KR20030070099A - 마이크로에멀젼을 사용한 유기 및/또는 무기 오염물의제거에 의한 고형 표면의 세정 방법 - Google Patents
마이크로에멀젼을 사용한 유기 및/또는 무기 오염물의제거에 의한 고형 표면의 세정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030070099A KR20030070099A KR10-2003-7009194A KR20037009194A KR20030070099A KR 20030070099 A KR20030070099 A KR 20030070099A KR 20037009194 A KR20037009194 A KR 20037009194A KR 20030070099 A KR20030070099 A KR 20030070099A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- organic solvent
- cleaning
- mixture
- solid surface
- mfc
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 title 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 title 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000003791 organic solvent mixture Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 8
- -1 alkyl radical Chemical class 0.000 claims description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 claims description 3
- RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)C(F)C(F)(F)C(F)(F)F RIQRGMUSBYGDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3-pentafluorobutane Chemical compound CC(F)(F)CC(F)(F)F WZLFPVPRZGTCKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- WZEOZJQLTRFNCU-UHFFFAOYSA-N trifluoro(trifluoromethoxy)methane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)F WZEOZJQLTRFNCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYIXQTJAIAZSHP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound OCC(C)OCC(C)OC(C)(C)C GYIXQTJAIAZSHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYKNTXVAUYWFFE-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hexoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CCCCCCOCC(C)OCC(C)O XYKNTXVAUYWFFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWPAALSUQKGDBR-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCCCOCC(C)O BWPAALSUQKGDBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDSYZZUVPRGESW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-octoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCOCCOCCO NDSYZZUVPRGESW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- ZXMYWJRDSDSYLF-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;methyl formate Chemical compound COC=O.CCCCOC(C)=O ZXMYWJRDSDSYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- USPLDBATMHXKKD-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;pentane Chemical compound ClCCl.CCCCC USPLDBATMHXKKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/43—Solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/02—Anionic compounds
- C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
- C11D1/123—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from carboxylic acids, e.g. sulfosuccinates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D17/00—Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties
- C11D17/0008—Detergent materials or soaps characterised by their shape or physical properties aqueous liquid non soap compositions
- C11D17/0017—Multi-phase liquid compositions
- C11D17/0021—Aqueous microemulsions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
- C11D7/5077—Mixtures of only oxygen-containing solvents
- C11D7/5081—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
-
- C11D2111/14—
-
- C11D2111/44—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Abstract
본 발명은
a) 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물에 의한 고형 표면의 세정 단계,
b) 세정된 표면의 배수 단계,
c) 배수된 표면의 저 비점 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용한 헹굼 단계 및
d) 상기 단계 c) 에서 사용한 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용하여 헹군 표면의 건조 단계를 포함하는 고형 표면의 세정 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 세정 방법에 관한 것이며, 보다 상세하게는 고형 표면 (또는 기재) 로부터 유기 및/또는 무기 오염물을 제거하는 방법에 관한 것이다.
특히 전기, 전자, 광학 및 기계 산업에서는 최종 산물 부재 또는 재료로부터 또는 최종 변환 단계로 처리전에 무기 및/또는 유기 오염물을 완전 제거할 것을 요구하고 있다.
통상적으로, 이러한 표면은 다가 용매인 1,1,1-트리클로로에탄으로 세정하여 왔으나, 이는 오존층에 영향을 미치기 때문에 몬트리올 의정서에 의거하여 그 사용이 금지되었다.
또한, FR 특허 제 2,795,088 호에 기재된 바와 같은 상온에서 안정한 마이크로에멀젼 형태로 존재하는 세정 조성물을 사용하는 것도 주지되어 있는데, 이는 용매의 일부 및 무기물의 일부와 조합되어 있기 때문에 유기 및 무기 오염물을 동시에 제거하는 잇점이 있다.
한편, 전술한 마이크로에멀젼 형태의 조성물로 처리한 표면으로부터 수세정을 수행하여야만 하는데, 이러한 표면은 단지 무기 및/또는 유기 오염물만을 제거하는 것 뿐 아니라, 물도 완전 제거하여야만 한다.
