ES2230582T3 - Un sistema de tratamiento por laser y un sistema para la fabricacion de cabrezales para impresion por chorro de tinta. - Google Patents

Un sistema de tratamiento por laser y un sistema para la fabricacion de cabrezales para impresion por chorro de tinta.

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ES2230582T3 ES97117881T ES97117881T ES2230582T3 ES 2230582 T3 ES2230582 T3 ES 2230582T3 ES 97117881 T ES97117881 T ES 97117881T ES 97117881 T ES97117881 T ES 97117881T ES 2230582 T3 ES2230582 T3 ES 2230582T3
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Masaki Inaba
Tsutomu Abe
Akira Goto
Masao Furukawa
Kouichi Omata
Toshinori Hasegawa
Miki Ito
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Abstract

SE TRATA DE UN METODO DE PROCESO POR LASER QUE COMPRENDE, AL MENOS, UN ORIGEN DE RAYO LASER, UN SISTEMA OPTICO DE CONFORMACION DE RAYOS PARA CONFORMAR HACES DE RAYOS LASER, UNA MASCARA QUE TENGA UNOS PATRONES ESPECIFICOS QUE SE CORRESPONDAN CON LA CONFIGURACION DEL PROCESO DE UN TRABAJO, UN SISTEMA OPTICO DE ILUMINACION PARA ILUMINAR LA MASCARA Y UN SISTEMA OPTICO DE PROYECCION PARA ENFOCAR LAS IMAGENES DEL PATRON DE LA MASCARA EN LA SUPERFICIE DE PROCESO DEL TRABAJO CON UNA AMPLIACION ESPECIFICA. ESTA MASCARA SE FACILITA CON UNA PARTE EXTINGUIDA MENOR QUE EL COCIENTE ENTRE LA RESOLUCION Y LA AMPLIACION ESPECIFICA DEL SISTEMA OPTICO DE PROYECCION. CON EL METODO ORGANIZADO DE TAL MANERA, SE PUEDE PROCESAR UN TRABAJO PARA FACILITAR COMPLICADOS SURCOS TRIDIMENSIONALES QUE TENGAN IRREGULARIDADES EN LA DIRECCION DE LA IRRADIACION DE LASER POR UN PROCESADO ANTIGUO. ADEMAS, LAS PARTES EXTINGUIDAS HACEN POSIBLE EL AJUSTE DE LA EXTINCION, CON FACILIDAD Y PRECISION, DE MODO QUE SE INCREMENTA LA PRECISION DEL TRABAJO DE PROCESADO.

Description

Un sistema de tratamiento por láser y un sistema para la fabricación de cabezales para impresión por chorro de tinta.
Antecedentes de la invención Sector de la invención
La presente invención se refiere a un sistema de tratamiento por láser, de acuerdo con el preámbulo de la reivindicación 1, y a un sistema para la fabricación de cabezales para la impresión por chorros de tinta, incluyendo un sistema de tratamiento por láser.
Antecedentes técnicos relacionados
En los últimos años ha sido ampliamente utilizado un oscilador de láser como fuente de luz para un sistema de tratamiento por láser. De manera particular, un oscilador láser de impulsos cuya gama se encuentra más allá del ultravioleta ha atraído la atención como fuente de luz para el rendimiento de la abrasión mediante patrones de polímero sin ningún proceso de desarrollo.
Como un método de tratamiento por láser o un sistema de tratamiento por láser que trata el polímero mediante la utilización de la abrasión, se propone uno que está dotado de una unidad con una fuente de luz láser y con patrones específicos. Está además dotado de una unidad de máscara que tiene una máscara que permite que los rayos del láser sean transmitidos desde la unidad de la fuente de luz láser, hasta el lado de la pieza a través de la máscara; un sistema óptico de proyección que proyecta los rayos láser desde la unidad de la fuente de luz láser; y un sistema de medición y desplazamiento que mide las posiciones de la pieza y desplaza la pieza de acuerdo con lo anterior (tal como se da a conocer en las memorias de la solicitud de Patente Japonesa Nº4-9291 a inspección pública y la solicitud de Patente Japonesa Nº4-339585 a inspección pública).
Principalmente se utiliza un método de tratamiento por láser de este tipo para el tratamiento de minúsculas aberturas para chorros de tinta en los cabezales para la impresión por chorros de tinta (ver la solicitud de Patente Japonesa Nº2-121842 a inspección pública, la solicitud de Patente Japonesa Nº2-187346 a inspección pública, la solicitud de Patente Japonesa Nº3-101954 a inspección pública y la solicitud de Patente Japonesa Nº3-101960 a inspección pública), y utilizadas para el tratamiento de las trayectorias para el flujo de tinta de un cabezal para la impresión por chorros de tinta (ver la solicitud de Patente Japonesa Nº2-121845 a inspección pública) entre algunas otras.
