DE3000762C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform für optische Wellenleiter, durch Abscheidung einer Anzahl von Schichten mit radial abnehmendem Brechungsindex mittels eines Plasmabrenners und einem den Kernbereich bildenden Ausgangsstab.

Bekannt ist bereits eine Anzahl von Verfahren, die die Herstellung einer solchen Vorform gestatten.

So ist es bekannt, einen Brechungszahlgradienten dadurch zu erhalten, daß man die Vorform einem Ionenaustauschverfahren unterwirft. Dieses Verfahren weist mehrere Nachteile auf: der Ionenaustausch erfolgt nur über eine sehr geringe Dicke, und darum ist der Brechungszahlgradient schwierig einzustellen bzw. zu regeln; darüber hinaus ist der Verunreinigungsgrad derart, daß sich erhöhte Lichtverluste einstellen.

Ebenfalls ist es bekannt, eine Vorform dadurch zu erhalten, daß man ein gasförmiges Gemisch in der Flamme eines Brenners hydrolisiert. Das Verfahren besteht beispielsweise darin, ein Gemisch aus halogenierten Silicium- und Titanverbindungen in eine Flamme zu geben, in der eine Oxidation durch Sauerstoff oder eine sauerstoffhaltige Verbindung erfolgt.

Die Oxidpartikel des Siliciums und des Titans aus dieser Reaktion werden auf dem durch die Flamme erwärmten Vorformling abgeschieden. Man erhält eine Hülle, deren chemische Zusammensetzung radial variiert, indem man progressiv die Zusammensetzung des gasförmigen Gemisches modifiziert.

Dieses Verfahren ist interessant, hat jedoch einige Nachteile: jede abgeschiedene Schicht hat eine geringe Dicke (etliche 10 Mikrometer); es ist notwendig, die abgeschiedenen Oxidpartikel (zusammen)zusintern, um eine homogene verglaste Schicht zu erhalten. Andererseits erfordert die Regelmäßigkeit der Abscheidung, daß die Oberfläche des Ausgangsvorformlings genau bearbeitet werden kann.

Nach der FR-PS 21 78 175 besteht ein anderes Verfahren darin, mehrere Schichten einer Glasfritte auf der Oberfläche eines ursprünglich zylindrischen Elementes abzuscheiden, wobei jede Schicht eine progressiv unterschiedliche Zusammensetzung aufweist, derart, daß die erhaltene Struktur eine radial stufenweise variierende Zusammensetzung aufweist.

Dieses nicht beschriebene, sondern nur erwähnte Verfahren kann als Verallgemeinerung der Hydrolyse eines gasförmigen Gemisches in einer Flamme betrachtet werden und hat somit die gleichen Nachteile.

Ferner beschreibt die FR-PS 22 53 723 ein Verfahren zum Aufgeben oder Aufschleudern eines Glaspulvers auf einen zylindrischen Träger (Rohr oder Stab). Die verwendete Technik ist kompliziert; sie erfordert eine Spezialvorrichtung; die Granulometrie des aufgegebenen Glaspulvers ist extrem fein, was es erfordert, große Vorkehrungen zu treffen, um das Glas gegen jede Verunreinigung vor und nach der Abscheidung auf der Vorform zu schützen.

Allgemein sind sämtliche bekannten Verfahren darauf gerichtet, sehr feine Pulver aufzuspritzen, um die bestmögliche Homogenität jeder abgeschiedenen Schicht zu erhalten. Diese Verfahren sind langwierig und kostspielig, da die Dicke jeder Schicht sehr gering ist; es ist somit notwendig, zahlreiche Abscheidungen durchzuführen, um einen ausreichenden Überzug zu erhalten. Auf alle Fälle sind die Abmessungen der nach den bekannten Verfahren hergestellten Vorformen bescheiden und ermöglichen es nicht, kontinuierliche Wellenleiter sehr großer Länge zu erhalten.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mittels eines einfachen, wirtschaftlichen Verfahrens Vorformen herzustellen, aus denen kontinuierliche Wellenleiter sehr großer Länge erhalten werden können.

Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß man dem Plasmabrenner Glaspulver mit einer Granulometrie zwischen 75 und 300 µm quer zur Brennerflamme unter Einwirkung der Schwerkraft zuführt, daß der Stab nach Abscheidung jeder Schicht auf einen Wert gleich oder wenigstens benachbart seinem Anfangsdurchmesser gezogen und die chemische Zusammensetzung des Glaspulvers nach Abscheiden jeder Schicht modifiziert wird.

Das Verfahren nach der Erfindung hat den Vorteil, daß die schnelle Herstellung einer Vorform erheblicher Abmessungen möglich wird, indem direkt homogene Glasschichten gebildet werden und die Gefahren einer Verunreinigung des Glases maximal vermieden werden.

Ein Ausgangsstab wird auf einem Vorformträger angeordnet, der es ermöglicht, den Stab mittels einer wechselnden Translationsbewegung kombiniert mit einer Rotationsbewegung in die Flamme eines Hochfrequenzplasmabrenners einzuführen. Die Geschwindigkeit dieser Translations- und Rotationsbewegungen ist einstellbar, so daß man eine regelmäßige Abscheidung über die gesamte Oberfläche des Stabes erhält. Der Vorformträger ist selbst auf einem Träger fixiert, der mit einer progressiven Entfernungsbewegung, bezogen auf den Kopf eines Plasmabrenners, bewegt wird. Die Achse des Plasmabrenners steht senkrecht zur Drehachse des Stabes.

Ein oberhalb des Plasmabrenners angeordneter Pulververteiler ermöglicht es, das Glaspulver in die Stichflamme des Brenners quer zur Fortpflanzungsrichtung der Flamme fallen zu lassen. Das durch diese Flamme mitgerissene Glaspulver wird auf die beheizte Oberfläche des Stabes geworfen und bildet direkt eine homogene verglaste Schicht.

Auf dem zylindrischen Stab, der zu Beginn einen Durchmesser Do und eine Länge Lo aufweist, scheidet man eine erste Glasschicht ab, die eine Konzentration C 1 eines Dotierungselementes enthält und deren Brechungszahl n 1 kleiner als die Brechungszahl no des Stabes ist. Die regelmäßige Dicke der abgeschiedenen Schicht ist gleich e 1.

Der Stab, der dann einen Durchmesser D 1 = Do + 2e 1 aufweist, wird unter Erwärmung gezogen, derart, daß sein Durchmessr auf einen Wert benachbart oder gleich Do zurückgeführt wird.

Auf dem so gezogenen Stab wird eine Abscheidung einer zweiten Schicht einer Dicke e 2 eines Glases vorgenommen, die eine Konzentration c 2 des gleichen Dotierungselementes enthält und deren Brechungszahl n 2 kleiner als n 1 ist.

Dann zieht man den Stab von neuem, um seinen Durchmesser auf einen Wert benachbart oder gleich Do zurückzuführen.

Dieser Vorgang wird p mal wiederholt, wobei p beispielsweise gleich 10 ist.

Bei Beendigung dieser Vorgänge erhält man einen Vorformling, der aus einem Kernbereich einer Brechungszahl no, umgeben von einer Reihe von Glasschichten mit der Brechungszahl n 1, n 2, . . . np, besteht. Dieser Vorformling ist also dann vom Typ mit Brechungszahlsprüngen.

Man sieht jedoch leicht, daß man Gläser wählen kann, die ein Dotierelement enthalten, deren Konzentrationen c 1, c 2, . . . cp, um relativ geringe Konzentrationssprünge zu erhalten, stark benachbart sind.

Darüber hinaus erfolgen Abscheidung des Glaspulvers und Ziehen des Stabes bei einer stark erhöhten Temperatur, wodurch die Diffusion des Dotierungselementes zwischen zwei aufeinanderfolgenden Schichten begünstigt wird und ein progressiver Übergang zwischen diesen Schichten sichergestellt wird.

Die Herstellung des Vorformlings wird beendet durch die Abscheidung einer letzten Glasschicht, deren Zusammensetzung sich von den p ersten Schichten unterscheidet und die dazu bestimmt ist, eine Schutzrolle zu spielen.