본 출원인은
a) 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물에 의한 고형 표면의 세정 단계,
b) 세정된 표면의 배수 단계,
c) 배수된 표면의 저 비점 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용한 헹굼 단계 및
d) 상기 단계 c) 에서 사용한 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용하여 헹군 표면의 건조 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고형 표면 (또는 기재) 로부터 유기 및/또는 무기 오염물 및 미량의 물을 제거할 수 있는 세정 방법을 발견하기에 이르렀다.
본 발명에 의하여 사용된 마이크로에멀전형 세정 조성물은 고형 표면으로부터 유기 및/또는 무기 오염물을 모두 효과적으로 세정할 수 있는 잇점을 갖는다.
이러한 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물은 프랑스 특허 제 2,795,088 호에 기재되어 있다.
특히, 이러한 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물은
(A) 물 30∼70 중량부, 특히 35∼60 중량부;
(B) 상온에서 액체인 1 이상의 유기 용매 20∼60 중량부, 특히 25∼55 중량부; 및
(C) 하기 화학식 I 의 1 이상의 계면활성제 5∼30 중량부, 특히 10∼25 중량부를 포함한다:
상기 화학식에서,
- R1및 R2는 각각 독립적으로 C5-C20의 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬 라디칼을 나타내며;
- M 은 Na+, K+및 NR4 +로부터 선택된 양이온이고, 여기서 R 은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4의 알킬 라디칼을 나타내며;
(A)+(B)+(C) 는 100 중량부이다.
세정 단계 a) 는 초음파, 진동 또는 기계적 진탕에 의하여 침지 탱크 또는 샤워조내에서 또는 이들의 조합으로 수행할 수 있다.
마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물은 상온 (약 20℃) 내지 60℃, 바람직하게는 20℃∼40℃ 의 온도에서 사용한다.
단계 a) 의 고형 표면의 세정 시간은 오염물의 종류 및 고형 표면으로의 오염물의 부착에 따라 달라진다.
이러한 세정 시간은 5 분을 초과하지 않아야 하며, 바람직하게는 1∼3 분이다.
단계 a) 에서 사용된 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물 중에 함유된 유기용매(들) (B) 는 지방족 탄화수소, 알킬렌 글리콜 모노에테르 및 디알킬렌 글리콜 모노에테르에서 선택되는 것이 바람직하다.
지방족 탄화수소로는 직쇄형, 분지쇄형, 고리형의 탄화수소, 또는 이의 조합물 등이 있다. 이는 탄소 원자 3∼24 개, 바람직하게는 6∼24 개를 포함한다. 시판 중인 지방족 탄화수소의 예는 하기와 같다:
- NORPARTM12, 13 및 15 ("EXXON CORPORATION" 에서 시판하는 n-파라핀 용매);
- ISOPARTMG, H, K, L, M, V ("EXXON CORPORATION" 에서 시판하는 이소파라핀 용매);
- SHELLSOLTM용매 ("SHELL CHEMICAL COMPANY" 에서 시판함);
- CEPSA D-15/20, D-19/22, D-20/26, D-24/27, D-28/31 의 PETROSOLVTM(쏘시에떼 "CEPSA" 에서 시판하는 파라핀 및 이소파라핀 용매);
- EXXSOLTM탄화수소 용매 ("EXXON CORPORATION" 에서 시판);
- 등유 유분, 예컨대 KETRUL 211, 212, D80, D85 (쏘시에떼 TOTALFINAELF 에서 시판).
알킬렌 글리콜 모노에테르의 예로는 특히 C4-C25의 프로필렌 글리콜 모노에테르, 예컨대 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 (PM), 프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르 (PE), 프로필렌 글리콜 모노-n-프로필 에테르 (PNP), 프로필렌 글리콜 모노-t-부틸 에테르 (PTB), 프로필렌 글리콜 모노-n-부틸 에테르 (PNB) 및 프로필렌 글리콜 모노헥실 에테르 등이 있다.
디알킬렌 글리콜 모노에테르의 예로는 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 (DPM), 디프로필렌 글리콜 모노-n-프로필 에테르 (DPNP), 디프로필렌 글리콜 모노-t-부틸 에테르 (DPTB), 디프로필렌 글리콜 모노-n-부틸 에테르 (DPNB) 및 디프로필렌 글리콜 모노헥실 에테르; 및 디에틸렌 글리콜 n-부틸 에테르 (부틸 디글리콜 에테르-BDG), 디에틸렌 글리콜 헥실 에테르 및 디에틸렌 글리콜 옥틸 에테르 등이 있다.
