EP0558393A1 - Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ utilisant cette source - Google Patents

Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ utilisant cette source Download PDF

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EP0558393A1
EP0558393A1 EP93400449A EP93400449A EP0558393A1 EP 0558393 A1 EP0558393 A1 EP 0558393A1 EP 93400449 A EP93400449 A EP 93400449A EP 93400449 A EP93400449 A EP 93400449A EP 0558393 A1 EP0558393 A1 EP 0558393A1
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EP
European Patent Office
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electrodes
series
source
openings
layer
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EP93400449A
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Robert Chemin De La Limite Meyer
Thierry Leroux
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Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
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Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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    • H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
    • H01J31/123—Flat display tubes
    • H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
    • H01J31/127—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection using large area or array sources, i.e. essentially a source for each pixel group
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    • H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/30—Cold cathodes
    • H01J2201/319—Circuit elements associated with the emitters by direct integration

Definitions

  • the invention applies in particular to the field of visualization and, more particularly, to flat screens.
  • FIG. 1A An exemplary embodiment of this known electron source is schematically represented in top view in FIG. 1A and in sectional view in FIG. 1B which is the section CC of FIG. 1A.
  • This known source has a matrix structure and comprises a substrate 2, for example made of glass and possibly, on this substrate 2, a thin layer of silica 4.
  • silica 4 On this layer of silica 4 is formed a series of electrodes in the form of parallel conductive strips playing the role of cathode conductors and constituting the columns of the matrix structure.
  • FIGS. 1A and 1B One of these cathode conductors, which bears the reference 5, can be seen in FIGS. 1A and 1B.
  • the cathode conductors are each covered by a resistive layer 7.
  • An electrically insulating layer 8 of silica covers the resistive layers 7.
  • insulating layer 8 Above the insulating layer 8 is formed a series of electrodes which are also in the form of parallel conductive strips and one of which appears in FIGS. 1A and 1B and bears the reference 10.
  • Electrodes formed above the insulating layer 8 are perpendicular to the cathode conductors and play the role of grids which constitute the lines of the matrix structure.
  • the known source also comprises a plurality of microtips which constitute elementary emitters of electrons.
  • the resistive layer 7 corresponding to this zone supports microtips 12 and the grid corresponding to this zone has a hole 14 opposite each of the microtips.
  • Each of the latter substantially follows the shape of a cone, the base of which rests on the resistive layer 7 and the top of which is situated at the level of the corresponding opening 14.
  • the insulating layer 8 is also provided with openings 15 allowing the passage of the microtips 12.
  • each of the electrodes of one of the two electrode streaks has a lattice structure in contact with a resistive layer.
  • each cathode conductor has this trellis structure and thus comprises conductive tracks 5a which intersect.
  • each cathode conductor has openings 6 which are delimited by these tracks 5a.
  • microtips occupy central regions of the mesh of the lattice.
  • the electrodes of the other series have a continuous structure (ignoring the holes 14 of small diameter arranged opposite the microtips 12).
  • Electrodes with a lattice structure is intended to minimize the risks of breakdown at the level of the microtips, by limiting the electric current in them, and therefore avoid the formation of short circuits between the rows and the columns via these microtips.
  • the surface of the overlap zones is equal to the surface of the electrodes with a lattice structure.
  • the present invention aims to reduce the risk of short circuits more than does this known source and, to do this, proposes to reduce the overlap areas of the two sets of electrodes even more significantly than in the source known from document (3).
  • the source object of the present invention comprising the first series of electrodes and the second series of electrodes which have been mentioned above, is characterized by the fact that the second openings are offset from the first openings and thus placed opposite the lattice tracks, the first and second openings are therefore not superimposed.
  • each discontinuous electrode must be such that it makes it possible to apply the electric field to the corresponding microtips.
  • each discontinuous electrode is preferably given as small a surface as possible and a structure which minimizes the areas of overlap with the lattice structure electrode. corresponding.
  • the second openings are placed opposite the intersections of the lattice tracks.
  • the electrodes having the lattice structure are the electrodes of the second series of electrodes and the discontinuous electrodes are the electrodes of the first series of electrodes.
  • the electrodes having the lattice structure are the electrodes of the first series of electrodes and the discontinuous electrodes are the electrodes of the second series of electrodes.
  • the resistive layer and the support on which the first series of electrodes is formed are at least partially transparent to the light emitted by the cathodoluminescent material under the impact of electrons, in order to observe this cathodoluminescent material through this support. .
  • the cathodoluminescent anode comprises an electrode which is capable of reflecting the light emitted by the layer of cathodoluminescent material, the latter being formed on this electrode and facing the second series of electrodes.
  • each of the electrodes of the first and second series of electrodes is formed on a layer which is capable of adsorb light coming from outside the device.
  • Figure 2A is a schematic top view of an electron source according to the invention and Figure 2B is a schematic sectional view, along DD, of this source.
  • This source according to the invention simply differs from the known source which is represented in FIGS. 1A and 1B by the fact that its grids are discontinuous electrodes.
  • the cathode conductors 5 of the source of FIGS. 2A and 2B still have a lattice structure while the grids 10g of this source have openings 11 which make these grids discontinuous or perforated.