El cabezal para la impresión por chorros de tinta al que nos referimos en esta solicitud, se adopta de manera particular en los cabezales para la impresión del tipo de chorro de burbujas de entre los que utilizan el método para la impresión por chorros de tinta. La estructura típica y el principio operativo de un método de este tipo se dan a conocer, por ejemplo, en las memorias de las Patentes U.S.A. Nº 4.723.129 y 4.740.796. Este método es aplicable al sistema de impresión del tipo denominado bajo demanda y asimismo al sistema de impresión de tipo continuo. Para describir este método haciendo referencia al tipo bajo demanda, por ejemplo, cada uno de los dispositivos transductores electrotérmicos está dispuesto en la trayectoria del líquido (trayectoria del flujo de tinta) que retiene líquido (tinta), y dicho dispositivo transductor electrotérmico produce la generación de energía térmica de acuerdo con unas señales de control, creando de esta forma una ebullición de la película sobre la superficie de activación térmica de un cabezal para la impresión. Como resultado, cada una de las burbujas se genera en el líquido (tinta), de una en una, en respuesta a cada una de las señales de control descritas anteriormente. Por medio del desarrollo y de la contracción de cada una de las burbujas creadas de esta forma, se desagua el líquido (tinta) a través de una abertura de descarga en forma de una pequeña gotita. Es preferible que la señal de control sea en forma de impulsos tales como los que se dan a conocer en las memorias de las Patentes U.S.A. Nº 4.463.359 y 4.345.262. Asimismo, es preferible elegir una proporción de incremento de la temperatura de la superficie de calentamiento, tal como se da a conocer en la memoria de la Patente U.S.A. Nº 4.313.124.
La estructura del cabezal para la impresión descrito anteriormente, se dispone mediante la combinación de las aberturas de descarga de la tinta (orificios), las trayectorias de líquido lineales o en ángulo recto (trayectorias del flujo de tinta) y los dispositivos transductores electrotérmicos, tal como se muestra en cada una de las memorias mencionadas antes. Además, la estructura tal como se da a conocer en las memorias de las Patentes U.S.A. Nº 4.558.333 y 4.459.600 en las que las porciones de activación térmica pueden estar dispuestas en una zona curvada. Por otra parte, el cabezal para la impresión por chorros de tinta descrito anteriormente puede estar estructurado tal como se da a conocer, por ejemplo, en la solicitud de Patente Japonesa Nº 59-123670 a inspección pública, en la que se utiliza una ranura común como aberturas de descarga para una serie de dispositivos transductores electrotérmicos, o como se da a conocer en la solicitud de Patente Japonesa Nº 59-138461 a inspección pública, por ejemplo, en la que se constituye una abertura para absorber la onda de presión de la energía térmica en correspondencia con las aberturas de descarga. En este caso, los cabezales para la impresión por chorros de tinta dados a conocer en las especificaciones anteriores están dispuestos para garantizar una longitud que corresponda a una anchura específica, mediante la combinación de una serie de cabezales para la impresión. Sin embargo, puede ser posible disponer la estructura de manera que un cabezal para la impresión pueda hacer frente a una longitud que corresponda a una anchura específica (es decir, la máxima anchura imprimible de un soporte para la impresión, que pueda abarcar un aparato para la impresión).
Asimismo, la estructura del cabezal para la impresión por chorros de tinta descrito anteriormente puede ser del tipo de cápsula intercambiable o del tipo de cartucho dispuesto en el propio cabezal para la impresión, en el que el cabezal está conectado eléctricamente al cuerpo principal del aparato (para el funcionamiento de los dispositivos transductores electrotérmicos) y al cual asimismo es posible suministrar tinta.
Cuando se lleva a cabo un tratamiento por láser, para la constitución de canales finos tales como los de las trayectorias del flujo de tinta en relación con la parte (pieza) de un cabezal para la impresión por chorros de tinta de este tipo, el método de tratamiento por un láser convencional precisa un cierto tiempo para completar una ejecución de este tipo si los canales están configurados de forma tridimensional con irregularidades en la dirección de irradiación del láser.
Por ejemplo, si la configuración de los canales es tridimensional, tal como para limitar la fuerza de suministro de la tinta solamente hacia el lado de la abertura, o se disponga una extrusión a mitad de camino de cada canal para presentar resistencia al flujo de tinta, los canales no pueden ser constituidos de forma tridimensional mediante un proceso en una sola vez. En este caso, puede llevarse a cabo un tratamiento múltiple que utiliza dos o más tipos de máscaras. Dicho tratamiento requiere un cierto tiempo de manera que podría producirse un problema de disminución de la productividad.
Además, para el tratamiento en la segunda vez y en las veces sucesivas, la pieza debería estar colocada exactamente igual como fué colocada para el primer tratamiento. Esta colocación requiere una precisión más elevada en el tratamiento de la imagen que se ha de realizar para la colocación, así como en cada fase del sistema de desplazamiento de la pieza. Naturalmente, este requisito plantea el problema de que el propio sistema de tratamiento debería estar incorporado en una escala mayor.
Cuando se tratan canales tridimensionales, por supuesto es posible adoptar una máscara dieléctrica de manera que pueda transmitirse un determinado porcentaje de los rayos láser para el tratamiento. No obstante, la máscara dieléctrica en si misma es cara, y tampoco puede obtenerse una reflectancia del láser al 100%. Además, es extremadamente difícil constituir patrones finos y muy precisos sobre la propia máscara dieléctrica. Como resultado, existe automáticamente un cierto límite en la utilización de las máscaras dieléctricas.
Se conoce un sistema de tratamiento por láser que comprende las características resumidas en la cláusula pre-caracterizante de la reivindicación 1 a partir del documento EP-A-670221. Este conocido sistema de tratamiento por láser hace posible llevar a cabo un tratamiento de una pieza que tenga una configuración tridimensional, con irregularidades en la dirección de la irradiación del láser, en una sola vez. Para tratar la configuración tridimensional, el método conocido requiere una segunda máscara, además de una primera máscara, que tiene el patrón específico correspondiente a la configuración del tratamiento de la pieza. La segunda máscara está dispuesta a una cierta distancia desde la superficie de la primera máscara y comprende una sección con una transmisividad reducida de la luz.