본 발명에 의해 사용 가능한 조성물은 추가로
- (A) + (B) + (C) 의 100 중량부 당 0.01∼0.1 중량부 비율의 1 이상의 금속 이온 봉쇄제, 예컨대 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA) 및 이의 염; 및/또는
- (A) + (B) + (C) 의 100 중량부 당 0.01∼0.5 중량부 비율의 RCOOH 형 유기산 (여기서, R 은 C4-C24의 탄화수소 라디칼임) 및 아민으로부터 선택된 1 이상의 부식 방지제; 및/또는
- 통상 함량의, 소독제, 살진균제 (4 차 암모늄염) 및 살생제 (유기 과산화물, 과산화수소, 활성 할로겐 화합물, 무기 페놀염, 4 차 암모늄염, 유기금속 유도체, 유기황화물 유도체) 로부터 선택된 1 이상의 첨가제 및/또는
- 1 이상의 향료를 포함한다.
세정된 고형 표면을 세정 조성물로부터 꺼내고, 이를 상온에서 30 초∼1 분간 배수시키는 것으로 이루어지는 배수 단계 b) 로 상기 세정된 고형 표면을 처리한다.
그 후, 배수된 고형 표면을 불활성 유기 용매 또는 유기 용매의 혼합물, 바람직하게는 비-인화성의 저비점의 용매를 사용하여 수행하는 헹굼 단계 c) 로 처리한다.
이러한 헹굼 단계는 헹굼 단계에서 사용된 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 고 휘발성 화합물의 비점보다 10℃∼15℃ 낮은, 바람직하게는 5℃ 낮은 온도에서 수행한다.
유기 용매의 혼합물을 사용하는 경우, 특히 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물을 사용할 수 있다.
저비점 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 경우, 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물은 비점이 90℃ 이하, 바람직하게는 25℃∼70℃ 인 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용한다.
유기 용매 또는 유기 용매 혼합물은 특히
- 지방족 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올;
- 지방족 에스테르, 예컨대 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트; 메틸 포르메이트;
- C5-C7의 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형의 포화 탄화수소, 예컨대 펜탄, 헥산, 헵탄, 시클로펜탄, 시클로헥산;
- 지방족 케톤, 예컨대 아세톤, 메틸에틸케톤;
- 지방족 에테르, 예컨대 테트라히드로푸란 (THF), 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디부틸에테르;
- 아세탈, 예컨대 디메톡시메탄 (메틸알);
- 지방족 탄화수소 할로겐화물, 예컨대 염화메틸렌, 트리클로로에틸렌, 퍼플루오로알칸 CnF2n+2(여기서 n 은 4∼8 임), 히드로플루오로카본 (HFC), 예컨대 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로펜탄 (4310 mee), 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄 (365 mfc);
- 히드로플루오로클로로카본 (HCFC), 예컨대 1,1-디클로로-1-플루오로에탄 (141b), 히드로플루오로에테르, 예컨대 퍼플루오로메틸에테르 (C4F9OCH3); 또는
전술한 화합물 2 이상의 혼합물로부터 선택된다.
전술한 화합물 2 이상의 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.
헹굼 용매로서 본 발명에 의하여 사용 가능한 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물의 예로는
- 프랑스 특허 출원 제 2,781,499A1 호에서 언급된 공비 화합물, 예컨대 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc (9/91), (괄호안의 숫자는 각 공비 혼합물 성분의 중량비를 나타냄), 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc/CH30H (12/83/5) ;
- 프랑스 특허 제 2,792,648 호에 언급된 공비 혼합물, 예컨대 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/트리클로로에틸렌 (89/11), 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/트리클로로에틸렌/CH30H (84.5/9.5/6), 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/트리클로로에틸렌/이소프로판올 (88.2/9.6/2.2), 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/트리클로로에틸렌/메틸알 (87/9/4);
- 프랑스 특허 제 2,792,649 호에 언급된 공비 혼합물, 예컨대 4 성분 공비 혼합물 4310 mee/CH2Cl2/시클로펜탄/CH30H (47.5/32.7/17/2.8);
- 프랑스 특허 제 2,792,647 호에 언급된 공비 혼합물, 예컨대 4 성분 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH30H/4310 mee (56.2/39.8/3.5/0.5);
- 프랑스 특허 제 2,766,836 호에 언급된 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물, 예컨대 3 성분 준공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH3OH (89/7/4);
- 프랑스 특허 제 2,759,090 호에 언급된 공비 혼합물, 예컨대 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/CH2Cl2(50/50) 등이 있다.
