DE69918439T2 - Magnetkopfwicklung, magnetkopf und magneto-optisches aufzeichnungsgerät - Google Patents

Magnetkopfwicklung, magnetkopf und magneto-optisches aufzeichnungsgerät Download PDF

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Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Magnetkopfspule, die zur Aufzeichnung eines Informationssignals mit einer hohen Geschwindigkeit geeignet ist, einen Magnetkopf, der diese verwendet, und ein magneto-optisches Aufzeichnungsgerät.
  • Stand der Technik
  • Ein allgemein bekanntes, magneto-optisches Aufzeichnungsgerät legt ein magnetisches Feld, das durch ein Informationssignal moduliert wird, an einen magneto-optischen Aufzeichnungsträger, wie beispielsweise eine magneto-optische Platte, an und bestrahlt den Träger mit Licht, um ein Informationssignal aufzuzeichnen. Das magneto-optische Aufzeichnungsgerät umfasst einen Magnetkopf zum Anlegen eines magnetischen Feldes. Der Magnetkopf umfasst verschiedene Kopftypen. Beispielsweise ist in 17 eine perspektivische Darstellung gezeigt, die einen Magnetkopf zeigt, der in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 4-74335 (dieser Stand der Technik wird durch den Oberbegriff des Patentanspruchs 1 wiedergegeben) offenbart ist, und in 18 ist eine Schnittdarstellung gezeigt, die den Magnetkopf zeigt.
  • Bezugszeichen 50 bezeichnet ein flaches Spulenbauelement (nachstehend als eine Spule bezeichnet), die aus einer flexiblen gedruckten Leiterplatte ausgebildet ist, und Bezugszeichen 51 bezeichnet einen Kern, der aus einem magnetischen Material hergestellt ist, wie beispielsweise Ferrit. Die Spule 50 wird durch eine flexible Basis 52, die aus Polyimid oder Polyester hergestellt ist, ein als ein Leitermuster dienendes Spiralspulenmuster 53, das aus einer auf der Basis 52 ausgebildeten Kupferfolie hergestellt ist, und Anschlüssen 54a und 54b gebildet. Die Spule 50 ist auf den Kern 51 mit einem Klebemittel 55 geklebt bzw. damit verbunden.
  • Die Anschlüsse 54a und 54b der Spule 50 sind mit einer Magnetkopfansteuerungsschaltung eines magneto-optischen Aufzeichnungsgeräts verbunden. Das magneto-optische Aufzeichnungsgerät umfasst einen optischen Kopf. Um ein Informationssignal aufzuzeichnen bestrahlt der optische Kopf die magnetische Aufzeichnungsschicht eines magneto-optischen Aufzeichnungsträgers mit einem Laserstrahl, so dass der Laserstrahl in einen kleinen Lichtpunkt konvergiert oder zusammenläuft. Zur gleichen Zeit führt die Magnetkopfansteuerungsschaltung dem Spulenmuster 53 einen Strom zu, um ein Magnetfeld, das durch ein Informationssignal moduliert wird, von der Mitte des Spulenmusters 53 zu erzeugen, und legt das Magnetfeld vertikal an die Laserstrahlbestrahlungsposition der magnetischen Aufzeichnungsschicht an.
  • Herkömmlicherweise ist wie bei diesem Stand der Technik lediglich ein Leitermuster, das als ein Weg zur positiven Zufuhr eines Stroms dient, d.h. ein Leitermuster, das für eine elektrische Funktion erforderlich ist, auf Bauelementen ausgebildet, die Leitermuster einschließlich eines Flachspulenbauelements für einen Magnetkopf verwenden.
  • In jüngster Zeit musste, da sich Anforderungen nach einer höheren Informationssignalaufzeichnungsgeschwindigkeit ergeben haben, das Flachspulenbauelement, das in dem Magnetkopf verwendet wird, verkleinert werden. Damit zusammenhängend musste die dimensionale Genauigkeit oder Maßgenauigkeit und Flachheit des Flachspulenbauelements vergrößert werden, um die relative Position zu dem optischen Kopf und die Entfernung von dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger mit höherer Genauigkeit einzustellen. Das Magnetfeld muss genau und effektiv an die Lichtpunktposition bei der magnetischen Aufzeichnungsschicht des magneto-optischen Aufzeichnungsträgers angelegt sein. Die vorstehend beschriebene Flachspule weist jedoch eine niedrige Steifigkeit und mechanische Stärke auf, verformt sich leicht bei der Herstellung eines Magnetkopfes und ist schwierig auf eine genaue Position einzustellen. Somit können die vorstehend beschriebenen Anforderungen nicht erfüllt werden. Dieses Problem ist nachstehend ausführlich beschrieben.
  • Um ein Magnetfeld in dem vorstehend beschriebenen Magnetkopf effektiver zu erzeugen muss das Spulenmuster 53 sehr nahe bei dem Kern 51 ausgebildet werden. Zu diesem Zweck muss die Basis 52 so dünn wie möglich sein. Um ein Magnetfeld effektiv an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger anzulegen muss die Oberfläche der Spule 50 sehr nahe an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger gebracht werden.
  • Obwohl es in dem vorstehend beschriebenen Bezugsmaterial nicht beschrieben ist, ist die Basis 52, die die Spule 50 bildet, aus einem 20-μm-dicken Polyimidblatt bzw. einer 20-μm-dicken Polyimidfolie hergestellt. Da die dünne Harzmaterialfolie sehr flexibel ist, weist die Spule 50 eine keine ausreichende Steifigkeit auf, was die nachstehend beschriebenen Schwierigkeiten bei der Herstellung eines Magnetkopfs aufwirft.
  • Genauer gesagt kann bei einem Verbinden bzw. einem Verkleben oder Bonden der Spule 50 und des Kerns 51 die Spule 50 nicht einer wirkenden Kraft widerstehen und verformt sich leicht, beispielsweise biegt sie sich bei einem Abschnitt, bei dem kein Spulenmuster 53 ausgebildet ist. Als Ergebnis ist die Anbringposition der Spule 50 nicht genau bestimmt, was einen Fehler verursacht. Die relative Position zu dem optischen Kopf weicht ab, so dass ein Informationssignal nicht normal aufgezeichnet werden kann.
  • Ein Leitermuster zur Verbindung des Spulenmusters mit dem Anschluss 54b ist ausgebildet, um von der Basis 52 auf einer Oberfläche der Spule 50 gegenüberliegend zu dem Kern 51 herauszuragen. Somit ist die Oberfläche der Spule 50, die dem Kern 51 gegenüberliegt, nicht flach. Bei dem Verbinden bzw. dem Bonden der Spule 50 mit dem Kern 51 verformt sich ein Teil einer Oberfläche der Spule 50, die der magneto-optischen Platte gegenüberliegt, einfach, ragt beispielsweise hervor oder neigt sich. Dies verhindert, dass die Oberfläche der Spule 50, die dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger gegenüberliegt, sehr nahe an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger herankommt, um ein Magnetfeld effektiv anzulegen.
  • Um die Informationssignalaufzeichnungsgeschwindigkeit zu vergrößern muss die Magnetfeldmodulationsfrequenz vergrößert werden. Der RF- bzw. HF-Verlust bei dem Kern 51 und dem Spulenmuster 53 vergrößert sich jedoch beinahe proportional mit der Modulationsfrequenz, so dass die Temperatur des Magnetkopfes ansteigt. Das magnetische Material, wie beispielsweise Ferrit, das den Kern 51 bildet, verkleinert jedoch eine Sättigungsflussdichte Bs mit dem Temperaturanstieg. Wenn sich die Magnetfeldmodulationsfrequenz vergrößert, verkleinert sich die Sättigungsflussdichte Bs von Ferrit, das den Kern 51 bildet, um gleich der internen Flussdichte des Kerns 51 zu sein. Wenn die Magnetfeldmodulationsfrequenz weiter ansteigt, verkleinert sich die interne Flussdichte des Kerns 51 zusammen mit der Sättigungsflussdichte Bs, und die Stärke eines Magnetfelds, das durch den Magnetkopf erzeugt wird, verkleinert sich ebenso. Als Ergebnis wird ein Magnetfeld, das an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger angelegt wird, abgeschwächt, was zu einem Scheitern einer Aufzeichnung eines Informationssignals führt.
  • Wenn die Temperatur des Magnetkopfes die Wärmewiderstandsgrenze der zugehörigen Bauteile überschreitet, kann eine Verformung oder ein elektrischer Isolationsfehler auftreten.
  • Unter diesen Umständen ist eine Vergrößerung der Modulationsfrequenz begrenzt und die Informationssignalaufzeichnungsgeschwindigkeit kann nicht weiter vergrößert werden.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Flachspule (nachstehend als Spule bezeichnet) für einen Magnetkopf aus zumindest einem Spulenmuster, das als ein Leitermuster dient, welches aus einer leitenden Materialschicht hergestellt ist, und einem Anschluss zur Zufuhr eines Stroms zu dem Spulenmuster hergestellt. Das Spulenmuster ist ein Spiralleitermuster, das in der Lage ist, einen Strom zuzuführen, um um das Magnetfelderzeugungszentrum herum zu fließen. Gemäß der vorliegenden Erfindung ist ein Bereich, bei dem dieses Spulenmuster ausgebildet ist, als ein "effektiver Bereich" definiert, bei dem ein effektiver Strom, der zur Erzeugung eines Magnetfelds beiträgt, zugeführt werden kann. Ein Bereich außerhalb des Spulenmusters, bei dem zumindest das Leitermuster, das in der Lage ist, einen Strom zuzuführen, um um das Magnetofelderzeugungszentrum herum zu fließen, nicht ausgebildet ist, ist als ein "ineffektiver Bereich" definiert. In der nachfolgenden Beschreibung werden Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, mit Ausnahme eines Leitermusters, das als ein Stromzufuhrweg zu dem Spulenmuster dient, wie beispielsweise ein Leitermuster zur Verbindung von Anschlüssen miteinander und eines Anschlusses mit dem Spulenmuster, als ein "Dummy-Muster" oder "Blind-Muster" bezeichnet.
  • Die vorliegende Erfindung ist gemacht worden, um die herkömmlichen Schwierigkeiten zu überwinden, und weist als eine Aufgabe auf, eine Flachspule für einen Magnetkopf, bei dem ein Leitermuster in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist und ein Leiterbelegungsverhältnis R (Verhältnis der Gesamtfläche aller Leitermuster, die aus einer leitenden Materialschicht in einem vorgegebenen Bereich ausgebildet sind, zu der Gesamtfläche des Bereichs) innerhalb eines vorbestimmten Bereichs entsprechend der Entfernung von dem Spulenmuster definiert ist, wodurch die mechanische Stärke, die Flachheit und die dimensionale Genauigkeit bzw. Maßgenauigkeit verbessert wird, ohne die elektrischen Eigenschaften der Spule zu verschlechtern, einen Magnetkopf, der die Flachspule verwendet, und ein magneto-optisches Aufzeichnungsgerät bereitzustellen.
  • Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben ausführliche Untersuchungen angestellt, um herauszufinden, dass die vorstehend beschriebene Schwierigkeit überwunden werden kann, wenn, wenn S die Entfernung von dem Außenrand des Spulenmusters (Außenrand des effektiven Bereich) ist, P der Abstand (oder minimale Wert, wenn der Abstand nicht konstant ist) des Spulenmusters ist und R das Leitbelegungsverhältnis ist, der ineffektive Bereich außerhalb des effektiven Bereichs in eine Vielzahl von Bereichen auf der Grundlage der Entfernung S aufgeteilt wird, Leitermuster in den jeweiligen Bereichen so angeordnet werden, dass sie gleichzeitig Ungleichungen 1, 2 und 3 erfüllen, und das Leitermuster in einem ersten Bereich A keine geschlossene Schleife bildet:
    Ungleichung 1: 0 ≤ R ≤ 0,3 in dem ersten Bereich A1, wobei 0 ≤ S ≤ 1,5P gilt
    Ungleichung 2: 0 ≤ R ≤ 0,8 in einem zweiten Bereich A2, wobei 1,5P < S ≤ 6,0P gilt
    Ungleichung 3: 0,3 > R ≤ 1 in einem dritten Bereich A3, wobei 6,0P < S gilt.