Resumen de la invención
Con vistas a resolver estos problemas encontrados en la técnica convencional, se ha diseñado la presente invención. Es un objetivo de la invención el proporcionar un sistema de tratamiento por láser capaz de llevar a cabo de forma efectiva el tratamiento en una sola vez de una pieza que tenga una configuración tridimensional con irregularidades en la dirección de irradiación del láser. Asimismo, la presente invención pretende facilitar un sistema para la fabricación de cabezales para la impresión por chorros de tinta que utilice dicho sistema de tratamiento por láser. Con respecto a la invención, estos objetivos se alcanzan por medio del contenido de las reivindicaciones 1 y 8 y de las reivindicaciones dependientes 2 a 7.
En cuanto al láser de impulsos ultravioleta, de acuerdo con la reivindicación 3, es posible utilizar cualquier láser entre el láser excimer de Xe-Cl, el láser excimer de Kr-F, el láser excimer de Ar-F, el cuarto armónico del láser YAG, la mezcla de ondas de la onda básica del láser YAG y el segundo armónico, y el láser de gas nitrógeno.
La porción suprimida menor que el cociente entre la resolución y la amplificación específica del sistema óptico de proyección, dispuesta para la máscara de acuerdo con la presente invención no está enfocada sobre una pieza. No obstante, puede debilitar de forma fiable la potencia de los rayos del láser.
Por consiguiente, de acuerdo con la presente invención, la potencia del tratamiento por láser puede ser fijada libremente sobre una pieza dependiendo de la disposición de las porciones suprimidas, haciendo posible definir una pieza como una configuración tridimensional complicada que tenga irregularidades en la dirección de irradiación del láser.
Adicionalmente, de acuerdo con la presente invención, es posible constituir mediante un tratamiento en una sola vez, una configuración tridimensional enlazada que tiene irregularidades en la dirección de irradiación del láser sobre la pieza mediante la utilización de la máscara descrita definida en la reivindicación 1. Asimismo, la superficie inclinada puede ser realizada de forma suave sin ningún escalón. Por consiguiente, el sistema de fabricación puede estar estructurado de una forma sencilla.
Igualmente, la porción suprimida menor que el cociente entre la resolución y la amplificación específica en el momento del tratamiento de la pieza, funciona de la misma forma.
Adicionalmente, de acuerdo con la presente invención, es posible disponer las porciones suprimidas de la máscara de forma arbitraria. Por consiguiente, cuando la pieza es el segundo substrato de un cabezal para la impresión por chorros de tinta, las trayectorias del flujo de la tinta que tengan una configuración tridimensional complicada, pueden ser constituidas en la pieza con una buena precisión para controlar el flujo de la tinta. Como resultado, es posible obtener un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene unas excelentes características de descarga de la tinta.
Breve descripción de los dibujos
La figura 1 es una vista que ilustra de forma esquemática la estructura de un sistema de tratamiento por láser de acuerdo con una primera forma de realización de la presente invención.
La figura 2 es una vista en perspectiva que muestra las partes de un cabezal para la impresión por chorros de tinta, tratado por el sistema de tratamiento por láser representado en la figura 1.
La figura 3 es una vista en sección transversal que muestra las partes de un cabezal para la impresión por chorros de tinta representado en la figura 2.
La figura 4 es una vista en sección parcial que muestra los puntos esenciales del tratamiento del segundo substrato (pieza) representado en la figura 2 y en la figura 3.
La figura 5 es una vista en perspectiva que muestra la unidad de máscara del sistema de tratamiento por láser representado en la figura 1.
Las figuras 6A y 6B son vistas frontales ampliadas que ilustran respectivamente la sección (a) de la unidad de máscara, y la configuración de los canales representada en la figura 5.
Las figuras 7A, 7B, 7C, 7D y 7E son vistas ampliadas que ilustran la sección (a) de la unidad de máscara representada en la figura 5, de acuerdo con una segunda forma de realización.
La figura 7F es una vista ampliada que muestra la configuración de los canales, de acuerdo con la segunda realización.
La figura 8 es una vista parcial en sección transversal que ilustra las partes del cabezal para la impresión por chorros de tinta, tratadas mediante la utilización de la unidad de máscara según la segunda realización mostrada en las figuras 7A a 7F.
Las figuras 9A y 9B son vistas ampliadas que ilustran respectivamente, la sección (a) de la unidad de máscara representada en la figura 5, y la configuración de los canales de acuerdo con una tercera realización.
Descripción detallada de las realizaciones preferentes
A continuación, y haciendo referencia a los dibujos que se adjuntan, se realizará la descripción de la presente invención de acuerdo con las realizaciones de la misma.
Forma de realización 1
La figura 1 es una vista estructural que muestra de forma esquemática un sistema de tratamiento por láser de acuerdo con una primera realización de la presente invención. Tal como se muestra en la figura 1, el sistema de tratamiento por láser comprende un oscilador de láser (1) que sirve como la fuente de luz del láser que emite rayos láser (2); el armazón del aparato (6) que está dotado del sistema de tratamiento que trata una pieza (W) por medio de los rayos láser recibidos desde el oscilador de láser (1); y un sistema de tratamiento y control de la información (7) que lleva a cabo el tratamiento y el control de la información del tratamiento de la pieza (W).
Los rayos láser (2) emitidos por el oscilador láser (1) son reflejados parcialmente por un separador de rayos (3) y los rayos reflejados son controlados por medio de un detector de potencia (4). Por otra parte, los rayos de láser que transmite el separador de rayos (3) son reflejados por dos espejos (5) de reflexión total a 45 grados, e inciden sobre el armazón del aparato (6) del aparato. El separador de rayos (3) está formado por unas placas planas paralelas de cuarzo sintético, con el fin de separar una parte de los rayos láser (2), únicamente por medio de la superficie reflectora de los mismos.