이러한 공비 혼합물 중에서, 특히 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc/CH30H (12/83/5), 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/CH2Cl2(50/50), 2 성분 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2(56.6/43.4), 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc (9/91), 3 성분 준공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH3OH (89/7/4), 2 성분 공비 혼합물 141b/메탄올 (96/4), 3 성분 공비 혼합물 365/CH2Cl2/CH3OH (57/39.5/3.5) 등이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 건조 단계 d) 는 상기 세정된 고형 표면을 헹굼 단계 c) 에서 사용된 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 가열에 의하여 생성된 증기에 노출시켜 수행한다. 비공비 용매 혼합물의 경우, 헹군 표면은 휘발성이 더 큰 화합물의 증기에 의하여 건조시킨다.
건조 시간은 20 초 이상, 바람직하게는 30 초∼1 분이다.
특히, 본 발명에 의한 방법은 금속제, 세라믹제, 유리제, 플라스틱제, 인쇄 회로 (전자 부품, 반도체 부품) 의 고형 표면으로부터 유기 및/또는 무기 오염물을 제거하기 위한 것이다.
본 발명의 방법은 모든 유기 및/또는 무기 오염물 및 미량의 물이 제거된 적절한 고형 표면을 얻을 수 있다. 본 발명에 의한 방법으로 세정된 부재는 예를 들면 도색, 전착과 같은 기타의 처리 작업에 직접 사용 가능하다.
본 발명에 의한 방법을 수행하기 위한 장치는 하기와 같은 장치 순서에 의하여 이루어질 수 있다:
- 마이크로에멀젼 형태의 조성물을 사용한 고형 표면의 세정을 수행하는 제 1 의 탱크. 이러한 탱크에는 가열 수단 및 초음파를 발생할 수 있는 수단이 구비되어 있을 수 있다. 바스켓 상에 배치된 세정 부재(들)를 상기에서 정의한 온도 및 시간에서 마이크로에멀젼 형태의 조성물의 조내에 침지시킨다.
- 그 후, 이러한 부재를 조에서 꺼낸 후 배수시키고, 바람직하게는 세정 탱크 내의 마이크로에멀젼 형태의 조성물의 복귀가 가능한 경사면 상에서 배수시킨 후, 이를 헹굼/건조 사이클로 이송한다.
헹굼-건조 단계는 가열 수단 및 응축 수단이 구비된 2 이상의 탱크를 포함하는 시판되는 기기 내에서 수행하는 것이 바람직하다.
임의로 초음파 발생 수단이 구비된 제 1 탱크 내에서, 상기에서 정의된 온도의 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 조내에서의 침지에 의하여 부재의 세정을 수행한다. 그 후, 부재를 조로부터 꺼낸 후, 제 2 탱크로 이송하여 건조시킨다. 이러한 제 2 탱크는 비점을 갖는 선행 헹굼 탱크 내에서 사용되는 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 포함한다.
그리하여 헹굼에 사용되는 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 증기로 부재를 건조시킨다. 이러한 증기를 액체 헹굼 탱크 내에서 냉각 및 재순환되는 응축 나선관에 의하여 응축시킨다.
하기 실시예는 본 발명을 예시한다.
장치 세트:
- 마이크로에멀젼 형태의 조성물 5 ℓ를 포함하는 세정 탱크,
- 세정 탱크 내에서의 복귀와 마이크로에멀젼의 배수의 경사면, 및
- B125 형의 2 개의 탱크 기기 (쏘시에떼 BRANSON ULTRASONIC S.A. 에서 시판) 를 직렬로 배치한다.
하기의 순서를 따른다.