  • Genauer gesagt wird das Leiterbelegungsverhältnis R eines Leitermusters, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, nahe dem Spulenmuster niedrig eingestellt und entfernt von dem Spulenmuster hoch eingestellt. In diesem Fall können die elektrischen Eigenschaften und die mechanische Stärke der Spule miteinander in Einklang gebracht werden. Wenn es erforderlich ist, wird ein Blind-Muster, das nicht als ein Stromzufuhrweg zu dem Spulenmuster dient, in dem ineffektiven Bereich ausgebildet, so dass das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ineffektiven Bereich gleichzeitig die Ungleichungen 1, 2 und 3 erfüllt. Dies ist ausführlicher beschrieben.
  • Wenn die Fläche eines Leitermusters, das in dem ersten Bereich A1 des ineffektiven Bereichs ausgebildet ist, der am nächsten zu dem Spulenmuster ist, groß ist, wird eine große elektrostatische Kapazität zwischen dem Spulenmuster und dem Leitermuster, das in dem ersten Bereich A1 ausgebildet ist, erzeugt. Eine derartige große elektrostatische Kapazität verkleinert die Änderungsrate bzw. Änderungsgeschwindigkeit eines Stroms, der der Spule zugeführt wird, um die Magnetfeldumkehrgeschwindigkeit bei einer Erzeugung eines Magnetfelds, das durch den Magnetkopf moduliert wird, zu verkleinern. Als Ergebnis wird es schwierig, ein Informationssignal mit hoher Geschwindigkeit aufzuzeichnen. Bei der Herstellung einer Spule oder nach einem Langzeitgebrauch ist die Isolationszuverlässigkeit zwischen dem Leitermuster, das in dem ersten Bereich A1 ausgebildet ist, und dem Spulenmuster verschlechtert. Um dies zu verhindern, wird kein Leitermuster ausgebildet oder das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters wird auf 0,3 oder weniger in dem ersten Bereich A1 heruntergedrückt.
  • Wenn das Leitermuster nahe dem Spulenmuster eine geschlossene Schleife bildet, die das Spulenmuster umgibt, wird ein Strom (Wirbelstrom), der umgekehrt zu dem Versorgungsstrom zu dem Spulenmuster ist, in dem Leitermuster bei der Zufuhr eines Stroms zu dem Spulenmuster und der Erzeugung eines durch den Magnetkopf modulierten Magnetfelds induziert. Folglich wird die Änderung eines zu erzeugenden Magnetfelds gelöscht, was zu einem Scheitern einer üblichen Informationssignalaufzeichnung führt. Um dies zu verhindern ist es zu bevorzugen, dass das Leitermuster in dem ersten Bereich A1 diskontinuierlich ausgebildet ist, indem das Leitermuster in zwei oder mehr in der Spiralrichtung des Spulenmusters aufgeteilt ist, wobei alle geteilten Leitermuster ein Intervall von 0,2P oder mehr aufweisen.
  • Dies unterdrückt die Erzeugung eines Wirbelstroms in dem Leitermuster.
  • Der zweite Bereich A2 ist ebenso ein Bereich, in dem der Einfluss eines Magnetfelds, das durch Zufuhr eines Stroms zu dem Spulenmuster erzeugt wird, ausgeübt wird, aber nicht in einem derartigen Umfang wie in dem ersten Bereich A1. Wenn das Leiterbelegungsverhältnis R eines Leitermusters, das in dem zweiten Bereich A2 ausgebildet ist, 0,8 überschreitet, verschlechtert ein erzeugter Wirbelstrom oder die elektrostatische Kapazität mit dem Spulenmuster Spuleneigenschaften. Um dies zu verhindern ist kein Leitermuster ausgebildet oder das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters wird auf 0,8 oder weniger in dem zweiten Bereich A2 heruntergedrückt, wie es durch die Ungleichung 2 dargestellt ist.
  • In dem dritten Bereich A3 wird, wenn das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters 0,3 oder weniger ist, im Wesentlichen kein Verstärkungseffekt erreicht. Wenn das Leiterbelegungsverhältnis R eines Leitermusters, das in dem dritten Bereich A3 ausgebildet ist, kleiner als 0,6 mal dem Leiterbelegungsverhältnis des Spulenmusters ist, wird die Stromdichte bei der Metallisierung oder Plattierung vorgespannt, um einen Strom auf das Spulenmuster bei der Herstellung von Leiter- und Spulenmustern durch Metallisieren bzw. Plattieren zu konzentrieren. Das Leitermuster in dem dritten Bereich A3 wird dünner als das Spulenmustern, so dass das Spulenmuster in unerwünschter Weise hervorragt. Um effektiv ein Magnetfeld zu erzeugen, ist das Leiterbelegungsverhältnis des Spulenmusters wünschenswerterweise 0,5 oder mehr. Somit wird, wie es durch die Ungleichung 3 dargestellt ist, das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters auf 0,3 < R ≤ 1 in dem dritten Bereich A3 eingestellt. Dies entspannt eine lokale Konzentration der Stromdichte bei der Plattierung und mittelt die Metallionendiffusionsrate innerhalb des Musters. Folglich wird die Schichtdicke des Leitermusters, das durch Plattieren ausgebildet wird, gleichförmig gemacht, um zu verhindern, dass das Spulemuster hervorragt.
  • Es ist zu beachten, dass das Leiterbelegungsverhältnis R das Verhältnis jedes Bereichs der Gesamtfläche aller Leitermuster einschließlich eines Blind-Musters, das in dem Bereich ausgebildet ist, und eines Leitermusters zur Verbindung von Anschlüssen miteinander und eines Anschlusses mit einem Spulenmuster zu der Gesamtfläche ist. Wenn der Bereich einen Abschnitt umfasst, bei dem kein Spulenmuster ausgebildet werden kann, beispielsweise ein Loch, das in einem Teil der Spule ausgebildet ist, ist dieser Bereich nicht in der Gesamtfläche des Bereichs beinhaltet. Wenn der ineffektive Bereich einen Abschnitt umfasst, bei dem die Breite teilweise gleich oder kleiner als der Abstand (pitch) P des Spulenmusters ist und das Leitermuster schwierig auszubilden ist, muss ein Leitermuster nicht immer bei diesem Abschnitt ausgebildet sein.
  • Das Leitermuster (Blind-Muster), das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, kann eine beliebige Form aufweisen. Insbesondere wenn ein lineares, schlitzartiges, punktartiges oder vieleckiges Leitermuster periodisch angeordnet ist, wird das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters über jedem Bereich gemittelt, um die thermischen Ausdehnungs- und Kontraktionsverteilungen zu verkleinern. Somit können die Flachheit, die Durchbiegung und die Maßgenauigkeit einer leitenden Schaltung verbessert werden und die mechanische Stärke kann verstärkt werden. Ebenso werden, wenn eine Metallisierung oder Plattierung angewendet wird, die Stromdichte und die Ionendiffusionsrate gemittelt, um die Plattierungsschichtdicke gleichförmiger zu machen. Die Anordnungsperiode (Abstand bzw. Pitch) eines derartigen Leitermusters kann konstant oder zufällig sein. Indem die Periode (der Abstand) größer oder gleich dem Abstand P des Spulenmusters und kleiner oder gleich 5P eingestellt wird, kann die Schichtdicke gleichförmiger gemacht werden.
  • Da der Umfangsrand der Spule (ein Randabschnitt, wie beispielsweise der Außenrand der Spule oder der Umfangsrand eines Loches, das in der Spule ausgebildet ist) eine ausreichende mechanische Stärke erfordert, ist das Leitermuster (Blindmuster) wünschenswerterweise entlang dem Umfangsrand der Spule ausgebildet. Wenn jedoch das Leitermuster ausgelegt ist, um eine geschlossene Schleife bei dem Umfangsrand eines Loches, das in dem inneren Abschnitt des Spulenmusters ausgebildet ist, um einen Magnetpol einzufügen, oder eines Loches, das als ein Lichtübertragungsabschnitt dient, zu bilden, löscht ein Wirbelstrom, der in dem Leitermuster erzeugt wird, ein zu erzeugendes Magnetfeld. Aus diesem Grund ist zumindest ein Leitermuster, das eine geschlossene Schleife ausbildet, nicht bei dem Umfangsrand des Loches, das bei dem inneren Abschnitt des Spulenmusters ausgebildet ist, angeordnet.
  • Es ist zu bevorzugen, dass das Leitermuster, das bei dem Umfangsrand der Spule ausgebildet ist, eine Bandform aufweist, wobei eine zugehörige Breite größer oder gleich dem Abstand P des Spulenmusters und kleiner oder gleich 4P ist. Ein engeres Leitermuster verstärkt den Umfangsrand nicht wesentlich; andererseits vergrößert ein breiteres Leitermuster die Diffusionsrate von Metallionen in einer Metallisierungslösung oder Plattierungslösung und vergrößert die Dicke, um viel größer als das Spulenmuster bei der Ausbildung eines Leitermusters durch Metallisieren oder Plattieren zu sein. Wenn dieses bandartige Leitermuster ausgebildet ist, um mit einem anderen Leitermuster in dem ineffektiven Bereich gekoppelt zu werden, wird die Spule verstärkt und flacher gemacht. Das Leitermuster muss nicht immer eben bei dem Umfangsrand der Spule ausgebildet sein, soweit das Intervall zwischen diesem Umfangsrand und dem Außenrand des Spulenmusters kleiner oder gleich dem Abstand P des Spulenmusters ist. Auf diese Weise muss das Leitermuster entlang dem Umfangsrand der Spule nicht immer vollständig kontinuierlich sein, um eine geschlossene Schleife auszubilden, sondern kann teilweise getrennt sein.
  • Ein Positionierungsabschnitt, wie beispielsweise ein kreisförmiges oder ovales Loch oder eine Vertiefung, die in dem Außenumfang der Spule ausgebildet ist, wird in dem ineffektiven Bereich ausgebildet, und ein Leitermuster wird bei dem Umfangsrand des Positionierungsabschnitts ausgebildet. Dies vergrößert die mechanische Stärke um den Positionierungsabschnitt herum. In der nachfolgenden Beschreibung wird dieses Leitermuster, das bei dem Umfangsrand des Positionierungsabschnitts ausgebildet ist, ein "Führungsmuster" genannt. Die Ausbildung des Führungsmusters verhindert, dass sich die Spule bei einem Einbau des Positionierungsabschnitts der Spule bei einem Arretierelement verformt, das bei einem anderen Bauelement angebracht ist, wie beispielsweise einem Schieber oder Gleitstück des Magnetkopfes. Die relative Positionsgenauigkeit zu dem optischen Kopf kann weiter vergrößert werden.
  • Das Leitermuster, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, leitet Wärme ab, die durch das Spulenmuster oder den Kern erzeugt wird, die in dem effektiven Bereich ausgebildet sind, wodurch ein Temperaturanstieg des Magnetkopfes verhindert wird. Ein Magnetkopf mit einem Wärmeableitelement in engem Kontakt mit dem Leitermuster kann eine hohe Wärmeableiteffektivität erreichen.
  • In dem ineffektiven Bereich kann ein Leitermuster mit einer geeigneten Form bei einer geeigneten Position entsprechend dem Ziel ausgebildet werden. Wenn alle Leitermuster derart ausgebildet sind, dass ihre Leiterbelegungsverhältnisse R die Ungleichungen 1, 2 und 3 erfüllen, steigt die mechanische Stärke der Spule an, ohne die elektrischen Eigenschaften der Spule zu verschlechtern. Alle Leitermuster einschließlich des Spulenmusters weisen beinahe die gleiche Dicke auf, was verhindert, dass einige der Leitermuster von der Spulenoberfläche hervorragen. Bei einem Verbinden bzw. Bonden der oberen Oberfläche der Spule mit einem anderen Element, wie beispielsweise einem Kern, ragt die untere Oberfläche (die Oberfläche, die dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger gegenüberliegt) der Spule nicht hervor oder neigt sich nicht. Als Ergebnis kann die Spule mit hoher Genauigkeit angeordnet werden, um die Entfernung zwischen der zugehörigen unteren Oberfläche und der Oberfläche des magneto-optischen Aufzeichnungsträgers bei der Herstellung eines Magnetkopfes in ausreichender Weise zu verringern. Das Magnetfeld kann auf effektive Weise an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger angelegt werden.