Das Verfahren nach der Erfindung wird anhand von zwei Ausführungsbeispielen sowie den beiliegenden Zeichnungen erläutert. Diese zeigen in

Fig. 1 einen schematischen Schnitt durch den Plasmabrenner und einen Teil der Glaspulverzuführungsvorrichtung,

Fig. 2 einen schematischen Schnitt durch die relativen Stellungen des Brennerkopfs, des Austritts des Glaspulververteilers sowie des Stabes,

Fig. 3 einen schematischen Schnitt durch die Gesamtanordnung der Vorrichtung, die die verschiedenen Bewegungen des Stabes sicherstellt,

Fig. 4 einen schematischen Schnitt durch den oberen Teil der Glaspulverzuführungsvorrichtung,

Fig. 5 ein Diagramm, wobei schematisch der Aufbau des hergestellten Vorformlings gezeigt ist,

Fig. 6 ein schematisches Diagramm für die reelle Struktur des nach Beispiel 1 hergestellten Vorformlings und

Fig. 7 eine schematische Darstellung der reellen Struktur des nach Beispiel 2 hergestellten Vorformlings.

Die Glaspulverzuführungsvorrichtung ist in Fig. 4 dargestellt. Ein Aufgabebehälter 9 ist mit abzuscheidendem Glaspulver gefüllt und oberhalb einer kreisförmigen Platte 7 angeordnet. Die Granulometrie der Glaskörner liegt zwischen 75 und 300 µm und vorzugsweise zwischen 75 und 125 µm.

Diese Scheibe wird in Drehbewegung um eine vertikale Achse 18 angetrieben, die in ihrem unteren Teil mit einer genuteten Blockrolle 19 ausgestattet ist. Diese Blockrolle dreht sich unter der Wirkung eines Keilriemens 20 aufgrund des Antriebs durch einen Elektromotor 8 mit regelbarer Geschwindigkeit.

Der Aufgabetrichter 9 ist in seinem unteren Teil mit einem Zylinderorgan 17 versehen, dessen Ende sich etliche Millimeter oberhalb der Oberfläche der Scheibe 7 befindet. Das Pulver tritt aus dem Aufgabebehälter in Form eines kreisförmigen Wulstes aus.

Eine in unmittelbarer Nähe der Oberseite der Scheibe 7 angeordnete Rakel 21 schiebt das Glaspulver in einen Aufgabetrichter 6. Die Menge des zugeführten Glases wird durch die Drehgeschwindigkeit der Scheibe 7 eingestellt.

Der Aufgabetrichter 6 ist nach unten durch ein abgewinkeltes Zylinderrohr 5 aus transparentem Siliciumdioxid, schematisch in Fig. 1 dargestellt, verlängert. Der untere Teil des Rohres 5 mit einer Länge zwischen 200 und 500 mm bildet einen Winkel mit der Horizontalen zwischen 30 und 60°, vorzugsweise von 45°.

Zweck dieser Anordnung ist es, die Fallgeschwindigkeit der Glaskörner zu verlangsamen und ihnen eine Austrittsgeschwindigkeit in der Größenordnung von 1 m/s zu verleihen.

Die Heizquelle ist ein induktiver Plasmagenerator mit einer elektrischen Speisequelle 1, die einen Hochfrequenzstrom unter erhöhter Spannung (2 Megahertz - 10 Kilovolt) liefert. Dieser Strom zirkuliert in einem Induktor 2, der durch ein Kupferrohr gebildet ist, welches durch Wasserzirkulation gekühlt ist und ein Rohr aus transparentem Siliciumdioxid 3 umgibt. Entsprechend der angelegten Hochfrequenzleistung und entsprechend den plasmaerzeugenden Gasen wählt man für das Siliciumdioxidrohr einen Durchmesser zwischen 40 und 60 mm. Dieses Rohr wird durch ein mittels Wasserzirkulation gekühltes metallisches Bauteil 4 getragen. Dieses Bauteil 4 dient auch zum Einführen plasmaerzeugender Gase in das Kieselsäurerohr. Als plasmaerzeugende Gase werden beispielsweise verwendet: Argon, Stickstoff, Sauerstoff oder Gemische hiervon. Diese Gase stammen aus Hochdruckflaschen mit Entspannungsventilen und in der Fig. 1 nicht dargestellten Durchflußmeßgeräten. Die Luft bildet ein besonders interessantes Beispiel für das Gemisch Sauerstoff-Stickstoff; geliefert wird sie durch einen Kompressor, gefolgt von einer Reinigungsvorrichtung und einer in den Figuren nicht dargestellten Trocknungskolonne.