El armazón (6) del aparato comprende un sistema óptico (8); un sistema (9) de observación y medición que observa y mide las posiciones de una pieza (W); una unidad de máscara (10); y un puesto de trabajo (11) que permite que la pieza (W) pueda ser desplazada. El sistema óptico (8) está dotado de un sistema óptico de conformación del rayo y un sistema Koehler de iluminación (8a), y de un sistema óptico de proyección (8b) que permite que la imagen de la unidad de máscara (10) quede enfocada sobre la superficie de tratamiento de una pieza (W). Estos sistemas están dispuestos sobre el eje óptico (a) de los rayos láser (2) que incide sobre el armazón (6) del aparato. La unidad de máscara (10) está dispuesta entre el sistema óptico de conformación del rayo y el sistema Koehler de iluminación (8a) y el sistema óptico de proyección (8b). En este caso, teniendo en cuenta la duración de la unidad de máscara (10) es deseable utilizar un sistema óptico de contracción. En la presente realización, se dispone la utilización de un sistema óptico de proyección (8b) que realiza una contracción hasta 1/4 de la potencia y tiene una resolución de 0,002 mm.
El puesto de trabajo (11) sería deseable que estuviera dotado de unos medios de regulación adecuados para regular la inclinación de la pieza (W) con respecto al eje óptico (a) descrito anteriormente. Por ejemplo, puede ser posible estructurar el puesto de trabajo (11) mediante la combinación de fases que tienen libertad con respecto a los tres ejes que son ortogonales uno con respecto al otro y a los cinco ejes que giran alrededor de dos ejes. Disponiendo la estructura de manera que el centro de la regulación de la rotación esté de acuerdo con el centro de tratamiento de una pieza (W), resulta posible simplificar el control de dichos medios de regulación.
Para situar una pieza (W) sobre el puesto de trabajo (11), sería deseable disponer una serie de clavijas de referencia para el posicionador (11a) para montar la pieza (W) sobre el puesto de trabajo (11). Las clavijas hacen tope contra la pieza (W) dispuesta sobre el puesto de trabajo (11). Asimismo, sobre el posicionador (11a) y junto al mecanismo de tope, debería disponerse un mecanismo de sujeción que utiliza aspiración de aire o un sistema similar. Este mecanismo de sujeción se instala junto con un brazo automático para llevar a cabo una alimentación automática de la pieza (W) al puesto de trabajo (11). Adicionalmente, una serie de piezas para mecanizar (W) son fijadas sobre el puesto de trabajo (11) de una sola vez, de manera que el tiempo requerido para transportarlas y montarlas se acorta. Sin embargo, en este caso un eje en la dirección de rotación de los medios de regulación, no puede situarse sobre el centro de la pieza (W). Por consiguiente se hace necesario cambiar los valores de referencia cada vez que se realiza una medición y cuando debe desplazarse la pieza.
El sistema de observación y medición (9) está constituido por un par de instrumentos de medición y un espejo de dos caras (9d) dispuesto sobre el eje óptico (a). En este caso, los instrumentos de observación comprenden el cuerpo de una lente (9a) que dispone de una lente objetivo; una fuente de luz (9b) para iluminar hacia abajo incorporada al cuerpo de la lente (9a); y un detector de cámara de CCD (9c) conectado al cuerpo de la lente (9a).
Cada uno de los instrumentos de medición y el espejo (9d) están dispuestos entre el sistema óptico de proyección (8b) y el puesto de trabajo (11). El espejo (9d) se retira del eje óptico (a) cuando se irradia el láser. Únicamente cuando ha sido realizada la medición es obligado a desplazarse hacia el eje óptico (a). Para la presente realización, el desplazamiento del espejo (9d) es controlado por medio de un mecanismo de un cilindro de aire comprimido.
Los datos de la posición de una pieza (W) son realimentados desde el sistema de observación y medición (9) al sistema (7) de proceso y control de la información, y los datos sobre la potencia del rayo son realimentados desde el detector de potencia (4). Al principio, los resultados de la medición obtenidos por medio del sistema de observación y medición (9) son llevados al sistema de proceso de la imagen (7a) por medio del instrumento de medición, y luego el resultado del proceso de la señal es facilitado al sistema de control (7b). De acuerdo con el resultado de la medición descrito anteriormente, el sistema de control (7b) calcula la distancia que se ha desplazado la pieza (W), permitiendo de esta forma que los medios de desplazamiento (7c) desplacen la plataforma del puesto de trabajo (11) de acuerdo con lo anterior. A continuación, cuando el valor del sistema de observación y control (9) alcanza un valor determinado, queda completada la regulación de la posición de los medios de desplazamiento (7c). El espejo (9d) se retira del eje óptico (a) y se envían señales durante un determinado periodo de tiempo o para un cierto número de impulsos, para hacer que el oscilador del láser (1) emita rayos láser (2). Entretanto, la información sobre la potencia del rayo del detector de potencia (4) es devuelta al sistema de control (7b) para regular la salida dada al oscilador del láser (1) a través de la interconexión (7d).
Como oscilador de láser (1) utilizado para el sistema de tratamiento por láser, existen láseres de elevada potencia tales como el oscilador de láser YAG, el oscilador de láser de CO_{2}, el oscilador de láser excimer, el oscilador de láser de N_{2}, entre otros. Como pieza (W), se utiliza una resina polisulfónica, que es una resina del tipo polímero. Como oscilador de láser, se utiliza el oscilador de láser excimer de Kr-F, que es uno de los osciladores de láser excimer.