  • Die vorliegende Erfindung verwirklicht einen Magnetkopf, der ausgezeichnete Wärmeableiteigenschaften aufweist, der die relative Positionsgenauigkeit zwischen der Spule und dem optischen Kopf sowie die Entfernungsgenauigkeit von dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger vergrößern kann, während die Spule verkleinert wird, um eine zugehörige Induktanz bzw. Induktivität zu verringern. Dies ermöglicht ein Einstellen der Magnetfeldmodulationsfrequenz auf 8 MHz oder mehr sowie eine Vergrößerung der Informationssignalaufzeichnungsgeschwindigkeit.
  • Ein Flachspulenbauelement für den Magnetkopf gemäß der vorliegenden Erfindung kann durch eine Kombination einer Musterbildung und eines Ätzens mittels Photolithographie, Metallisierung bzw. Plattierung und dergleichen hergestellt werden. Insbesondere ist, wenn die vorliegende Erfindung bei einer Spule angewendet wird, die aus einem Leitermuster mit einer Dicke gebildet wird, die größer ist als die Breite des Spulenmusters, d.h. mit einem hohen Seitenverhältnis und einer großen Schichtdicke, die Photolithographie, die ein flüssiges lichtempfindliches Harz verwendet, optimal. Das heißt, ein dickes Harzeinstellmuster mit einem hohen Seitenverhältnis wird unter Verwendung eines flüssigen lichtempfindlichen Harzes ausgebildet und ein Leitermuster als eine leitende Materialschicht wird beinahe so dick wie das Harzeinstellmuster durch Plattieren ausgebildet. Wenn die gesetzte Substanz des flüssigen lichtempfindlichen Harzes nicht entfernt wird, sondern als ein isolierendes Element verwendet wird, kann ein Flachspulenbauelement für einen Magnetokopf hergestellt werden, bei dem das Leitermuster beinahe so dick wie das isolierende Element ist, was verhindert, dass das Leitermuster hervorragt. Alternativ hierzu kann die gesetzte Substanz des flüssigen lichtempfindlichen Harzes entfernt werden, wobei dann ein isolierendes Element, das aus einem warmhärtenden Harz oder dergleichen hergestellt ist, auf beinahe die gleiche Dicke wie das Leitermuster beerdigt werden kann. Das isolierende Element kann dicker als das Leitermuster ausgebildet werden, um die Endfläche des Leitermusters abzudecken. Insbesondere wenn das isolierende Element so dick wie oder dicker als das Leitermuster auf der oberen Oberflächenseite der Spule, die auf ein anderes Element gebonded ist, ausgebildet ist, ragt das Leitermuster nicht hervor und die Spulenoberfläche wird sehr flach. Dies verhindert weiter, dass die untere Oberfläche der Spule bei dem Bonden oder dem Verbinden hervorragt oder geneigt wird.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnung
  • 1 zeigt eine Schnittansicht, die eine Spule gemäß einem Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung zeigt,
  • 2A und 2B zeigen Draufsichten, die die Spule gemäß dem Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 3A und 3B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 2 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 4A und 4B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 3 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 5A und 5B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 4 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 6A und 6B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 5 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 7A und 7B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 6 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 8A und 8B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 7 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 9A und 9B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 8 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 10A und 10B zeigen Draufsichten, die eine Spule gemäß einem Beispiel 9 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 11A und 11B zeigen jeweilige Ansichten, die einen Magnetkopf gemäß dem Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 12A und 12B zeigen jeweilige Ansichten, die einen Magnetkopf gemäß dem Beispiel 9 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 13A und 13B zeigen jeweilige Ansichten, die einen Magnetkopf gemäß einem Beispiel 10 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 14A und 14B zeigen jeweilige Ansichten, die einen Magnetkopf gemäß dem Beispiel 11 der vorliegenden Erfindung zeigen,
  • 15 zeigt ein Blockschaltbild, das die Anordnung eines magneto-optischen Aufzeichnungsträger gemäß dem Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung zeigt,
  • 16 zeigt ein Blockschaltbild, das die Anordnung eines magneto-optischen Aufzeichnungsgeräts gemäß dem Beispiel 2 der vorliegenden Erfindung zeigt,
  • 17 zeigt eine perspektivische Darstellung, die einen herkömmlichen Magnetkopf für eine magneto-optische Aufzeichnung zeigt,
  • 18 zeigt eine Schnittansicht, die den herkömmlichen Magnetokopf für die magneto-optische Aufzeichnung zeigt,
  • 19A und 19B zeigen Draufsichten, die die Struktur einer Spule gemäß einem Vergleichsbeispiel 1 zeigen, und
  • 20A und 20B zeigen Draufsichten, die die Struktur einer Spule gemäß einem Vergleichsbeispiel 2 zeigen.
  • Bevorzugte Ausführungsart der Erfindung
  • Nachstehend sind Beispiele der vorliegenden Erfindung ausführlich beschrieben. Es ist anzumerken, dass die vorliegende Erfindung nicht durch die Beispiele begrenzt ist.
  • [Beispiel 1]
  • In 11A und 11B ist die Struktur eines Magnetkopfes 1 gezeigt. In 11A ist eine seitliche Schnittansicht gezeigt und in 11B ist eine Unteransicht gezeigt. Der Magnetkopf 1 wird durch einen Kern 12, der aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, hergestellt ist, eine Spule 13 und einen Schieber oder ein Gleitstück 14 gebildet, auf dem diese angebracht sind. Bezugszeichen 4 bezeichnet eine magneto-optische Platte, die als ein magneto-optischer Aufzeichnungsträger dient.
  • Der Kern 12 ist aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, mit einer flachen Form hergestellt, wobei die zugehörige Mitte einen herausragenden Magnetpol p1 mit einer Prisma-Form aufweist. Die Spule 13 ist flach, wobei die zugehörige Mitte ein quadratisches Loch H1 aufweist. Der Magnetpol p1 und der Kern 12 werden in das Loch h1 eingeführt. Die Spule 13 ist auf dem Schieber 14 zusammen mit dem Kern 12 angebracht. Der Schieber 14 ist aus einem Harzmaterial, einem keramischen Material oder dergleichen hergestellt und weist eine Schiebeoberfläche As oder eine Gleitoberfläche Af zum Schieben auf oder Schwimmen/Gleiten über der magneto-optischen Platte 4 auf, um der magneto-optischen Platte 4 gegenüberzuliegen.
  • In den 1, 2A und 2B ist die ausführliche Struktur der Spule 13 gezeigt. In 1 ist eine Schnittansicht gezeigt, in 2 ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 2B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird. Die Spule 13 wird aus einer Basis 15, einem Spiralspulenmuster 16a, einem Dummy- bzw. Blind-Muster 17a, einem isolierenden Element 18a, Anschlüssen 19b und 19a, einem Schutzüberzug 20a, wobei die Muster 16a und 17a, das Element 18a, die Anschlüsse 19b und 19a sowie der Überzug 20a auf der oberen Oberflächenseite (Seite, die dem Kern 12 gegenüberliegt) der Basis 15 ausgebildet sind, einem Spiralspulenmuster 16b, einem Blind-Muster 17b, einem isolierenden Element 18b und einem Schutzüberzug 20b hergestellt, wobei die Muster 16b und 17b, das Element 18b und der Überzug 20b auf der unteren Oberflächenseite (der Seite, die der magneto-optischen Platte 4 gegenüberliegt) der Basis 15 ausgebildet sind. Der Bereich, bei dem die Spulenmuster 16a und 16b ausgebildet sind, ist ein effektiver Bereich. Ein Strom, der um das Magnetfelderzeugungszentrum (Loch h1) herum fließt, kann den Spulenmustern 16a und 16b zugeführt werden. Der Bereich außerhalb des effektiven Bereichs, bei dem Leitermuster, wie beispielsweise die Blind-Muster 17a und 17b sowie die Anschlüsse 19a und 19b ausgebildet sind, ist ein ineffektiver Bereich. Ein Strom, der um das Magnetfelderzeugungszentrum (Loch h1) herum fließt, wird nicht den Leitermustern zugeführt, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind.
  • Die Spulenmuster 16a und 16b, die Blind-Muster 17a und 17b sowie die Anschlüsse 19a und 19b als Leitermuster sind aus einer leitenden Materialschicht hergestellt, wie beispielsweise einer Kupferschicht, und weisen eine Dicke H von 50 μm auf. Die Spulenmuster 16a und 16b weisen eine Breite B von 25 μm sowie einen konstanten Abstand (pitch) P von 40 μm von dem Innenumfang zu dem Außenumfang auf. Die isolierenden Elemente 18a und 18b sind aus einer nichtleitenden Materialschicht hergestellt, beispielsweise einem lichtempfindlichen Harz oder einer warmhärtenden Harzschicht, das/die bei der Bildung der Spulenmuster 16a und 16b verwendet wird. Die isolierenden Elemente 18a und 18b weisen eine Dicke auf, die gleich zu der der Leitermuster ist, wie beispielsweise der Spulenmuster 16a und 16b. Auf diese Weise werden die Dicken des Leitermusters und des isolierenden Elements 18a und diejenigen des Leitermusters und des isolierenden Elements 18b auf der oberen bzw. der unteren Oberflächenseite der Spule 13 eingestellt. Dies verhindert, dass Leitermuster, wie beispielsweise die Spulenmuster 16a und 16b, von der oberen und der unteren Oberfläche der Spule 13 hervorragen. Die Oberfläche der Spule 13 kann folglich flach hergestellt werden. In den 2A und 2B sind alle schwarzen Abschnitte Leitermuster, die aus einer leitenden Materialschicht hergestellt sind, und alle umgebenden unausgefüllten bzw. freien Abschnitte sind das isolierende Element 18a (obere Oberflächenseite) oder 18b (untere Oberflächenseite).
  • Die Spulenmuster 16a und 16b sind mit einem inneren Umfangsabschnitt über ein Durchgangsloch 21a verbunden. Der Anschluss 19a ist mit dem äußeren Umfangsabschnitt des Spulenmusters 16a verbunden, wohingegen der Anschluss 19b mit dem des Spulenmusters 16b über ein Durchgangsloch 21b verbunden ist. Die Anschlüsse 19a und 19b können den Spulenmustern 16a und 16b einen Gleichstrom zuführen.
  • Die Basis 15 ist ausgebildet, um die Spulenmuster 16a und 16b elektrisch zu isolieren, und ist aus einem dünnen Harzmaterial, wie beispielsweise einem Polyimidblatt oder einer Polyimidfolie, hergestellt. Ein Intervall Tb (das beinahe gleich der Dicke der Basis 15 in dem Beispiel 1 ist) zwischen den Spulenmustern 16a und 16b ist 20 μm. Die Schutzüberzüge 20a und 20b sind dünne Schichten oder Blätter, die aus einem nicht-leitenden Material, wie beispielsweise einem Harzmaterial, hergestellt sind, und verhindern eine Beschädigung und Korrosion der Oberflächen der Spulenmuster 16a und 16b. Die Schutzüberzüge 20a und 20b weisen eine Dicke Tc von 20 μm auf.
  • Da die Blind-Muster 17a und 17b in den ineffektiven Bereichen um die Spulenmuster 16a und 16b ausgebildet sind, ist die Dicke T der Spule 13 gleichförmig 160 μm bei beinahe der gesamten Oberfläche. Im Vergleich mit einem Fall, bei dem kein Blind-Muster ausgebildet ist, ist die mechanische Stärke der Spule 13 vergrößert. Die Spule 13 ist in ausreichender Weise steif und verformt sich nicht, beispielsweise biegt sich nicht, wenn die Spule 13 mit dem Kern 12 verbunden wird, auf dem Schieber 14 angebracht wird und bei der Herstellung eines Magnetkopfes befestigt wird. Da die obere Oberfläche (die Oberfläche, die dem Kern 12 gegenüberliegt) der Spule 13 flach ist, verformt sich die zugehörige untere Oberfläche (die Oberfläche, die der magneto-optischen Platte 4 gegenüberliegt) nicht, ragt beispielsweise nicht hervor oder neigt sich nicht, bei dem Verbinden mit dem Kern 12.