Das Siliciumdioxidrohr, in dem sich das induktive Plasma befindet, kann mehrere Orientierungen in einer Vertikalebene senkrecht zur Drehachse des Stabes 10 aufweisen. Nach Fig. 1 ist das Kieselsäurerohr horizontal aus Gründen der zweckmäßigen Darstellung angeordnet.

Die jeweilige Anordnung des Auslasses des Kieselsäurerohrs 3, des Endes des Rohres 5 und des Stabes 10 ist in Fig. 2 wiedergegeben. Eine besonders günstige Anordnung erhält man mit den folgenden Einstellungen: α = 45°; a = 10 mm; b = 30 mm; l = 150 mm.

Die in die Plasmaflamme fallenden Glaskörner werden durch diese in Form feiner Tröpfchen mitgerissen, die sich gegen die Vorform verkleben.

Die Längsachse des horizontal angeordneten Stabes steht senkrecht zur Achse des Plasmabrenners, die fest bleibt.

Dieser Stab 10 wird mit einer dreifachen Bewegung angetrieben: einer Rotationsbewegung um seine Achse, einer alternativen Translationsbewegung parallel zu dieser Achse und einer Translationsbewegung senkrecht zu seiner Achse.

Um dies zu erreichen, wird der Stab 10 an seinen beiden Enden durch zwei Dorne 15 einer üblichen Glasdrehbank 14 gehalten. Diese Glasdrehbank ist auf vier Rädern 22 gelagert, die auf zwei Schienen 13 senkrecht zur Achse des Stabes 10 ruhen. Diese Schienen 13 sind an einem Wagen 12 befestigt, der sich selbst auf Schienen 11 parallel zur Achse des Stabes 10 verschiebt.

Die verschiedenen Bewegungen werden durch Elektromotoren mit einstellbarer Geschwindigkeit, die in Fig. 3 nicht dargestellt sind, sichergestellt; entsprechend dem Durchmesser des Stabes 10 variiert seine Drehgeschwindigkeit zwischen 10 und 100 Umdrehungen pro Minute; die Translationsgeschwindigkeit auf den Schienen 11 kann zwischen 10 und 100 mm pro Minute variieren. Eine (in Fig. 3 nicht dargestellte) optische Vorrichtung mißt dauernd die Entwicklung des Stabdurchmessers; diese optische Abtastung steuert einen Elektromotor, der für die Translationsbewegung der Glasdrehbank 14 auf den Schienen 13 sorgt.

Nach dem Abscheiden jeder Schicht wird der Stab 10 ausgezogen, um seinen Durchmesser auf einen Wert, benachbart oder gleich dem seines Anfangsdurchmessers, zu bringen. Das Ziehen kann beispielsweise in einem Elektroofen entsprechend dem Verfahren der FR-PS 11 08 060 oder auf einer Glasdrehbank erfolgen, wobei man einen Ringbrenner verwendet, der mit einem Waserstoff-Sauerstoffgemisch oder einem Propan-Sauerstoffgemisch gespeist ist.

Beispiel 1

Nach an sich bekannten Verfahren stellt man aus sehr reinen Bestandteilen mehrere Gläser her, deren prozentuale Gewichtszusammensetzungen die folgenden sind:

Tafel I

Diese auf eine Granulometrie zwischen 75 und 125 µm gemahlenen Gläser werden in dichte Behälter eingefüllt und im Wärmeschrank bei 45° zur Verhinderung jedes Angriffs durch atmosphärisches Wasser ausgelagert.

Man beginnt mit einem zylindrischen Stab aus sehr reinem Siliciumdioxid von 1 m Länge und 45,7 mm Durchmesser. An jedem Ende dieses Stabes ist ein Kieselsäureansatzstück gewöhnlicher Qualität von 300 mm Länge und 90 mm Durchmesser angeschweißt. Nach Fig. 3 werden diese Ansätze 16 in die Dorne 15 der Glasdrehbank 14 eingespannt. Diese Vorkehrung ermöglicht es, den Stab 10 über seine gesamte Länge zur Herstellung der Vorform zu verwenden.