La pieza (W) que se ha de tratar es una de las partes que constituyen un cabezal para la impresión por chorros de tinta utilizado en un aparato para la impresión por chorros de tinta. De manera más específica, un segundo substrato (19) que sirve como elemento de placa para el cabezal para la impresión por chorros de tinta representado en la figura 2 y en la figura 3, es la pieza que se ha de tratar.
En este caso se describirá, en relación con la figura 2 y la figura 3, un cabezal para la impresión por chorros de tinta. El cabezal para la impresión por chorros de tinta, comprende un primer substrato (20) constituido por silicio sobre el cual están configurados los dispositivos generadores de energía para generar la energía que ha de ser utilizada para la descarga de tinta, y el segundo substrato (19) antes mencionado que está unido mediante un adhesivo al primer substrato (20). Como dispositivos de generación de energía, se utilizan dispositivos transductores electrotérmicos (18) (resistencias eléctricas generadoras de calor o similares) para generar energía térmica cuando se les aplica una tensión eléctrica. Una serie de dispositivos transductores electrotérmicos están dispuestos en paralelo y constituidos mediante la tecnología de formación de una película sobre el primer substrato (20) junto con el cableado de aluminio o de un material parecido que suministra energía eléctrica. Sobre el segundo substrato (19) están dispuestos generalmente unos canales (19b) constituidos cada uno de ellos en correspondencia con cada uno de los dispositivos transductores electrotérmicos (18) para constituir cada una de las trayectorias (14) del flujo de tinta conectadas de forma conductiva con una cámara de tinta líquida (13) que se describirá más adelante; una parte hueca (19a) que forma la cámara de tinta líquida (13) que retiene de forma temporal la tinta que ha de ser suministrada a cada una de las trayectorias (14) del flujo de la tinta; una abertura para el suministro de tinta (12) que introduce tinta desde un depósito de tinta (no representado) hasta la cámara de tinta líquida (13); y una placa de orificios (17) que tiene una serie de aberturas (16) para la descarga dispuestas en la placa en correspondencia con cada una de las trayectorias (14) del flujo de tinta.
En la parte inferior cercana a la porción hueca (19a) de cada canal (19b) que constituye la trayectoria (14) del flujo de tinta, está dispuesta una porción moldeada por inyección (15). La profundidad (h_{1}) de la trayectoria (14) del flujo de tinta en la porción moldeada por inyección (15), está realizada con menos hondura que la profundidad (h) de la porción en la que está dispuesto el dispositivo transductor electrotérmico (18). Esta porción moldeada por inyección (15) presenta una cierta resistencia al flujo de tinta en la trayectoria (14) del flujo de tinta, de manera que no se admite que la energía para la formación de espuma de la tinta, generada por el dispositivo transductor electrotérmico (18) se escape hacia el lado de la cámara de tinta líquida (13), incrementando con ello las características de las descargas de tinta.
Dado que el cabezal para la impresión por chorros de tinta está estructurado como se ha descrito anteriormente, la energía térmica es generada respectivamente por cada uno de los dispositivos transductores electrotérmicos (18) cuando se suministra energía eléctrica a cada uno de los dispositivos transductores electrotérmicos (18). Mediante el calor generado por dicha energía, se provoca la ebullición de la película de la tinta sobre el correspondiente dispositivo transductor electrotérmico para crear cada una de las burbujas de tinta en la trayectoria (14) del flujo de la tinta. Al desarrollarse esta burbuja, se descarga una gotita de tinta por la abertura de descarga (16).
Como se muestra en la figura 4, el canal (19b) que tiene la porción (15) moldeada por inyección sobre el segundo substrato (19) (pieza (W)) anteriormente descrito, es tratada mediante la irradiación de rayos láser (2) desde el lado de la superficie que está unido al primer substrato (20) (ver figura 3) por medio del sistema de tratamiento por láser anteriormente descrito. La abertura de descarga (16) es también tratada por medio del sistema de tratamiento por láser. A este respecto, la abertura (16) de descarga puede ser tratada antes del tratamiento del canal (19b) o puede ser tratada después del tratamiento del canal (19b). De acuerdo con la presente realización, una vez que el canal (19b) ha sido tratado, se trata la abertura desde el lado del canal (19b) mediante la irradiación de un láser excimer de Kr-F.
Es deseable constituir la pieza (W) por medio de moldeo por inyección utilizando polisulfona, poliéter sulfona, óxido de polifenileno u otros materiales que tienen excelente resistencia a la tinta. De acuerdo con la presente invención, se prepara la pieza mediante la constitución que utiliza el moldeo por inyección con polisulfona. Al tratar el canal (19b), es mejor inclinar ligeramente la pieza (W) hacia el eje óptico (a) con el fin de evitar que los rayos láser (2) queden interrumpidos por la presencia de la placa de orificios (17). De acuerdo con la presente realización, el canal (19b) se trata inclinando la pieza (W) a unos 5 grados aproximadamente respecto al eje óptico (a).
A continuación, en relación a la figura 5 y las figuras 6A y 6B, se realizará la descripción de la estructura de la unidad de máscara (10). La figura 5 es una vista en perspectiva que muestra la unidad de la máscara (10) representada en la figura 1. Las figuras 6A y 6B son vistas frontales ampliadas de la sección (a) de la figura 5.
En la figura 5, el numeral de referencia (21) indica el elemento de la placa montado sobre el armazón del aparato (6) de manera que sea desplazable en pequeñas magnitudes en las direcciones X, Y y Z, y (22) indica un soporte de la máscara fijado al elemento de la placa (21). La máscara (23) está soportada de forma que pueda desmontarse, por el soporte de la máscara (22).