  • Wenn die Spule 13 aus einer Vielzahl von Spulenmustern wie in Beispiel 1 ausgebildet ist, muss das Intervall Tb zwischen diesen Spulenmustern 70 μm oder weniger sein und vorzugsweise 35 μm oder weniger sein. Dies kann den Spulenmusterraumfaktor (Verhältnis des Spulenmusters zu dem verbleibenden Abschnitt bei dem Ausschnitt) vergrößern, um ein Magnetfeld effektiv zu erzeugen. Das Spulenmuster und das Leitermuster (Blind-Muster), die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, sind vorzugsweise derart ausgebildet, dass die Dicke T der Spule 13 auf 70 μm oder mehr eingestellt ist.
  • Wenn Spulenmuster sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule ausgebildet werden und Leitermuster (Blind-Muster) in den ineffektiven Bereichen auf den zwei Seiten ausgebildet werden, wie es in Beispiel 1 gezeigt ist, tritt eine Ausdehnung/Kontraktion, die durch Temperaturänderungen verursacht wird, in beinahe dem gleichen Grad bei der oberen und der unteren Oberflächenseite der Spule auf und die Spule verformt sich nicht, wölbt sich beispielsweise nicht.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich gemäß Beispiel 1 ausgebildet sind, sind nachstehend ausführlich beschrieben.
  • Gemäß Beispiel 1 ist der Abstand P der Spulenmuster 16a und 16b 40 μm. Ein Bereich, bei dem eine Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, ist als ein erster Bereich A1 auf sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In den 2A und 2B stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Somit ist das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ersten Bereich A1 sowohl auf der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus gestreiften Leitermustern in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Die gestreiften Leitermuster weisen eine Breite von 40 μm und einen Abstand von 60 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,60 in dem zweiten Bereich A2 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,63 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,60 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • Auf diese Weise ist der ineffektive Bereich in eine Vielzahl von Bereichen auf der Grundlage der Entfernung S von dem Außenrand des Spulenmusters (Außenrand des effektiven Bereichs) unterteilt. Leitermuster werden in den jeweiligen Bereichen angeordnet, um gleichzeitig die Ungleichungen 1, 2 und 3 zu erfüllen. In dem ersten Bereich A1 bildet kein Leitermuster irgendeine geschlossene Schleife. Folglich kann der Verstärkungseffekt ohne Verringerung der elektrischen Eigenschaften der Spule erreicht werden.
  • [Beispiel 2]
  • Nachstehend ist das Beispiel 2 der vorliegenden Erfindung beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß Beispiel 2 weist die gleiche Struktur wie der gemäß Beispiel 1 auf, das in 11 gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 3A und 3B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 2 gezeigt. In 3A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 3B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die in dem Beispiel 1, das in den 1 und 2 gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 2 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • Ebenso in dem Beispiel 2 ist ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Aus diesem Grund ist das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus rechteck-punkt-artigen Leitermustern in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 gebildet. Die rechteck-punkt-artigen Leitermuster weisen eine Seitenlänge von 60 μm und einen Anordnungsabstand von 80 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R der Leitermuster beträgt etwa 0,56 in dem zweiten Bereich A2 bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,59 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,56 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 3]
  • Das Beispiel 3 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 3 weist die gleiche Struktur wie der gemäß dem Beispiel 1 auf, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 4A und 4B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 3 gezeigt. In 4A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 4B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, die gleiche wie die in dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 3 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 3 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Folglich beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus quadratisch-matrix-artigen Leitermustern in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Die quadratisch-matrix-artigen Leitermuster weisen eine Breite von 40 μm und einen Abstand von 100 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,64 in dem zweiten Bereich A2 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,67 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,64 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 4]
  • Das Beispiel 4 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 4 weist die gleiche Struktur auf wie der gemäß dem Beispiel 1, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 5A und 5B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 4 gezeigt. In 5A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 5B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die in dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 4 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 4 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μ ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S 40 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Berech A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt in dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus gestreiften Leitermustern in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Die gestreiften Leitermuster weisen eine Breite von 115 μm und einen Abstand von 150 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,77 in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13.
  • [Beispiel 5]
  • Das Beispiel 5 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben.
  • Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 5 weist die gleiche Struktur wie der gemäß dem Beispiel 1 auf, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 6A und 6B ist die detaillierte Struktur einer Spule gemäß dem Beispiel 5 gezeigt. In 6A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 6B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die gemäß dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 5 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 5 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Leitermuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Folglich beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus gestreiften Leitermustern in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auf der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Die gestreiften Leitermuster weisen eine Breite von 40 μm und einen Abstand von 80 μm auf. In dem dritten Bereich A3 sind die Blind-Muster 17a und 17b weiter aus 70-μm-breiten bandartigen Leitermustern ausgebildet, die entlang dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet sind. Die bandartigen Leitermuster entlang dem Außenrand und die gestreiften Leitermuster sind miteinander gekoppelt. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Spulenmusters beträgt etwa 0,50 in dem zweiten Bereich A2 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,55 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,52 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 6]
  • Das Beispiel 6 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 6 weist die gleiche Struktur wie der gemäß dem Beispiel 1 auf, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 7A und 7B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 6 gezeigt. In 7A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 7B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die gemäß dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich gemäß dem Beispiel 6 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 6 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 ist sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 kein Blind-Muster ausgebildet. Somit beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. In dem dritten Bereich A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 sind die Blind-Muster 17a und 17b aus gestreiften Leitermustern mit einer Breite von 40 μm und einem Abstand von 80 μm ausgebildet, und 70-μm-breite bandartige Leitermuster sind entlang dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet. Das bandartige Leitermuster entlang dem Außenrand und das gestreifte Leitermuster sind miteinander gekoppelt. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,55 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 und etwa 0,52 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 7]
  • Das Beispiel 7 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 7 weist die gleiche Struktur wie der gemäß dem Beispiel 1 auf, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 8A und 8B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 7 gezeigt. In 8A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 8B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme der Leitermuster, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die gemäß dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 7 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 7 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 sind sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 die Blind-Muster 17a und 17b aus einer Vielzahl von Leitermustern ausgebildet, die in der Spiralrichtung des Spulenmusters 16a und 16b angeordnet sind. Die Leitermuster weisen eine Breite von 25 μm und eine Länge von 60 μm auf, wobei das Intervall zwischen jeweiligen Leitermustern 30 μm beträgt. Das Intervall zwischen diesem Leitermuster und dem Außenrand des Spulenmusters 16a oder 16b beträgt 35 μm. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,28 in dem ersten Bereich A1. In den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 sind die Blind-Muster 17a und 17b aus gestreiften Leitermustern ausgebildet. Die gestreiften Leitermuster weisen eine Breite von 40 μm und einen Abstand von 80 μm auf. In dem dritten Bereich A3 sind die Blind-Muster 17a und 17b weiter aus 70-μm-breiten bandartigen Leitermustern ausgebildet, die entlang dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet sind. Das bandartige Leitermuster entlang dem Außenrand und das gestreifte Leitermuster sind miteinander gekoppelt. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,50 in dem zweiten Bereich A2 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,55 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,52 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 8]
  • Das Beispiel 8 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. Ein Magnetkopf gemäß dem Beispiel 8 weist die gleiche Struktur wie der gemäß dem Beispiel 1 auf, das in den 11A und 11B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen. In den 9A und 9B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 gemäß dem Beispiel 8 gezeigt. In 9A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 9B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird.
  • Die Struktur ist mit Ausnahme von Leitermustern, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die gemäß dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 8 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben.
  • In dem Beispiel 8 ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind in den jeweiligen Bereichen wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 und dem zweiten Bereich A2 sind bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 die Blind-Muster 17a und 17b aus einer Vielzahl von radialen Leitermustern ausgebildet. Die Leitermuster weisen eine Breite von 100 μm und eine Länge von 205 μm auf, wobei das Intervall zwischen jeweiligen Leitermustern 70 bis 120 μm beträgt. Das Intervall zwischen diesem Leitermuster und dem Außenrand des Spulenmusters 16a oder 16b beträgt 35 μm. Sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters etwa 0,25 in dem ersten Bereich A1 und etwa 0,55 in dem zweiten Bereich A2. In dem dritten Bereich A3 sind sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 die Blind-Muster 17a und 17b aus gestreiften Leitermustern mit einer Breite von 40 μm und einem Abstand von 80 μm ausgebildet, wobei 70-μm-beite bandartige Leitermuster entlang dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet sind. Das bandartige Leitermuster entlang dem Außenrand und das gestreifte Leitermuster sind miteinander gekoppelt. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,55 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 und etwa 0,52 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • [Beispiel 9]
  • Das Beispiel 9 der vorliegenden Erfindung ist nachstehend beschrieben. In den 12A und 12B ist die Struktur eines Magnetkopfes 1 gezeigt. In 12A ist eine Seitenschnittansicht gezeigt und in 12B ist eine Unteransicht gezeigt. Der Magnetkopf 1 wird durch einen Kern 12, der aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, hergestellt ist, eine Spule 13 und einen Schieber bzw. ein Gleitstück 14 gebildet, auf dem diese angebracht sind. Bezugszeichen 4 bezeichnet eine magneto-optische Platte, die als ein magneto-optischer Aufzeichnungsträger dient.
  • Der Kern 12 ist aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, mit einer flachen Form hergestellt, wobei die zugehörige Mitte einen hervorstehenden Magnetpol p1 mit einer Prisma-Form aufweist. Die Spule 13 ist flach, wobei die zugehörige Mitte ein quadratisches Loch h1 aufweist. Der Magnetpol p1 des Kerns 12 wird in das Loch h1 eingeführt. Die Spule 13 ist auf dem Schieber 14 zusammen mit dem Kern 12 angebracht. Der Schieber 14 ist aus einem Harzmaterial, einem keramischen Material oder dergleichen hergestellt und weist eine Schiebeoberfläche As oder eine Gleitoberfläche Af zum Schieben auf oder Schwimmen/Gleiten über der magneto-optische Platte 4 auf, um der magneto-optischen Platte 4 gegenüberzuliegen.
  • Der Schieber 14 weist Arretierelemente 29, 30 und 31 auf, die aus der Anbringoberfläche der Spule 13 herausragen. Die Spule 13 weist Positionierunqsabschnitte 23, 24 und 25 auf. Die Positionierungsabschnitte 23 und 24 sind kreisförmige Löcher und der Positionierungsabschnitt 25 ist eine U-förmige Vertiefung, die in dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet ist. Die Spule 13 wird bei dem Schieber 14 durch Befestigen der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 bei den Arretierelementen 29, 30 und 31 des Schiebers 14 angebracht.
  • In den 10A und 10B ist die detaillierte Struktur der Spule 13 gezeigt. In 10A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 10B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird. Die Spule 13 ist flach und wird aus einer Basis 15, einem Spiralspulenmuster 16a, einem Blind-Muster 17a, Führungsmustern 26A, 27A und 28A, einem isolierenden Element 18a, Anschlüssen 19b und 19a, einem Schutzüberzug 20a, wobei die Muster 16a, 17a, 26A, 27A und 28A, das Element 18a, die Anschlüsse 19b und 19a sowie der Überzug 20a auf der oberen Oberflächenseite (der Seite, die dem Kern 12 gegenüberliegt) der Basis 15 ausgebildet sind, einem Spiralspulenmuster 16b, einem Blind-Muster 17b, Führungsmustern 26B, 27B und 28B, einem isolierenden Element 18b und einem Schutzüberzug 20b hergestellt, wobei die Muster 16b, 17b, 26B, 27B und 28B, das Element 18b und der Überzug 20b bei der unteren Oberflächenseite (der Seite, die der magneto-optischen Platte 4 gegenüberliegt) der Basis 15 ausgebildet sind. Die Spulenmuster 16a und 16b sind in einem effektiven Bereich ausgebildet, wobei ein Strom, der um das Magnetfelderzeugungszentrum (Loch h1) herum fließt, den Spulenmustern 16a und 16b zugeführt werden kann. Die Blind-Muster 17a und 17b, die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B sowie die Anschlüsse 19a und 19b sind in einem ineffektiven Bereich ausgebildet, wobei ein Strom, der um das Magnetfelderzeugungszentrum (Loch h1) herum fließt, diesen nicht zugeführt wird.