  • openings 11 are opposite the areas of crossing of the conductive tracks 5a of the trellis and are even centered on these zones, seen from above, as seen in FIG. 2A.
  • the grids also have holes 14a respectively opposite the microtips 12 of the source.
  • each grid 10g from the source of FIGS. 2A and 2B has a sensiblenent structure of a trellis identical to the trellis of the corresponding cathode conductor, but the trellis of this grid is offset, relative to the trellis of the cathode conductor, by half-step parallel to the lines and half-step parallel to the columns of the source and, above an area where micro-tips are gathered, this grid has, when viewed from above, a square surface 10a which is pierced by the holes 14a and to which end four tracks 10b forming part of the lattice of this grid.
  • This square surface is less than the surface of the opening 6 opposite which it is located.
  • FIG. 3 a sectional view of which is schematically shown in FIG. 3, it is the grids which have a lattice structure while the cathode conductors form discontinuous electrodes.
  • each cathode conductor 18 is formed on the layer 4, and is thus located under the resistive layer 7, and has, in top view, the same forms that the electrode 10g of FIGS. 2A and 2B, except that this cathode conductor has no hole at the level of the microtips which are carried by the resistive layer 7.
  • a resistive layer 20 is formed on the insulating layer 8 and provided with holes 21 opposite the microtips to allow the electrons emitted by it to pass during the excitation of the source.
  • the grid 22 corresponding to the cathode conductor 10g is formed on this resistive layer 20 and has a lattice structure of which we see, in section, tracks 22a in FIG. 3.
  • each conductor with a lattice structure can be either above the corresponding resistive layer (case of FIG. 3) or below this resistive layer (case of Figure 2B).
  • a source according to the invention has, compared to the source known in document (3), the essential advantage of reducing the probability of short circuit between the rows and columns of the source and therefore improving the efficiency source manufacturing.
  • a source according to the invention also has a very important advantage: it makes it possible to reduce the capacity between the rows and the columns in a proportion which is appreciably identical to that of the reduction in the surface of the electrode which is made discontinuous.
  • cathodoluminescence (more simply called screen cathodoluminescent) that is carried out with a microtip electron source, electrical consumption, a large part of which is the capacitive consumption of the electron source.
  • a known cathodoluminescent screen is schematically represented in section in FIG. 4.
  • This known screen includes a microtip electron source 24 of which the insulating substrate 26, the resistive layer 28, the microtips 12, the insulating layer 8 and a grid 10 can be seen.
  • a space 30 in which a vacuum has been created separates this microtip source 24 from an electrically insulating and transparent substrate 32 which is provided with an electrically conductive and transparent layer 34 forming an anode.
  • the latter is arranged facing the microtip source 24 and coated, opposite this source, with a layer 36 of a cathodoluminescent material, also called a "phosphor".
  • this layer 36 emits light 38 which a user 40 of the screen observes through the transparent substrate 32.
  • FIG. 5 which has been represented in FIG. 5 and which comprises an electron source 42 for example of the kind of that of FIGS. 2A and 2B from which we see the substrate 2, the layer silica 4, a cathode conductor 5, the resistive layer 7, the insulating layer 8, the microtips 12 and a grid 10g.
  • the additional advantage is as follows: if the resistive layer 7 is transparent to the light 50 emitted by the phosphor 48 under the impact of the electrons coming from the microtips 12, which is obtained by producing this resistive layer in SnO2 for example , then the electron source 22 according to the invention may have a high transmission coefficient, greater than 50%, vis-à-vis this light 50.
  • a new screen structure can be produced in which the phosphor 48 is observed on the excitation side thereof, through the microtip source (the silica layers 4 and 8 are transparent to light 50 and the substrate 2 is for example made of glass to be it too).
  • a layer capable of reflecting the light 50 emitted by the phosphor is preferably chosen as the conductive layer 46.
  • each cathode conductor and each grid are preferably formed on a sublayer 52 capable of adsorbing the outside light 54 on the screen, as seen in the example shown in Figure 6.
  • This external light 54 is thus adsorbed instead of being reflected towards the observer.
  • the width d of the conductive tracks 5a forming the trellis is 2 micrometers.
  • a network of sixteen microtips 12 is produced in the center of the mesh of the lattice.
  • the distance a between two microtips is 3 micrometers.
  • the distance r between this microtip network and the tracks is 7 micrometers.
  • the grid 10g which is associated with the cathode conductor 5 and which can be seen in FIG. 7B has an openwork surface and this grid includes square conductors 10a whose sides d1 are 11 micrometers and which are positioned in the center of the meshes of the lattice of so as to cover the microtip networks.
  • All these square conductors are interconnected by conductive tracks 10b whose width d2 is 2 micrometers.
  • each square conductor is supplied by four conductive tracks, which makes the probability of having a non-supplied square conductor very low.
  • the surface of the overlap zones 16 between a cathode conductor and the corresponding grid is 4 x 4 micrometers2, that is to say 16 micrometers2, instead of 200 micrometers2 in a source known by the document. (3).
  • the grid surface is thus reduced by a coefficient greater than 4 compared to a source described in document (3).
  • the capacity between the rows and the columns is therefore substantially divided by 4, which correspondingly reduces the capacitive consumption.
  • the transmission of a grid is worth approximately 75% and the transmission of a cathode conductor is worth approximately 85%.
  • the transmission of the electron source thus produced is worth approximately 60%, which makes it possible to manufacture a screen for which the phosphor is advantageously observed on the side of its excitation, through the source of electrons.
  • the cathode conductors with a lattice structure and the perforated grids are advantageously formed on an absorbent layer, to improve the contrast under illumination.
  • This adsorbent layer is for example formed by a black chromium film a few tens of nanometers thick.