La máscara (23) está dotada de uno o más patrones (24a) del canal (19b), que están constituidas en un tamaño cuatro veces mayor que el patrón del canal (19b). Los rayos láser (2) que son transmitidos a través de la máscara (23) son reducidos a 1/4 de la potencia por medio del sistema óptico de proyección (8b) (ver figura 1), tal como se ha descrito anteriormente. Por consiguiente, el patrón del canal (19b) está enfocado sobre la pieza (W) al tamaño deseado.
Como material de la máscara (23), se utiliza el cuarzo sintético que permite que los rayos láser sean transmitidos. Una capa de recubrimiento (25) que absorbe o refleja los rayos láser está constituida mediante una capa depositada de cromo.
En las figuras 6A y 6B, el numeral de referencia (26) indica una porción suprimida que es menor que el cociente entre la resolución y la ampliación específica antes mencionada, del sistema óptico de proyección previsto para la máscara (23). Cada porción suprimida (26) es una capa cuadrada de cromo que tiene 0,002 mm de lado y está distribuida por medio de un patrón de difusión de pseudo-error como se muestra en las figuras 6A y 6B.
La sección (A) indica una zona rectangular de 0,020 mm x 0,016 mm ((dirección X) x (dirección Y) en las figuras 6A y 6B) en donde está dispuesta la difusión del pseudo-error de la porción suprimida (26). El patrón (24a) del canal (19b) de la máscara (23) está formado por seis zonas A en la dirección X y por 72 zonas en la dirección Y.
Como se ha descrito anteriormente, la resolución del sistema óptico de proyección es de 0,002 mm y la amplificación específica es de 1/4 de la potencia. Cada porción suprimida (26) es una capa cuadrada de cromo que tiene 0,002 mm de lado. Por consiguiente, (la resolución del sistema óptico de proyección, 0,002 mm) / (la ampliación específica, 1/4) = 0,008 mm. La capa de cromo es menor de 0,008 mm y alcanza los 0,0005 mm en la superficie de la pieza (W). Como resultado de ello, esta porción no queda enfocada sobre la pieza (W). Sin embargo, los rayos láser resultan suprimidos de forma fiable de esta manera.
Mediante la utilización de la estructura y el principio anteriormente descritos, se da una irradiación de 200 puls sobre la superficie de tratamiento de una pieza, siendo la concentración de energía de 1J/cm.puls. Por tanto, es posible constituir 200 canales por medio de un único tratamiento, teniendo cada canal una profundidad (h) de 40 \mum x una anchura de 30 \mum x una longitud de 452 \mum con una separación entre ellos de 42,5 \mum, incluso con cada porción de 288 \mum cuya profundidad (h1) está controlada a 25 \mum (ver figura 3). De esta forma, es posible obtener un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene unas excelentes características de descarga de la tinta sin reducir la productividad de la misma.
Realización 2
Las figuras 7A a 7E son vistas frontales ampliadas que muestran la sección (a) (ver figura 5) de la máscara (23) del sistema de tratamiento por láser de acuerdo con una segunda realización de la presente invención. La figura 7F es una vista ampliada que muestra el patrón de los canales. La Figura 8 es una vista que muestra de forma esquemática la trayectoria del flujo de la tinta (14) en el segundo substrato (19) tratado por medio del patrón (24b) del canal (19b).
Como en la primera realización, el patrón (24b) del canal (19b) de la máscara (23) está formado de la forma siguiente:
Zona (D) (un patrón que tiene ocho porciones (26) suprimidas, de 2 \mum x 2 \mum cada una en 320 \mum^{2}), seis en la dirección X y tres en la dirección Y;
Zona (C) (un patrón que tiene 16 porciones (26)suprimidas, de 2 \mum x 2 \mum cada una en 320 \mum^{2}), seis en la dirección X y dos en la dirección Y;
Zona (B) (un patrón que tiene 24 porciones (26) suprimidas, de 2 \mum x 2 \mum cada una en 320 \mum^{2}), seis en la dirección X y tres en la dirección Y;
Zona (A) (un patrón que tiene 32 porciones (26) suprimidas, de 2 \mum x 2 \mum cada una en 320 \mum^{2}), seis en la dirección X y 67 en la dirección Y; y
Zona (E) (un patrón que tiene 48 porciones (26) suprimidas, de 2 \mum x 2 \mum cada una en 320 \mum^{2}), seis en la dirección X y 33 en la dirección Y.
Una pieza (W) es tratada como en la primera realización utilizando la plantilla (24b) del canal (19b). A continuación, es posible constituir 200 canales mediante un único tratamiento, teniendo cada canal la profundidad (h) x la anchura de 30 \mum x la longitud de 452 \mum, con una separación entre ellos de 42,5 \mum, teniendo la estructura controlada a la profundidad del canal h_{2} = 50 \mum, h_{3} = 30 \mum, y h_{4} = 20 \mum, tal como aparece en la figura 8.
La configuración del canal obtenido de esta forma tiene la estructura formada por las secciones D, C, y B mostradas en las figuras 7A a 7C. Por consiguiente, se hace más fácil constituir la sección inclinada (27) de forma suave sin ningún escalón.
