FR2717304A1 - Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes. - Google Patents

Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes. Download PDF

Info

Publication number
FR2717304A1
FR2717304A1 FR9402709A FR9402709A FR2717304A1 FR 2717304 A1 FR2717304 A1 FR 2717304A1 FR 9402709 A FR9402709 A FR 9402709A FR 9402709 A FR9402709 A FR 9402709A FR 2717304 A1 FR2717304 A1 FR 2717304A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
electrodes
microtips
resistive layer
mesh
electrically conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
FR9402709A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2717304B1 (fr
Inventor
Vaudaine Pierre
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat a lEnergie Atomique CEA filed Critical Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Priority to FR9402709A priority Critical patent/FR2717304B1/fr
Priority to EP95400494A priority patent/EP0671755B1/fr
Priority to DE69500403T priority patent/DE69500403T2/de
Priority to US08/401,134 priority patent/US6043592A/en
Priority to JP5000795A priority patent/JPH0831347A/ja
Publication of FR2717304A1 publication Critical patent/FR2717304A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of FR2717304B1 publication Critical patent/FR2717304B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
    • H01J1/304Field-emissive cathodes
    • H01J1/3042Field-emissive cathodes microengineered, e.g. Spindt-type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/02Electron guns
    • H01J3/021Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source
    • H01J3/022Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source with microengineered cathode, e.g. Spindt-type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2201/00Electrodes common to discharge tubes
    • H01J2201/30Cold cathodes
    • H01J2201/319Circuit elements associated with the emitters by direct integration

Abstract

Cette source comprend une série de conducteurs cathodiques (3) portant une pluralité de micropointes (19), une série de grilles (13), chacune des électrodes d'au moins l'une des séries étant en contact avec une couche résistive (9) et possédant des ouvertures appelées mailles, un groupe de micropointes se trouvant en regard de chaque maille. Un élément conducteur (3a) se trouve en regard de l'intérieur de chaque maille, en regard du groupe de micropointes correspondant à cette maille et en contact avec la couche résistive. Application aux dispositifs de visualisation à écrans plats.