Der Stab 10 wird allmählich durch den unter einem Abstand 1 größer oder gleich 300 mm angeordneten Plasmabrenner 5 Minuten lang erwärmt: seine Drehgeschwindigkeit beträgt 30 Umdrehungen pro Minute; seine Translationsgeschwindigkeit 250 mm pro Minute. Die folgenden Einstellungen werden vorgenommen: l = 100 mm; a = 40 mm; b = 20 mm; α = 45°. Die Glasmenge von der Zusammensetzung C 1 beträgt 300 Gramm pro Stunde. Der Vorgang wird unterbrochen, sobald die erste Schicht eine Dicke von 1,3 mm erreicht. Der Durchmesser des Stabes wid auf seinen Ausgangswert durch Ziehen zurückgeführt; seine Länge liegt dann bei 1,12 m. Eine zweite Schicht von der Zusammensetzung C 2 und einer Dicke von 1,15 mm wird hergestellt. Nach einem zweiten Ziehvorgang wird die Länge des Stabes auf 1,24 m gebracht.

Eine dritte Schicht von der Zusammensetzung C 3 und der Dicke von 1,1 mm wird hergestellt; die Länge des Stabes nach dem Ziehen liegt dann bei 1,36 m. Eine letzte Schicht von der Zusammensetzung C 4 und der Dicke 1,1 mm wird abgeschieden; der gezogene Stab weist eine Länge von 1,50 m auf.

Die so hergestellte Vorform wird mit einer Schicht glasiger Kieselsäure gewöhnlicher Qualität umhüllt, die mehrere Rollen erfüllt: sie schützt die Vorform gegen chemischen Angriff; sie vermeidet Verluste durch Verflüchtigung bei der Umformung der Vorform in Stäbchen und dann in Fasern; sie setzt die Außenschicht der Faser aufgrund des Unterschiedes zwischen dem Ausdehnungskoeffizienten des Siliciumdioxids und denen der verschiedenen abgeschiedenen Gläser unter Druck und verleiht ihm eine erhöhte mechanische Festigkeit.

Diese Siliciumdioxidschicht wird in Pulverform abgeschieden, deren Granulometrie in der Größenordnung von 250 µm entsprechend dem obenbeschriebenen Verfahren ist. Die Menge an Siliciumdioxidpulver wird eingestellt, um eine Abscheidungsgeschwindigkeit von 750 Gramm pro Stunde zu erhalten.

Nach unserem Beispiel wird der Abscheidungsvorgang unterbrochen, wenn der Durchmesser der Vorform 80 mm erreicht hat.

Man erhält schließlich eine Vorform von 1,5 m Länge, bestehend aus einem sehr reinen Siliciumdioxidkern von 36,8 mm, umgeben von vier Schichten C 1, C 2, C 3, C 4 von 1,025 mm Dicke und einer Außenschicht glasigen Siliciumdioxids von 17,5 mm Dicke. Der theoretische Aufbau dieser Vorform ist schematisch in Fig. 5 wiedergegeben.

Tatsächlich sorgen die aufeinanderfolgenden von der Vorform erfahrenen Ziehvorgänge für ausreichende Diffusion, um radial eine praktisch kontinuierliche Konzentrationsschwankung zu erhalten. Die reelle Struktur der Vorform liegt nahe der schematisch in Fig. 6 gegebenen. Die so erhaltene Vorform wiegt 16,6 kg und ermöglicht es theoretisch, 160 km Fasern von 200 µm Durchmesser zu ziehen. Praktisch wird es möglich, ausgehend von einer solchen Vorform, eine Faser von 50 km in einem einzigen Stück, was besonders vorteilhaft ist, zu erhalten.

Beispiel 2

Hergestellt werden 10 Gläser aus sehr reinen Bestandteilen, die zum Binärsystem SiO₂-B₂O₃ gehören. Die äußeren Gläser C 1 und C 10 dieser Reihe entsprechen folgenden Gewichtszusammensetzungen: SiO₂ = 98%; B₂O₃ = 2% und SiO₂ = 90% : B₂O₃ = 20%. Die anderen Gläser haben dazwischenliegende Zusammensetzungen, die man erhält, indem man die jeweiligen prozentualen Anteile von SiO₂ und B₂O₃ um 2% verändert.