  • Die Spulenmuster 16a und 16b, die Blind-Muster 17a und 17b, die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B sowie die Anschlüsse 19a und 19b als Leitermuster sind aus einer leitenden Materialschicht, wie beispielsweise einer Kupferschicht, hergestellt und weisen eine Dicke H von 50 μm auf. Die Spulenmuster 16a und 16b weisen einen konstanten Abstand bzw. Pitch P von 40 μm von dem inneren zu dem äußeren Umfang sowie eine Breite W von 25 μm auf. Die isolierenden Elemente 128A und 18b sind aus einer nicht-leitenden Materialschicht, beispielsweise einem lichtempfindlichen Harz oder einer warmhärtenden Harzmaterialschicht, hergestellt, die bei der Ausbildung der Spulenmuster 16a und 16b verwendet wird. Die isolierenden Elemente 18a und 18b weisen zu den Leitermustern, wie beispielsweise den Spulenmustern 16a und 16b, eine gleiche Dicke auf. Auf diese Weise werden die Dicken des Leitermusters und des isolierenden Elements 18a und diejenigen des Leitermusters und des isolierenden Elements 18b bei der oberen bzw. der unteren Oberflächenseite der Spule 13 gleichgesetzt. Dies verhindert, dass die Leitermuster, wie beispielsweise die Spulenmuster 16a und 16b, von den oberen und unteren Oberflächen der Spule 13 hervorragen. Die Oberfläche der Spule 13 kann folglich flach gemacht werden. In den 10A und 10B stellen alle schwarzen Abschnitte Leitermuster dar, die aus einer leitenden Materialschicht hergestellt sind, und alle umgebenden freien Abschnitte stellen das isolierende Element 18a (obere Oberflächenseite) oder 18b (untere Oberflächenseite) dar.
  • Die Spulenmuster 16a und 16b sind bei einem inneren Umfangsabschnitt über ein Durchgangsloch 21a verbunden. Der Anschluss 19a ist mit dem äußeren Umfangsabschnitt des Spulenmusters 16a verbunden, wohingegen der Anschluss 19b mit dem des Spulenmusters 16b über ein Durchgangsloch 21b verbunden ist. Die Anschlüsse 19a und 19b können den Spulenmustern 16a und 16b einen Gleichstrom zuführen.
  • Die Basis 15 ist ausgebildet, um die Spulenmuster 16a und 16b elektrisch zu isolieren, und ist aus einem dünnen Harzmaterialblatt bzw. einer dünnen Harzmaterialfolie, wie beispielsweise einem Polyimid-Blatt, hergestellt. Ein Intervall Tb (das beinahe gleich der Dicke der Basis 15 in dem Beispiel 9 ist) zwischen den Spulenmustern 16a und 16b ist 20 μm. Die Schutzüberzüge 20a und 20b sind dünne Schichten oder Blätter, die aus einem nicht-leitenden Material, wie beispielsweise einem Harzmaterial, hergestellt sind, und verhindern eine Beschädigung oder Korrosion der Oberflächen der Spulenmuster 16a und 16b. Die Schutzüberzüge 20a und 20b weisen eine Dicke Tc von 20 μm auf.
  • Da die Blind-Muster 17a und 17b in den ineffektiven Bereichen um die Spulenmuster 16a und 16b herum ausgebildet sind, ist die Dicke T der Spule 13 gleichförmig 160 μm auf beinahe der gesamten Oberfläche. Im Vergleich mit einem Fall, bei dem kein Blind-Muster ausgebildet ist, ist die mechanische Stärke der Spule 13 vergrößert. Die Spule 13 ist ausreichend steif und verformt sich nicht, biegt sich beispielsweise nicht, wenn die Spule 13 mit dem Kern 12 verbunden wird, auf dem Schieber 14 angebracht wird und bei der Herstellung eines Magnetkopfes befestigt wird. Da die obere Oberfläche (die Oberfläche, die dem Kern 12 gegenüberliegt) der Spule 13 flach ist, verformt sich die zugehörige untere Oberfläche (die Oberfläche, die der magneto-optischen Platte 4 gegenüberliegt) nicht, ragt beispielsweise nicht hervor oder neigt sich nicht, bei dem Verbinden mit dem Kern 12.
  • Wenn die Spule 13 aus einer Vielzahl von Spulenmustern ausgebildet ist, wie in dem Beispiel 9 gezeigt ist, muss das Intervall Tb zwischen diesen Spulenmustern 70 μm oder weniger und vorzugsweise 35 μm oder weniger betragen. Dies kann den Spulenmusterraumfaktor (Verhältnis des Leitermusters zu dem verbleibenden Abschnitt bei dem Ausschnitt) vergrößern, um effektiv ein Magnetfeld zu erzeugen. Das Spulenmuster und das Leitermuster (Blind-Muster), die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, sind vorzugsweise derart ausgebildet, dass die Dicke T der Spule 13 auf 70 μm oder mehr eingestellt ist.
  • Wenn die Spulenmuster bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule ausgebildet werden und Leitermuster (Blind-Muster) in den ineffektiven Bereichen bei den zwei Seiten ausgebildet werden, wie es in dem Beispiel 9 gezeigt ist, tritt eine Ausdehnung/Kontraktion, die durch Temperaturänderungen verursacht wird, in beinahe dem gleichen Grad bei der oberen und der unteren Oberflächenseite der Spule auf und die Spule verformt sich nicht, verzieht sich beispielsweise nicht.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b sowie die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B, die in dem ineffektiven Bereich in dem Beispiel 9 ausgebildet sind, sind nachstehend ausführlich beschrieben.
  • In dem Beispiel 9 beträgt der Abstand P der Spulenmuster 16a und 16b 40 μm. Ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, ist als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm ≤ S ≤ 240 μm erfüllt, ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In 1 stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster sind in den jeweiligen Bereichen bei der oberen und der unteren Oberflächenseite wie nachstehend beschrieben ausgebildet. In dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ist kein Blind-Muster ausgebildet. Folglich beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters in dem ersten Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite 0. Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus gestreiftem Leitermuster in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet. Die gestreiften Leitermuster weisen eine Breite von 40 μm und einen Abstand von 80 μm auf. In dem dritten Bereich sind die Blind-Muster 17a und 17b ferner aus 70-μm-breiten bandartigen Leitermustern ausgebildet, die entlang dem Außenrand der Spule 13 ausgebildet sind. Das bandartige Leitermuster entlang dem Außenrand und das gestreifte Leitermuster sind miteinander gekoppelt. Die Führungsmuster 26A und 27A sind bei den Umfangsrändern der Positionierungsabschnitte 23 und 24 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet und das Führungsmuster 28A ist bei dem Umfangsrand des Positionierungsabschnitts 25 in den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 ausgebildet. Die Führungsmuster 26B und 27B sind bei den Umfangsrändern der Positionierungsabschnitte 23 und 24 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet und das Führungsmuster 28 ist bei dem Umfangsrand des Positionierungsabschnittes 25 in den zweien und dritten Bereichen A2 und A3 ausgebildet. Diese Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B weisen eine 70-μm-breite Band-Form auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet.
  • Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,50 in dem zweiten Bereich bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13, etwa 0,55 in dem dritten Bereich bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 und etwa 0,52 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • Wie es vorstehend beschrieben ist, ist ebenso in dem Beispiel 9 der ineffektive Bereich in eine Vielzahl von Bereichen auf der Grundlage der Entfernung S von dem Außenrand des Spulenmusters (dem Außenrand des effektiven Bereichs) aufgeteilt. Leitermuster sind in den jeweiligen Bereichen angeordnet, um gleichzeitig die Ungleichungen 1, 2 und 3 zu erfüllen. In dem ersten Bereich A3 bildet kein Leitermuster eine geschlossene Schleife. Folglich kann der Verstärkungseffekt erreicht werden, ohne die elektrischen Eigenschaften der Spule zu verschlechtern.
  • Wenn die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B nicht ausgebildet sind und die Umfänge der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 lediglich aus der Basis 15 und den isolierenden Elementen 18a und 18b hergestellt sind, sind die Umfänge der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 schwach, können einer wirkenden Kraft nicht widerstehen und verformen sich leicht bei dem Befestigen der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 bei den Arretierelementen 29, 30 und 31 des Schiebers 14 und bei dem Anbringen der Spule bei dem Schieber 14 während der Herstellung eines Magnetkopfes.
  • In dem Beispiel 9 sind jedoch die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B, die aus einer leitenden Materialschicht hergestellt sind, bei den Umfangsrändern der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 ausgebildet. Somit kann eine ausreichende Stärke sichergestellt werden, um eine Verformung zu verhindern.
  • Ein Verfahren zum Herstellen der Spule 13 gemäß dem Beispiel 9 ist nachstehend beschrieben. Die Bildung der Spule 13 kann ein Musterbildungsverfahren, das Photolithographie verwendet, anwenden. In diesem Fall kann eine Belichtungsmaske mit einer hohen Positionsgenauigkeit für sowohl die Führungs- als auch die Spulenmuster gebildet werden. Eine Verwendung dieser Maske macht die relative Position des Führungsmusters zu dem Spulenmuster konstant und verhindert im Wesentlichen jeden Fehler und Herstellungsschwankungen.
  • Die Spule 13, die die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B aufweist, wird aus einer Richtung mit einem Kohlendioxidgaslaser oder einem Excimer-Laserstrahl bestrahlt, um eine Laserverarbeitung auszuführen. Dann werden die Basis 15 und die isolierenden Elemente 18a und 18b von den inneren Abschnitten, die von den Führungsmustern 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B umgeben sind, entfernt, wodurch Löcher und eine Vertiefung erzeugt werden, die als die Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 dienen. Dieses Verarbeitungsverfahren entfernt selektiv lediglich ein Harzmaterial als das Bauelementmaterial der Basis 15 und der isolierenden Elemente 18a und 18b. Die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B, die aus einer leitenden Materialschicht, wie beispielsweise einer Kupferschicht, hergestellt sind, werden durch diese Verarbeitung nicht beeinflusst und dienen als Laserstrahlabschirmmasken. Durch Aussenden eines Strahl auf Bereiche, die ein wenig größer als die Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 sind, kann die Basis von lediglich den inneren Abschnitten, die durch die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B umgeben sind, entfernt werden.
  • Gemäß dem Herstellungsverfahren werden die Erzeugungspositionen und -größen der Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 durch die Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B, die im Vorfeld gebildet werden, bestimmt. Selbst wenn die Anbringposition der Spule 13 an das Verarbeitungsgerät fehlerhaft ist, sind die Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 frei von dem Einfluss jedes Fehlers und können mit sehr hohen Positions- und Maßgenauigkeiten erzeugt werden.
  • Die relative Positionsgenauigkeit der Führungsmuster 26A, 27A, 28A, 26B, 27B und 28B, die um die Positionierungsabschnitte 23, 24 und 25 herum ausgebildet sind, zu den Spulenmustern 16a und 16b ist sehr hoch. Durch Befestigen der Arretierelemente 29, 30 und 31 in den Positionierungsabschnitten 23, 24 und 25 wird die Spule 13 bei dem Schieber 14 mit hoher Positionsgenauigkeit angebracht. Das Magnetfelderzeugungszentrum (Spulenmustermitte) ist in Bezug auf den Schieber 14 konstant und variiert nicht. Somit kann ein Magnetfeld, das durch den Magnetokopf 1 erzeugt wird, an die Bestrahlungsposition eines Aufzeichnungsstrahls bei der magneto-optischen Platte 4 genau angelegt werden.