Description

SOURCE D'ELECTRONS A CATHODES EMISSIVES A MICROPOINTES
DESCRIPTION
La présente invention concerne une source d'électrons à cathodes émissives à micropointes ("microtips"). Elle s'applique notamment à la fabrication de dispositifs de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission par effet de champ et, en
particulier, à la fabrication d'écrans plats.
Elle est également utilisable pour la fabrication de canons à électrons ou encore de jauges à
vide par exemple.
On connait déjà des sources d'électrons à cathodes émissives à micropointes par les documents suivants auxquels on se reportera:
(1) FR-A-2593953 correspondant à EP-A-0234989 et à US-
A-4857161
(2) FR-A-2623013 correspondant à EP-A-0316214 et à
US-A-4940916
(3) FR-A-2663462 correspondant à EP-A-0461990 et à
US-A-5194780
(4) FR-A-2687839 correspondant à EP-A-0558393 et à la demande de brevet américain du 26 février 1993,
numéro de série 08/022,935 (Leroux et al.).
Le document (1) décrit un procédé de fabrication d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission par effet de champ, dont la source d'électrons à micropointes est formée sur un substrat en verre et possède une
structure matricielle.
Les documents (2), (3) et (4) décrivent des perfectionnements apportés à cette source décrite dans le document (1). Ces documents (2) à (4) concernent en particulier l'amélioration de l'uniformité d'émission par limitation du courant dans les micropointes qui
émettent le plus d'électrons.
Cette amélioration est obtenue par introduction d'une résistance électrique montée en
série avec les micropointes.
Cette résistance électrique est formée à partir d'une couche résistive qui peut être continue ou
discontinue.
La figure 1 est une vue schématique et partielle d'une source connue d'électrons à cathodes émissives à micropointes, qui est décrite en détail
dans le document (2) mentionné plus haut.
Cette source connue a une structure matricielle et comprend un substrat 2 par exemple en verre, sur lequel est éventuellement formée une mince
couche de silice 4.
Cette source comprend aussi, sur cette couche de silice 4, une pluralité d'électrodes 5 en forme de bandes conductrices parallèles qui jouent le rôle de conducteurs cathodiques et constituent les
colonnes de la structure matricielle.
Les conducteurs cathodiques sont recouverts chacun par une couche résistive 7 qui peut être discontinue ou continue (excepté en ses extrémités, pour permettre la connexion des conducteurs cathodiques
avec des moyens de polarisation 20).
Une couche électriquement isolante 8, en
silice, recouvre les couches résistives 7.
Au dessus de la couche isolante 8 sont formées une pluralité d'électrodes 10 également en
forme de bandes conductrices parallèles.
Ces électrodes 10 sont généralement perpendiculaires aux électrodes 5 et jouent le rôle de grilles qui constituent les lignes de la structure matricielle. Une couche résistive peut éventuellement être disposée au-dessus ou au-dessous des électrodes
10.
Dans un perfectionnement de cette source connue par le document (2), l'une au moins des séries d'électrodes (conducteurs cathodiques ou grilles) est associées à une couche résistive et chaque électrode de cette série présente une structure en treillis ou
structure maillée.
C'est ainsi que le document (3) préconise d'utiliser des conducteurs cathodiques en forme de treillis de manière que les micropointes soient disposées dans les ouvertures des treillis de ces
conducteurs cathodiques.
Dans cette configuration, la résistance au claquage d'une micropointe ne dépend plus, au premier ordre, de l'épaisseur de la couche résistive mais de la distance entre cette micropointe et le conducteur
cathodique correspondant.
Un autre perfectionnement aux sources d'électrons à cathodes émissives à micropointes est
apporté par le document (4).
Cet autre perfectionnement vise à réduire les risques de court-circuit entre les lignes et les
colonnes de la source.
Pour ce faire, on réduit au maximum les
zones de recouvrement des deux séries d'électrodes.
Ceci est schématiquement et partiellement
illustré par les figures 2 et 3.
La figure 2 est une vue de dessus schématique et partielle d'une source d'électrons décrite dans ce document (4) et la figure 3 est une vue agrandie et en coupe selon l'axe III-III de la figure 2. Cette source connue à structure matricielle comprend un substrat 1, par exemple en verre, et éventuellement une mince couche 6 de silice sur ce
substrat 1.
Sur la couche de silice 6 est formée une série d'électrodes parallèles 3, jouant le rôle de conducteurs cathodiques, chacune de ces électrodes
ayant une structure en treillis.
Ce sont les colonnes de la structure matricielle. Ces conducteurs cathodiques 3 sont recouverts par une couche résistive 9 en silicium, elle-même recouverte par une couche électriquement
isolante 11 en silice.
Au-dessus de cette couche isolante 11 est formée une autre série d'électrodes parallèles ayant également une structure ajourée mais différente, cette structure étant conçue pour minimiser les zones de
recouvrement avec les conducteurs cathodiques.
Ces électrodes formées au-dessus de la couche isolante 11 sont généralement perpendiculaires aux conducteurs cathodiques et constituent les grilles
13 de la source.
Ce sont les lignes de la structure matricielle. Les figures 2 et 3 montrent un détail de l'une des grilles de cette source connue par le
document (4).
Cette grille, portant la référence générale 13, comporte des pistes parallèles 14 coupant
orthogonalement d'autres pistes parallèles 15.
Aux intersections des pistes 14 et 15, la grille présente des zones élargies 17 qui ont ici une
forme carrée.
On voit sur la figure 2 que les zones 16 de recouvrement d'un conducteur cathodique 3 et des pistes
14 et 15 de la grille ont une surface très faible.
Les zones élargies 17 sont situées au centre des mailles du conducteur cathodique en forme de treillis. Dans les zones de croisement des conducteurs cathodiques et des grilles, des trous ou plus exactement des micro-trous 18, sont formés de préférence dans l'épaisseur des zones élargies de la
grille et dans l'épaisseur de la couche isolante 11.
Les micropointes 19 de la source sont disposées dans ces trous et reposent sur la couche
résistive 9.
Un ensemble constitué par une micropointe
et un micro-trou forme un micro-émetteur d'électrons.