Man geht ebenfalls von einem Stab sehr reiner Kieselsäure (Siliciumdioxid) von 1 m Länge und 50 mm Durchmesser aus. Die im Beispiel 1 gegebenen Einstellungen werden beibehalten. Die Dicke jeder abgeschiedenen Schicht zeigt die Tafel:

Tafel II

Nach dem Abscheiden jeder Schicht wird der Stab gezogen, um seinen Durchmesser auf einen Wert benachbart oder gleich dem des Anfangsdurchmessers zu bringen.

Ohne die bei Beendigung jeder Abscheidung erhaltene Länge darzulegen, ist es klar, daß man begrenzt durch die Maximallänge der Glasdrehbank ist. Man kann zwischen zwei aufeinanderfolgenden Abscheidungen gezwungen sein, die Vorform in zwei Teile zu zerschneiden. Die dazwischenliegenden Vorformen, die hieraus entstehen, werden dann getrennt behandelt, indem man die Reihenfolge der ursprünglich gewählten Abscheidungen berücksichtigt.

Wie nach dem Beispiel der Fig. 1 wird die Herstellung der Vorform beendet, indem man sie mit einer Schicht glasigen Siliciumdioxids gewöhnlicher Qualität abdeckt.

Die endgültige Vorform besteht dann aus einem sehr reinen Siliciumdioxidkern von 5 mm Durchmesser, der von zehn Schichten der Zusammensetzung C 1 bis C 10 von 2,25 mm Dicke und einer Schicht glasigen Siliciumdioxids bzw. Kieselsäure von 15 mm Dicke umgeben ist.

Wie nach dem vorhergehenden Beispiel führen die aufeinanderfolgenden Ziehvorgänge zu einer Diffusion zwischen zwei aufeinanderfolgenden Schichten. Hieraus folgt eine radiale Veränderung der Konzentration, wie der durch die vier ersten Schichten in Fig. 7 dargestellten.

Selbstverständlich sind die Beispiele nicht als begrenzend anzusehen; jede wünschenswerte Veränderung hinsichtlich der Art der gewählten Bestandteile, der Dicke und der Anzahl der abgeschiedenen Schichten im Rahmen der Erfindung ist ohne weiteres möglich.

Wesentlich für die Erfindung ist, daß der Plasmabrenner mit Glaspulver quer zur Stichflamme des Brenners gespeist wird; daß der Stab nach der Abscheidung jeder Schicht derart ausgezogen wird, daß sein Durchmesser auf einen Wert benachbart oder gleich dem seines Anfangsdurchmessers zurückgeführt wird und daß die chemische Zusammensetzung des Glaspulvers nach der Abscheidung jeder Schicht modifiziert wird.

Die nach dem Verfahren nach der Erfindung hergestellte Vorform ermöglicht es, durch Ziehen optische Wellenleiter zu erhalten, die für Anwendungen auf dem Gebiet der Informationsübertragung bestimmt sind.

Claims (5)

1. Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Wellenleiter durch Abscheidung einer Anzahl von Schichten mit radial abnehmendem Brechungsindex mittels eines Plasmabrenners auf einem den Kernbereich bildenden Ausgangsstab, dadurch gekennzeichnet, daß dem Plasmabrenner Glaspulver mit einer Granulometrie zwischen 75 und 300 µm quer zur Brennerstichflamme unter der Einwirkung der Schwerkraft zugeführt, der Stab nach Abscheidung jeder Schicht auf einen Wert gleich oder wenigstens benachbart seinem Anfangsdurchmesser gezogen und die chemische Zusammensetzung des Glaspulvers nach Abscheiden jeder Schicht modifiziert wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Gläser des Binärsystems SiO₂-B₂O₃ in Pulverform verwendet werden.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß pulverförmiges Glas mit wenigstens 80 Gew.-% SiO₂ verwendet wird.

4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als letzte Schicht reines Siliziumdioxid abgeschieden wird.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Kernbereich durch reines Siliziumdioxid gebildet wird.