DE894942C - Verfahren zum Aufdampfen optisch homogener und optisch inhomogener Mischschichten aus verschiedenen Ausgangsmaterialien - Google Patents

Verfahren zum Aufdampfen optisch homogener und optisch inhomogener Mischschichten aus verschiedenen Ausgangsmaterialien

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DE894942C
DE894942C DEL11223A DEL0011223A DE894942C DE 894942 C DE894942 C DE 894942C DE L11223 A DEL11223 A DE L11223A DE L0011223 A DEL0011223 A DE L0011223A DE 894942 C DE894942 C DE 894942C
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DE
Germany
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DEL11223A
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English (en)
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Dierick Dr Kossel
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Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

Description

  • Verfahren zum Aufdampfen optisch homogener und optisch inhomogener Mischschichten aus verschiedenen Ausgangsmaterialien Bei der Herstellung von reflexmindernden und reflexerhöhenden Schichten, von Interferenz- und Absorptionsfiltern, von Schutzschichten gegen Korrosion und mechanische Verletzung besteht das Bedürfnis, Einzelschichten herzustellen, die aus mehreren Elementen oder Verbindungen von Stoffen zusammengesetzt sind, die für aufgedampfte Schichten üblich sind. Solche Mischschichten können -besonders wertvolle mechanische und optische Eigenschaften besitzen, z. B. größere Festigkeit und geringere Löslichkeit als Schichtmaus den reinen Ausgangsmaterialien oder optische Eigenschaften., wie Kombinationen von Brechzahl, Dispersion und Absorptionsvermögen, wie sie mit reinen Elementen oder einfachen einheitlichen Verbindungen nicht zu erhalten wären.
  • Dabei kann die Mischschicht als feine, optisch homogene Mischung von einzelnen Kriställchen der beiden Partner, als feste Lösung,des einen Partners im anderen oder als Mischkristall bzw. Legierung vorliegen. Wir sprechen hier und im weiteren der Einfachheit halber nur von Mischschichten aus zwei Komponenten. Es ist selbstverständlich, daß alles hier Gesagte sich sinngemäß auf Schichten aus mehr als zwei Komponenten erweitern läßt.
  • Es ist eine Reihe von Versuchen .und Vorschriften bekannt, wie solche Mischschichten herzustellen seien. Diese Verfahren sind entweder nur beschränkt anwendbar, oder sie sind nur schwer so zu führen, daß eine reproduzierbare Mischschicht mit einem frei gewählten Gehalt der beiden Komponenten entsteht.
  • Wenn man in der üblichen Vakuumverdampfungseinrichtung in das geheizte. sogenannte Schiffchen, den Behälter zur Aufnahme des zu verdampfenden Materials, eine Legierung von derjenigen Zusammensetzung einbringt, welche die herzustellende Schicht haben soll, so würde dies km allgemeinen nicht zum Erfolg führen, weil die Partialdampfdrucke der Legierungskomponenten verschieden sind. Es ist daher von H a r r i s und S i e g e 1, Journ. o.f Applied Physics, 1948, S. 739 bis 741 der Vorschlag gemacht worden, die Legierung oder Mischung laufend in so, kleinen Mengen in das Schiffchen einzubringen, daß jede der Mengen als Ganzes gleichzeitig verdampft. Dieses Verfahren bedingt eine verwickelte Vorrichtung und eine langsame Arbeitsweise. Auch kann das metallische Schiffchen auf die Zusammensetzung einer Legierung einen Einfluß ausüben.
  • Die Erfindung betrifft -ein Verfahren zur Herstellung von Mischschichten, welches von den erwähnten Nachteilen frei ist. Sie besteht darin, daß ein Stück aus der Legierung oder Mischung vorzugsweise in Form eines dünnen Stäbchens allmählich in einen Elektronenstrahl eingebracht wird: Hierbei verdampft die in .denn Elektronenstrahl jeweils befindliche Spitze des Stäbchens derart, daß alle Komponenten in gleichen Anteilen verdampfen. Man kann durch den Elektronenstrahl auf kleinem Raum sehr hohe Temperaturen erzeugen, die höher sind als die Ver.dampfungstemperatur der höchstschmelzenden Komponente. Für Komponenten, die alle eine niedrigere Verdampfungstennperatur haben, genügt auch das Heranführen des Stäbchens an: eine weniger starke Heizquelle, z. B. ein geheiztes Blech, wenn nur dafür gesorgt ist, daß lediglich ein sehr kleines Stück der Stäbchenspitze über die Verdampfungstemperatur der höchstschmelzenden Komponente erhitzt wird.
  • Die Verdampfung von Stoffen, die in einem Schiffchen untergebracht sind, durch Elektronenbestrahlung des Schiffchens ist an sich bekannt. Vgl. O' B, r y a n, Rev. Scient. Instrum. 1934, 125.

Claims (3)

  1. PATEIQ@TANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Aufdampfen von optisch homogenen und optisch inhomogenen Mischschichten aus verschiedenen Ausgangsmaterialien, dadurch gekennzeichnet, da.ß die Spitze eines aus der aufzudampfenden Mischung oder Legierungbestehenden S.täbchens od. dgl. punktförmig erhitzt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Spitze des Stäbchens in einen Elektronenstrahl geführt wird.
  3. 3. Verfahren, nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß. die .Spitze des Stäbchens an eine Wärmequelle herangeführt wird.
DEL11223A 1952-01-01 1952-01-01 Verfahren zum Aufdampfen optisch homogener und optisch inhomogener Mischschichten aus verschiedenen Ausgangsmaterialien Expired DE894942C (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1077499B (de) * 1953-12-09 1960-03-10 Degussa Verfahren zum Vakuumaufdampfen von UEberzuegen aus Mehrstoffgemischen
DE1254299B (de) * 1960-02-05 1967-11-16 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Verfahren zum Herstellen von Mischschichten

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1077499B (de) * 1953-12-09 1960-03-10 Degussa Verfahren zum Vakuumaufdampfen von UEberzuegen aus Mehrstoffgemischen
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