세정 부재:
- 100 ×100 ×1 ㎜ 크기의 316ℓ 스테인레스 스틸판에 MOBIL CUT 151 유분 오일 또는 MOBIL 766 기계 가공유를 도포한다.
- 100 ×100 [1 ㎝당 40 개의 브렝 (brin)] 크기의 스테인레스 스틸 그릴에 동일한 오염물을 바른다.
이러한 판과 그릴을 상기와 같은 순서로 수행하는 바스켓에 배치한다.
사용된 생성물:
- 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물 (중량% 기준)
·물 42%
·KETRUL 211 석유 유분 32%
·쏘시에떼 "Albright et Wilson Iberica" 에서 시판하는 EMPIMIN OP 070 계면활성제 18%
·디프로필렌 글리콜 모노-n-부틸 에테르 (DPNB) 8%
·부식 방지 첨가제 0.15% (물, 석유 유분, 계면활성제, DPNB의 총합 기준) 즉: 헵탄산 (0.063%), 운데실산 (0.0435%), IRGAMET 42 (고리형 아민) (0.0435%),
- 사용된 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 비점과 함께 하기 표 1 에 기재하였다.
상기에서 언급한 오염물을 바른 판 및 그릴상에 상기의 방법에 의하여 세정 순서로 수행하였다. 세정 탱크의 조 온도는 40℃이었다.
헹굼 온도는 Te-5℃이고, Te는 유기 용매, 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물의 비점이다.
결과를 하기 표 1에 기재한다.
| 분석 | 헹굼 용매 및 건조 용매 | Te(℃) | 세정된 판 및 그릴 |
| 1 | 공비 혼합물 4310 mee / 365 mfc (9/91) | 36.5 | 더이상 더러움이 없었음표면은 완전히 깨끗하며 건조되었음 |
| 2 | 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc/CH30H (12/83/5) | 33.2 | |
| 3 | 준공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH3OH (89/7/4) | 35.7 | |
| 4 | 공비 혼합물 4310 mee/CH2Cl2(50/50) | 34.2 | |
| 5 | 안정화된 CH2Cl2 | 40 | |
| 6 | 공비 혼합물 1,1-디클로로-1-플루오로에탄/메탄올(96/4) | 29 | |
| 7 | 안정화된 트리클로로에틸렌 | 86.7 | |
| 8 | 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH30H (57/39/3.5) | 32.1 | |
| 9 | 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2(56.6/43.4) | 33.6 |
Claims (13)
- a) 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물에 의한 고형 표면의 세정 단계,b) 세정된 표면의 배수 단계,c) 배수된 표면의 저 비점 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용한 헹굼 단계 및d) 상기 단계 c) 에서 사용한 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물을 사용하여 헹군 표면의 건조 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항에 있어서, 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물은 상온∼60℃ 의 온도, 바람직하게는 20℃∼40℃ 의 온도에서 사용되는 것을 특징으로 하는 것인 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 단계 a) 의 세정 시간은 5 분을 초과하지 않는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항에 있어서, 배수 시간은 30 초∼1 분인 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항에 있어서, 세정 단계 c) 는 헹굼 단계에서 사용된 유기 용매 또는유기 용매 혼합물의 고 휘발성 화합물의 비점보다 10℃∼15℃ 낮은, 바람직하게는 5℃ 낮은 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항에 있어서, 건조 단계 d) 는 세정된 고형 표면을 단계 c) 에서 사용된 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물의 가열에 의하여 생성된 수증기에 노출시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항, 제 5 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물은 비점이 90℃ 이하, 바람직하게는 25℃∼70℃ 인 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항 또는 제 6 항에 있어서, 건조 단계 d) 의 시간은 20 초 이상, 바람직하게는 30 초∼1 분인 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항에 있어서, 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물은(A) 물 30∼70 중량부, 특히 35∼60 중량부;(B) 상온에서 액체인 1 이상의 유기 용매 20∼60 중량부, 특히 25∼55 중량부; 및(C) 하기 화학식 I의 1 이상의 계면활성제 5∼30 중량부, 특히 10∼25 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법:[화학식 I]상기 화학식에서,- R1및 R2는 각각 독립적으로 C5-C20의 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬 라디칼을 나타내며;- M 은 Na+, K+및 NR4 +로부터 선택된 양이온이고, 여기서 R 은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C4의 알킬 라디칼을 나타내며;(A)+(B)+(C) 는 100 중량부이다.