  • Es ist anzumerken, dass die Erzeugungspositionen und -formen von Löchern und einer Vertiefung, die als die Positionierungsabschnitte dienen, und derjenigen von Führungsmustern, die bei zugehörigen Umfangsrändern ausgebildet sind, nicht auf das Beispiel 9, das in den 10A und 10B gezeigt ist, begrenzt sind. Das Arretierelement, das in dem Positionierungsabschnitt zu befestigen ist, der bei der Spule ausgebildet ist, kann nicht bei dem Schieber, sondern bei einem anderen Magnetkopfbauelement, wie beispielsweise dem Kern, ausgebildet sein.
  • Nachstehend sich Vergleichsbeispiele für die Beispiele 1–9 beschrieben.
  • [Vergleichsbeispiel 1]
  • In den 19A und 19B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 als ein Vergleichsbeispiel 1 gezeigt. In 19A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 19B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird. Die Struktur ist mit Ausnahme von Leitermustern, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die in dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Vergleichsbeispiel 1 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben. In diesem Beispiel ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand zu jedem der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In den 19A und 19B stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus quadratisch-matrix-artigen Leitermustern in dem gesamten Bereich A1 mit Ausnahme eines Bereichs ausgebildet, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b S < 20 μm erfüllt. Die quadratisch-matrix-artigen Leitermuster weisen eine Breite von 120 μm und einen Abstand von 165 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 auf der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet.
  • Bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters etwa 0,58 in dem ersten Bereich A1 und etwa 0,93 in dem zweiten Bereich A2. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,94 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,93 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • In dem Vergleichsbeispiel 1 sind die Leiterbelegungsverhältnisse R in dem ersten Bereich A1 und dem zweiten Bereich höher als die Bereiche, die durch die Ungleichungen 1 und 2 definiert sind.
  • [Vergleichsbeispiel 2]
  • In den 20A und 209B ist die detaillierte Struktur einer Spule 13 als ein Vergleichsbeispiel 2 gezeigt. In 20A ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von oben betrachtet wird, und in 20B ist eine Draufsicht gezeigt, wenn sie von unten betrachtet wird. Die Struktur ist mit Ausnahme von Leitermustern, die in dem ineffektiven Bereich ausgebildet sind, die gleiche wie die in dem Beispiel 1, das in den 1, 2A und 2B gezeigt ist, und eine Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Die Leitermuster, d.h. die Blind-Muster 17a und 17b, die in dem ineffektiven Bereich in dem Vergleichsbeispiel 2 ausgebildet sind, sind nachstehend beschrieben. In diesem Beispiel ist ebenso ein Bereich, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b 0 μm ≤ S ≤ 60 μm erfüllt, als ein erster Bereich A1 sowohl bei der oberen als auch der unteren Oberflächenseite der Spule 13 entsprechend den Ungleichungen 1, 2 und 3 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 60 μm < S ≤ 240 μm erfüllt ist als ein zweiter Bereich A2 definiert; ein Bereich, bei dem die Entfernung S 240 μm < S erfüllt, ist als ein dritter Bereich A3 definiert. In den 20a und 20b stellt eine gestrichelte Linie B1 die Grenze zwischen den ersten und zweiten Bereichen A1 und A2 dar und eine gestrichelte Linie B2 stellt die Grenze zwischen den zweiten und dritten Bereichen A2 und A3 dar.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b sind aus rechteck-matrix-artigen Leitermustern in dem gesamten Bereich A1 mit Ausnahme eines Bereichs ausgebildet, bei dem die Entfernung S von dem Außenrand jedes der Spulenmuster 16a und 16b S < 20 μm erfüllt. Die rechteck-matrix-artigen Leitermuster weisen eine Breite von 30 μm und einen Abstand von 300 μm auf. Die Anschlüsse 19a und 19b sind in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite der Spule 13 ausgebildet.
  • Bei sowohl der oberen als auch der unteren Oberflächenseite beträgt das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters etwa 0,09 in dem ersten Bereich A1 und etwa 0,19 in dem zweiten Bereich A2. Das Leiterbelegungsverhältnis R des Leitermusters beträgt etwa 0,22 in dem dritten Bereich A3 bei der oberen Oberflächenseite und etwa 0,19 in dem dritten Bereich A3 bei der unteren Oberflächenseite.
  • In dem Vergleichsbeispiel 2 ist das Leiterbelegungsverhältnis R in dem dritten Bereich A3 niedriger als der Bereich, der durch die Ungleichung 3 definiert ist.
  • In einer Tabelle 1 ist eine Liste der Leiterbelegungsverhältnisse R in den jeweiligen Bereichen von tatsächlich hergestellten Spulen 13 gemäß den Beispielen 1 bis 9 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2, die Messwerte von elektrischen Eigenschaften, Flachheitsbeurteilungsergebnisse und eine maximale Modulationsfrequenz fmax, die bei einem magneto-optischen Aufzeichnungsgerät erreichbar ist, das die Spule 13 verwendet, gezeigt.
  • Figure 00480001
  • Die elektrischen Eigenschaften der Spule 13 werden durch einen RF- oder HF-Widerstand Rp und eine Eigenresonanzfrequenz fr, die zwischen den Anschlüssen 19a und 19b gemessen wird, beurteilt. Der HF-Widerstand Rp ist ein Widerstandsbauelement, das parallel zu einem Induktivitätsbauelement L mit einer Frequenz von 20 MHz geschaltet ist, und die Eigenresonanzfrequenz fr ist eine Frequenz, die eine Impedanzgröße |Z| maximiert.
  • Auf der Grundlage dieser Ergebnisse wird die vorliegende Erfindung (Beispiele 1 bis 9) mit dem Vergleichsbeispiel 1 verglichen, um herauszufinden, dass die Flachheit sowohl in der vorliegenden Erfindung als auch dem Vergleichsbeispiel 1 gut ist. Der HF-Widerstand Rp ist jedoch in der vorliegenden Erfindung höher als in dem Vergleichsbeispiel 1. Dies bedeutet, dass der HF-Verlust, der durch den Einfluss eines Wirbelstroms verursacht wird, der in einem Leitermuster induziert wird, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, in der vorliegenden Erfindung kleiner ist. Ebenso ist die Eigenresonanzfrequenz fr in der vorliegenden Erfindung höher als in dem Vergleichsbeispiel 1. Dies bedeutet, dass die elektrostatische Kapazität zwischen dem Spulenmuster und dem Leitermuster, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, in der vorliegenden Erfindung kleiner ist. Als Ergebnis beträgt die maximale Modulationsfrequenz fmax des Magnetfelds, die bei dem magneto-optischen Aufzeichnungsgerät erreichbar ist, das die vorliegende Erfindung anwendet, etwa 12 bis 14 MHz. In dem Vergleichsbeispiel 1 beträgt die erreichbare maximale Modulationsfrequenz fmax etwa 7 MHz. Um die maximale Modulationsfrequenz fmax des Magnetfelds auf 8 MHz oder mehr einzustellen, müssen zumindest der HF-Widerstand Rp und die Eigenresonanzfrequenz fr 800 Ω oder mehr bzw. 290 MHz oder mehr sein.
  • Die vorliegende Erfindung wird mit dem Vergleichsbeispiel 2 verglichen, um herauszufinden, dass die elektrischen Eigenschaften die gleichen sind. In der vorliegenden Erfindung ist jedoch die Flachheit ohne eine Verformung bei der Herstellung gut. In dem Vergleichsbeispiel 2 ist der Verstärkungseffekt eines Leitermusters, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, nicht ausreichend, die Spule verformt sich bei der Herstellung leicht und die Anzahl von fehlerhaften Einheiten steigt an. Auch wenn nicht-fehlerhafte Einheiten ausgesiebt werden, ist es schwierig, die Spule nahe an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger zu bringen. Obwohl die elektrischen Eigenschaften die gleichen sind wie in der vorliegenden Erfindung, beträgt die erreichbare maximale Modulationsfrequenz fmax des Magnetfelds etwa 10 MHz, was weniger ist als in der vorliegenden Erfindung.
  • In der vorliegenden Erfindung ist das Leiterbelegungsverhältnis R eines Leitermusters, das in dem ineffektiven Bereich der Spule ausgebildet ist, auf der Grundlage der Entfernung von dem Spulenmuster definiert. Folglich kann eine Spule mit guten elektrischen Eigenschaften und guter Flachheit erreicht werden, wobei die maximale Modulationsfrequenz des Magnetfelds vergrößert werden kann.
  • [Beispiel 10]
  • Nachstehend ist ein Beispiel 10 der vorliegenden Erfindung beschrieben. Die 13A und 13B zeigen die Struktur eines Magnetkopfes 1. In 13A ist eine Seitenschnittansicht gezeigt und in 13B ist eine Unteransicht gezeigt. Der Magnetkopf 1 wird durch einen Kern 12, der aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, hergestellt ist, eine Spule 13, ein Wärmeableitelement 32 und einen Schieber bzw. ein Gleitstück 14 gebildet, auf dem diese angebracht sind. Bezugszeichen 4 bezeichnet eine magneto-optische Platte, die als ein magneto-optischer Aufzeichnungsträger dient.
  • Der Kern 12 ist aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, mit einer flachen Form hergestellt, wobei die zugehörige Mitte einen hervorstehenden Magnetpol p1 mit einer Prisma-Form aufweist. Die Spule 13 ist flach, wobei die zugehörige Mitte ein quadratisches Loch h1 aufweist. Der Magnetpol p1 des Kerns 12 wird in das Loch h1 eingeführt. Die Spule 13 ist auf dem Schieber 14 zusammen mit dem Kern 12 angebracht. Der Schieber 14 ist aus einem Harzmaterial, einem keramischen Material oder dergleichen hergestellt und weist eine Schiebeoberfläche As oder eine Gleitoberfläche Af zum Schieben auf oder Schwimmen/Gleiten über der magneto-optische Platte 4 auf, um der magneto-optischen Platte 4 gegenüberzuliegen.
  • In dem Beispiel 10 weist die Spule 13 die gleiche Struktur wie die in dem Beispiel 1 auf, das in den 2A und 2B gezeigt ist, und eine ausführliche Beschreibung hiervon wird weggelassen. Die Spule 13 kann die gleiche Struktur aufweisen wie die, die in einem der Beispiele 2 bis 9 beschrieben ist, die in den 3A und 3B bis zu den 10A und 10B gezeigt sind.
  • Das Wärmeableitelement 32 ist aus einem hochwärmeleitfähigen Metallmaterial, wie beispielsweise Aluminium, hergestellt und ist direkt oder über einen hochwärmeleitfähigen Klebstoff oder dergleichen in engem Kontakt mit einem Blind-Muster 17a angeordnet, das bei der oberen Oberfläche der Spule 13 ausgebildet ist. Wenn das Wärmeableitelement 32 in einer gerippten Struktur, wie beispielsweise eine Lamelle, geformt ist, wodurch die Oberfläche vergrößert wird, wie es in den 13A und 13B gezeigt ist, kann die Wärmeableiteffektivität verbessert werden.
  • Bei der Aufzeichnung eines Informationssignals wird ein Strom den Spulenmustern 16a und 16b zugeführt, wobei ein HF-Verlust und Wärme in dem Kern 12 und den Spulenmustern 16a und 16b erzeugt wird. Da das Blind-Muster 17a und ein Blind-Muster 17b aus einem Material mit hoher Wärmeleitfähigkeit, wie beispielsweise Kupfer, hergestellt sind, wird Wärme, die in dem Kern 12 und den Spulenmustern 16a und 16b erzeugt wird, zu dem Wärmeableitelement 32 über das Blind-Muster 17a geleitet und in die Luft abgeleitet. Wärme wird ebenso zu dem Blind-Muster 17b geleitet und in die Luft von der unteren Oberfläche des Blind-Musters 17b abgeleitet. Eine Drehung der magneto-optischen Platte 4 erzeugt einen Luftstrom nahe der zugehörigen Oberfläche. Indem das Blind-Muster 17b nahe an die magneto-optische Platte 4 gebracht wird, während es der Platte 4 gegenüberliegt, kann die Wärmeableiteffektivität vergrößert werden.
  • Die Bildung der Blind-Muster 17a und 17b kann auf effektive Weise Wärme ableiten, um den Temperaturanstieg des Magnetkopfes 1 zu verringern.