Abstract

La source comprend une série d'électrodes (5) jouant le rôle de conducteurs cathodiques et portant des micropointes (12) et une série d'électrodes (10g) jouant le rôle de grilles, chacune des électrodes de l'une des série étant en contact avec une couche résistive (7) et possédant une structure en treillis, comportant ainsi des pistes (5a) qui se croisent et délimitent des premières ouvertures (6), chacune des électrodes de l'autre série comportant des deuxièmes ouvertures (11) décalées par rapport aux premières. <IMAGE>

Description

  • La présente invention concerne une source d'électrons comprenant :
    • sur un support électriquenent isolant, une première série d'électrodes parallèles jouant le rôle de conducteurs cathodiques et portant une pluralité de micropointes en matériau énetteur d'électrons,
    • une deuxiène série d'électrodes parallèles, jouant le rôle de grilles, électriquenent isolées des conducteurs cathodiques et faisant un angle avec ceux-ci, ce qui définit des zones de croisenent des conducteurs cathodiques et des grilles,
    • chacune des électrodes de l'une des séries étant en contact avec une couche résistive et possédant une structure en treillis, comportant ainsi des pistes qui se croisent et délimitent des premières ouvertures,
    • chacune des électrodes de l'autre série étant discontinue et comportant ainsi des deuxièmes ouvertures.
  • L'invention s'applique notamment au domaine de la visualisation et, plus particulièrement, aux écrans plats.
  • On connaît déjà des sources d'électrons à cathodes émissives à micropointes par les documents suivants :
    • (1) demande de brevet français n° 86 01024 du 24 janvier 1986, correspondant à US-A-4,857,161
    • (2) demande de brevet français n° 87 15432 du 6 novembre 1987, correspondant à US-A-4,940,916
    • (3) demande de brevet français n° 90 07347 du 13 juin 1990.
  • En particulier, on connaît par le document (3), auquel on se reportera, une source d'électrons du genre de celle qui a été mentionnée plus haut et dont des électrodes ont ainsi une structure en treillis.
  • Un exemple de réalisation de cette source d'électrons connue est schématiquement représentée en vue de dessus sur la figure 1A et en vue en coupe sur la figure 1B qui est la coupe CC de la figure 1A.
  • Cette source connue a une structure matricielle et comprend un substrat 2 par exemple en verre et éventuellement, sur ce substrat 2, une mince couche de silice 4.
  • Sur cette couche de silice 4 est formée une série d'électrodes en forme de bandes conductrices parallèles jouant le rôle de conducteurs cathodiques et constituant les colonnes de la structure matricielle.
  • On voit sur les figures 1A et 1B l'un de ces conducteurs cathodiques, qui porte la référence 5.
  • Les conducteurs cathodiques sont recouverts chacun par une couche résistive 7.
  • Une couche électriquement isolante 8 en silice recouvre les couches résistives 7.
  • Au-dessus de la couche isolante 8 est formée une série d'électrodes qui sont égalenent en forme de bandes conductrices parallèles et dont l'une apparaît sur les figures 1A et 1B et porte la référence 10.
  • Ces électrodes formées au-dessus de la couche isolante 8 sont perpendiculaires aux conducteurs cathodiques et jouent le rôle de grilles qui constituent les lignes de la structure matricielle.
  • La source connue comporte également une pluralité de micropointes qui constituent des émetteurs élémentaires d'électrons.
  • Dans chacune des zones de croisement des conducteurs cathodiques et des grilles, la couche résistive 7 correspondant à cette zone supporte des micropointes 12 et la grille correspondant à cette zone comporte un trou 14 en regard de chacune des micropointes 12.
  • Chacune de ces dernières épouse sensiblement la forme d'un cône dont la base repose sur la couche résistive 7 et dont le sommet est situé au niveau de l'ouverture 14 correspondante.
  • Bien entendu, la couche isolante 8 est également pourvue d'ouvertures 15 permettant le passage des micropointes 12.
  • De plus, chacune des électrodes de l'une des deux stries d'électrodes a une structure en treillis en contact avec une couche résistive.
  • Dans l'exemple représenté sur les figures 1A et 1B, chaque conducteur cathodique a cette structure en treillis et comporte ainsi des pistes conductrices 5a qui se croisent.
  • De ce fait, chaque conducteur cathodique comporte des ouvertures 6 qui sont délimitées par ces pistes 5a.
  • Les micropointes occupent des régions centrales des mailles du treillis.
  • Les électrodes de l'autre série (les grilles dans l'exemple représenté) ont une structure continue (en faisant abstraction des trous 14 de faible diamètre disposés en regard des micropointes 12).
  • L'utilisation des électrodes à structure en treillis est destinée à minimiser les risques de claquage au niveau des micropointes, en limitant le courant électrique dans celles-ci, et donc d'éviter la formation de courts-circuits entre les lignes et les colonnes par l'intermédiaire de ces micropointes.
  • Cependant, la source connue dont on vient de rappeler les caractéristiques présente un inconvénient.
  • En effet, à cause des défauts que la couche isolante 8 est susceptible de présenter, il subsiste une possibilité de court-circuit dans les zones de recouvrement des électrodes en treillis par les électrodes continues.
  • En se reportant à la figure 1A on remarque que la surface des zones de recouvrement est égale à la surface des électrodes à structure en treillis.
  • La présente invention a pour but de réduire les risques de courts-circuits plus que ne le fait cette source connue et, pour ce faire, propose de réduire les zones de recouvrement des deux séries d'électrodes de façon encore plus importante que dans la source connue par le document (3).
  • Plus précisément, la source objet de la présente invention, comportant la première série d'électrodes et la deuxième série d'électrodes qui ont été mentionnées plus haut, est caractérisée par le fait que les deuxièmes ouvertures sont décalées par rapport aux premières ouvertures et ainsi placées en regard des pistes des treillis, les premières et deuxièmes ouvertures n'étant donc pas superposées.
  • Bien entendu, la structure de chaque électrode discontinue doit être telle qu'elle permette d'appliquer le champ électrique sur les micropointes correspondantes.
  • De plus, on donne de préférence à chaque électrode discontinue une surface aussi faible que possible et une structure qui minimise les zones de recouvrement avec l'électrode à structure en treillis correspondante.
  • De préférence, afin de réduire encore plus les zones de recouvrement avec les électrodes en treillis, les deuxièmes ouvertures (correspondant aux électrodes discontinues) sont placées en regard des intersections des pistes des treillis.
  • Selon un premier mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, les électrodes possédant la structure en treillis sont les électrodes de la deuxiène série d'électrodes et les électrodes discontinues sont les électrodes de la première série d'électrodes.
  • Selon un deuxiène mode de réalisation particulier, les électrodes possédant la structure en treillis sont les électrodes de la première série d'électrodes et les électrodes discontinues sont les électrodes de la deuxiène série d'électrodes.
  • La présente invention a égalenent pour objet un dispositif de visualisation par cathodoluminescence, comprenant :
    • une source d'électrons à cathodes émissives à micropointes, et
    • une anode cathodoluminescente comportant une couche d'un matériau cathodoluminescent,

