de condensation.
Dans une première cuve, éventuellement munie de moyens de production d'ultrasons, on effectue le rinçage de la pièce par son immersion dans un bain de solvant organique ou d'un mélange de solvants organiques porté à une température telle que définie précédemment. Ensuite, la pièce est retirée dudit bain puis véhiculée vers la seconde cuve pour y ëtre séchée. Cette seconde cuve contient le solvant organique ou le mélange de solvants organiques utilisés dans la cuve précédente de rinçage qui est porté à son point d'ébullition.
La pièce est donc séchée par les vapeurs du solvant organique ou du niélange de solvants organiques irtilisés pour le rinçage. Ces vapeurs sont condensées au moyen d'un serpentin de condensation réfrigéré et recyclés dans la cuve de rinçage liquide.
Les exemples qui suivent illustrent l'invention.
Appareillage :
On place en ligne - une cuve de nettoyage contenant 5 litres d'une composition type niicroémulsion, - un plan incliné d'égouttage de la microémulsion avec retour dans la cuve de nettoyage, et - urie machine 2 cuves type 8125 (comrriércialisée par la Société
BRANSON ULTRASONIC S.A.).
Le scliéma de la séquence est le suivant - Nettoyage -~- Egouttage Rinçage 1 Séchage ~
1 niinute 30 secondes 2 minutes 30 secondes Pièces à nettoyer - urie plaque inox 316L de dimensions 100x100x1 nirn est revêtue * *
d'huile de coupe MOBIL CUT 151 ou d'huile ci'usinage MOBIL 766, - une grille inox de dimensions 100x100 (40 brins par cm) est enduite des mêmes salissures.

* (marques de commerce) ~
Ces plaques et la grille sont disposées sur un panier qui effectue la séquence ci-dessus.
Produits utilisés :
- Composition de nettoyage type microémulsion (% exprimés en poids) s - eau : 42 %
- coupe pétrolière KETRUL 21 1: 32 %
- tensio actif "EMPIMIN OP 070 commercialisé par la Société "Albrigth et Wilson Iberica" : 18 %
- l'éther mono-n-butylique du dipropylene glycol (DPNB) : 8 %
- additifs anti-corrosion : 0,15 % par rapport à la somme eau, coupe pétrolière, tension actif, DPNB soit - acide heptanoïque (0,063 %) - acide undécyclique (0,0435 %) *
- IRGAMET 42 (aniine cyclique) (0,0435 %) - Solvants organiques ou mélanges de solvants organiques utilisés sont reportés dans le tableau 1 ci-après avec leur température d'ébullition.
On effectue la séquence de nettoyage selon le schéma ci-dessus sur les plaques et la grille revêtues des salissures mentionnées ci-dessus. La température du bain de la cuve de nettoyage est de 40 C.
La tenipérature de rinçage est égale à Te-5 C, Te étant la température d'ébullition du solvant organique, de l'azéotrope ou bien du quasi azéotrope.
Les résultats sont reportés dans le tableau 1.

ssai Solvant de rinçage et de séchage Te spect des plaque ( C) et grilles nettoyées 1 Azéotrope 4310 niee 1365 mfc (9/91) 36,5 2 Azéotrope 4310 mee / 365 mfc /CH30H (12/83/5) 33,2 Ne présentent 3 Quasi-azéotrope 365 mfc /CH2CIZ/ CH,OH (8917/4-) 35,7 plus aucune 4 Azéotrope 4310 mee /CH2CI2 (50/50) 34,2 salissure 5 CHzCfz stabilisé 40 Les surfaces G Azéotrope 1,1-dichloro-1-fluoroéthane/méthanol (96/4) 29 sont parfaitement 7 richloroéthylène stabilisé 86,7 propres et sèches.
8 Azéotrope 365 mfc / CH2CI2 / CH3OH (57/39/3,5) 32,1
9 Azéotrope 365 nifc / CH,CIZ (56,6/43,4) 33,6 * (marque de commerce)

Claims (20)