Les micro-émetteurs d'électrons occupent les régions centrales des mailles du treillis du conducteur cathodique ainsi que les zones élargies et
carrées 17 de la grille.
Les mailles du treillis peuvent avoir
différentes formes et différentes dimensions.
Par exemple, elles peuvent être carrées et
avoir 25 microns de côté.
Le nombre de trous et de pointes dans
chaque maille peut également varier.
Il peut par exemple y avoir 4x4=16 pointes
par maille.
Lorsqu'on fait fonctionner la source qui a été décrite en faisant référence aux figures 2 et 3, on applique une tension électrique entre le conducteur
cathodique et la grille.
On obtient donc un courant électrique qui passe par la couche résistive, entre le conducteur
cathodique et les micropointes.
Plus les micropointes sont éloignées du conducteur cathodique, plus la distance qui les en sépare est longue, plus la résistance électrique (due à la couche résistive) par l'intermédiaire de laquelle ces micropointes sont reliées au conducteur cathodique est élevée et donc plus le courant électrique
alimentant ces micropointes est faible.
Sur la figure 3, on a représenté symboliquement la résistance électrique rl des micropointes situées au bord du groupe de micropointes correspondant à une maille du conducteur cathodique et la résistance électrique r2 des micropointes situées au centre de ce groupe de micropointes, r2 étant
supérieure à rl.
Il résulte de ce qui précède que, dans la maille, les micropointes situées au centre du groupe, qui sont plus éloignées du conducteur cathodique que les micropointes situées au bord de ce groupe, émettent
moins d'électrons que ces dernières.
La présente invention a pour but de
remédier à cet inconvénient.
Elle vise à améliorer l'uniformité de l'émission d'électrons par les micropointes situées à l'intérieur des mailles (ou plus généralement en regard des mailles) d'électrodes à structure en treillis, dans une source d'électrons à cathodes émissives à micropointes. De façon précise, la présente invention a pour objet une source d'électrons comprenant: - une première série d'électrodes parallèles qui sont placées sur un support électriquement isolant, jouent le rôle de conducteurs cathodiques et portent une pluralité de micropointes émettrices d'électrons, - une deuxième série d'électrodes parallèles, jouant le rôle de grilles, électriquement isolées des conducteurs cathodiques et faisant un angle avec ceux-ci, ce qui définit des zones de croisement des conducteurs cathodiques et des grilles, chacune des électrodes d'au moins l'une des séries étant en contact avec une couche résistive et possédant une structure en treillis, comportant des pistes qui se croisent et délimitent des ouvertures appelées mailles, un groupe de micropointes se trouvant en regard de chaque maille, la source étant caractérisée en ce qu'elle comprend en outre un élément électriquement conducteur en regard de l'intérieur de chaque maille, électriquement isolé des pistes qui se croisent, en regard du groupe de micropointes correspondant à cette maille et en contact
avec la couche résistive.
Ce sont ces éléments électriquement conducteurs qui permettent l'amélioration de
l'uniformité d'émission d'électrons dans la source.
Selon un mode de réalisation préféré de la source objet de l'invention, chaque élément électriquement conducteur se trouve à l'intérieur de la
maille correspondant à cet élément.
Ceci permet de simplifier la fabrication de la source car il est alors possible de fabriquer les éléments conducteurs au cours de la même étape que les électrodes à structure en treillis auxquelles ces
éléments sont associés.
Pour simplifier encore cette fabrication, il est préférable que l'épaisseur de chaque élément électriquement conducteur soit égale à l'épaisseur des électrodes possédant une structure en treillis auxquelles cet élément est associé. Selon un premier mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, les électrodes qui possèdent la structure en treillis et qui sont associées aux éléments électriquement conducteurs sont les électrodes de la première série d'électrodes. Dans ce cas et lorsque chaque élément électriquement conducteur se trouve à l'intérieur de la maille correspondant à cet élément, de préférence, les électrodes possédant la structure en treillis se trouvent sous la couche résistive et chaque élément électriquement conducteur se trouve aussi sous cette couche résistive et sous le groupe de micropointes
correspondant à cet élément.
Selon un deuxième mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, les électrodes qui possèdent la structure en treillis et qui sont associées aux éléments électriquement conducteurs sont les électrodes de la deuxième série
d'électrodes.
Dans ce cas et lorsque chaque élément électriquement conducteur se trouve à l'intérieur de la maille correspondant à cet élément, de préférence, les électrodes possédant la structure en treillis se trouvent sur la couche résistive et chaque élément électriquement conducteur se trouve aussi sur cette couche résistive et au dessus du groupe de micropointes correspondant à cet élément et comprend un trou en
regard de chaque micropointe de ce groupe.
La présente invention sera mieux comprise à
la lecture de la description d'exemples de réalisation
donnés ci-après, à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels: * la figure 1 est une vue schématique et partielle d'une source connue d'électrons et a déjà été décrite, * la figure 2 est une vue de dessus schématique et partielle d'une source connue d'électrons à micropointes, dont les conducteurs cathodiques ont une structure en treillis, et a déjà été décrite, * la figure 3 est une vue en coupe agrandie de la figure 2 selon l'axe III-III et a déjà été décrite, * la figure 4 est une vue de dessus schématique et partielle d'un mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, * la figure 5 est une vue en coupe agrandie de la figure 4, * la figure 6 est une vue en coupe schématique et partielle d'une source connue d'électrons à micropointes, et * la figure 7 est une vue en coupe schématique d'un autre mode de réalisation particulier de la source d'électrons à micropointes objet de l'invention. La source à micropointes conforme à l'invention, qui est schématiquement et partiellement représentée en vue de dessus sur la figure 4 et en coupe agrandie sur la figure 5 (qui est la coupe III-III de la figure 4) est identique à la source qui a été décrite en faisant référence aux figures 2 et 3 à ceci près qu'elle comprend en plus des éléments électriquement conducteurs 3a respectivement placés à