    ce dispositif étant caractérisé en ce que la source est conforme à la source objet de la présente invention.
  • De préférence, la couche résistive et le support sur lequel est formée la première série d'électrodes sont au moins partiellement transparents à la lumière émise par le matériau cathodoluminescent sous l'impact des électrons, afin d'observer ce matériau cathodoluminescent à travers ce support.
  • Ceci permet d'améliorer de façon importante le rendement lumineux du dispositif et de réduire ainsi la consommation électrique du dispositif.
  • Pour améliorer encore plus le rendement lumineux, il est préférable que l'anode cathodoluminescente comprenne une électrode qui est apte à réfléchir la lumière émise par la couche de matériau cathodoluminescent, cette dernière étant formée sur cette électrode et en regard de la deuxième série d'électrodes.
  • Enfin, en vue d'améliorer également le contraste du dispositif sous éclairement (le matériau cathodoluminescent étant observé à travers ledit support), il est préférable que chacune des électrodes des première et deuxiène séries d'électrodes soit formée sur une couche qui est apte à adsorber la lumière arrivant de l'extérieur du dispositif.
  • La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés ci-après, à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels :
    • les figures 1A et 1B représentent respectivement une vue de dessus schématique et une vue en coupe schématique d'une source d'électrons connue et ont déjà été décrites,
    • les figures 2A et 2B représentent respectivement une vue de dessus schématique et une vue en coupe schématique d'un mode de réalisation particulier de la source d'électrons objet de l'invention, dans lequel les conducteurs cathodiques ont une structure de treillis tandis que les grilles sont des électrodes discontinues,
    • la figure 3 est une vue en coupe schématique d'un autre mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, dans lequel les conducteurs cathodiques forment des électrodes discontinues tandis que les grilles ont une structure de treillis,
    • la figure 4 est une vue en coupe schématique d'un dispositif connu de visualisation par cathodoluminescence, dont le matériau cathodoluminescent est observé du côté opposé à son excitation,
    • la figure 5 est une vue en coupe schématique d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence conforme à l'invention, dont le matériau cathodoluminescent est observé du côté de l'excitation de ce matériau,
    • la figure 6 est une vue schématique et partielle d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence conforme à l'invention, dont les conducteurs cathodiques et les grilles sont munis de sous-couches adsorbantes, et
    • les figures 7A, 7B et 7C illustrent schématiquement et partiellement les structures d'un conducteur cathodique d'un grille et d'une cathode émissive faisant partie d'une source conforme à l'invention.
  • La figure 2A est une vue de dessus schématique d'une source d'électrons conforme à l'invention et la figure 2B est une vue en coupe schématique, selon DD, de cette source.
  • Cette source conforme à l'invention diffère simplement de la source connue qui est représentée sur les figures 1A et 1B par le fait que ses grilles sont des électrodes discontinues.
  • Les conducteurs cathodiques 5 de la source des figures 2A et 2B ont encore une structure de treillis tandis que les grilles 10g de cette source comportent des ouvertures 11 qui rendent ces grilles discontinues ou ajourées.
  • Ces ouvertures 11 sont en regard des zones de croisement des pistes conductrices 5a des treillis et sont même centrées sur ces zones, en vue de dessus, comme on le voit sur la figure 2A.
  • Bien entendu, les grilles comportent encore des trous 14a respectivement en regard des micropointes 12 de la source.
  • Plus précisément, chaque grille 10g de la source des figures 2A et 2B a sensiblenent la structure d'un treillis identique au treillis du conducteur cathodique correspondant, mais le treillis de cette grille est décalé, par rapport au treillis du conducteur cathodique, d'un demi-pas parallèlement aux lignes et d'un demi-pas parallèlement aux colonnes de la source et, au-dessus d'une zone où sont rassemblées des micro-pointes, cette grille a, en vue de dessus, une surface carrée 10a qui est percée par les trous 14a et à laquelle aboutissent quatre pistes 10b faisant partie du treillis de cette grille.
  • Cette surface carrée est inférieure à la surface de l'ouverture 6 en regard de laquelle elle se trouve.
  • On voit sur la figure 2A que les zones 16 de recouvrement des pistes 5a du conducteur cathodique et des pistes 10b de la grille qui lui fait face ont une surface très faible.
  • Dans la source d'électrons conforme à l'invention, dont une vue en coupe est schématiquement représentée sur la figure 3, ce sont les grilles qui ont une structure de treillis tandis que les conducteurs cathodiques forment des électrodes discontinues.
  • Plus précisément, dans l'exemple représenté sur la figure 3, chaque conducteur cathodique 18 est formé sur la couche 4, et se trouve ainsi sous la couche résistive 7, et a, en vue de dessus, la même forme que l'électrode 10g des figures 2A et 2B, excepté que ce conducteur cathodique ne comporte aucun trou au niveau des micropointes qui sont portées par la couche résistive 7.
  • Dans le cas de la figure 3, une couche résistive 20 est formée sur la couche isolante 8 et pourvue de trous 21 en regard des micropointes pour laisser passer les électrons émis par celle-ci lors de l'excitation de la source.
  • La grille 22 correspondant au conducteur cathodique 10g est formée sur cette couche résistive 20 et a une structure de treillis dont on voit, en coupe, des pistes 22a sur la figure 3.
  • Bien entendu, comme dans le cas de la source décrite dans le document (3), chaque conducteur à structure de treillis peut être soit au-dessus de la couche résistive correspondante (cas de la figure 3) soit au-dessous de cette couche résistive (cas de la figure 2B).
  • Une source conforme à l'invention présente, par rapport à la source connue par le document (3), l'avantage essentiel de réduire la probabilité de court-circuit entre les lignes et les colonnes de la source et donc d'améliorer le rendement de fabrication de la source.
  • Une source conforme à l'invention présente de plus un avantage très important : elle permet de réduire la capacité entre les lignes et les colonnes dans une proportion sensiblenent identique à celle de la réduction de la surface de l'électrode qui est rendue discontinue.