REVENDICATIONS
1. Procédé de nettoyage d'une surface solide, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes:
a) nettoyage de ladite surface solide au moyen d'une composition de nettoyage de type microémulsion, b) égouttage de ladite surface nettoyée, c) rinçage de ladite surface égouttée avec un solvant organique ou un mélange de solvants organiques de point d'ébullition au plus égal à 90°C, et d) séchage de ladite surface rincée en exposant ladite surface à la vapeur produite par le chauffage du solvant organique ou du mélange de solvants organiques utilisé en c).
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la composition de nettoyage de type microémulsion est utilisée à une température allant de la température ambiante à 60°C.
3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la composition de nettoyage de type microémulsion est utilisée à une température comprise entre 20°C et 40°C.
4. Procédé selon l'une quelconques des revendications 1 et 2, caractérisé
en ce que la durée du nettoyage (étape a)) ne dépasse pas 5 minutes.
5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la durée de l'égouttage va de 30 secondes à 1 minute.
6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape de rinçage c) est effectuée à une température inférieure de 10 à 15°C du point d'ébullition du solvant organique ou du composé le plus volatile du mélange de solvants organiques utilisés dans ladite étape de rinçage.
7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape de rinçage c) est effectuée à une température inférieure de 5°C du point d'ébullition du solvant organique ou du composé le plus volatile du mélange de solvants organiques utilisés dans ladite étape de rinçage.
8. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1, 6 et 7, caractérisé
en ce que le solvant organique ou le mélange de solvants organiques ont une température d'ébullition comprise entre 25°C et 70°C.
9. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la durée de l'étape de séchage d) est d'au moins 20 secondes.
10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que la durée de l'étape de séchage est comprise entre 30 secondes et 1 minute.
11. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la composition de nettoyage de type microémulsion comprend:
(A) 30 à 70 parties en poids, d'eau;
(B) 20 à 60 parties en poids, d'au moins un solvant organique liquide à la température ambiante; et (C) 5 à 30 parties en poids, d'au moins un agent tensio-actif de formule (I):
dans laquelle:
- R1 et R2 représentent chacun indépendamment un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C5-C20;

- M est un cation choisi parmi Na~, K~ et NR4~ les R représentant chacun indépendamment hydrogène ou un radical alkyle en C1-C4;

(A) +(B) +(C) représentant 100 parties en poids.
12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que ladite composition de nettoyage comprend:
(A) 35 à 60 parties en poids, d'eau;
(B) 25 à 55 parties en poids, dudit solvant organique; et (C) 10 à 25 parties en poids, dudit agent tensio-actif de formule (I).
13. Procédé selon la revendication 11 ou 12, caractérisé en ce que le ou les solvant(s) organique(s) (B) contenu(s) dans la composition de nettoyage de type microémulsion utilisée dans l'étape a) est (sont) choisi(s) parmi les hydrocarbures aliphatiques, les monoéthers des alkylène glycols et les monoéthers des dialkylène glycols.
14. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12; caractérisé en ce que le solvant organique ou le mélange de solvants organiques utilisés dans les étapes c) et d) sont choisis parmi les alcools aliphatiques; les esters aliphatiques; les hydrocarbures saturés linéaires, ramifiés ou cycliques, contenant de 5 à 7 atomes de carbone; les cétones aliphatiques; les éthers aliphatiques; le diméthoxyméthane, le chlorure de méthylène, le trichloroéthylène, les perfluoroalcanes C n F2n+2 avec n allant de 4 à 8; les hydrofluorocarbones (HFC); les hydroflurochlorocarbones (HCFC) et le mélange d'au moins deux des composés précités.
15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que les alcools aliphatiques sont le méthanol ou l'isopropanol.
16. Procédé selon la revendication 14 ou 15, caractérisé en ce que les esters aliphatiques sont l'acétate d'éthyle.
17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 14 à 16, caractérisé
en ce que les HFC sont le 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-décafluoropentane (4310 mee) ou le 1,1,1,3,3-pentafluorobutane (365 mfc).
18. Procédé selon l'une quelconque des revendications 14 à 17, caractérisé
en ce que les HCFC sont le 1,1-dichloro-1-fluroéthane (141 b) ou le perfluorométhyléther (C4F9OCH3).
19. Procédé selon l'une quelconque des revendications 14 à 18, caractérisé
en ce que les mélanges de solvants organiques sont des mélanges azéotropiques ou quasi azéotropiques des composés mentionnés.
20. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que les mélanges azéotropiques ou quasi azéotropiques utilisés dans les étapes c) et d) sont l'azéotrope binaire 4310 mee/365 mfc/(9/91), l'azéotrope ternaire 4310 mee/365 mfc/CH3OH (12/83/5), le quasi azéotrope ternaire 365 mfc/CH2Cl2/(50/50), l'azéotrope binaire 1,1-dichloro-1-fluoro-éthane/méthanol (96/4), l'azéotrope ternaire 365 mfc/CH2Cl2/CH3OH
(57/39,5/3,5) ou l'azéotrope binaire 365 mfc/CH2Cl2 (56,6/43,4).
CA002434183A 2001-01-09 2002-01-07 Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion Expired - Fee Related CA2434183C (fr)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0100228A FR2819201B1 (fr) 2001-01-09 2001-01-09 Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion
FR01/00228 2001-01-09
PCT/FR2002/000035 WO2002055223A1 (fr) 2001-01-09 2002-01-07 Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CA2434183A1 CA2434183A1 (fr) 2002-07-18
CA2434183C true CA2434183C (fr) 2009-10-06