l'intérieur des mailles des conducteurs cathodiques 3.
Ces éléments électriquement conducteurs 3a visent à améliorer l'uniformité de l'émission des électrons en uniformisant la résistance d'accès aux
micropointes à l'intérieur de chaque maille.
Dans l'exemple représenté sur les figures 4 et 5, chaque élément électriquement conducteur 3a constitue une plaque indépendante en matériau électriquement conducteur, située au centre de chaque maille, sous la couche résistive 9, en contact avec la couche de silice 6 et sous le groupe de micropointes 19
correspondant à cette maille.
De plus, cette plaque 3a occupe de préférence une surface légèrement supérieure à celle qui est couverte par ce groupe de micropointes comme on
le voit sur les figures 4 et 5.
Ces plaques 3a sont avantageusement réalisées au cours de la même étape de photolithogravure que celle au cours de laquelle on forme les conducteurs cathodiques 3, et à partir du même photomasque et de la même couche métallique que ceux qui servent à la fabrication de ces conducteurs cathodiques (l'épaisseur des plaques 3a étant ainsi
égale à l'épaisseur des conducteurs cathodiques).
On a représenté symboliquement sur la figure 5 les résistances électriques r3 reliant chaque plaque 3a aux pistes du treillis correspondant ainsi que les résistances r4 entre respectivement les
micropointes et ces plaques 3a.
L'utilisation des plaques 3a permet d'obtenir la même résistance électrique r3+r4 sous chacune des micropointes (r3+ r4 représentant la résistance d'accès aux micropointes), d'o une meilleure uniformité d'émission d'électrons de la part
de ces micropointes.
Cette résistance électrique d'accès aux micropointes dépend, au premier ordre, de la distance entre la plaque conductrice 3a et les pistes du
treillis correspondant.
A titre d'exemple, pour des mailles carrées de 25 pm de côté et avec 4x4 micro-trous de 1,5 pim de diamètre, espacés les uns des autres de 3 pm, on peut utiliser des plaques conductrices carrées de 15 pm de côté et de 0,4 pm d'épaisseur (l'épaisseur des conducteurs cathodiques étant également de 0,40 pm dans
cet exemple).
En pratique, on ajuste les dimensions des plaques conductrices en fonction de la résistivité et de l'épaisseur de la couche résistive 9 et également en fonction de la tolérance d'alignement entre les niveaux
de formation des conducteurs cathodiques et des micro-
trous. On a représenté sur les figures 4 et 5 une grille à structure ajourée mais bien entendu l'invention s'applique également à une source
présentant des grilles respectivement pleines.
Un autre exemple de source d'électrons à micropointes est connu par le document (4) et schématiquement et partiellement représenté en coupe
sur la figure 6.
Dans cette source connue de la figure 6, ce sont les grilles qui ont une structure de treillis tandis que les conducteurs cathodiques forment des
structures ajourées avec des zones élargies.
Plus précisément, dans l'exemple représenté sur la figure 6, chaque conducteur cathodique 22 est formé sur la couche de silice 6 et se trouve ainsi sous la couche résistive 9 et a, en vue de dessus, la même forme que l'électrode 13 des figures 4 et 5, excepté que ce conducteur cathodique ne comporte aucun trou au niveau des micropointes qui sont portées par la couche
résistive 9.
Dans le cas de la figure 6, une couche résistive 24 est formée sur la couche isolante et pourvue de trous 26 en regard des micropointes, pour laisser passer les électrons émis par celles-ci lors de
l'excitation de la source.
La grille 28 est formée sur cette couche résistive 24 et a une structure de treillis dont on
voit, en coupe, des pistes 28a sur la figure 6.
Dans le cas de la figure 6, au lieu d'utiliser des conducteurs cathodiques ajourés, on peut utiliser des conducteurs cathodiques formant respectivement des bandes pleines, parallèles les unes
aux autres.
La présente invention s'applique également au cas de la figure 6 (avec des conducteurs cathodiques ajourés ou pleins) en vue notamment d'uniformiser la résistance d'accès à chaque micropointe dans chaque
maille des grilles.
Cette variante présente par ailleurs l'avantage d'uniformiser le temps d'application de la tension grille-conducteur cathodique autour de chaque micropointe. Ainsi, la figure 7 illustre schématiquement et partiellement, en coupe, une source conforme à l'invention qui est identique à la source décrite en faisant référence à la figure 6 à ceci près qu'elle comprend en outre un élément électriquement conducteur à l'intérieur de chaque maille des grilles 28, en regard du groupe de micropointes correspondant à cette maille. Plus précisément, dans l'exemple représenté sur la figure 7, cet élément électriquement conducteur forme une plaque indépendante, de forme carrée, située à l'intérieur de cette maille, sur la couche résistive 24, au-dessus du groupe de micropointe 19. Chaque plaque 30 comprend des trous 32, alignés avec les trous 26 et placés respectivement en
regard des micropointes de ce groupe.
Chaque plaque 30 est avantageusement réalisée au cours de la même étape que celle conduisant à la formation des grilles, à partir de la même couche conductrice, les plaques 30 ayant ainsi la même
épaisseur que les grilles 28.
Comme dans le cas du document (3), les conducteurs cathodiques à structures en treillis de la figure 5 pourraient être non pas sous la couche résistive 9 mais sur cette dernière (toutes choses
égales par ailleurs).
De même, les grilles 28 à structure en treillis de la figure 7 pourraient être non pas sur la couche résistive 24 mais sous cette dernière et en
contact avec la couche isolante 11.
Dans ce dernier cas, les plaques conductrices 30 peuvent être soit sur la couche résistive 24 comme on le voit sur la figure 7, soit sous cette couche résistive 24 et en contact avec la couche isolante 11 (ces plaques 30 étant alors au même niveau que les grilles 28, à l'intérieur des mailles de
ces dernières.
Dans le cadre de l'invention, on peut utiliser également, dans une même source, des grilles et des conducteurs cathodiques en forme de treillis
associés respectivement à des éléments conducteurs.