  • Ein magneto-optisches Aufzeichnungsgerät zur Aufzeichnung eines Informationssignals auf der magneto-optischen Platte 4 unter Verwendung des vorstehend beschriebenen Magnetkopfes 1 ist nachstehend beschrieben. In 15 ist die schematische Anordnung des magneto-optischen Aufzeichnungsgeräts gezeigt. Die magneto-optische Platte 4 wird durch ein Substrat 40, das aus einem transparenten Harzmaterial hergestellt ist, eine magnetische Aufzeichnungsschicht 41, die auf dem Substrat 40 ausgebildet ist, und eine Schutzschicht 42 gebildet. Die magneto-optische Platte 4 wird durch einen Spindelmotor 5 mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit gedreht. Auf der oberen Oberflächenseite (die Seite mit der Schutzschicht 42) der magneto-optischen Platte 4 wird der Magnetkopf 1, der in den 11A und 11B, den 12A und 12B oder den 13A und 13B gezeigt ist, durch ein Ende eines elastischen Trägerelements 11 gehalten. Die Schieboberfläche As oder die Gleitoberfläche Af des Magnetkopfes wird beinahe parallel gegen die Oberfläche der magneto-optischen Platte 4 gedrückt. Ein optischer Kopf 2, der dem Magnetkopf 1 gegenüberliegt und Aufzeichnungs- und Wiedergabestrahlen konvergiert, um die magnetische Aufzeichnungsschicht 41 über das Substrat 40 der magneto-optischen Platte 4 zu bestrahlen, ist bei der unteren Oberflächenseite der magneto-optischen Platte 4 angeordnet. Das Trägerelement 11 und der optische Kopf 2 sind durch ein Kopplungselement 3 gekoppelt.
  • Die Spule 13 des Magnetkopfes 1 ist mit einer Magnetkopfansteuerungsschaltung 6 verbunden, die mit einer Aufzeichnungssignalerzeugungsschaltung 7 verbunden ist. Der optische Kopf 2 umfasst eine Laserquelle, ein optisches System, wie beispielsweise eine optische Linse, einen optischen Sensor zur Erfassung von reflektiertem Licht und dergleichen. Die Laserquelle ist mit einer Laseransteuerungsschaltung 8 verbunden. Der optische Sensor ist mit einer Verstärkungsschaltung 9 verbunden. Die Verstärkungsschaltung 9 ist mit einer Informationssignalwiedergabeschaltung 10 verbunden.
  • Nachstehend ist eine Aufzeichnungsoperation eines Informationssignals ausführlich beschrieben. Bei der Aufzeichnung eines Informationssignals dreht der Spindelmotor 5 die magneto-optische Platte 4. Dann schiebt sich der Magnetkopf 1 auf oder schwimmt/gleitet über der Schutzschicht 42 der magneto-optischen Platte 4.
  • Ein aufzuzeichnendes Informationssignal wird von einem Eingangsanschluss T1 der Aufzeichnungssignalerzeugungsschaltung 7 zugeführt. Die Aufzeichnungssignalerzeugungsschaltung 7 führt eine Modulation, wie beispielsweise eine Codierung, für das Informationssignal aus, um ein Aufzeichnungssignal synchron mit einem Taktsignal zu erzeugen, und gibt das Aufzeichnungssignal an die Magnetkopfansteuerungsschaltung 6 aus. Die Magnetkopfansteuerungsschaltung 6 führt einen Strom, der durch das Aufzeichnungssignal moduliert ist, der Spule 13 des Magnetkopfes 1 zu. Folglich erzeugt der Magnetkopf 1 von dem entfernten Ende des Magnetpols p1 ein Magnetfeld, das sich zwischen oberen und unteren Richtungen entsprechend dem Informationssignal ändert. Der Magnetkopf 1 legt das Magnetfeld vertikal an die magnetische Aufzeichnungsschicht 41 der magneto-optischen Platte 4 an.
  • Die Laseransteuerungsschaltung 8 führt einen Aufzeichnungs-Gleichstrom oder einen Impulsstrom synchron zu einem Taktsignal der Laserquelle des optischen Kopfes 2 zu. Dann wird ein Hochenergie-Aufzeichnungsstrahl, der eine konstante Intensität aufweist oder wie Impulse umschaltet, in einem Lichtpunkt konvergiert, der die magnetische Aufzeichnungsschicht 41 über das Substrat 40 der magneto-optischen Platte 4 bestrahlt.
  • Da die Temperatur der magnetischen Aufzeichnungsschicht 41 ansteigt, wobei eine zugehörige Koerzitivkraft bei dem mit dem Aufzeichnungsstrahl bestrahlten Abschnitt verkleinert wird, wird eine Magnetisierung auf das angelegte Magnetfeld gerichtet. Die Temperatur der magnetischen Aufzeichnungsschicht 41 fällt ab, wobei die zugehörige Koerzitivkraft weg von dem bestrahlten Bereich des Aufzeichnungsstrahls vergrößert wird. Dann wird die Magnetisierung fixiert, um einen magnetisierten Bereich entsprechend dem Informationssignal zu bilden.
  • Nachstehend ist eine Wiedergabeoperation eines aufgezeichneten Informationssignals beschrieben. Auch bei einer Wiedergabe eines aufgezeichneten Informationssignals dreht der Spindelmotor 5 die magneto-optische Platte 4. Da der Magnetkopf 1 im Allgemeinen nicht für die Wiedergabe eines Informationssignals verwendet wird, muss der Magnetkopf 1 nicht auf der Schutzschicht 42 der magneto-optischen Platte 4 geschoben werden oder darüber schwimmen/gleiten und kann zurückverfolgt werden, um oberhalb der magneto-optischen Platte 4 zu sein, so dass er von der Platte 4 getrennt ist.
  • Die Laseransteuerungsschaltung 8 führt der Laserquelle des optischen Kopfes 2 einen Wiedergabe-Gleichstrom zu. Dann wird ein Niedrigenergie-Wiedergabestrahl in einem Lichtpunkt konvergiert, der die magnetische Aufzeichnungsschicht 41 über das Substrat 40 der magneto-optischen Platte 4 bestrahlt.
  • Die Polarisierungsebene des reflektierten Strahls, der als ein Informationssignal dient, des Wiedergabestrahls von einem magnetisierten Bereich wird durch den magneto-optischen Effekt (Kerr-Effekt) erreicht, so dass sich die Polarisierungsebene entsprechend der Magnetisierungsrichtung des magnetisierten Bereichs dreht. Das optische System des optischen Kopfes 2 wandelt eine Drehung der Polarisierungsebene des reflektierten Strahls in eine Intensitätsänderung um. Der optische Sensor erfasst diese Intensitätsänderung und gibt sie als ein elektrisches Signal aus. Das Erfassungssignal wird von dem optischen Kopf 2 ausgegeben. Das Erfassungssignal wird durch die Verstärkungsschaltung 9 verstärkt und einer Signalverarbeitung, wie beispielsweise einer Binarisierung und einer Decodierung, durch die Informationssignalwiedergabeschaltung 10 unterzogen. Als Ergebnis wird das Informationssignal wiedergegeben und von einem Anschluss T2 ausgegeben.
  • [Beispiel 11]
  • Nachstehend ist ein Beispiel 11 der vorliegenden Erfindung beschrieben. In den 14A und 14B sind Schnittansichten gezeigt, die die Struktur eines Magnetkopfes 1 zeigen. Der Magnetkopf 1 wird durch einen Kern 12, der aus einem magnetischen Material, wie beispielsweise Ferrit, hergestellt ist, eine Spule 13, einen Schieber oder ein Gleitstück 14, der/das aus einem Harzmaterial, einem keramischen Material oder dergleichen hergestellt ist und auf dem der Kern 12 und die Spule 13 angebracht sind, sowie eine hemisphärische Linse 22, die eine Projektion p2 bei der Mitte auf der unteren Oberfläche aufweist, gebildet. Bezugszeichen 4 bezeichnet eine magneto-optische Platte, die als ein magneto-optischer Aufzeichnungsträger dient.
  • Die Linse 22 ist eingerichtet, um einen Aufzeichnungs- oder Wiedergabestrahl für eine Bestrahlung der magneto-optischen Platte 4 von dem optischen Kopf bei einer Aufzeichnung oder einer Wiedergabe eines Informationssignals auf die oder von der magneto-optischen Platte 4 unter Verwendung eines magneto-optischen Aufzeichnungsgeräts (das nachstehend beschrieben ist) in einem kleinen Lichtpunkt zu konvergieren. Der Kern 12 ist flach und weist bei der zugehörigen Mitte ein Loch h2 auf. Die Mitte der Spule 13 weist ein Loch h1 auf. Die Projektion p2 der Linse 22 wird in das Loch h2 des Kerns 12 und das Loch h1 der Spule 13 eingeführt.
  • Die Spule 13 weist die gleiche Struktur wie die auf, die in dem Beispiel 1 beschrieben ist, und eine ausführliche Beschreibung hiervon wird weggelassen.
  • Ein magneto-optisches Aufzeichnungsgerät zur Aufzeichnung eines Informationssignals auf die magneto-optische Platte 4 unter Verwendung des vorstehend beschriebenen Magnetkopfes 1 ist nachstehend beschrieben. In 16 ist die schematische Anordnung des magneto-optischen Aufzeichnungsgeräts gezeigt. Die magneto-optische Platte 4 wird durch eine Substrat 40, das aus einem Harzmaterial hergestellt ist, eine magnetische Aufzeichnungsschicht 41, die auf dem Substrat 40 ausgebildet ist, und eine Schutzschicht 42 gebildet, die aus einem transparenten Material hergestellt ist. Die magneto-optische Platte 4 wird durch einen Spindelmotor 5 mit einer vorbestimmten Geschwindigkeit gedreht. Auf der oberen Oberflächenseite (die Seite mit der Schutzschicht 42) der magneto-optischen Platte 4 wird der Magnetkopf 1 durch ein Ende eines elastischen Trägerelements 11 gehalten. Die Schiebeoberfläche As oder die Gleitoberfläche Af des Magnetkopfes wird beinahe parallel gegen die Oberfläche der magneto-optischen Platte 4 gedrückt. Ein optischer Kopf 2 für ein Konvergieren von Aufzeichnungs- und Wiedergabestrahlen zur Bestrahlung der magnetischen Aufzeichnungsschicht 41 über die Linse 22 des Magnetkopfes 1 und des Substrats 40 der magneto-optischen Platte 4 ist über dem Magnetkopf 1 angeordnet. Das Trägerelement 11 und der optische Kopf 2 sind durch ein Kopplungselement 3 gekoppelt.
  • Die Spule 13 des Magnetkopfes 1 ist mit einer Magnetkopfansteuerungsschaltung 6 verbunden, die mit einer Aufzeichnungssignalerzeugungsschaltung 7 verbunden ist. Der optische Kopf 2 umfasst eine Laserquelle, ein optisches System, wie beispielsweise eine Objektivlinse, einen optischen Sensor zur Erfassung von reflektiertem Licht und dergleichen. Die Laserquelle ist mit einer Laseransteuerungsschaltung 8 verbunden. Der optische Sensor ist mit einer Verstärkungsschaltung 9 verbunden. Die Verstärkungsschaltung 9 ist mit einer Informationssignalwiedergabeschaltung 10 verbunden.
  • Eine Aufzeichnungsoperation und eine Wiedergabeoperation eines Informationssignals sind die gleichen wie in dem Beispiel 1. Der Spindelmotor 5 dreht die magneto-optische Platte 4. Während der Magnetkopf 1 auf der Schutzschicht 42 der magneto-optischen Platt 4 geschoben wird oder darauf schwimmt/gleitet, wird ein Informationssignal aufgezeichnet und wiedergegeben.