Family

ID=8858628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CA002434183A Expired - Fee Related CA2434183C (fr) 2001-01-09 2002-01-07 Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion

Country Status (12)

Country Link
US (1) US7417018B2 (fr)
EP (1) EP1349678B1 (fr)
JP (1) JP2004525753A (fr)
KR (1) KR100502532B1 (fr)
CN (1) CN1236866C (fr)
AT (1) ATE313390T1 (fr)
AU (1) AU2002229853B2 (fr)
CA (1) CA2434183C (fr)
DE (1) DE60208154D1 (fr)
ES (1) ES2253518T3 (fr)
FR (1) FR2819201B1 (fr)
WO (1) WO2002055223A1 (fr)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4663891B2 (ja) * 2001-02-19 2011-04-06 東燃化学株式会社 熱可塑性樹脂成形体の洗浄方法およびこれを利用した熱可塑性樹脂微多孔膜の製造方法
CN1690120A (zh) * 2004-03-01 2005-11-02 三菱瓦斯化学株式会社 具有高减震能力的树脂组合物
FR2873689B1 (fr) * 2004-07-29 2006-10-13 Arkema Sa Composition a base de 1,1,1,3,3,-pentafluorobutane
JP3994992B2 (ja) * 2004-08-13 2007-10-24 三菱瓦斯化学株式会社 シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法
CA2588783C (fr) * 2004-12-17 2012-03-27 Ventana Medical Systems, Inc. Procedes et compositions pour un traitement de tissus a base d'une micro-emulsion
JP6023641B2 (ja) 2013-04-25 2016-11-09 Jxエネルギー株式会社 洗浄剤組成物
CN112404026B (zh) * 2020-09-11 2022-03-01 上海金堂轻纺新材料科技有限公司 一种除油污废水循环利用的工艺

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4650493A (en) * 1980-12-22 1987-03-17 A.B. Electrolux Method of washing textile objects and a device for performing the method
US4975468A (en) * 1989-04-03 1990-12-04 Affinity Biotech, Inc. Fluorinated microemulsion as oxygen carrier
US4956115A (en) * 1989-05-23 1990-09-11 Hoechst Celanese Corporation Water borne solvent strippers
US5196136A (en) * 1991-06-20 1993-03-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Cleaning composition of hydrocarbon component, surfactant and multibasic ester additive
US6090901A (en) * 1991-07-05 2000-07-18 Biocompatibles Limited Polymeric surface coatings
US5213624A (en) * 1991-07-19 1993-05-25 Ppg Industries, Inc. Terpene-base microemulsion cleaning composition
MX9206771A (es) * 1991-12-02 1993-06-01 Allied Signal Inc Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples
FR2691473B1 (fr) * 1992-05-21 2002-05-17 Atochem Elf Sa Compositions pour le démouillage ou le dégraissage de surfaces solides.
ES2173115T3 (es) * 1993-04-02 2002-10-16 Dow Chemical Co Composiciones de limpieza en microemulsion y emulsion.
US5911837A (en) * 1993-07-16 1999-06-15 Legacy Systems, Inc. Process for treatment of semiconductor wafers in a fluid
US5464480A (en) * 1993-07-16 1995-11-07 Legacy Systems, Inc. Process and apparatus for the treatment of semiconductor wafers in a fluid
US5571337A (en) * 1994-11-14 1996-11-05 Yieldup International Method for cleaning and drying a semiconductor wafer
US5634978A (en) * 1994-11-14 1997-06-03 Yieldup International Ultra-low particle semiconductor method
CA2222896C (fr) * 1995-06-02 2007-07-31 Ashland Inc. Nettoyants en micro-emulsions stables ayant une faible teneur en matieres organiques volatiles
US6030754A (en) * 1996-02-05 2000-02-29 Texas Instruments Incorporated Photoresist removal without organic solvent following ashing operation
US5888308A (en) * 1997-02-28 1999-03-30 International Business Machines Corporation Process for removing residue from screening masks with alkaline solution
US5938856A (en) * 1997-06-13 1999-08-17 International Business Machines Corporation Process of removing flux residue from microelectronic components
US6165962A (en) * 1997-07-31 2000-12-26 E. I. Du Pont De Nemours And Comapny Aqueous microemulsions
US5908822A (en) * 1997-10-28 1999-06-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compositions and processes for drying substrates
US6120613A (en) * 1998-04-30 2000-09-19 Micell Technologies, Inc. Carbon dioxide cleaning and separation systems
US6159827A (en) * 1998-04-13 2000-12-12 Mitsui Chemicals, Inc. Preparation process of semiconductor wafer
US6159917A (en) * 1998-12-16 2000-12-12 3M Innovative Properties Company Dry cleaning compositions containing hydrofluoroether
FR2795088B1 (fr) * 1999-06-21 2002-05-24 Atofina Compositions de nettoyage a froid du type microemulsions
US6593283B2 (en) * 2000-04-28 2003-07-15 Ecolab Inc. Antimicrobial composition
US6730595B2 (en) * 2000-12-12 2004-05-04 Mitsui Chemicals, Inc. Protecting method for semiconductor wafer and surface protecting adhesive film for semiconductor wafer used in said method
EP1304103B1 (fr) * 2001-10-22 2008-12-31 Viroblock SA Vesicles non-phospholipidiques (npLV) et leur utilisation en cosmetique, therapeutique et preventive
MXPA04003890A (es) * 2001-10-26 2004-07-08 Unilever Nv Procedimiento de limpieza en seco.
KR100480606B1 (ko) * 2002-08-01 2005-04-06 삼성전자주식회사 아이피에이 증기 건조 방식을 이용한 반도체 웨이퍼 건조장치