Claims (7)

REVENDICATIONS
1. Source d'électrons comprenant: - une première série d'électrodes parallèles (3, 22) qui sont placées sur un support électriquement isolant (1), jouent le rôle de conducteurs cathodiques et portent une pluralité de micropointes (19) émettrices d'électrons, - une deuxième série d'électrodes parallèles (13, 28), jouant le rôle de grilles, électriquement isolées des conducteurs cathodiques et faisant un angle avec ceux-ci, ce qui définit des zones de croisement des conducteurs cathodiques et des grilles, chacune des électrodes d'au moins l'une des séries étant en contact avec une couche résistive (9, 24) et possédant une structure en treillis, comportant des pistes qui se croisent et délimitent des ouvertures appelées mailles, un groupe de micropointes se trouvant en regard de chaque maille, la source étant caractérisée en ce qu'elle comprend en outre un élément électriquement conducteur (3a, 30) en regard de l'intérieur de chaque maille, électriquement isolé des pistes qui se croisent, en regard du groupe de micropointes correspondant à cette maille et en
contact avec la couche résistive.
2. Source selon la revendication 1, caractérisée en ce que chaque élément électriquement conducteur (3a, 30) se trouve à l'intérieur de la
maille correspondant à cet élément.
3. Source selon la revendication 2, caractérisée en ce que l'épaisseur de chaque élément électriquement conducteur est égale à l'épaisseur des électrodes possédant une structure en treillis
auxquelles cet élément est associé.
4. Source selon l'une quelconque des
revendications 1 à 3, caractérisée en ce que les
électrodes qui possèdent la structure en treillis et qui sont associées aux éléments électriquement conducteurs sont les électrodes (3) de la première
série d'électrodes.
5. Source selon les revendications 2 et 4,
caractérisée en ce que les électrodes possédant la structure en treillis se trouvent sous la couche résistive (9) et en ce que chaque élément électriquement conducteur (3a) se trouve aussi sous cette couche résistive et sous le groupe de
micropointes (19) correspondant à cet élément.
6. Source selon l'une quelconque des
revendications 1 à 3, caractérisée en ce que les
électrodes qui possèdent la structure en treillis et qui sont associés aux éléments électriquement conducteurs sont les électrodes (28) de la deuxième
série d'électrodes.
7. Source selon les revendications 2 et 6,
caractérisée en ce que les électrodes possédant la structure en treillis se trouvent sur la couche résistive (24) et en ce que chaque élément électriquement conducteur (30) se trouve aussi sur cette couche résistive et au dessus du groupe de micropointes (19) correspondant à cet élément et comprend un trou (32) en regard de chaque micropointe
de ce groupe.
FR9402709A 1994-03-09 1994-03-09 Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes. Expired - Fee Related FR2717304B1 (fr)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9402709A FR2717304B1 (fr) 1994-03-09 1994-03-09 Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes.
EP95400494A EP0671755B1 (fr) 1994-03-09 1995-03-07 Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
DE69500403T DE69500403T2 (de) 1994-03-09 1995-03-07 Elektronenquelle mit Mikrospitzenemissionskathoden
US08/401,134 US6043592A (en) 1994-03-09 1995-03-08 Microtip emissive cathode electron source having conductive elements for improving the uniformity of electron emission
JP5000795A JPH0831347A (ja) 1994-03-09 1995-03-09 マイクロチップ放射陰極電子源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9402709A FR2717304B1 (fr) 1994-03-09 1994-03-09 Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2717304A1 true FR2717304A1 (fr) 1995-09-15
FR2717304B1 FR2717304B1 (fr) 1996-04-05