- 제 9 항에 있어서, 단계 a) 에서 사용된 마이크로에멀젼 형태의 세정 조성물 중에 함유된 유기 용매(들) (B) 는 지방족 탄화수소, 알킬렌 글리콜 모노에테르 및 디알킬렌 글리콜 모노에테르에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 c) 및 d) 에서 사용된 유기 용매 또는 유기 용매 혼합물은 지방족 알콜, 바람직하게는 메탄올 또는 이소프로판올; 지방족 에스테르, 바람직하게는 에틸 아세테이트; C5-C7의 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형의 포화 탄화수소; 지방족 케톤; 지방족 에테르; 디메톡시메탄, 염화메틸렌, 트리클로로에틸렌, 퍼플루오로알칸 CnF2n+2(여기서, n 은 4∼8 임); 히드로플루오로카본 (HFC), 바람직하게는 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로펜탄 (4310 mee) 또는 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄 (365 mfc); 히드로플루오로클로로카본 (HCFC), 바람직하게는 1,1-디클로로-1-플루오로에탄 (141b), 퍼플루오로메틸에테르 (C4F9OCH3) 또는 상기 화합물 2 이상의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 유기 용매 혼합물은 전술한 화합물의 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물인 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
- 제 12 항에 있어서, 단계 c) 및 d) 에서 사용된 공비 혼합물 또는 준공비 혼합물은 2 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc (9/91), 3 성분 공비 혼합물 4310 mee/365 mfc/CH3OH (12/83/5), 3 성분 준공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2(50/50), 2 성분 공비 혼합물 1,1-디클로로-1-플루오로에탄/메탄올 (96/4), 3 성분 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2/CH3OH (57/39.5/3.5) 또는 2 성분 공비 혼합물 365 mfc/CH2Cl2(56.6/43.4)인 것을 특징으로 하는 고형 표면의 세정 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0100228A FR2819201B1 (fr) | 2001-01-09 | 2001-01-09 | Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion |
| FR01/00228 | 2001-01-09 | ||
| PCT/FR2002/000035 WO2002055223A1 (fr) | 2001-01-09 | 2002-01-07 | Procede de nettoyage d'une surface solide par elimination de salissures organiques et/ou minerales au moyen d'une microemulsion |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030070099A true KR20030070099A (ko) | 2003-08-27 |
| KR100502532B1 KR100502532B1 (ko) | 2005-07-20 |
Family
ID=8858628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-2003-7009194A KR100502532B1 (ko) | 2001-01-09 | 2002-01-07 | 마이크로에멀젼을 사용한 유기 및/또는 무기 오염물의제거에 의한 고형 표면의 세정 방법 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7417018B2 (ko) |
| EP (1) | EP1349678B1 (ko) |
| JP (1) | JP2004525753A (ko) |
| KR (1) | KR100502532B1 (ko) |
| CN (1) | CN1236866C (ko) |
| AT (1) | ATE313390T1 (ko) |
| AU (1) | AU2002229853B2 (ko) |
| CA (1) | CA2434183C (ko) |
| DE (1) | DE60208154D1 (ko) |
| ES (1) | ES2253518T3 (ko) |
| FR (1) | FR2819201B1 (ko) |
| WO (1) | WO2002055223A1 (ko) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4663891B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-04-06 | 東燃化学株式会社 | 熱可塑性樹脂成形体の洗浄方法およびこれを利用した熱可塑性樹脂微多孔膜の製造方法 |
| CN1690120A (zh) * | 2004-03-01 | 2005-11-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 具有高减震能力的树脂组合物 |
| FR2873689B1 (fr) * | 2004-07-29 | 2006-10-13 | Arkema Sa | Composition a base de 1,1,1,3,3,-pentafluorobutane |
| JP3994992B2 (ja) * | 2004-08-13 | 2007-10-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法 |
| EP2392908B1 (en) * | 2004-12-17 | 2019-08-21 | Ventana Medical Systems, Inc. | Methods for preparing a paraffin-embedded biological sample for staining. |
| JP6023641B2 (ja) | 2013-04-25 | 2016-11-09 | Ｊｘエネルギー株式会社 | 洗浄剤組成物 |
| CN112404026B (zh) * | 2020-09-11 | 2022-03-01 | 上海金堂轻纺新材料科技有限公司 | 一种除油污废水循环利用的工艺 |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4650493A (en) * | 1980-12-22 | 1987-03-17 | A.B. Electrolux | Method of washing textile objects and a device for performing the method |
| US4975468A (en) * | 1989-04-03 | 1990-12-04 | Affinity Biotech, Inc. | Fluorinated microemulsion as oxygen carrier |