  • Ceci est très important car la diminution de cette capacité permet de réduire la consommation électrique d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence (plus simplement appelé écran cathodoluminescent) que l'on réalise avec une source d'électrons à micropointes, consommation électrique dont une part importante est la consommation capacitive de la source d'électrons.
  • On explique ci-après un avantage supplémentaire important d'une source conforme à l'invention.
  • Un écran cathodoluminescent connu est schématiquement représenté en coupe sur la figure 4.
  • Cet écran connu comporte une source d'électrons à micropointes 24 dont on voit le substrat isolant 26, la couche résistive 28, les micropointes 12, la couche isolante 8 et une grille 10.
  • Un espace 30 dans lequel on a fait le vide sépare cette source à micropointes 24 d'un substrat électriquement isolant et transparent 32 qui est pourvu d'une couche électriquement conductrice et transparente 34 formant une anode.
  • Celle-ci est disposée en regard de la source à micropointes 24 et revêtue, en face de cette source, d'une couche 36 d'un matériau cathodoluminescent, encore appelé "luminophore".
  • Sous l'impact des électrons émis par les micropointes lorsque la source fonctionne, cette couche 36 émet une lumière 38 qu'un utilisateur 40 de l'écran observe à travers le substrat transparent 32.
  • Avec cet écran connu, le luminophore est donc observé du côté opposé à son excitation.
  • On considère maintenant un écran conforme à l'invention, que l'on a représenté sur la figure 5 et qui comprend une source d'électrons 42 par exemple du genre de celle des figures 2A et 2B dont on voit le substrat 2, la couche de silice 4, un conducteur cathodique 5, la couche résistive 7, la couche isolante 8, les micropointes 12 et une grille 10g.
  • En regard de cette source 42, on a encore un substrat électriquement isolant 44 revêtu d'une couche conductrice 46, elle-même revêtue d'une couche de luminophore 48 en regard de la source à micropointes 42, un espace vide d'air 30 étant encore prévu entre la source 42 et la couche 48.
  • L'avantage supplémentaire est le suivant : si la couche résistive 7 est transparente à la lumière 50 émise par le luminophore 48 sous l'impact des électrons provenant des micropointes 12, ce que l'on obtient en réalisant cette couche résistive en SnO₂ par exemple, alors la source d'électrons 22 conforme à l'invention peut avoir un coefficient de transmission élevé, supérieur à 50%, vis-à-vis de cette lumière 50.
  • Dans ce cas, on peut réaliser une nouvelle structure d'écran dans laquelle le luminophore 48 est observé du côté de l'excitation de celui-ci, à travers la source à micropointes (les couches de silice 4 et 8 sont transparentes à la lumière 50 et le substrat 2 est par exemple réalisé en verre pour l'être aussi).
  • Ceci permet d'améliorer le rendement lumineux de cet écran et donc d'abaisser la consommation électrique de celui-ci.
  • Dans ce cas, on choisit de préférence, en tant que couche conductrice 46, une couche apte à réfléchir la lumière 50 émise par le luminophore.
  • Dans le cas d'un écran conforme à l'invention qui est observable à travers la source d'électrons qu'il conporte, chaque conducteur cathodique et chaque grille sont de préférence formés sur une sous-couche 52 apte à adsorber la lumière 54 extérieure à l'écran, comme on le voit dans l'exemple représenté sur la figure 6.
  • Ceci permet d'améliorer le contraste de l'écran éclairé par cette lumière 54.
  • Cette lumière extérieure 54 est ainsi adsorbée au lieu d'être réfléchie vers l'observateur.
  • On donne ci-après, à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux figures 7A, 7B et 7C, des valeurs numériques relatives aux améliorations apportées par l'invention vis-à-vis de sources d'électrons à micropointes connues.
  • Dans l'exemple de la figure 7A, on voit un conducteur cathodique 5 à structure en treillis, avec des mailles dont le pas p vaut 25 micromètres.
  • La largeur d des pistes conductrices 5a formant le treillis vaut 2 micromètres.
  • Un réseau de seize micropointes 12 est réalisé au centre des mailles du treillis.
  • La distance a entre deux micropointes vaut 3 micromètres.
  • La distance r entre ce réseau de micropointes et les pistes vaut 7 micromètres.
  • La grille 10g qui est associée au conducteur cathodique 5 et que l'on voit sur la figure 7B a une surface ajourée et cette grille conporte des conducteurs carrés 10a dont les côtés d1 valent 11 micromètres et qui sont positionnés au centre des mailles du treillis de façon à recouvrir les réseaux de micropointes.
  • Tous ces conducteurs carrés sont reliés entre eux par des pistes conductrices 10b dont la largeur d2 vaut 2 micromètres.
  • Dans l'exemple représenté, chaque conducteur carré est alimenté par quatre pistes conductrices, ce qui rend très faible la probalité d'avoir un conducteur carré non alimenté.
  • On peut faire les constatations suivantes à propos de l'exemple numérique que l'on vient de donner à titre purement indicatif et nullement limitatif.
  • Pour chaque maille, la surface des zones de recouvrement 16 entre un conducteur cathodique et la grille correspondante (figure 7C) vaut 4 x 4 micromètres² c'est-à-dire 16 micromètres², au lieu de 200 micromètres² dans une source connue par le document (3).
  • Dans ce cas, la probabilité d'avoir un court-circuit est donc réduite d'un coefficient supérieur à 10 grâce à la présente invention.
  • La surface couverte par la grille vaut
       (11 x 11) + (2x14) soit environ 150 micromètres²
    dans des mailles de
       25 x 25 = 625 micromètres².
  • La surface de grille est ainsi réduite d'un coefficient supérieur à 4 par rapport à une source décrite dans le document (3).
  • La capacité entre les lignes et les colonnes est donc sensiblement divisée par 4, ce qui réduit d'autant la consommation capacitive.
  • Dans l'exemple numérique que l'on vient de donner, la transmission d'une grille vaut environ 75% et la transmission d'un conducteur cathodique vaut environ 85%.
  • Par conséquent, avec une couche résistive transparente, la transmission de la source d'électrons ainsi réalisée vaut environ 60%, ce qui permet de fabriquer un écran pour lequel le luminophore est avantageusement observé du côté de son excitation, à travers la source d'électrons.
  • Dans ce cas, les conducteurs cathodiques à structure de treillis et les grilles ajourées sont avantageusement formés sur une couche absorbante, pour améliorer le contraste sous éclairement.
  • Cette couche adsorbante est par exemple formée par un film de chrome noir de quelques dizaines de nanomètres d'épaisseur.