Also Published As

Publication number Publication date
DE60208154D1 (de) 2006-01-26
FR2819201B1 (fr) 2003-02-21
CN1236866C (zh) 2006-01-18
WO2002055223A1 (fr) 2002-07-18
CN1496288A (zh) 2004-05-12
ATE313390T1 (de) 2006-01-15
AU2002229853B2 (en) 2007-08-02
CA2434183A1 (fr) 2002-07-18
EP1349678B1 (fr) 2005-12-21
ES2253518T3 (es) 2006-06-01
US20040092420A1 (en) 2004-05-13
KR100502532B1 (ko) 2005-07-20
JP2004525753A (ja) 2004-08-26
KR20030070099A (ko) 2003-08-27
EP1349678A1 (fr) 2003-10-08
US7417018B2 (en) 2008-08-26
AU2002229853B8 (en) 2002-07-24
FR2819201A1 (fr) 2002-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1879687B2 (fr) Procede pour le traitement de surface d'une matiere metallique ou fibreuse
EP1063283B1 (fr) Compositions de nettoyage à froid du type microémulsions
CA2035687C (fr) Application des (perfluoroalkyl)-ethylenes comme agents de nettoyage ou de sechage, et compositions utilisables a cet efet
US5690747A (en) Method for removing photoresist with solvent and ultrasonic agitation
EP1583815B1 (fr) Compositions contenant des hydrocarbures fluores et des solvants oxygenes
CA2434183C (fr) Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion
CA2096713C (fr) Compositions pour le demouillage ou le degraissage de surfaces solides
US5773404A (en) Azeotropic composition
JPH09508165A (ja) 洗浄溶剤及び脱脂溶剤としてのヒドロフルオロアルカン
JP2869432B2 (ja) 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法
JP4292348B2 (ja) パーフルオロブチルメチルエーテル含有共沸様組成物
JPH05148498A (ja) デカフルオロペンタンを含む溶剤組成物
JPH0693294A (ja) 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤
JP2004525753A5 (fr)
CN114502709A (zh) 从基底去除电致发光材料
JPH06136389A (ja) 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤
JPH05500979A (ja) ジクロロペンタフルオロプロパンおよび1〜4個の炭素原子を有するアルカノールの共沸混合物様組成物
JPH06306392A (ja) 共沸及び共沸様組成物とその洗浄剤
FR2672060A1 (fr) Compositions aqueuses contenant notamment des produits d'addition d'oxydes d'alkylenes sur des alcools gras et leur procede d'utilisation pour le degraissage de metaux.
WO2001021750A1 (fr) Detergent
JPH06136388A (ja) 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤
EP1322742A1 (fr) Procede et dispositif de degraissage
JP4135222B2 (ja) ジャスモン酸系化合物よりなる洗浄剤およびそれを用いた洗浄法
JPH06306390A (ja) 共沸及び共沸様組成物とその洗浄剤
JPH06248294A (ja) 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤

Legal Events

Date Code Title Description
EEER Examination request
MKLA Lapsed

Effective date: 20130107