Family

ID=9460837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR9402709A Expired - Fee Related FR2717304B1 (fr) 1994-03-09 1994-03-09 Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6043592A (fr)
EP (1) EP0671755B1 (fr)
JP (1) JPH0831347A (fr)
DE (1) DE69500403T2 (fr)
FR (1) FR2717304B1 (fr)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0713236A1 (fr) * 1994-11-18 1996-05-22 Texas Instruments Incorporated Dispositif émitteur d'électrons
JP2907080B2 (ja) * 1995-09-26 1999-06-21 双葉電子工業株式会社 電界放出型表示装置
JPH10308162A (ja) * 1997-05-07 1998-11-17 Futaba Corp 電界放出素子
JPH10340666A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Futaba Corp 電界電子放出素子
JP2000215787A (ja) * 1999-01-21 2000-08-04 Nec Corp 電界放出型冷陰極素子、その製造方法及び画像表示装置
US6611093B1 (en) * 2000-09-19 2003-08-26 Display Research Laboratories, Inc. Field emission display with transparent cathode
FR2828956A1 (fr) * 2001-06-11 2003-02-28 Pixtech Sa Protection locale d'une grille d'ecran plat a micropointes
KR20060002923A (ko) * 2003-04-04 2006-01-09 루미다임 인크. 다중 스펙트럼 생체인식 센서
KR100814856B1 (ko) * 2006-10-20 2008-03-20 삼성에스디아이 주식회사 발광 장치 및 표시 장치

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2650119A1 (fr) * 1989-07-21 1991-01-25 Thomson Tubes Electroniques Dispositif de regulation de courant individuel de pointe dans un reseau plan de microcathodes a effet de champ, et procede de realisation
US4990766A (en) * 1989-05-22 1991-02-05 Murasa International Solid state electron amplifier
WO1991012624A1 (fr) * 1990-02-09 1991-08-22 Motorola, Inc. Dispositif d'emission par effet de champ a cathode froide avec resistance de charge integree et couplee a un emetteur
EP0461990A1 (fr) * 1990-06-13 1991-12-18 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
EP0558393A1 (fr) * 1992-02-26 1993-09-01 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ utilisant cette source
EP0572170A1 (fr) * 1992-05-28 1993-12-01 AT&T Corp. Dispositif de visualisation plat à émission de champ