Claims (8)

  1. Source d'électrons comprenant :
    - sur un support électriquement isolant (2), une première série d'électrodes parallèles (5, 18) jouant le rôle de conducteurs cathodiques et portant une pluralité de micropointes (12) en matériau émetteur d'électrons,
    - une deuxième série d'électrodes parallèles (10g, 22), jouant le rôle de grilles, électriquement isolées des conducteurs cathodiques et faisant un angle avec ceux-ci, ce qui définit des zones de croisement (16) des conducteurs cathodiques et des grilles,
    - chacune des électrodes de l'une des séries étant en contact avec une couche résistive (7, 20) et possédant une structure en treillis, comportant ainsi des pistes (5a, 22a) qui se croisent et délimitent des premières ouvertures (6),
    - chacune des électrodes de l'autre série étant discontinue et comportant ainsi des deuxièmes ouvertures (11),
    la source étant caractérisée en ce que les deuxièmes ouvertures (11) sont décalées par rapport aux premières ouvertures (6) et ainsi placées en regard des pistes (5a, 22a) des treillis.
  2. Source selon la revendication 1, caractérisée en ce que les deuxièmes ouvertures (11) sont placées en regard des intersections des pistes des treillis.
  3. Source selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que les électrodes possédant la structure en treillis sont les électrodes (22) de la deuxième série d'électrodes et en ce que les électrodes discontinues sont les électrodes (18) de la première série d'électrodes.
  4. Source selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que les électrodes possédant la structure en treillis sont les électrodes (5) de la première série d'électrodes et en ce que les électrodes discontinues sont les électrodes (10g) de la deuxième série d'électrodes.
  5. Dispositif de visualisation par cathodoluminescence, comprenant :
    - une source d'électrons (42) à cathodes Emissives à micropointes, et
    - une anode cathodoluminescente comportant une couche (48) d'un matériau cathodoluminescent, dispositif caractérisé en ce que la source (42) est conforme à l'une quelconque des revendications 1 à 4.
  6. Dispositif de visualisation par cathodoluminescence, comprenant :
    - une source d'électrons (42) à cathodes émissives à micropointes, et
    - une anode cathodoluminescente comportant une couche (48) d'un matériau cathodoluminescent, la source d'électrons comprenant :
    - sur un support électriquement isolant (2), une première série d'électrodes parallèles (5, 18) jouant le rôle de conducteurs cathodiques et portant une pluralité de micropointes (12) en matériau émetteur d'électrons,
    - une deuxième série d'électrodes parallèles (10g, 22), jouant le rôle de grilles, électriquement isolées des conducteurs cathodiques et faisant un angle avec ceux-ci, ce qui définit des zones de croisement (16) des conducteurs cathodiques et des grilles,
    - chacune des électrodes de l'une des séries étant en contact avec une couche résistive (7, 20) et possédant une structure en treillis, comportant ainsi des pistes (5a, 22a) qui se croisent et délimitent des premières ouvertures (6),
    - chacune des électrodes de l'autre série étant discontinue et comportant ainsi des deuxièmes ouvertures (11),
    le dispositif étant caractérisé en ce que les deuxièmes ouvertures (11) sont décalées par rapport aux premières ouvertures (6) et ainsi placées en regard des pistes (5a, 22a) des treillis, et en ce que la couche résistive (7) et le support (2) sur lequel est formée la première série d'électrodes (5) sont au moins partiellement transparents à la lumière (50) émise par le matériau cathodoluminescent (48) sous l'impact des électrons, afin d'observer ce matériau cathodoluminescent à travers ce support.
  7. Dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'anode cathodoluminescente comprend une électrode (46) qui est apte à réfléchir la lumière (50) émise par la couche de matériau cathodoluminescent (48), cette dernière étant formée sur cette électrode et en regard de la deuxième série d'électrodes (10g).
  8. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que chacune des électrodes (5, 10g) des première et deuxième séries d'électrodes est formée sur une couche (52) qui est apte à adsorber la lumière (54) arrivant de l'extérieur du dispositif.
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TW (1) TW386234B (fr)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2710781A1 (fr) * 1993-09-27 1995-04-07 Futaba Denshi Kogyo Kk Dispositif formant cathode d'émission de champ.
EP0671755A1 (fr) * 1994-03-09 1995-09-13 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
EP0675519A1 (fr) * 1994-03-30 1995-10-04 AT&T Corp. Appareil comprenant des émetteurs à effet de champ
EP0707237A1 (fr) 1994-10-10 1996-04-17 Commissariat A L'energie Atomique Procédé de formation de trous dans une couche de résine photosensible, application à la fabrication de sources d'électrons à cathodes emissives a micropointes et d'écrans plats de visualisation
FR2726688A1 (fr) * 1994-11-08 1996-05-10 Commissariat Energie Atomique Source d'electrons a effet de champ et procede de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
FR2726689A1 (fr) * 1994-11-08 1996-05-10 Commissariat Energie Atomique Source d'electrons a effet de champ et procede de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
EP0713236A1 (fr) * 1994-11-18 1996-05-22 Texas Instruments Incorporated Dispositif émitteur d'électrons
EP0827176A2 (fr) * 1996-08-16 1998-03-04 Tektronix, Inc. Revêtements conducteurs résistants à la pulvérisation à émission augmentée pour des électrodes cathodiques dans une structure d'adressage par plasma en courant continu
WO1998025291A1 (fr) * 1996-12-06 1998-06-11 Commissariat A L'energie Atomique Ecran d'affichage comprenant une source d'electrons a micropointes, observable a travers le support des micropointes, et procede de fabrication de cette source
FR2828956A1 (fr) * 2001-06-11 2003-02-28 Pixtech Sa Protection locale d'une grille d'ecran plat a micropointes