| US4956115A (en) * | 1989-05-23 | 1990-09-11 | Hoechst Celanese Corporation | Water borne solvent strippers |
| US5196136A (en) * | 1991-06-20 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cleaning composition of hydrocarbon component, surfactant and multibasic ester additive |
| US6090901A (en) * | 1991-07-05 | 2000-07-18 | Biocompatibles Limited | Polymeric surface coatings |
| US5213624A (en) * | 1991-07-19 | 1993-05-25 | Ppg Industries, Inc. | Terpene-base microemulsion cleaning composition |
| MX9206771A (es) * | 1991-12-02 | 1993-06-01 | Allied Signal Inc | Mejoras en sistema de limpieza por solventes multiples |
| FR2691473B1 (fr) * | 1992-05-21 | 2002-05-17 | Atochem Elf Sa | Compositions pour le démouillage ou le dégraissage de surfaces solides. |
| BR9405958A (pt) * | 1993-04-02 | 1995-12-12 | Dow Chemical Co | Microemulsão continua de óleo de fase única emulsao concentrado de limpeza e método para limpar metal tendo graxa |
| US5911837A (en) * | 1993-07-16 | 1999-06-15 | Legacy Systems, Inc. | Process for treatment of semiconductor wafers in a fluid |
| US5464480A (en) * | 1993-07-16 | 1995-11-07 | Legacy Systems, Inc. | Process and apparatus for the treatment of semiconductor wafers in a fluid |
| US5634978A (en) * | 1994-11-14 | 1997-06-03 | Yieldup International | Ultra-low particle semiconductor method |
| US5571337A (en) * | 1994-11-14 | 1996-11-05 | Yieldup International | Method for cleaning and drying a semiconductor wafer |
| CA2222896C (en) * | 1995-06-02 | 2007-07-31 | Ashland Inc. | Stable microemulsion cleaners having low volatile organic content |
| US6030754A (en) * | 1996-02-05 | 2000-02-29 | Texas Instruments Incorporated | Photoresist removal without organic solvent following ashing operation |
| US5888308A (en) * | 1997-02-28 | 1999-03-30 | International Business Machines Corporation | Process for removing residue from screening masks with alkaline solution |
| US5938856A (en) * | 1997-06-13 | 1999-08-17 | International Business Machines Corporation | Process of removing flux residue from microelectronic components |
| US6165962A (en) * | 1997-07-31 | 2000-12-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Comapny | Aqueous microemulsions |
| US5908822A (en) * | 1997-10-28 | 1999-06-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions and processes for drying substrates |
| US6120613A (en) * | 1998-04-30 | 2000-09-19 | Micell Technologies, Inc. | Carbon dioxide cleaning and separation systems |
| US6159827A (en) * | 1998-04-13 | 2000-12-12 | Mitsui Chemicals, Inc. | Preparation process of semiconductor wafer |
| US6159917A (en) * | 1998-12-16 | 2000-12-12 | 3M Innovative Properties Company | Dry cleaning compositions containing hydrofluoroether |
| FR2795088B1 (fr) | 1999-06-21 | 2002-05-24 | Atofina | Compositions de nettoyage a froid du type microemulsions |
| US6593283B2 (en) * | 2000-04-28 | 2003-07-15 | Ecolab Inc. | Antimicrobial composition |
| US6730595B2 (en) * | 2000-12-12 | 2004-05-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Protecting method for semiconductor wafer and surface protecting adhesive film for semiconductor wafer used in said method |
| DE60137229D1 (de) * | 2001-10-22 | 2009-02-12 | Viroblock Sa | Non-phospholipid Vesikel (npLV) und ihre Verwendung in kosmetischen, therapeutischen und prophylaktischen Anwendungen |
| EP1438456B1 (en) * | 2001-10-26 | 2006-04-26 | Unilever N.V. | Dry cleaning process |