  • In dem Beispiel 11 wird das entfernte Ende bzw. Distalende der Projektion p2 der Linse 22, die bei dem Magnetkopf 1 angebracht ist, sehr nahe an die magneto-optische Platte 4 gebracht, und der optische Kopf 2 bestrahlte die magneto-optische Platte 4 mit einem Aufzeichnungs- oder Wiedergabestrahl über die Linse 22. Der Strahl kann in einem kleineren Lichtpunkt konvergiert werden, wodurch die Informationssignalaufzeichnungsdichte vergrößert wird. Wenn der Strahl nicht in einem kleineren Lichtpunkt konvergiert werden muss, muss der Magnetkopf 1 die Linse 22 nicht umfassen. Der Magnetkopf 1 kann wechselweise ein Element (beispielsweise eine Glasplatte) zur Übertragung eines Laserstrahls umfassen oder nicht.
  • Auch in diesem Fall befindet sich der optische Kopf 2 über dem Magnetkopf 1 und ein Aufzeichnungs- oder Wiedergabestrahl bestrahlt die magnetische Aufzeichnungsschicht 41 über die Schutzschicht 42 der magneto-optischen Platte 4. Zur Verwirklichung dieser Anordnung muss ein Aufzeichnungs- oder Wiedergabestrahlübertragungsabschnitt, beispielsweise das Loch h1, in der Mitte der Spule 13 ausgebildet sein, wobei das Spulenmuster den Strahlübertragungsabschnitt umgeben muss.
  • In dem Beispiel 11 sind ebenso Blind-Muster 17a und 17b in ineffektiven Bereichen um die Spulenmuster 16a und 16b herum ausgebildet. Die Dicke T der Spule 13 ist gleichförmig 160 μm auf beinahe der gesamten Oberfläche. Im Vergleich mit einem Fall, bei dem kein Blind-Muster ausgebildet ist, ist die mechanische Stärke der Spule 13 vergrößert. Die Spule 13 ist ausreichend steif und verformt sich nicht, biegt sich beispielsweise nicht, wenn die Spule 13 mit dem Kern 12 verbunden wird, auf dem Schieber 14 angebracht wird und bei der Herstellung eines Magnetkopfes befestigt wird. Da die obere Oberfläche (die Oberfläche, die dem Kern 12 gegenüberliegt) der Spule 13 flach ist, verformt sich die zugehörige untere Oberfläche (die Oberfläche, die der magneto-optischen Platte 4 gegenüberliegt) nicht, ragt beispielsweise nicht hervor oder neigt sich nicht bei dem Verbinden mit dem Kern 12.
  • Die Blind-Muster 17a und 17b können Wärme, die durch die Spulenmuster 16a und 16b und den Kern 12 erzeugt wird, ableiten, wodurch der Temperaturanstieg des Magnetkopfes verhindert wird. Wenn der Magnetokopf 1 ein Wärmeableitelement wie in dem Beispiel 10 umfasst, kann die Wärmeableiteffektivität vergrößert werden.
  • In dem Beispiel 11 kann die Spule 13 die gleiche Struktur wie die, die in den Beispielen 2 bis 8 beschrieben ist, aufweisen. Wie es in dem Beispiel 9 beschrieben ist, können die Spule 13 und der Schieber 14 einen Positionierungsabschnitt bzw. ein Arretierelement umfassen.
  • Gewerbliche Anwendbarkeit
  • Wie es vorstehend beschrieben worden ist, wird bei einem Flachspulenbauelement für einen Magnetkopf gemäß der vorliegenden Erfindung der ineffektive Bereich, bei dem ein Leitermuster, das in der Lage ist, einen Strom zuzuführen, um um das Magnetfelderzeugszentrum herum zu fließen, nicht ausgebildet ist, in den ersten, den zweiten und den dritten Bereich A1, A2 und A3 auf der Grundlage der Entfernung S von dem Außenrand des Spulenmusters (dem Außenrand des effektiven Bereichs) aufgeteilt. Leitermuster werden in den jeweiligen Bereichen ausgebildet, um gleichzeitig die Ungleichungen 1, 2 und 3 zu erfüllen. In dem ersten Bereich A1 bildet kein Leitermuster eine geschlossene Schleife. Folglich stellt die vorliegende Erfindung ein Flachspulenbauelement für einen Magnetkopf bereit, bei dem die mechanische Stärke, die Flachheit und die Maßgenauigkeit verbessert sind, ohne die elektrischen Eigenschaften der Spule zu verschlechtern. Eine Verwendung dieser Spule kann eine Verformung, wie beispielsweise ein Biegen, wenn die Spule mit dem Kern verbunden wird, auf dem Schieber angebracht wird und bei der Herstellung eines Magnetkopfes befestigt wird, verhindert werden. Wenn das Spulenmuster auf der oberen Oberflächenseite der Spule, mit der ein anderes Element verbunden wird, ausgebildet wird und das Leitermuster in dem ineffektiven Bereich außerhalb des Spulenmusters ausgebildet wird, verformt sich die untere Oberfläche der Spule, die dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger gegenüberliegt, nicht, ragt beispielsweise nicht hervor oder neigt sich nicht bei einem Verbinden.
  • Die vorliegende Erfindung verwirklicht folglich einen Magnetkopf mit einer hohen relativen Positionsgenauigkeit zwischen der Spule und dem optischen Kopf und einer hohen Entfernungsgenauigkeit zwischen der Spule und dem magneto-optischen Aufzeichnungsträger. Auch wenn die Spule verkleinert wird, um die zugehörige Induktivität zu verringern, kann das Magnetfeld genau an die Aufzeichnungsstrahlbestrahlungsposition des magneto-optischen Aufzeichnungsträgers angelegt werden. Dies ermöglicht ein Einstellen der Magnetfeldmodulationsfrequenz auf 8 MHz oder mehr und ein Vergrößern der Informationssignalaufzeichnungsgeschwindigkeit.
  • Wenn das Führungsmuster bei dem Umfangsrand des Positionierungsabschnitts in einer Spule mit dem Positionierungsabschnitt ausgebildet wird, wird die mechanische Stärke um den Positionierungsabschnitt herum vergrößert. Bei einem Befestigen des Positionierungsabschnitts bei einem Arretierelement, das bei einem anderen Bauelement angebracht ist, verformt sich die Spule nicht und die Positionsgenauigkeit der Spule kann weiter vergrößert werden. Durch Ausbilden von Führungs- und Spulenmustern durch Photolithographie kann der Positionierungsabschnitt mit einer hohen Positions- und Maßgenauigkeit ausgebildet werden. Auch wenn die Spule weiter verkleinert wird, kann die relative Positionsgenauigkeit zwischen der Spule und dem optischen Kopf vergrößert werden.
  • Wärme, die in dem Spulenmuster und dem Kern erzeugt wird, welche in dem effektiven Bereich ausgebildet sind, wird über das Leitermuster, das in dem ineffektiven Bereich ausgebildet ist, abgeleitet, was den Temperaturanstieg des Magnetkopfes verhindert. Insbesondere kann ein Magnetkopf mit einem Wärmeableitelement in engem Kontakt mit dem Leitermuster eine höhere Ableiteffektivität erreichen.
  • Die vorliegende Erfindung kann folglich den Temperaturanstieg des Magnetkopfes, der durch den HF-Verlust des Kerns oder des Spulenmusters bei einer hohen Magnetfeldmodulationsfrequenz verursacht wird, verringern. Die vorliegende Erfindung kann eine Verringerung in der Sättigungsflussdichte Bs des magnetischen Materials, das den Kern bildet, und eine Verringerung der Stärke eines Magnetfelds, das durch den Magnetkopf erzeugt wird, verhindern. Zusätzlich kann die vorliegende Erfindung eine Verformung des Bauelements des Magnetkopfes sowie einen elektrischen Isolationsfehler verhindern.
  • Somit kann die vorliegende Erfindung die Magnetfeldmodulationsfrequenz und die Informationssignalaufzeichnungsdichte im Vergleich zu dem Stand der Technik vergrößern.

Claims (13)

  1. Magnetkopfspule mit einem Leitermuster, das aus einer leitenden Materialschicht hergestellt ist, wobei das Leitermuster ein Spiralspulenmuster (16a) umfasst, dem ein Strom zugeführt werden kann, um um ein Magnetfelderzeugungszentrum zu fließen, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitermuster ein Leitermuster (17a, 17b) umfasst, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist und zumindest einen Strom nicht empfangen kann, um um das Magnetfelderzeugungszentrum zu fließen, wobei S eine Entfernung von einem Außenrand eines äußersten Umfangs des Spulenmusters (16a) ist und P ein Abstand (oder ein minimaler Wert, wenn der Abstand nicht konstant ist) des Spulenmusters (16a) ist, wobei ein Leiterbelegungsverhältnis (Verhältnis einer Gesamtfläche aller Leitermuster, die in einem vorgegebenen Bereich gebildet sind, zu einer Gesamtfläche des Bereichs) R eines Leitermusters, das außerhalb des Spulenmusters (16a) gebildet ist, gleichzeitig Ungleichungen 1, 2 und 3 erfüllt, wobei das Leitermuster keine geschlossene Schleife bildet, die das Spulenmuster in einem ersten Bereich A1 umgibt, der durch Ungleichung 1 gegeben ist: Ungleichung 1: 0 ≤ R ≤ 0,3 in dem ersten Bereich A1, wobei 0 ≤ S ≤ 1,5P gilt, Ungleichung 2: 0 ≤ R ≤ 0,8 in einem zweiten Bereich A2, wobei 1,5P < S ≤ 6,0P gilt, Ungleichung 3: 0,3 < R ≤ 1 in einem dritten Bereich A3, wobei 6,0P < S gilt.
  2. Magnetkopfspule nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in dem ersten Bereich A1, der durch Ungleichung 1 gegeben ist, das Leitermuster, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist, diskontinuierliche Leitermuster umfasst, die in zumindest zwei in einer Spiralrichtung des Spulenmusters aufgeteilt sind.
  3. Magnetkopfspule nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass alle Leitermuster, die in zumindest zwei aufgeteilt sind, ein Intervall von nicht weniger als 0,2P aufweisen.
  4. Magnetkopfspule nach einem der Ansprüche 1, 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitermuster, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist, eine periodische Form mit einer Periode von nicht weniger als P bis nicht mehr als 5P aufweist.
  5. Magnetkopfspule nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitermuster, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist, ein Leitermuster umfasst, das entlang einem Umfangsrand der Flachspulenkomponente für einen Magnetkopf gebildet ist.
  6. Magnetkopfspule nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitermuster, das entlang dem Umfangsrand der Magnetkopfspule gebildet ist, eine Bandform aufweist und mit einem anderen Leitermuster gekoppelt ist.
  7. Magnetkopfspule nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetkopfspule einen Positionierungsabschnitt aufweist, wobei das Leitermuster, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist, ein Führungsmuster umfasst, das bei einem Umfangsrand des Positionierungsabschnitts gebildet ist.
  8. Magnetkopfspule nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetkopfspule ein Loch (h1) zum Empfangen eines Magnetpols oder einen lichtübertragenden Abschnitt aufweist, wobei das Spulenmuster um das Loch oder den lichtübertragenden Abschnitt gebildet ist.
  9. Magnetkopf mit einer Spule, die einem magneto-optischen Aufzeichnungsträger parallel gegenüber liegt, dadurch gekennzeichnet, dass die Spule die Magnetkopfspule ist, die in einem der Ansprüche 1 bis 8 definiert ist.
  10. Magnetkopf nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass er einen Kern (12) umfasst, der aus einem magnetischen Material hergestellt ist.
  11. Magnetkopf nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass er eine Linse (22) umfasst.
  12. Magnetkopf nach einem der Ansprüche 9, 10 und 11, dadurch gekennzeichnet, dass er ein Wärmeableitungselement (32) umfasst, das in engem Kontakt mit dem Leitermuster ist, das außerhalb des Spulenmusters gebildet ist.
  13. Magneto-optisches Aufzeichnungsgerät mit einem optischen Kopf zum Bestrahlen eines magneto-optischen Aufzeichnungsträgers mit Licht und einem Magnetkopf zum Anlegen eines durch ein Informationssignal modulierten Magnetfelds an den magneto-optischen Aufzeichnungsträger, dadurch gekennzeichnet, dass der Magnetkopf der Magnetkopf ist, der in einem der Ansprüche 9 bis 12 definiert ist.
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