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2707795B1 (fr) * 1993-07-12 1995-08-11 Commissariat Energie Atomique Perfectionnement à un procédé de fabrication d'une source d'électrons à micropointes.
JP3671429B2 (ja) * 1994-02-22 2005-07-13 ソニー株式会社 画像表示装置および画像表示駆動方法
JP2907024B2 (ja) * 1994-09-26 1999-06-21 関西日本電気株式会社 電子放出素子
FR2725072A1 (fr) * 1994-09-28 1996-03-29 Pixel Int Sa Protection electrique d'une anode d'ecran plat de visualisation
FR2726122B1 (fr) 1994-10-19 1996-11-22 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication d'une source d'electrons a micropointes
FR2726581B1 (fr) 1994-11-08 1996-12-06 Commissariat Energie Atomique Suspension pour le depot de materiaux luminescents par electrophorese, notamment pour la realisation d'ecrans plats
JP2897674B2 (ja) * 1995-02-28 1999-05-31 日本電気株式会社 電界放出型冷陰極とこれを用いた電子銃
US5759078A (en) * 1995-05-30 1998-06-02 Texas Instruments Incorporated Field emission device with close-packed microtip array
US5589728A (en) * 1995-05-30 1996-12-31 Texas Instruments Incorporated Field emission device with lattice vacancy post-supported gate
US5686782A (en) * 1995-05-30 1997-11-11 Texas Instruments Incorporated Field emission device with suspended gate
US5621272A (en) * 1995-05-30 1997-04-15 Texas Instruments Incorporated Field emission device with over-etched gate dielectric
US5666024A (en) * 1995-06-23 1997-09-09 Texas Instruments Incorporated Low capacitance field emission device with circular microtip array
FR2737927B1 (fr) * 1995-08-17 1997-09-12 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de formation de trous dans une couche de materiau photosensible, en particulier pour la fabrication de sources d'electrons
FR2737928B1 (fr) * 1995-08-17 1997-09-12 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'insolation de zones micrometriques et/ou submicrometriques dans une couche photosensible et procede de realisation de motifs dans une telle couche
US5635791A (en) * 1995-08-24 1997-06-03 Texas Instruments Incorporated Field emission device with circular microtip array
TW368671B (en) * 1995-08-30 1999-09-01 Tektronix Inc Sputter-resistant, low-work-function, conductive coatings for cathode electrodes in DC plasma addressing structure
JP3526673B2 (ja) * 1995-10-09 2004-05-17 富士通株式会社 電子放出素子、電子放出素子アレイ、カソード板及びそれらの製造方法並びに平面表示装置
US5672933A (en) * 1995-10-30 1997-09-30 Texas Instruments Incorporated Column-to-column isolation in fed display
US5633561A (en) * 1996-03-28 1997-05-27 Motorola Conductor array for a flat panel display
FR2751785A1 (fr) * 1996-07-29 1998-01-30 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de formation de motifs dans une couche de resine photosensible par insolation laser continue, application a la fabrication de sources d'electrons a cathodes emissives a micropointes et d'ecrans plats
US5789848A (en) * 1996-08-02 1998-08-04 Motorola, Inc. Field emission display having a cathode reinforcement member
US5828163A (en) * 1997-01-13 1998-10-27 Fed Corporation Field emitter device with a current limiter structure
JPH1167128A (ja) * 1997-08-27 1999-03-09 Futaba Corp 蛍光表示管及び蛍光表示管用制御電極
US6144144A (en) * 1997-10-31 2000-11-07 Candescent Technologies Corporation Patterned resistor suitable for electron-emitting device
US6107728A (en) * 1998-04-30 2000-08-22 Candescent Technologies Corporation Structure and fabrication of electron-emitting device having electrode with openings that facilitate short-circuit repair
ES2571339T3 (es) * 2001-10-05 2016-05-24 Covidien Lp Dispositivo de grapado quirúrgico
JP3892769B2 (ja) * 2002-07-08 2007-03-14 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置
TW594824B (en) * 2002-12-03 2004-06-21 Ind Tech Res Inst Triode structure of field-emission display and manufacturing method thereof
KR20060000751A (ko) * 2004-06-29 2006-01-06 삼성에스디아이 주식회사 전자방출소자 및 이를 이용한 전자방출 표시장치
KR20060104657A (ko) 2005-03-31 2006-10-09 삼성에스디아이 주식회사 전자 방출 소자
FR2886284B1 (fr) * 2005-05-30 2007-06-29 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation de nanostructures
WO2011088446A2 (fr) * 2010-01-18 2011-07-21 Safariland, Llc Mécanisme de sûreté de dispositif de verrouillage et ensemble étui correspondant
TWI489507B (zh) * 2011-01-04 2015-06-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 場發射電子器件及場發射顯示裝置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989011157A1 (fr) * 1988-05-10 1989-11-16 Sri International Electrode d'emission de champ a focalisation automatique
FR2650119A1 (fr) * 1989-07-21 1991-01-25 Thomson Tubes Electroniques Dispositif de regulation de courant individuel de pointe dans un reseau plan de microcathodes a effet de champ, et procede de realisation
EP0461990A1 (fr) * 1990-06-13 1991-12-18 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5216324A (en) * 1990-06-28 1993-06-01 Coloray Display Corporation Matrix-addressed flat panel display having a transparent base plate
US5075591A (en) * 1990-07-13 1991-12-24 Coloray Display Corporation Matrix addressing arrangement for a flat panel display with field emission cathodes