En el caso de la presente realización, se permite que la transmisividad de los rayos láser vaya cambiando gradualmente mediante la utilización de la estructura formada por las secciones D, C y B, y la porción inclinada (27) está constituida de forma suave sin ningún escalón. Es asimismo posible constituir la porción inclinada (27) sin escalones y de forma suave, de forma tal que en vez de utilizar la estructura formada por las secciones D, C y B de la presente realización, las porciones suprimidas (26) están dispuestas de manera tal que la transmisividad se reduce o aumenta de forma progresiva mediante la aplicación del método de difusión del error o un procedimiento similar, y que la transmisividad de los rayos láser se modifique de forma progresiva de acuerdo con lo anterior. Con la máscara de la presente realización y la aplicación de dicho método, se hace más fácil constituir una configuración tridimensional complicada de manera más suave, cambiando la transmisividad de los rayos láser de manera más exacta.
Realización 3
Las figuras 9A y 9B son vistas frontales ampliadas que muestran la sección (a) de la máscara (23) del sistema de tratamiento por láser de acuerdo con una tercera realización de la presente invención, y asimismo del patrón del canal. Como en la primera y segunda realizaciones, la porción suprimida es de 0,002 mm x 0,120 mm (la dirección Y x la dirección X en las figuras 9A y 9B). No se puede enfocar ninguna imagen en la dirección Y.
Con el patrón (24c) del canal (19b) constituido para proporcionar 179 de dichas porciones suprimidas (26) con una separación de 0,006 mm entre ellas, se trata una pieza (W) como en la primera realización. Entonces, es posible constituir 200 canales mediante un único tratamiento, teniendo cada canal una profundidad (h) de 40 \mum x una anchura de 30 \mum x una longitud de 243,5 \mum, con una separación de 42,5 \mum entre ellas, incluso en cada una de las porciones cuya profundidad (h1) está controlada a 28 \mum. De esta forma, es posible obtener un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene unas excelentes características de descarga de tinta, sin reducir la productividad de la misma como en la primera y en la segunda realizaciones.
Realización 4
Ahora se describirá una cuarta realización citando las figuras 3, 6A y 6B. En el caso de la presente realización, se utiliza el mismo sistema que en la primera realización. El número de referencia (28) indica una porción suprimida que es menor que el cociente entre la resolución y la amplificación específica del sistema óptico de proyección antes mencionada. La porción suprimida es una capa cuadrada de cromo de 0,012 mm x 0,012 mm. El patrón de canales está constituido por medio de difusión de error o dispuesto como en la primera realización.
La resolución del proceso es de 0,004 mm cuando el canal cuya profundidad (h) es de 40 \mum es tratado utilizando el mismo sistema que en la primera realización. La amplificación específica es de 1/4 de la potencia. La porción suprimida (28), que es menor que el cociente entre la resolución del proceso y la amplificación específica antes mencionada, es una capa cuadrada de cromo que tiene 0,012 mm de lado, es decir, que la capa de cromo es menor de 0,016 mm = (la resolución del proceso, 0,004 mm) / (la ampliación específica de 1/4 de la potencia). Esta capa alcanza los 0,003 mm sobre la superficie de la pieza (W), haciendo posible enfocar la imagen en la misma. Sin embargo, dado que esta capa es menor que la resolución del tratamiento, no se realiza ningún tratamiento, sino que solamente se reduce el contraste resultante.
Con la estructura y el principio descritos anteriormente, el tratamiento por láser se lleva a cabo en las mismas condiciones que en la primera realización. Entonces es posible constituir el canal cuya profundidad (h1) está controlada a 25 \mum mediante un tratamiento en una sola vez como en la primera realización.
Realización 5
Con respecto a la segunda realización, se confirma también el mismo efecto en el caso en que se utiliza en vez de la porción suprimida (26), la porción suprimida (28) (la cual es la capa cuadrada de cromo que tiene 0,012 mm de lado), siendo esta porción menor que el cociente entre la resolución y la amplificación específica antes mencionada cuando la pieza es tratada.
Realización 6
Con respecto a la tercera realización, se confirma también el mismo efecto en el caso en que se utiliza en vez de la porción suprimida (26), la porción suprimida (28) (la cual es la capa cuadrada de cromo de 0,012 mm x 0,120 mm), siendo esta porción menor que el cociente entre la resolución y la amplificación específica antes mencionada cuando la pieza es tratada.
A este respecto, desde la primera hasta la sexta realizaciones, se utiliza cromo para la capa de recubrimiento (25) que absorbe o refleja los rayos láser. No obstante, en vez del cromo se puede utilizar aluminio, níquel o bronce fosforado. En cualquier caso, es posible obtener el mismo efecto como desde la primera hasta la sexta realizaciones.
De manera general, como el método de binarización fija que puede ser adoptado como un método de representación en fotograbado para una impresión con códigos binarios, existen otros métodos tales como el método de vibración aleatorio, el método de vibración organizado, el método de reducción al mínimo del error medio, el método de control del valor medio, el método del umbral dinámico, el método de difusión del error, el método de cuantificación divisional de múltiples fases, el método de partición de pixels dentro de la malla, el método de patrones aleatorios, el método de patrones de densidad organizada y el método de decisión condicional. Como en el caso del método de binarización adaptativa, existe un método para diferenciar zonas de la imagen de acuerdo con las cantidades caracterizadas de los píxeles periféricos, y un método para diferenciar zonas de la imagen de acuerdo con las cantidades caracterizadas de conversión ortogonal o similares. En el caso de las realizaciones descritas anteriormente, la descripción ha sido realizada utilizando el método de difusión del error (incluyendo la difusión del pseudo-error) como su ejemplo típico. En este caso, sin embargo, la presente invención no está necesariamente limitada al método de difusión del error. Es posible materializar los objetivos de la presente invención mediante la aplicación de cualquiera de los métodos mencionados anteriormente de adaptación fija y adaptativa.