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2593953B1 (fr) * 1986-01-24 1988-04-29 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitee par emission de champ
FR2623013A1 (fr) * 1987-11-06 1989-05-12 Commissariat Energie Atomique Source d'electrons a cathodes emissives a micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitee par emission de champ,utilisant cette source
US5329207A (en) * 1992-05-13 1994-07-12 Micron Technology, Inc. Field emission structures produced on macro-grain polysilicon substrates
US5541466A (en) * 1994-11-18 1996-07-30 Texas Instruments Incorporated Cluster arrangement of field emission microtips on ballast layer
US5536993A (en) * 1994-11-18 1996-07-16 Texas Instruments Incorporated Clustered field emission microtips adjacent stripe conductors

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4990766A (en) * 1989-05-22 1991-02-05 Murasa International Solid state electron amplifier
FR2650119A1 (fr) * 1989-07-21 1991-01-25 Thomson Tubes Electroniques Dispositif de regulation de courant individuel de pointe dans un reseau plan de microcathodes a effet de champ, et procede de realisation
WO1991012624A1 (fr) * 1990-02-09 1991-08-22 Motorola, Inc. Dispositif d'emission par effet de champ a cathode froide avec resistance de charge integree et couplee a un emetteur
EP0461990A1 (fr) * 1990-06-13 1991-12-18 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
EP0558393A1 (fr) * 1992-02-26 1993-09-01 Commissariat A L'energie Atomique Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ utilisant cette source
EP0572170A1 (fr) * 1992-05-28 1993-12-01 AT&T Corp. Dispositif de visualisation plat à émission de champ

Also Published As

Publication number Publication date
DE69500403T2 (de) 1998-01-22
DE69500403D1 (de) 1997-08-14
EP0671755B1 (fr) 1997-07-09
US6043592A (en) 2000-03-28
JPH0831347A (ja) 1996-02-02
FR2717304B1 (fr) 1996-04-05
EP0671755A1 (fr) 1995-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0558393B1 (fr) Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ utilisant cette source
EP0461990B1 (fr) Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
EP0172089B1 (fr) Dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitée par émission de champ
EP0704877B1 (fr) Protection électrique d'une anode d'écran plat de visualisation
FR2796489A1 (fr) Dispositif d'affichage a emission de champ comportant un film de nanotube en carbone en tant qu'emetteurs
EP0671755B1 (fr) Source d'électrons à cathodes émissives à micropointes
FR2707795A1 (fr) Perfectionnement à un procédé de fabrication d'une source d'électrons à micropointes.
FR2760893A1 (fr) Cathode a emission de champ
EP0867912A1 (fr) Pose d'espaceurs dans un écran plat de visualisation
FR2497984A1 (fr) Dispositif d'affichage a decharge
FR2909484A1 (fr) Systeme et procede pour limiter les effets d'arcs dans des matrices d'emetteurs de champs
EP0734042B1 (fr) Anode d'écran plat de visualisation à bandes résistives
EP0668604B1 (fr) Procédé de fabrication de cathode d'écran fluorescent à micropointes et produit obtenu
EP1210721B1 (fr) Ecran plat a emission de champ avec electrode de modulation
EP0943153A1 (fr) Ecran d'affichage comprenant une source d'electrons a micropointes, observable a travers le support des micropointes, et procede de fabrication de cette source
FR2723799A1 (fr) Procede de fabrication d'une source d'electrons a micropointes
EP0456550B1 (fr) Tube électronique à grille cylindrique
WO1994014153A1 (fr) Ecran plat a micropointes protegees individuellement par dipole
EP1073088A1 (fr) Procédé de fabrication d'une anode d'un écran plat de visualisation, anode obtenue par ce procédé et écran plat utilisant cette anode
FR2545977A1 (fr) Dispositif de communication
WO2008074825A1 (fr) Structure de cathode pour ecran plat avec grille de refocalisation
FR2828956A1 (fr) Protection locale d'une grille d'ecran plat a micropointes
FR2761522A1 (fr) Uniformisation de l'emission electronique potentielle d'une cathode d'ecran plat a micropointes
CH603007A5 (en) Flat video cathode tube
FR2912254A1 (fr) Structure emettrice d'electrons par effet de champ, a focalisation de l'emission

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse

Effective date: 20051130