| KR100480606B1 (ko) * | 2002-08-01 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 아이피에이 증기 건조 방식을 이용한 반도체 웨이퍼 건조장치 |
-
2001
- 2001-01-09 FR FR0100228A patent/FR2819201B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-01-07 CA CA002434183A patent/CA2434183C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-07 US US10/250,914 patent/US7417018B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-07 WO PCT/FR2002/000035 patent/WO2002055223A1/fr active IP Right Grant
- 2002-01-07 ES ES02710948T patent/ES2253518T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-07 EP EP02710948A patent/EP1349678B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2002-01-07 CN CNB028062698A patent/CN1236866C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-07 DE DE60208154T patent/DE60208154D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-01-07 KR KR10-2003-7009194A patent/KR100502532B1/ko active IP Right Grant
- 2002-01-07 AU AU2002229853A patent/AU2002229853B2/en not_active Ceased
- 2002-01-07 AT AT02710948T patent/ATE313390T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-01-07 JP JP2002555945A patent/JP2004525753A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1349678B1 (fr) | 2005-12-21 |
| AU2002229853B8 (en) | 2002-07-24 |
| ES2253518T3 (es) | 2006-06-01 |
| DE60208154D1 (de) | 2006-01-26 |
| AU2002229853B2 (en) | 2007-08-02 |
| CA2434183A1 (fr) | 2002-07-18 |
| WO2002055223A1 (fr) | 2002-07-18 |
| FR2819201B1 (fr) | 2003-02-21 |
| JP2004525753A (ja) | 2004-08-26 |
| EP1349678A1 (fr) | 2003-10-08 |
| FR2819201A1 (fr) | 2002-07-12 |
| CN1496288A (zh) | 2004-05-12 |
| ATE313390T1 (de) | 2006-01-15 |
| US20040092420A1 (en) | 2004-05-13 |
| KR100502532B1 (ko) | 2005-07-20 |
| CA2434183C (fr) | 2009-10-06 |
| CN1236866C (zh) | 2006-01-18 |
| US7417018B2 (en) | 2008-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0458969B1 (en) | Non-aqueous cleaning composition comprising a polyorganosiloxane | |
| JP2763270B2 (ja) | 洗浄方法、洗浄装置、洗浄組成物および蒸気乾燥組成物 | |
| KR100388324B1 (ko) | 복수성분계의세정제및그를이용하는세정방법 | |
| KR100698816B1 (ko) | 불소화 탄화수소 및 산화 용매를 함유하는 조성물 | |
| KR101080657B1 (ko) | 세정 헹굼 방법 | |
| KR100502532B1 (ko) | 마이크로에멀젼을 사용한 유기 및/또는 무기 오염물의제거에 의한 고형 표면의 세정 방법 | |
| WO1995005448A1 (fr) | Composition de solvant de nettoyage et procede pour nettoyer ou secher un article | |
| JP4767002B2 (ja) | プレ洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP3916717B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| KR20060100365A (ko) | 전자 기판의 플럭스 제거를 위한 불소화 탄화수소 및 2차부탄올 기재 조성물 | |
| JP2004525753A5 (ko) | ||
| JP5448625B2 (ja) | リンス工程のない洗浄方法及び洗浄装置 | |
| CA2163351A1 (en) | Multiple solvent cleaning system | |
| JPH1018176A (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2002012894A (ja) | 低引火性の洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH0617093A (ja) | 洗浄用乳濁液組成物 | |
| JP3582168B2 (ja) | 共沸様洗浄剤組成物 | |
| WO2002032592A1 (fr) | Procede et appareil de nettoyage d'un article | |
| JP2001334104A (ja) | 分離方法および装置 | |
| KR19990007910A (ko) | 시클로알칸 기재의 세정제 | |
| JPH0459898A (ja) | フラックス洗浄剤 | |
| JP2001240898A (ja) | 引火点を抑制した洗浄剤、洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP2003041297A (ja) | 洗浄剤および洗浄方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130620 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140626 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150618 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160616 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170616 Year of fee payment: 13 |