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989011157A1 (fr) * 1988-05-10 1989-11-16 Sri International Electrode d'emission de champ a focalisation automatique
FR2650119A1 (fr) * 1989-07-21 1991-01-25 Thomson Tubes Electroniques Dispositif de regulation de courant individuel de pointe dans un reseau plan de microcathodes a effet de champ, et procede de realisation
EP0461990A1 (fr) * 1990-06-13 1991-12-18 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2710781A1 (fr) * 1993-09-27 1995-04-07 Futaba Denshi Kogyo Kk Dispositif formant cathode d'émission de champ.
EP0671755A1 (fr) * 1994-03-09 1995-09-13 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
FR2717304A1 (fr) * 1994-03-09 1995-09-15 Commissariat Energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes.
US6043592A (en) * 1994-03-09 2000-03-28 Commissariat A L'energie Atomique Microtip emissive cathode electron source having conductive elements for improving the uniformity of electron emission
EP0675519A1 (fr) * 1994-03-30 1995-10-04 AT&T Corp. Appareil comprenant des émetteurs à effet de champ
EP0707237A1 (fr) 1994-10-10 1996-04-17 Commissariat A L'energie Atomique Procédé de formation de trous dans une couche de résine photosensible, application à la fabrication de sources d'électrons à cathodes emissives a micropointes et d'écrans plats de visualisation
EP0712147A1 (fr) 1994-11-08 1996-05-15 Commissariat A L'energie Atomique Procédé de fabrication d'une source d'électrons à effet de champ et source obtenue par ce procédé, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
EP0712146A1 (fr) * 1994-11-08 1996-05-15 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à effet de champ et procédé de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
FR2726689A1 (fr) * 1994-11-08 1996-05-10 Commissariat Energie Atomique Source d'electrons a effet de champ et procede de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
US5836796A (en) * 1994-11-08 1998-11-17 Commissariat A L'energie Atomique Field effect electron source, associated display device and the method of production thereof
FR2726688A1 (fr) * 1994-11-08 1996-05-10 Commissariat Energie Atomique Source d'electrons a effet de champ et procede de fabrication de cette source, application aux dispositifs de visualisation par cathodoluminescence
EP0713236A1 (fr) * 1994-11-18 1996-05-22 Texas Instruments Incorporated Dispositif émitteur d'électrons
EP0827176A2 (fr) * 1996-08-16 1998-03-04 Tektronix, Inc. Revêtements conducteurs résistants à la pulvérisation à émission augmentée pour des électrodes cathodiques dans une structure d'adressage par plasma en courant continu
EP0827176A3 (fr) * 1996-08-16 2000-03-08 Tektronix, Inc. Revêtements conducteurs résistants à la pulvérisation à émission augmentée pour des électrodes cathodiques dans une structure d'adressage par plasma en courant continu
WO1998025291A1 (fr) * 1996-12-06 1998-06-11 Commissariat A L'energie Atomique Ecran d'affichage comprenant une source d'electrons a micropointes, observable a travers le support des micropointes, et procede de fabrication de cette source
FR2756969A1 (fr) * 1996-12-06 1998-06-12 Commissariat Energie Atomique Ecran d'affichage comprenant une source d'electrons a micropointes, observable a travers le support des micropointes, et procede de fabrication de cette source
US6133690A (en) * 1996-12-06 2000-10-17 Commissariat A L'energie Atomique Display screen comprising a source of electrons with microtips, capable of being observed through the microtip support, and method for making this source
FR2828956A1 (fr) * 2001-06-11 2003-02-28 Pixtech Sa Protection locale d'une grille d'ecran plat a micropointes

Also Published As

Publication number Publication date
US5534744A (en) 1996-07-09
DE69318444D1 (de) 1998-06-18
KR930018613A (ko) 1993-09-22
JPH0684478A (ja) 1994-03-25
FR2687839A1 (fr) 1993-08-27
CA2089986A1 (fr) 1993-08-27
TW386234B (en) 2000-04-01
FR2687839B1 (fr) 1994-04-08
DE69318444T2 (de) 1998-12-03
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