Como se ha descrito anteriormente, de acuerdo con el sistema de tratamiento por láser de la presente invención, las porciones suprimidas de los rayos láser pueden estar dispuestas de una forma arbitraria en el patrón de la máscara. Como resultado de ello, se hace posible tratar canales tridimensionales complicados que tengan irregularidades en la dirección de la irradiación del láser de forma suave, sin ningún escalón, mediante la ejecución del tratamiento único de la pieza. Se ha hecho también más fácil ajustar de forma fina la supresión de las porciones suprimidas, aumentando la precisión del tratamiento de la pieza de manera significativa.
Asimismo, a diferencia del método clásico, no hay necesidad de utilizar varias máscaras distintas para llevar a cabo un tratamiento en múltiples fases. Por consiguiente, los costes de tratamiento de la pieza se reducen de forma significante. Al mismo tiempo, el sistema de tratamiento en sí mismo se realiza con menores costes.
Además, de acuerdo con el sistema de tratamiento por láser de la presente invención, es posible tratar una pieza de manera que se puedan tratar canales tridimensionales con una configuración deseada con buena precisión. Por consiguiente, cuando el objeto a tratar son las trayectorias del flujo de tinta de un cabezal para la impresión por chorros de tinta, la configuración de los canales que se convertirán en dichas trayectorias del flujo, pueden ser acabadas para ser una forma tridimensional complicada con buena precisión, lo cual es lo más adecuado para controlar el flujo de la tinta. De manera consecuente, de acuerdo con la presente invención es posible obtener un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene unas excelentes características de descarga de la tinta.
Asimismo, de acuerdo con la presente invención, el sistema para la fabricación de cabezales para la impresión por chorros de tinta, pone en práctica el sistema de tratamiento por láser descrito anteriormente para hacer posible la obtención de un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene unas excelentes características de descarga de la tinta.
Un método de tratamiento por láser comprende por lo menos una fuente de luz láser, un sistema óptico de formación de rayos para formar rayos láser, una máscara que tiene unos patrones específicos que corresponden a la configuración para el tratamiento de una pieza, un sistema óptico de iluminación para iluminar la máscara, y un sistema óptico de proyección para enfocar las imágenes patrón de la máscara sobre la superficie de tratamiento de la pieza mediante una amplificación específica. Esta máscara está dotada de una porción suprimida menor que el cociente entre la resolución y la ampliación específica del sistema óptico de proyección. Con el método dispuesto de esta forma, se puede tratar una pieza para proporcionar unos canales tridimensionales complicados que tienen irregularidades en la dirección de la irradiación del láser mediante un único tratamiento. Asimismo, las porciones suprimidas hacen posible ajustar de forma sencilla y precisa la supresión de manera que se aumenta la precisión del tratamiento de la pieza.

Claims (8)

1. Sistema de tratamiento por láser que comprende:
una máscara (23) que tiene un patrón específico (24a, 24b, 24c) que corresponde a una configuración para el tratamiento de una pieza (W),
un sistema óptico de iluminación (1, 8a) para iluminar dicha máscara (24), comprendiendo dicho sistema óptico de iluminación:
una fuente de luz láser (1) para emitir un rayo láser (2) y un sistema óptico de formación del rayo (8a) para formar dicho rayo láser, y
un sistema óptico de proyección (8b) para enfocar una imagen del patrón (24a, 24b, 24c) de dicha máscara (23) sobre la superficie de tratamiento de dicha pieza (W) con una amplificación específica y con una resolución sobre la superficie de tratamiento,
caracterizado porque
dicho patrón (24a, 24b, 24c) tiene, por lo menos, una sección (A, B, C, D, E) con una transmisividad reducida de la luz y porque dicha sección (A, B, C, D, E) con una transmisividad reducida de la luz, está constituida disponiendo, por lo menos, una porción suprimida (26, 28) menor que el cociente entre dicha resolución de dicho sistema óptico de proyección (8a) y dicha amplificación específica.
2. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 1, en el que dicha porción suprimida es una porción que refleja o absorbe dicho rayo láser al 100% o solamente lo transmite, teniendo menos del valor umbral del tratamiento por láser de dicha pieza.
3. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en el que dicha fuente de luz láser (1) es un láser ultravioleta de impulsos.
4. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 1, en el que dicha pieza (W) es un segundo substrato (19) de un cabezal para la impresión por chorros de tinta que tiene un primer substrato (20) dotado de uno o más dispositivos generadores de energía (18) para la descarga de un líquido, para descargar tinta, en el que dicho segundo substrato (19) tiene uno o más canales (19b) constituidos en el mismo que definen trayectorias del flujo de tinta (14) y en el que dicha configuración para el tratamiento es la configuración de los canales (19b) de dicho segundo substrato (19).
5. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 4, en el que dicha sección (A, B, C, D, E,) con una transmisividad reducida de la luz, es una porción existente en el patrón (24a, 24b, 24c) de un canal (19b) de dicho cabezal para la impresión por chorros de tinta constituido sobre dicha máscara (23).
6. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 5, en el que dicha porción suprimida (26, 28) está dispuesta de forma irregular en dicha sección (A, B, C, D, E,) con una transmisividad reducida de la luz.
7. Sistema de tratamiento por láser, según la reivindicación 5, en el que dicha porción suprimida (26, 28) es una porción dispuesta mediante la utilización de un método de binarización fijado y/o un método de binarización adaptativa.
8. Sistema para la fabricación de cabezales para la impresión por chorros de tinta que utiliza un sistema de tratamiento por láser, según una de las reivindicaciones 1 a 7.
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